TWI403765B - The manufacturing method of the layered body - Google Patents

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TWI403765B
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Tetsuo Inoue
Toru Umemoto
Toshimasa Nishimori
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Nitto Denko Corp
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Description

積層體之製造方法
本發明係關於一種如偏光膜或相位差膜之具有光學各向異性之積層體之製造方法。
於LCD(液晶顯示器)中，為控制顯示中之旋光性或雙折射性而使用直線偏光板或圓偏光板。即使於OLED(有機發光二極體)中，為防止外光之反射亦使用圓偏光板。
先前，於該等偏光板(偏光元件)中，廣泛使用藉由使碘或具有二色性之有機色素溶解或吸附於聚乙烯醇等之高分子材料中，並使膜沿一個方向延伸為薄膜狀，使色素等配向而獲得之偏光元件。然而，以此方法製造而成之先前之偏光元件，由於所使用之色素或高分子材料而導致耐熱性或耐光性並不充分這一點已成為問題。又，於製造液晶裝置時膜之貼合良率不佳亦已成為問題。進而，伴隨著顯示面板之大型化，寬幅之薄膜之延伸、極端大型之製膜裝置均成為必需之製造上的問題亦成為現實問題。
因此，業界研究如下之製造方法，即，將含有二色性色素之溶液塗佈於玻璃板或透明薄膜等基材上而形成含有二色性色素之膜，並利用底層之限制力(例如，參照專利文獻1、2。)或塗佈時之切應力(shearing stress)(例如，參照專利文獻2)等使二色性色素配向，藉此製造偏光膜之方法。
然而，現狀是利用該等已知之塗佈方式而成之偏光膜於 性能或製造之穩定性或操作之簡易性方面未必充分。
例如，藉由塗佈時之切應力而實現配向結構之方法難以確立穩定地實現充分之配向的塗佈機構，於藉由底層之限制力實現配向結構的先前之方式中，於塗佈後之溶液乾燥時配向有可能發生紊亂，且於製造之穩定性上存在問題。
專利文獻1：日本專利特開2007-61755號公報
專利文獻2：美國專利第2400877號公報
專利文獻3：日本專利特表平8-511109號公報
本發明之目的在於提供一種能夠以簡單之操作穩定地製造具有較高光學各向異性之積層體之製造方法。
本發明之主旨如下， 一種積層體之製造方法，其包含：準備含有水溶性液晶化合物與水之水溶液、與基材之步驟；將上述水溶液塗佈於上述基材之表面上而形成塗膜之塗佈步驟；以及乾燥上述塗膜之乾燥步驟；上述乾燥步驟之至少一部分包括高濕下乾燥步驟，該高濕下乾燥步驟係藉由將乾燥前之上述塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中加以乾燥而去除該塗膜中10重量%以上之溶劑， 且於上述高濕下乾燥步驟中，對水溶性液晶化合物施加使該水溶性液晶化合物配向之限制力而使該水溶性液晶化合物配向，並於上述基材之表面上形成光學各向異層。
於上述高濕下乾燥步驟中，可以使上述高濕下乾燥步驟之總乾燥時間為300秒以上之方式調整上述環境氣體之濕度。
上述水溶液可係於上述塗佈步驟中不顯示液晶性而於上述高濕下乾燥步驟中顯示液晶性之溶液。
上述水溶液中之上述水溶性液晶化合物之濃度可係0.1~50重量%。
上述光學各向異層於波長550 nm下可顯示吸收二色性。
上述基材之表面可具有使上述水溶性液晶化合物配向之各向異性。
根據本發明，可提供一種能夠以簡單之操作穩定地製造具有較高光學各向異性之積層體之製造方法。
本發明之積層體之製造方法包含：準備含有水溶性液晶化合物與水之水溶液、與基材之步驟；將上述水溶液塗佈於上述基材之表面上而形成塗膜之塗佈步驟；以及乾燥上述塗膜之乾燥步驟；上述乾燥步驟之至少一部分包括高濕下乾燥步驟，該高濕 下乾燥步驟係藉由將乾燥前之上述塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中加以乾燥而去除該塗膜中10重量%以上之溶劑， 且於上述高濕下乾燥步驟中使該水溶性液晶化合物配向，於上述基材之表面上形成光學各向異層。
水溶性液晶化合物之配向係對水溶性液晶化合物施加使該水溶性液晶化合物配向之限制力而進行。該限制力例如為由配向膜、磁場、剪力(shearing force)等而產生者。
本發明中之光學各向異層係指於層內之正交2方向上於吸收、折射等光學的性質中具有各向異性之膜，其中可列舉具有作為直線偏光膜、圓偏光膜、相位差膜之功能者等。本發明之積層體最好的是用於偏光膜中。
[水溶液]
於本發明所使用之水溶液中，水溶性液晶化合物溶解於水中。該水溶性液晶化合物亦可為溶致(lyotropic)液晶性化合物。
所謂溶致液晶性係指藉由溫度或色素之變化而引起等向性相、液晶相之相位轉變之性質。又，本發明中之溶致液晶性化合物係指於特定之溶劑中，於特定之濃度範圍內溶解時顯示液晶性之化合物(丸善股份有限公司，參照液晶便覽等)。眾所周知，溶致液晶性化合物係於液晶狀態下藉由配向膜、磁場、剪力等機構，使分子沿特定之方向配向。
作為於本發明中所使用之水溶性液晶化合物，通常使用 水溶性之二色性色素。又，該色素為具有用於控制配向之液晶相之色素。本發明中之具有液晶相之色素為於溶劑中顯示溶致液晶性之色素，且為於室溫狀態下顯示向列型液晶相者，其配向性優異。
該液晶相除向列型液晶相以外可列舉層列型(smectic)液晶相或膽固醇型(cholesteric)液晶相等。液晶相藉由用偏光顯微鏡所觀察之光學模式來確認、識別。
又，於本發明中所使用之該二色性色素係於400~780 nm之波段中吸收任何波長之光之有機化合物。又，較好的是藉由該二色性色素之配向而獲得之光學各向異層於波長550 nm下顯示吸收二色性。
作為於本發明中所使用之水溶性液晶化合物之具體例，可列舉偶氮系色素、蒽醌系色素、苝系色素、陰丹士林系色素、咪唑系色素、靛藍系色素、噁嗪系色素、酞菁系色素、三苯甲烷系色素、吡唑啉酮系色素、芪系色素、二苯甲烷系色素、萘醌系色素、部花青素系色素、喹啉黃系色素、二苯并哌喃系色素、茜素系色素、吖啶系色素、醌亞胺系色素、噻唑系色素、次甲基系色素、硝基系色素、亞硝基系色素等。該等之中較好的是偶氮系色素、蒽醌系色素、苝系色素、陰丹士林系色素及咪唑系色素。該等二色性色素可單獨使用或者混合2種以上使用。為獲得黑色之偏光膜，較好的是混用複數種具有不同吸收光譜之二色性色素。
又，該等二色性色素較好的是包含磺酸基(－SO3 H)、羧 基(－COOH)或該等之鹽、氮系取代基(－NH2 、－NHR、－NR2 、－NR1 R2 (R、R1 、R2 為1價之有機基))之有機化合物，特別好的是包含磺酸基之有機化合物或磺酸鹽。於二色性色素中導入磺酸基，於提昇二色性色素於水中之溶解性方面有效。於二色性色素中導入之磺酸基之數量越多則越提昇二色性色素於水中之溶解度。該磺酸基之數量考慮於水中之溶解度與光學各向異層之耐水性的並存而適當選擇。
進而，可列舉以通式(1)所表之化合物作為於本發明中所使用之二色性色素之具體例。
通式(1)．．．(色素原(chromogen))(SO3 M)n (n表示1以上之整數，M表示陽離子。)
作為通式(1)之M，較好的是如氫離子、Li、Na、K、Cs之第一族金屬之離子，銨離子等。又，作為色素原部位，較好的是包含偶氮衍生物單元、蒽醌衍生物單元、苝衍生物單元、咪唑衍生物單元及/或陰丹士林衍生物者。
以上述通式(1)所表示之二色性色素(A)係於溶液中偶氮化合物或多環式化合物結構等之色素原成為疏水性部位，而且磺酸及其鹽成為親水性部位，且藉由兩者之平衡疏水性部位之間彼此聚集及親水性部位之間彼此聚集，整體表現溶致液晶者。
作為以通式(1)所表示之有機色素之具體例，例示有以下述通式(2)~(8)所表示之化合物等。
[化1]
式(2)中，R1 為氫或氯，R2 為氫、烷基、ArNH或ArCONH。作為該烷基較好的是碳數為1~4之烷基，其中更好的是甲基或乙基。作為芳基(Ar)較好的是經取代或未經取代之苯基，其中更好的是未經取代或4位經氯取代之苯基。又，M與上述通式(1)相同。
於式(3)~(5)中，A為以式(a)或(b)所表示者，n為2或3。A之R3 表示氫、烷基、鹵素或烷氧基，Ar表示經取代或未 經取代之芳基。作為烷基較好的是碳數為1~4之烷基，其中更好的是甲基或乙基。鹵素較好的是溴或氯。又，烷氧基較好的是碳數為1或2個之烷氧基，其中更好的是甲氧基。作為芳基較好的是經取代或未經取代之苯基，其中較好的是未經取代之苯基或者4位經甲氧基、乙氧基、氯或者丁基取代，或3位經甲基取代之苯基。M與上述通式(1)相同。
於式(6)中，n為3~5，M與上述通式(1)相同。
於式(7)中，M與上述通式(1)相同。
[化5]
於式(8)中，M與上述通式(1)相同。
於上述化合物中之有機化合物導入磺酸基(磺化)之方法，例如可列舉：於有機化合物中使硫酸、氯磺酸或發煙硫酸發揮作用，將核之氫取代為磺酸基之方法。上述化合物中之鹽，其可酸解離之氫原子被例如鋰離子、鉀離子、銫離子、銨離子等1價離子取代者。
作為於本發明中所使用之水溶性液晶化合物之其他具體例，可列舉日本專利特開2006－047966號公報、日本專利特開2005－255846號公報、日本專利特開2005－154746號公報、日本專利特開2002－090526號公報、日本專利特表平8－511109號公報、日本專利特表平2004－528603號公報中所記載之色素。
作為於本發明中所使用之水溶性液晶化合物，可使用市售之二色性色素。作為其例，可列舉C.I.DirectB67、DSCG(INTAL)、RU31.156、甲基橙(Metyl orange)、AH6556、Sirius Supra Blown RLL、苯紫紅素(Benzopurpurin)、Copper－tetoracarboxyphthalocyanine、酸性紅266(Acid Red 266)、花青染料(Cyanine Dye)、紫色素20(Violet 20)、Perylenebiscarboximides、苯紫紅素4B(Benzopurpurin 4B)、亞甲藍(Methyleneblue(Basic Blue 9))、輝黃染料(Brilliant Yellow)、酸性紅18(Acid red 18)、酸性紅 27(Acid red 27)等。
作為於本發明中所使用之水溶性液晶化合物之水溶液(以下僅稱為水溶液)之溶劑的水之導電度較好的是20 μS/cm以下，更好的是0.0001~5 μS/cm。藉由使水之導電度處於該等範圍內可獲得具有較高二色比之偏光膜。
於水溶液中，除作為溶劑之水以外亦可添加醇類、醚類、賽路蘇類、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺等水溶性溶劑。又，亦可添加甘油、乙二醇等水溶性化合物。該等添加物可用於調整水溶性液晶化合物之易溶性或水溶液之乾燥速度。相對於水溶液中之水100重量份，該等溶劑之添加量較好的是100重量份以下。
水溶液之濃度(相對於溶劑之水溶性液晶化合物之重量%)，其於高濕下乾燥步驟中能夠以獲得顯示液晶性之濃度範圍之方式適當調整，較好的是0.1~50重量%，更好的是1~40重量%，特別好的是1~30重量%。藉由使水溶液之濃度處於此種範圍內，於高濕下乾燥步驟中塗膜可顯示穩定之液晶狀態。
水溶液之pH較好的是4~10，更好的是6~8。
又，水溶液亦可視需要含有選自黏合樹脂、單體、硬化劑、塑化劑、界面活性劑、熱穩定劑、潤滑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、阻燃劑、抗靜電劑、相容劑、增稠劑、均染劑、偶合劑等之添加物。添加物之添加量較理想的是水溶液總量之10重量%以下。
若於水溶液中添加界面活性劑，則可提昇二色性色素對 於基材表面之濕潤性、塗佈性。作為該界面活性劑，較好的是非離子界面活性劑。界面活性劑之添加量較好的是水溶液總量之5重量%以下。
[基材]
作為於本發明中所使用之基材可使用玻璃板或樹脂膜。較好的是基材之表面具有使水溶性液晶化合物配向之各向異性。因此，較好的是於其表面形成受到摩擦之配向處理而成之配向膜。作為此種基材，例如可列舉於玻璃板上塗層有聚醯亞胺膜之基材。該聚醯亞胺膜藉由公知之方法，例如朝固定方向進行摩擦等而被賦予配向性，從而成為配向膜。關於用於控制水溶性液晶化合物(色素)之配向方向之基材之配向處理，可利用「液晶便覽」(丸善股份有限公司，2000年10月30日發行)第226頁~239頁等中所記載之公知之方法進行處理。
於使用樹脂膜作為基材時，由於基材可具有可撓性，故其適於要求可撓性之用途。樹脂膜之表面亦可藉由摩擦等進行配向處理。或者，亦可於樹脂膜之表面形成包含其他素材之配向膜。
作為於基材中所使用之樹脂膜之素材，若為具有薄膜形成性之透明樹脂則並無特別限定，可例示苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚矽氧系樹脂、氟系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、三醋酸纖維素、聚乙烯醇系樹脂、聚碳酸酯系樹脂。
基材之厚度除可由用途而決定以外，並無特別限定，通 常為1~1000 μm之範圍。
[塗佈步驟]
於塗佈步驟中，水溶液塗佈於基材之表面形成塗膜，即形成水溶液薄薄地展開於基材之表面之層。塗佈之方法若可均勻地塗佈塗膜則並無特別限定，可適當使用棒式塗佈、輥式塗佈、柔版印刷、絲網印刷、簾幕式塗佈、噴塗、旋塗等公知之方法。
塗膜之厚度較好的是0.01~10 μm。
[乾燥步驟]
於乾燥步驟中乾燥塗膜而去除該塗膜中約95重量%以上之溶劑。該乾燥步驟包含藉由將乾燥前之上述塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中加以乾燥而去除該塗膜中10重量%以上之溶劑之高濕下乾燥步驟。
於該高濕下乾燥步驟中，將乾燥前之塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中藉由揮發緩緩去除溶劑。實際上係藉由將塗佈有塗膜之基材置於該環境氣體而進行。亦可藉由將塗膜表面露出於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中而進行。該環境氣體係自塗膜之表面遍及其表面上方至少10 mm之位置之空間部分的環境氣體，其濕度為距塗膜表面10 mm之位置所測定之濕度。即，該環境氣體並非於塗膜與空氣之界面附近由於揮發而產生之濕度梯度之部分。
該高濕之環境氣體，例如可藉由將乾燥對象物即塗膜連同基材一起靜置於內部可調節濕度之處理室或者腔室內而 形成。或者可藉由於塗膜之上部空間送入高濕之空氣而實現。
塗膜之乾燥可於自然乾燥狀態下進行而不用自外部積極地加熱塗膜。或者亦可積極地一邊加熱或冷卻一邊乾燥塗膜。
於本發明中，於高濕下乾燥步驟中對塗膜中之水溶性液晶化合物施加限制力而使其配向，該限制力例如來自形成於基材之表面之配向膜，且水溶性液晶化合物沿與配向膜之配向方向平行或者正交之方向配向。或者，例如亦可根據日本專利特開平5－297218號公報中所記載之方法，對塗膜施加固定方向之電場而產生之限制力而使水溶性液晶化合物配向。
於高濕下乾燥步驟中，由於將塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中，塗膜中之溶劑之揮發受到抑制而防止塗膜之黏度急劇上升，因此於高濕下乾燥之過程中可將塗膜長時間地保持於液晶狀態，且能夠以特定之時間使由於該限制力之水溶性液晶化合物之配向充分進行，從而可獲得水溶性液晶化合物之均勻且程度較高之配向。又，該環境氣體中之空氣亦可處於流動狀態，處於大致靜止狀態可延遲乾燥速度從而進行穩定之配向而較好。若高濕下乾燥步驟中之濕度為100% RH，則塗膜中之溶劑幾乎不產生揮發，從而導致整體之乾燥時間過長而給工業實施帶來障礙。又，易於產生伴隨冷凝產生之問題。
另一方面，由高濕下乾燥步驟而去除之塗膜中之溶劑之 總量係不滿塗佈之後之塗膜中之溶劑的10重量%之狀態，例如，於將塗膜自高濕下乾燥步驟移至低濕環境氣體中時，由於無法長時間地將塗膜保持於液晶狀態，從而無法獲得塗膜中之水溶性液晶化合物之充分之配向。
更好的是水溶液中之水溶性液晶化合物之濃度低於引起濃度相位轉變之濃度。於此種情形時，於水溶液之塗佈之後未形成液晶相，水溶液之濃度由於乾燥而上升，達到引起濃度相位轉變之濃度以上後開始由於限制力之配向。於本發明中，於高濕下乾燥之過程中可將塗膜長時間地保持於液晶狀態，並可進行極其穩定之水溶性液晶化合物之配向化。且可提高配向度。
於圖1之圖表中模式性地表示於高濕下乾燥步驟中塗膜中之溶劑之濃度之經時變化。圖1中之橫軸係將高濕下乾燥步驟開始之時間點設為0之經過時間，縱軸係塗膜中之溶劑之濃度。CU 為等向性相之濃度域(density rang)、CLU 為液晶相之濃度域、CC 為結晶相之濃度域。CT 為自等向性相轉移至液晶相之濃度、CS 為自液晶相變化成結晶相之濃度。直線W1、W2係將塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之範圍之固定環境氣體中時塗膜中之溶劑之濃度之經時變化，直線W1為水溶液中之濃度C1 小於CT 之情形，直線W2為水溶液中之濃度C2 大於CT 而小於CS 之情形。直線D1、D2為將塗膜置於未達70% RH之固定環境氣體中時塗膜中之溶劑之濃度之經時變化，直線D1為水溶液中之濃度小於CT 之情形，直線D2為水溶液中之濃度為大於CT 而小 於CS 之情形。
tW1 為於直線W1上塗膜位於液晶相之濃度域中之時間帶，tW2 為於直線W2上塗膜位於液晶相之濃度域中之時間帶，tD1 為於直線D1上塗膜位於液晶相之濃度域中之時間帶，tD2 為於直線D2上塗膜位於液晶相之濃度域中之時間帶。由圖1可知，tW1 >tD1 、tW2 >tD2 ，且若C2 並非接近於CS 之值則tW1 >tW2 >tD1 >tD2 ，實際上，於使直線W1、W2上之環境氣體濕度為70% RH，使直線D1、D2上之環境氣體濕度為60% RH之情形時，若C2 並非接近於CS 之值則成為tW1 >tW2 》tD1 >tD2 。
如此，藉由將塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之範圍之固定環境氣體中，可使塗膜位於液晶相之濃度域中之時間帶變長，從而可獲得水溶性液晶化合物的均勻且較高之配向。
又，於本發明中，高濕下乾燥步驟之總乾燥時間為300秒以上較有利於穩定之水溶性液晶化合物之配向化。總乾燥時間為600~1800秒更有利於穩定之水溶性液晶化合物之配向化。將環境氣體之濕度設定為其值於70% RH以上、未達100% RH之範圍之內調整，且乾燥速度不變快之高濕，藉此可使該總乾燥時間為300秒以上。除此之外，可將環境氣體或者塗膜之溫度設定為乾燥速度不變快之低溫，藉此使此總乾燥時間為300秒以上或者600~1800秒。高濕下乾燥步驟之總乾燥時間係指將塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中後，以高濕下乾燥步驟藉 由揮發去除80重量%以上之溶劑，或於低於70% RH之低濕環境氣體中產生塗膜為止之時間。
[第二乾燥步驟]
於本發明中，於乾燥步驟中，可於高濕下乾燥步驟之後設立第二乾燥步驟。該第二乾燥步驟僅於以高濕下乾燥步驟乾燥之塗膜中存在多餘之殘餘溶劑時設置。例如，以高濕下乾燥步驟乾燥去除塗佈時塗膜中所含有之溶劑中之50重量%之情形時，剩餘之溶劑之全部或大部分利用第二乾燥步驟去除。於以高濕下乾燥步驟乾燥去除全部或大部分之溶劑之情形時，例如，以高濕下乾燥步驟乾燥去除塗佈時塗膜中所含有之溶劑中之95重量%以上之情形時亦可無第二乾燥步驟。又，第二乾燥步驟通常與高濕下乾燥步驟連續進行。第二乾燥步驟中之環境氣體之濕度等條件並無特別限定，為縮短步驟時間較好的是高溫低濕。於第二乾燥步驟中較好的是塗佈結束之後乾燥去除塗膜中所含有之溶劑中之95重量%以上。即，較好的是於以高濕下乾燥步驟乾燥之塗膜中殘留有超過塗佈之後之塗膜中溶劑量之5重量%的溶劑之情形時進行第二乾燥步驟。
藉由本發明所獲得之積層體，其基本上係包括基材、配置於基材之表面上的配向之水溶性液晶化合物層者，亦可進而於積層體上積層其他層。例如，亦可於水溶性液晶化合物之層之表面設置由樹脂構成之保護層。或者，亦可於基材之表面或背面事先設置平滑層或脫模層或易接著層等。
藉由本發明所獲得之積層體，其發揮光學各向異性而用於各種光學元件中，特別是可較好地用作偏光元件。於此情形時，配向之塗膜之二色比於波長550 nm下較好的是20以上。更好的是30以上。該二色比係由使用分光光度計將直線偏光作為測定光入射至樣品(塗膜)中，測定光之偏光之電場向量相對於塗膜(光學各向異層)之配向方向成為平行及正交狀態時之各種光之透射率計算出。
又，藉由本發明所獲得之積層體，可與基材一起使用，亦可自基材剝離塗膜作為配向膜，較好的是積層於其他載體或光學元件上使用。
藉由本發明所獲得之積層體適用於各種液晶顯示裝置中。例如適用於電腦螢幕、筆記型電腦、影印機等辦公事務機器，行動電話、時鐘、數位攝影機、個人數位助理(PDA)、可攜式遊戲機等行動裝置，視訊攝影機、電視機、電子爐等家庭用機器，後台監視器、汽車導航系統用監視器、汽車音響等車輛用機器，用於商業店鋪之資訊用監視器等展示機器，監視用監視器等警備機器，護理用監視器、醫療用監視器等之液晶顯示裝置。
[實施例]
製備具有SO3 H基之水溶性之苝系液晶化合物(Optiva公司製造：商品名「NO－15」)之水溶液。該苝系液晶化合物相對於水溶液整體之濃度為5重量%。使用蒸餾水作為溶劑之水。該水溶液於23℃下自等向性相轉移為液晶相之濃度(CT )為7重量%，且於5重量%下不顯示液晶性。利用斜 板式塗佈法(slide coater)將該水溶液塗佈於具備聚醯亞胺配向膜之玻璃板基材上，對該聚醯亞胺配向膜之表面進行摩擦處理後，於該配向膜上形成厚度為5 μm之水溶液之塗佈層(塗膜)。繼而，立即將形成有該塗膜之玻璃板基材裝入至溫度為24℃、濕度為80% RH之加濕櫃(To－rihan公司製造：產品名「WET－CABI」)中。塗膜中之水分經過20分鐘(1200秒)揮發80重量%。此時，塗膜位於液晶相之濃度域中之時間帶(tW1 )為540秒。其後，使加濕櫃中之濕度緩緩降低，並使塗膜完全乾燥。以此方式所獲得之積層體於波長550 nm下之二色比為28。
[比較例]
將形成有以與實施例1相同之方式所獲得之塗膜之玻璃板基材置於濕度為55% RH之加濕櫃中。塗膜中之水分於3分鐘間揮發95重量%，獲得積層體。該積層體於波長550 nm下之二色比為10。此時，塗膜位於液晶相之濃度域中之時間帶(tD1 )為57秒。
實施例、比較例中之測定方法
二色性
使用日本分光公司製造：產品名「V－7100」，以使測定光之電場向量相對於樣品之苝系液晶化合物之配向方向平行及正交之方式分別入射波長為550 nm之直線偏光之(平行方向之入射光及正交方向之入射光)測定光，分別測定各種光之透射率，並藉由計算式：二色比＝(Log(1/正交方向之入射光之透射率))/(Log(1/平行 方向之入射光之透射率))
計算出二色比。
濕度
使用溫度計(ANEMOMASTER6011)，於距塗佈層之表面10 mm上方之位置進行測定。
圖1係模式性地說明高濕下乾燥步驟中之水溶液之濃度隨乾燥經過時間變化之圖表。
(無元件符號說明)

Claims (10)

  1. 一種積層體之製造方法，其包含：準備含有水溶性液晶化合物與水之水溶液、與基材之步驟；將上述水溶液塗佈於上述基材之表面上形成塗膜之塗佈步驟；以及乾燥上述塗膜之乾燥步驟；上述水溶液係於上述塗佈步驟中不顯示液晶性而於上述高濕下乾燥步驟中顯示液晶性之溶液；上述乾燥塗膜之乾燥步驟包括高濕下乾燥步驟，上述高濕下乾燥步驟係藉由將上述塗膜置於70% RH以上、未達100% RH之環境氣體中加以乾燥，去除該塗膜中10重量%以上、未達85重量之溶劑；且於上述高濕下乾燥步驟包含藉由使該水溶性液晶化合物配向，於上述基材之表面上形成光學各向異層之階段。
  2. 如請求項1之積層體之製造方法，其中以使上述高濕下乾燥步驟之總乾燥時間為300秒以上之方式來調整上述環境氣體之濕度。
  3. 如請求項1之積層體之製造方法，其中上述水溶液中之上述水溶性液晶化合物之濃度為0.1~50重量%。
  4. 如請求項2之積層體之製造方法，其中上述水溶液中之上述水溶性液晶化合物之濃度為0.1~50重量%。
  5. 如請求項1之積層體之製造方法，其中上述光學各向異 層於波長550 nm下顯示吸收二色性。
  6. 如請求項2之積層體之製造方法，其中上述光學各向異層於波長550 nm下顯示吸收二色性。
  7. 如請求項3之積層體之製造方法，其中上述光學各向異層於波長550 nm下顯示吸收二色性。
  8. 如請求項4之積層體之製造方法，其中上述光學各向異層於波長550 nm下顯示吸收二色性。
  9. 如請求項1至8中任一項之積層體之製造方法，其中上述基材之表面具有使上述水溶性液晶化合物配向之各異向性。
  10. 如請求項1之積層體之製造方法，其中進而包含乾燥上述塗膜之第二階段，上述第二階段中，去除塗膜中所含有之溶劑之95重量%以上。
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