TWI409056B - 按摩機 - Google Patents

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TWI409056B
TWI409056B TW100106925A TW100106925A TWI409056B TW I409056 B TWI409056 B TW I409056B TW 100106925 A TW100106925 A TW 100106925A TW 100106925 A TW100106925 A TW 100106925A TW I409056 B TWI409056 B TW I409056B
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disposed
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Noboru Nishiguchi
Hiroyuki Inoue
Takeshi Izunaka
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Panasonic Corp
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Description

按摩機
本發明係有關按摩機,特別是有關一種利用膨脹收縮的氣囊來進行腳之按摩的腳用按摩機。
例如專利文獻1所示,採用氣囊的腳用按摩機係在承接人體的腳之溝的兩側壁和溝的底部分別配設有膨脹收縮的氣囊。
又,由於腳的下腿部係上部和下部的腿肚粗細大不相同,故上述專利文獻1所示者,係使配設於溝的底部之氣囊在溝的長邊方向分成複數個來對應。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2001-161766號公報
然而,此種按摩機所使用的氣囊係具有圖3所示那樣的剖面形狀者,當其長度L短時,由於無法將供給空氣時的圖3中之箭頭所示方向增大膨脹行程,所以無法對腿肚施加足夠的壓力。
本發明係有鑒於此問題點而完成者,且以提供一種可對腳的下腿部有效地進行按摩的按摩機為課題者。
本發明一種按摩機,其係具備承接人體的腳用的溝,同時在該溝的兩側壁和溝的底部分別配設有膨脹收縮的氣囊之腳用按摩機,其特徵為:配設在溝的側壁的氣囊係被固 定於溝底部側的端部,而配設在溝底部且與配置在溝的腳之腿肚相接觸的氣囊係之四周當中的任一邊側係被固定的。即使氣囊的長度短,仍可增大氣囊的膨脹動作之行程及推力。
較佳為,在上述溝的側壁上有複數個氣囊在溝的長邊方向排列,在溝的底部至少配設一個氣囊,該氣囊在溝的長邊方向之尺寸係比配設在側壁的上述氣囊還長。
又,配設在溝的底部的氣囊係在溝的長邊方向,跨越配設在溝的側壁的複數個氣囊而作配置,對腿肚的按壓是具有效用的。
而且,當具備有於配設在側壁的氣囊開始膨脹後或配設在側壁的氣囊完成膨脹後,使底面之腿肚相接觸的氣囊膨脹的控制手段時,則成為在利用配設在側壁的氣囊之膨脹將下腿固定後進行按壓腿肚,由於下腿部不會從溝溜出,所以可在不讓氣囊的力逃脫之下有效地利用於按摩。
當具備有:使底面之與腿肚相接觸的氣囊開始排氣後、或使底面之與腿肚相接觸的氣囊排氣結束後,再進行配設在側壁的氣囊之排氣的控制手段時,則依然可獲得在使側壁的氣囊排氣而收縮時不致造成下腿部從溝被擠出而協調感佳不穩定地按摩。
當作成進一步具備人體的腳之腳裸前部的按摩用氣囊,並具備在使腳裸前部用的該氣囊膨脹而固定腳裸前部後,使與前述腿肚相接觸的氣囊膨脹的控制手段時,則可獲得在固定著腳裸前部的狀態下透過將下腿部擠壓而進行腳裸的跟腱之伸展動作或大腿筋之伸展動作。
又,配設於溝的底部之氣囊係具有和前述溝的底部接 觸的接觸面。且,此接觸面係具有四周。
此外,配設於溝的底部之氣囊係利用四周的一端而被安裝於溝的底部。
又,按摩機較佳為具有按摩部。按摩部係具有前述側壁和前述底部。側壁係朝和前述底部垂直的第1方向延伸出去。藉以使前述按摩機具有溝。
前述側壁係具有靠近前述底部之側的第1端。配設在側壁的氣囊係在前述側壁的第1端側被安裝於前述側壁。
換言之,側壁係具有靠近前述底部之側的第1端、及前述第1端的相反側之第2端。配設在側壁的氣囊係在前述側壁的固定部位被固定於側壁上。固定部位係與前述第1端相隔第1距離。固定部位係與前述第2端相隔第2距離。第2距離係大於前述第1距離。
按摩機宜較佳為進一步具備控制手段裝置和幫浦。幫浦被建構成:朝配設在前述溝的側壁的氣囊供給空氣。幫浦係朝配設在前述溝的底部的氣囊供給空氣。控制手段裝置被建構成:進行第1控制及第2控制。控制手段裝置進行前述第1控制時,前述控制手段裝置係控制幫浦而朝配設在前述溝的側壁的氣囊供給空氣。控制手段裝置被建構成:在開始前述第1控制開始之後,或在完成前述第1控制後,進行前述第2控制。控制手段裝置進行前述第2控制時,前述控制手段裝置係控制朝配設在前述溝的底部的氣囊供給空氣之幫浦而朝配設在前述溝的底部的氣囊供給空氣。
按摩機較佳為進一步具備第1閥及第2閥。第1閥係配置在空氣供給路徑,該空氣供給路徑將配設在前述溝的 側壁的氣囊與前述幫浦予以繋接。第2閥係配置在空氣供給路徑,該空氣供給路徑將配設在前述溝的底部的氣囊與前述幫浦予以繋接。建構成:在控制手段進行第1控制時,前述控制手段將第2閥關閉,且建構成:一邊開啟第1閥一邊驅動前述幫浦。建構成:在控制手段進行第2控制時,前述控制手段將前述2個閥開啟以驅動前述幫浦。
校佳為建構成:於正進行第1控制的狀況下,配設在前述溝的側壁的氣囊之內部的空氣壓超過第1空氣壓時,前述控制手段開始前述第2控制。
又,配設在溝的側壁的複數個氣囊係由第1氣囊和第2氣囊來定義。
此外,配設在溝的底部的氣囊係以位在前述第1氣囊和前述第2氣囊之間的方式配置於前述溝的底部。
前述第1氣囊係具有和前述溝的側壁呈對向的保持面。保持面係具有沿著前述溝的長邊方向之長度。保持面係具有保持面之長邊方向的一端部和另一端部。一端部係位在另一端部的相反側。配設於溝的底部之氣囊係具有和前述溝的底部呈對向的接觸面。接觸面係具有前述四周。配設於溝的底部之氣囊係利用前述四周的一端而被安裝於前述溝的底部。四周的一端係位在前述一端部和前述另一端部之間。
本發明中,配設在溝的側壁的氣囊由於是溝的底部側之端部被固定,所以該氣囊不僅將下腿從側方按壓,還可裹著下腿的前面側地抑制下腿從溝溜出,能利用溝的底部之氣囊有效地進行腿肚之按壓,且配置於溝的底部之氣囊 是四周當中的任一邊側被固定,因而就算是氣囊的長度短,仍可增大氣囊的膨脹動作之行程及推力,而可充分地對腿肚進行按摩。
[用以實施發明之形態]
茲依據一實施形態例來詳述本發明,按摩機如圖2所示,係由經由軸41而旋動自如地連結於椅子4的座部40前端之支持框10;透過軸11而連結於此支持框10之基座12;及於一面上備有平坦的擱腳面13之基座12的另一面側上所設置的2個按摩部2、3所構成。
上述支持框10係藉伸縮致動器A以軸41為中心進行上下旋動者,基座12係成為可透過以軸11為中心旋轉180°,而從圖示的按摩部2、3是位在表面的狀態切換成平坦的擱腳面13是位在表面的狀態。
上述兩按摩部2、3當中的靠近座部40的按摩部2係用以按摩腳的下腿部,另一按摩部3係用以按摩腳裸前部,按摩部3係具備以軸35連結於上述基座12而在指定範圍內旋動自如的旋動基座14,且藉彈簧36的付勢而被付勢於圖中箭頭方向。
按摩部2係如圖1所示,具有大致平行排列的左右一對的溝20、20,配置下腿部的此等溝20、20係分別在成為溝20底部處配置氣囊21,而在左右的側壁部分配置氣囊22、22,此處,位在底部的氣囊21是一個相對地位在側壁部分的氣囊22是在各側壁上設置2個並在溝20的長邊方向排列。此外,這樣地設置複數個氣囊21、22、22的理由係為了可對按摩部位分別進行適當的按摩之緣故。此外, 沿著溝20的長邊方向排列的氣囊22係定義成第1氣囊22a和第2氣囊22b。
此外,按摩部2中的上述的各氣囊21、22係一部分被固定於基座12,但位在側壁部分的氣囊22係靠近溝20的底部的一邊側被固定於基座12,而位在溝20的底部之氣囊21係四周當中的任一邊側,在圖1所示的例子中,靠近座部40的上邊側被固定於基座12。圖中S係表示固定部位。
藉此,按摩部2係具備側壁220和底部210。由圖1(a)及圖1(b)可知,側壁220係朝和底部210垂直的方向延伸出去。此外,側壁220係具有第1端221和第2端222。第1端221係位在靠近底部210之側。第2端222係在第1端221的相反側。配設在側壁220的氣囊22係在側壁220的第1端221側被安裝於側壁220上。換言之,配設在側壁220的氣囊22係在側壁220的固定部位S被固定於側壁220上。固定部位S係與第1端221相隔第1距離。固定部位S係與第2端222相隔第2距離。而且,第2距離被設定成大於第1距離。
又,氣囊22配置在側壁220。氣囊22和側壁220的接觸部分係定義成保持面。此保持面係具有沿著溝20的長邊方向之長度。保持面係具有一端部和另一端部。一端部係位在保持面的長邊方向之一端。另一端部從保持面來看是位在一端部的相反側。
又,氣囊21配置在底部210。氣囊21係利用接觸面和底部210接觸著。接觸面係具有四周。氣囊21係四周當中的一邊側被固定於溝20的底部210。
用以按摩腳裸前部的按摩部3亦是旋動基座14具備有 供腳裸前部配置的溝30,在溝30的底部配置有氣囊31,在兩側壁部分各自配置有氣囊32、32。又,氣囊32亦是靠近溝30的底部的一邊側被固定於旋動基座14。有關氣囊31,其固定位置不拘。
此外,在此所說的各氣囊係分別被裝入袋狀的外皮之中並配置在各部位,上述外皮的固定位置係意味氣囊的固定位置,而且在藉由朝氣囊供給空氣使之膨脹時,偏離固定處的處所係成為比靠近固定位置的處所還膨脹者。圖3係顯示氣囊的剖面形狀的一例。
現在,若乘坐於座部40且將下腿部配置於按摩機的按摩部2的溝20、20,同時將腳裸前部配置於按摩部3的溝30、30時,則下腿部的腿肚與溝20的底部接觸。
接著若朝各氣囊供給空氣,則位在溝20的左右側壁之氣囊22、22係如圖4所示將下腿部從左右壓迫,同時最膨脹的部分成為蓋住下腿部的前面側,因而亦會發揮將下腿部朝溝20的裏側擠入的力。
配置於溝20的底部之氣囊21係藉其膨脹而將下腿部的腿肚朝前方按壓,此時,固定端作為上邊的氣囊21係如圖5所示,最膨脹的部分與靠近腿肚的腳裸之變細處接觸並施加壓力者,且與腿肚的變粗處接觸的上邊側的部分之膨脹小,因而能對腿肚全面施加大致均一的壓力,並且可從真裏壓迫腿肚。
而且,針對氣囊21所產生之將下腿部朝前方擠壓的力,由於氣囊22所產生的上述力會予以抵抗,所以下腿部不會從溝20被擠出,氣囊21對腿肚的壓力會有效地作用。
當朝按摩部3中的氣囊31、32供給空氣使氣囊31、32 膨脹時,則氣囊31將腳底頂上去,氣囊32係將腳裸前部從左右挾持,同時蓋住腳背的部分之氣囊32係防止因氣囊31上頂所導致的腳裸前部浮起。
在此,對上述腿肚有效進行按壓之際,作成不讓下腿部從溝20溜出是很重要的。為此,針對按摩部2,係透過不同的閥V連接於空氣供給用的幫浦P,而得以使位在溝20的底部之氣囊21與位在左右的兩側壁之氣囊22個別地膨脹收縮。此外,各氣囊之收縮係利用通過閥V的排氣來進行。圖2中的C是控制電路,6是操控器。
此外,作成如圖6所示使側壁部的氣囊22膨脹後使底面的氣囊21膨脹者,又作成在使氣囊21收縮後再使氣囊22收縮者。亦即,作成在下腿部不會從溝20溜出地藉氣囊22限制的狀態下利用氣囊21進行腿肚之按壓。
亦即,幫浦P被建構成:經由空氣供給路徑對氣囊21及氣囊22供給空氣。控制電路C係控制幫浦P使之對氣囊22供給空氣。此外,控制電路C控制幫浦P朝氣囊22供給空氣的控制係定義成第1控制。控制電路C控制幫浦P朝氣囊22供給空氣之後,控制電路C係控制幫浦P朝氣囊21供給空氣。控制電路C控制幫浦P朝氣囊21供給空氣的控制係定義成第2控制。如圖6所示,控制電路C係在第1控制完成後進行第2控制。
在作成藉由伸縮致動器5使支持框10朝上方旋動,使按摩部2的溝20朝向上方時,亦即在嵌入於溝20的腳成為接近水平的狀態之情況,由於腳的自重會起作用,故如圖7所示,作成在使側壁部的氣囊22開始膨脹之後,使底面的氣囊21膨脹者,又,亦可作成在使氣囊21開始收縮 後,再使氣囊22收縮。
亦即,如圖7所示,控制電路C係在第1控制開始後進行第2控制。亦即,在第1控制開始之後,或在第1控制完成之後,控制電路C可進行第2控制。此外,在進行第1控制及第2控制之際,控制電路C只要透過進行閥之控制以調整朝向氣囊21、22之空氣的供給即可。
又,由圖6或圖7可知,控制電路C係於氣囊22正被供給空氣的狀況下,在氣囊22之空氣壓超過指定的空氣壓時,開始對氣囊21供給空氣。亦即,被建構成:於第1控制正被進行的狀況下,當配設在前述溝20的側壁220的氣囊22、22的內部之空氣壓超過第1空氣壓時,前述控制手段開始前述第2控制。
如圖8所示,使按摩部3的氣囊31、32膨脹以固定腳裸前部,若在此狀態下使位在按摩部2中的溝20底面之氣囊21膨脹而如圖9所示擠壓下腿部,則可進行拉伸腳裸的跟腱或太腿的大腿筋之伸展。
有關按摩部3中的3個氣囊31、32、32,此處係作成可同時地使之膨脹收縮,但針對此等,亦可作成在側壁側的氣囊32膨脹使腳裸前部不會從溝30脫離的狀態下使氣囊31膨脹收縮。
然而,氣囊是圖3所示那樣的剖面形狀之情況,長度L越長越能將圖3中的箭頭方向所示增大膨脹之動作距離(行程)和推力。由此點看來,配置於按摩部2中的溝20之側壁的氣囊22即使是在溝20的長邊方向進行了分割,還是能在溝20的深度方向保有足夠的長度,但當配置於溝20的底部之氣囊21是在溝20的長邊方向作分割時,則變得 難以確保必要的長度。
為此,在圖示例中,配置在溝20的底部之氣囊21在溝20的長邊方向未作分割而呈單一個體,係能在溝20的長邊方向確保足夠的長度。
但是,當氣囊21之固定是在四周當中的一邊側來進行時,由於可縮短必要的長度,所以即使在溝20的長邊方向作分割亦可確保上述長度者,則亦可與氣囊22同樣地作成在溝20的長邊方向分割地配置複數個。
一個設氣囊21的情況,較佳為配置成跨越在各側壁的2個氣囊22、22。此時,如圖10所示,亦能以氣囊21的一端露出氣囊22的配置領域之方式配置。
在上述的實施例中,作為氣囊21,係將四周當中的座部40側的上邊側固定於基座12,但本發明未受此形態所限定,例如圖11所示,亦可以是固定相反側的下邊側者,再者,如圖12所示,亦可以是固定左右任一邊側者。
在座部40的前端側具有具備按摩部2、3的按摩機的椅子4,係以在其靠背部設置有按摩人體背面用的按摩機構之按摩椅為較佳。
如以上所述,圖1的按摩機係腳用按摩機。按摩機係具備溝20和氣囊21、22。溝20係形成收容人體的腳。前述按摩機係具有側壁220和底部210。側壁220係位在溝20的兩側。底部210位在側壁220之間。氣囊22係分別配置在前述側壁220。又,氣囊21係配置在前述底部210。配設在前述溝20的側壁220的氣囊22為溝20的底部210側的端部被固定。配設於前述溝20的底部210的氣囊21係與放置於溝20內的腳的腿肚相接觸。配設在溝20的底 部210的氣囊21係具有四周。氣囊21的四周之位置的任一邊側被固定於底部210。
在此情況,配設在溝20的側壁220的氣囊22為溝20的底部210側的端部被固定。因此,配設在溝20的側壁220的氣囊22係將下腿從側方按壓。此外,配設在溝20的側壁220的氣囊22係裹著下腿的前面側。藉此,配設在溝20的側壁220的氣囊22係抑制下腿從溝20溜出。其結果,溝20的底部210的氣囊21對腿肚之按壓可有效地進行。而且配置於溝20的底部210之氣囊21係四周當中的任一邊側被固定。藉此,即使氣囊21的長度短,仍可增大氣囊21的膨脹動作之行程及推力。藉此,可充分地對腿肚進行按摩。
又,按摩機係具有按摩部2。按摩部2係具有前述側壁220和前述底部210。側壁220係朝和前述底部210垂直的第1方向延伸出去。藉以使前述按摩機具有前述溝20。
又,溝20係沿著長邊方向延伸出去。此外,在前述溝20的側壁220上,複數個氣囊22係在溝20的長邊方向排列。換言之,在溝20的側壁220上,第1氣囊22a和第2氣囊22b係在長邊方向排列。在溝20的底部210上至少配設一個氣囊21,該氣囊21在溝的長邊方向之尺寸係比配設在側壁的220的氣囊22(22a、22b)還長。換言之,第1氣囊22a係具有沿著前述溝20的長邊方向之第1尺寸。第2氣囊22b係具有沿著前述溝20的長邊方向之第2尺寸。配置在前述底部210的氣囊21係具有沿著溝20的長邊方向之尺寸。換言之,配置在前述底部210的氣囊21係定義成第3氣囊21。前述第3氣囊21係具有沿著前述溝20的 長邊方向之第3尺寸。前述第3尺寸係大於第1尺寸且大於第2尺寸。
在此情況,可對腳的下腿部之各部位分別賦予適當的按摩。
又,配設在溝20的底部210的氣囊21係於溝20的長邊方向,跨越配設在溝20的側壁220的複數個氣囊22而作配置。
在此情況,可對和配設在側壁220的複數個氣囊22之間的領域對應的腳之部分有效地賦予壓力。在圖1(a)的例中,可有效地對腿肚賦予壓力。
又,配設在溝20的底部210的氣囊21係於溝20的長邊方向,配置在溝20的側壁220所配設的複數個氣囊22之間。換言之,配置在前述溝20的底部210的第3氣囊21係配置在設於前述溝20的側壁220的第1氣囊22a和第2氣囊22b之間。
在此情況,可對和配設在側壁220的複數個氣囊22之間的領域對應的腳之部分有效地賦予壓力。在圖1(a)的例中,可有效地對腿肚賦予壓力。
又,按摩機係具有由控制電路C定義的控制手段。控制手段被建構成:配設在側壁220的氣囊22開始膨脹後,使底部210的氣囊21膨脹。或控制手段被建構成:配設在側壁220的氣囊22完成膨脹後,使底部210的氣囊21膨脹。
在此情況,首先,配置在側壁220的氣囊22膨脹。藉此,下腿係藉由配置在側壁220的氣囊22而被固定。接著,底部210的氣囊21膨脹。藉此,成為在藉由配設在側壁220的氣囊22之膨脹將下腿予以固定後,進行按壓腿肚。 亦即,下腿部不會從溝20溜出。因此,不會讓氣囊21於接收空氣之際產生的氣囊21之力逃逸。藉此,可將氣囊21的力有效地利用於按摩。
又,按摩機係進一步具備人體的腳之腳裸前部的按摩用的氣囊。控制手段係在使腳裸前部用的氣囊膨脹且固定腳裸前部後,使與腿肚相接觸的氣囊21膨脹。藉此,在固定著腳裸前部的狀態下透過將下腿部擠壓可賦予腳裸的跟腱之伸展動作、且可賦予大腿筋之伸展動作。
又,如圖1(a)、圖1(b)所示,配設於溝20的底部210之氣囊21係具有和溝20的底部210接觸的接觸面。藉此,接觸面係具有四周。
此外,配設於溝20的底部210之氣囊21係利用四周的一端而被安裝在溝20的底部210。
又,如圖1(b)所示,按摩機係具有按摩部2。按摩部2係具有側壁220和底部210。側壁220係朝和前述底部210垂直的第1方向延伸出去。藉以使按摩機具有前述溝20。
又,如圖2所示,側壁220係具有靠近底部210之側的第1端221。配設在側壁220的氣囊22係在前述側壁220的第1端221側被安裝於前述側壁220上。
換言之,側壁220係具有靠近前述底部210之側的第1端221、以及前述第1端的相反側的第2端222。配設在側壁220的氣囊22係在前述側壁220的固定部位相對於側壁220被固定。固定部位係與前述第1端221相隔第1距離。固定部位係與前述第2端222相隔第2距離。第2距離係大於前述第1距離。
又,按摩機係進一步具備控制手段和幫浦P。幫浦P被建構成:朝配設在溝20的側壁220的氣囊22供給空氣。幫浦P被建構成:朝配設在溝20的底部210的氣囊21供給空氣。控制手段被建構成:進行第1控制及第2控制。在控制手段要進行前述第1控制時,前述控制手段係控制幫浦P,使之朝配設在前述溝20的側壁220的氣囊22供給空氣。控制手段被建構成:在開始前述第1控制後或在完成前述第1控制後,再進行前述第2控制。在控制手段要進行前述第2控制時,前述控制手段係控制幫浦P,使之朝配設在前述溝20的底部210的氣囊21供給空氣。
又,如圖2所示,前述按摩機係進一步具備第1閥及第2閥。第1閥係配置在空氣供給路徑,該空氣供給路徑將配設在前述溝20的側壁220的氣囊22與前述幫浦P予以繋接。第2閥係配置在空氣供給路徑,該空氣供給路徑將配設在前述溝20的底部210的氣囊21與前述幫浦P予以繋接。建構成:在控制手段要進行第1控制時,前述控制手段將第2閥關閉,且建構成:一邊開啟第1閥一邊驅動前述幫浦P。建構成:在控制手段要進行第2控制時,前述控制手段將前述2個閥開啟以驅動前述幫浦P。
又,如圖6所示,配設在溝20的側面的氣囊22之空氣壓超過指定的壓力時,配設在溝20的底部210的氣囊21開始膨脹。同樣地,如圖7所示,配設在溝20的側面的氣囊22之空氣壓超過指定的壓力時,配設在前述溝20的底部210的氣囊21開始膨脹。亦即,被建構成:在第1控制正被進行的狀況下,當配設在前述溝20的側壁220的氣囊22的內部之空氣壓超過第1空氣壓時,前述控制手段開始 前述第2控制。
在此情況,將配置在側壁220的氣囊22膨脹。藉此,下腿係藉由配置在側壁220的氣囊22而被固定。接著,將底部210的氣囊21膨脹。藉此,成為在利用配設在側壁220的氣囊22之膨脹將下腿固定後進行按壓腿肚。藉此,可將氣囊21的力有效地利用於按摩。
又,如圖1(a)所示,配設在溝20的側壁220的複數個氣囊22係由第1氣囊22a和第2氣囊22b來定義。
此外,配設在溝20的底部210的氣囊21係以位在前述第1氣囊22a和前述第2氣囊22b之間的方式配置在前述溝20的底部210。
在此情況,第1氣囊22a將膝蓋周邊固定。第2氣囊22b將腳裸周邊固定。藉此,第1氣囊22a係與第2氣囊22b協同作動將下腿固定。接著,配設在溝20的底部210的氣囊21膨脹。配設在溝20的底部210的氣囊21係位在第1氣囊22a和第2氣囊22b之間。藉此,配設在溝20的底部210的氣囊21可有效地按壓腿肚。
1‧‧‧按摩機
2‧‧‧按摩部
3‧‧‧按摩部
4‧‧‧椅子
6‧‧‧操控器
10‧‧‧支持框
11‧‧‧軸
12‧‧‧基座
13‧‧‧擱腳面
14‧‧‧旋動基座
20‧‧‧溝
21‧‧‧氣囊
22‧‧‧氣囊
22a‧‧‧第1氣囊
22b‧‧‧第2氣囊
30‧‧‧溝
31‧‧‧氣囊
32‧‧‧氣囊
40‧‧‧座部
41‧‧‧軸
220‧‧‧側壁
210‧‧‧底部
221‧‧‧第1端
222‧‧‧第2端
A‧‧‧伸縮致動器
C‧‧‧控制電路
P‧‧‧幫浦
S‧‧‧固定部位
V‧‧‧閥
圖1係顯示本發明的一實施形態例,(a)是前視圖,(b)是剖面圖。
圖2係顯示同上的整體構成之概略圖。
圖3係同上的氣囊之剖面圖。
圖4係顯示同上動作的一例之前視圖。
圖5係顯示同上動作的一例之剖面圖。
圖6係同上動作的一例之時間圖。
圖7係同上動作的其他例之時間圖。
圖8係同上動作的其他例之前視圖。
圖9係同上動作的其他例之剖面圖。
圖10係同上的其他例之前視圖。
圖11係同上的另一例之前視圖。
圖12係同上的再一其他例之前視圖。
1‧‧‧按摩機
2‧‧‧按摩部
3‧‧‧按摩部
4‧‧‧椅子
6‧‧‧操控器
10‧‧‧支持框
11‧‧‧軸
12‧‧‧基座
13‧‧‧擱腳面
21‧‧‧氣囊
22‧‧‧氣囊
22a‧‧‧第1氣囊
22b‧‧‧第2氣囊
31‧‧‧氣囊
32‧‧‧氣囊
36‧‧‧彈簧
40‧‧‧座部
41‧‧‧軸
C‧‧‧控制電路
P‧‧‧幫浦
A‧‧‧伸縮致動器

Claims (20)

  1. 一種按摩機,其係具備承接人體的腳用的溝,並且在該溝的兩側壁和溝的底部分別配設有膨脹收縮的氣囊之腳用按摩機,其特徵為:配設在溝的側壁的氣囊係被固定於溝底部側的端部,而配設在溝底部且與配置在溝的腳之腿肚相接觸的氣囊之四周當中的上邊側係被固定的。
  2. 如申請專利範圍第1項之按摩機,其中在溝的側壁上有複數個氣囊沿著溝的長邊方向排列,在溝的底部至少配設一個氣囊,而該氣囊在溝的長邊方向之尺寸係比配設在側壁的上述氣囊還長。
  3. 如申請專利範圍第2項之按摩機,其中配設在溝的底部的氣囊係在溝的長邊方向,跨越配設在溝的側壁的複數個氣囊作配置。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之按摩機,其中具備控制手段,該控制手段係在配設於側壁的氣囊開始膨脹後、或在配設於側壁的氣囊結束膨脹後,使與底面的腿肚相接觸的氣囊膨脹。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之按摩機,其中具備控制手段,該控制手段係在與底面的腿肚相接觸的氣囊開始排氣後、或在與底面的腿肚相接觸的氣囊排氣結束後,使配設於側壁的氣囊進行排氣。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之按摩機,其中進一步具備人體的腳之腳裸前部的按摩用氣囊,並具備控制手段,該控制手段係在使腳裸前部用的該氣囊膨脹且 固定腳裸前部後,使與前述腿肚相接觸的氣囊膨脹。
  7. 如申請專利範圍第1項之按摩機,其中配設在前述溝的底部的氣囊係具有和前述溝的底部相接觸的接觸面,前述接觸面係具有前述四周。
  8. 如申請專利範圍第7項之按摩機,其中配設在前述溝的底部的氣囊係利用前述四周的一端被安裝於溝的底部上。
  9. 如申請專利範圍第1項之按摩機,其中前述按摩機係具有按摩部,前述按摩部係具有前述側壁和前述底部,前述側壁係朝向和前述底部垂直的第1方向延伸出去,藉以使前述按摩機具有前述溝。
  10. 如申請專利範圍第9項之按摩機,其中前述側壁係具有靠近前述底部之側的第1端,配設在前述側壁的氣囊係在前述側壁的第1端側被安裝於前述側壁上。
  11. 如申請專利範圍第9項之按摩機,其中前述側壁係具有靠近前述底部之側的第1端、以及前述第1端的相反側的第2端,配設在前述側壁的氣囊係在前述側壁的固定部位被固定於側壁上,前述固定部位係與前述第1端相隔第1距離,前述固定部位係與前述第2端相隔第2距離,且前述第2距離係大於前述第1距離。
  12. 如申請專利範圍第1或9項之按摩機,其中前述按摩機 係進一步具備控制手段和幫浦,前述幫浦被建構成:朝配設在前述溝的側壁的氣囊供給空氣,前述幫浦被建構成:朝配設在前述溝的底部的氣囊供給空氣,前述控制手段被建構成:進行第1控制及第2控制,在前述控制手段要進行前述第1控制時,前述控制手段係控制幫浦,以朝配設在前述溝的側壁的氣囊供給空氣,前述控制手段被建構成:在開始前述第1控制後或在完成前述第1控制後,進行前述第2控制,在前述控制手段要進行前述第2控制時,前述控制手段係控制幫浦,以朝配設在前述溝的底部的氣囊供給空氣。
  13. 如申請專利範圍第12項之按摩機,其中前述按摩機進一步具備第1閥及第2閥,前述第1閥配置在空氣供給路徑,該空氣供給路徑係將配設在前述溝的側壁的氣囊和前述幫浦繋接,前述第2閥配置在空氣供給路徑,該空氣供給路徑係將配設在前述溝的底部的氣囊和前述幫浦繋接,建構成:在前述控制手段進行第1控制時,前述控制手段關閉第2閥,且建構成:一邊開啟第1閥一邊驅動前述幫浦,建構成:在前述控制手段進行第2控制時,前述控制手段開啟前述第2閥,驅動前述幫浦。
  14. 如申請專利範圍第13項之按摩機,其係建構成:在前述第1控制正進行的狀況下,當配設在前述溝的側壁的氣囊之內部的空氣壓超過第1空氣壓時,前述控制手段開始前述第2控制。
  15. 如申請專利範圍第2項之按摩機,其中配設在前述溝的側壁的複數個氣囊係由第1氣囊和第2氣囊來定義。
  16. 如申請專利範圍第15項之按摩機,其中配設在前述溝的底部的氣囊係以位在前述第1氣囊和前述第2氣囊之間的方式配置在前述溝的底部。
  17. 如申請專利範圍第7項之按摩機,其中前述第1氣囊係具有與前述溝的側壁呈對向的保持面,前述保持面係具有沿著前述溝的長邊方向之長度,前述保持面係具有保持面的長邊方向之一端部和另一端部,前述一端部係位在與另一端部的相反側,配設在前述溝的底部的氣囊係具有和前述溝的底部呈對向的接觸面,前述接觸面係具有前述四周,配設在前述溝的底部的氣囊係藉前述四周的一端而被安裝於前述溝的底部,前述四周的一端係位在前述一端部和前述另一端部之間。
  18. 如申請專利範圍第4項之按摩機,其中具備控制手段,該控制手段係在與底面的腿肚相接觸的氣囊開始排氣 後、或在與底面的腿肚相接觸的氣囊排氣結束後,使配設於側壁的氣囊進行排氣。
  19. 如申請專利範圍第4項之按摩機,其中進一步具備人體的腳之腳裸前部的按摩用氣囊,並具備控制手段,該控制手段係在使腳裸前部用的該氣囊膨脹且固定腳裸前部後,使與前述腿肚相接觸的氣囊膨脹。
  20. 如申請專利範圍第5項之按摩機,其中進一步具備人體的腳之腳裸前部的按摩用氣囊,並具備控制手段,該控制手段係在使腳裸前部用的該氣囊膨脹且固定腳裸前部後,使與前述腿肚相接觸的氣囊膨脹。
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