TWI396908B - 液晶顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

Description

液晶顯示裝置及其製造方法

明涉及一種液晶顯示裝置及其製造方法，特別涉及一種具有與間隔物相對應設置的凸起物結構的液晶顯示裝置及其製造方法。

近年來，由於光電技術的突飛猛進，使得具有體積小、重量輕、顯示效果良好，等特點的液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)，越來越受到消費者的青睞。

圖1是一種習知的液晶顯示面板的示意圖(對應的參考文獻為中國專利申請案：CN 1991488)。圖2則繪示為圖1的液晶顯示面板受到測向外力時的示意圖。如圖1所示，液晶顯示面板100包括上基板101、下基板102以及設置在上下兩基板101、102之間的液晶層(未標示)。此外，在上基板101上設置有一間隔物103，而在下基板102上設置有一凸起物104。凸起物104與上基板104的一間隔物103相接。這種結構設計可以使兩基板101、102之間保持較好的間隙。

但是，當側向外力F施加在上基板101上，上基板101可能發生偏移(如圖2所示)。此時，因為凸起104表面和間隔物103表面並沒有良好的緩衝角度，而使外力F撤去時，上基板101並不能完全回復到先前的位置。如此一來，缺陷將會產生，而這樣的缺陷在業界稱之為擦拭缺陷(push mura)或壓黑缺陷(touch mura)。從而，嚴重影響了液晶顯示面板100的顯示效果，降低了顯示品質。

圖3為另一習知的液晶顯示面板(LCD)(對應的參考文獻為中國專利申請案：CN 1661425)。如圖3所示，液晶顯示面板110包括一上基板111、一下基板112以及在上下兩基板111、112之間設置的一液晶層 (未標示)。此外，在上基板111上設置有一間隔物113，而在下基板112上設置有一凸起結構(未標示)，其中凸起結構(未標示)由第一凸起物114與第二凸起物115組成。這種結構設置可使兩基板111、112之間保持良好的間隙，以確保顯示畫面的優良。但是，當上基板111受到外力擠壓時，上基板111會發生位移。因上基板111發生位移而使其上的間隔物113也會隨著產生位移。同樣地，間隔物113與凸起結構(114、115)相接處的表面並沒有良好的緩衝角度。所以，當外力消失後，上基板111並不能完全回復到原來的位置，因而產生所謂擦拭缺陷(push mura)或壓黑缺陷(touch mura)；從而嚴重影響顯示器的顯示效果，降低顯示品質。

基於以上所述，還需要重新設計一種新的間隔物結構，來改善上述問題；本發明提出一種新的液晶顯示裝置，重新設計與間隔物相對應的凸起物結構，以有效防止擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)現象的產生。

為了實現解決上述問題，本發明提供一種液晶顯示裝置及其製造方法。液晶顯示裝置包括第一基板與第二基板。第一基板上設置有複數間隔物。第二基板上設置有複數具有一平滑緩衝表面的凸起物。凸起物與第一基板上的至少部份間隔物相對應且接觸，其中凸起物包括一上堆疊層和一下堆疊層，且該上堆疊層的該上表面與該上堆疊層的該下表面相接所形成的一夾角小於30度。本發明之一實施例中，液晶顯示裝置包括第一基板，第二基板。在第一基板上設置有複數間隔物，且間隔物包括第一間隔物和第二間隔物。在第二基板上設置有複數凸起物。凸起物與第一間隔物相對應且接觸，其中凸起物例如是由上堆疊層與下堆疊層所組成。上堆疊層包括一上表面和一下表面，而下表面完全覆蓋下堆疊層，並且下表面與第二基板相接合。其中，上堆疊層的上表面為一弧形的表面，或是上堆疊層的上表面為一由多段類直線所構成的折曲形表面，且上表面與下表面連接處形成一小於30度的夾角。

本發明之一實施例中，一種液晶顯示裝置包括：第一基板，第二基板；在第一基板上設置有複數間隔物，且該間隔物包括第一間隔物 和第二間隔物；在第二基板上設置有複數凸起物，該凸起物與第一間隔物相對應且接觸；其中，該凸起物是由上堆疊層與下堆疊層所組成，且該上堆疊層包括一上表面和一下表面，該下表面是完全覆蓋下堆疊層的，並且該下表面與第二基板相接合。其中，該下堆疊層是由複數個堆疊物所組成的，且該上堆疊層的上表面形成為一波浪形的表面；或者該上堆疊層的上表面為一由多段類直線所構成的折曲形表面，且該上表面與下表面連接處形成一小於30度的夾角。

本發明之一實施例中，一種液晶顯示裝置包括第一基板與和第二基板。第一基板上設置有複數間隔物。第二基板上設置有複數凸起物，且凸起物與第一基板上的間隔物相對應且接觸，其中凸起物具有一平滑緩衝表面。其中，在第二基板上設置有金屬線，畫素電極和薄膜電晶體，其中金屬線為掃描線(Gate Line)及信號線(Source Line)，且凸起物設置的位置在掃描線或者信號線之上。畫素電極連接至薄膜電晶體，而薄膜電晶體連接至金屬線。第一基板例如為彩色濾光片基板，而第二基板例如為陣列基板。

本發明之另一實施例中，一種液晶顯示裝置包括第一基板以及第二基板。在第一基板上設置有複數間隔物。在第二基板上設置有複數凸起物，而凸起物與間隔物相對應且接觸，其中間隔物包括第一間隔物和第二間隔物。凸起物與第一間隔物相對應且接觸。凸起物至少包括上堆疊層和下堆疊層。下堆疊層包括有一上表面及下表面，且下表面與第二基板相貼合。另外，上堆疊層包括上表面和下表面，且上堆疊層的下表面與下堆疊層的上表面相貼合，其中上堆疊層的下表面小於或等於下堆疊層的上表面。也就是說，上堆疊層不與第二基板接觸。此外，上堆疊層的上表面與下堆疊層的上表面形成一夾角，且此夾角是小於30度。另外，下堆疊層例如為多個堆疊物，且各堆疊物的上表面與下表面的連接處形成有一夾角，且此夾角小於30度。

本發明之又一實施例中，提供一種液晶顯示裝置的製造方法，此方法包括以下步驟：提供一第一基板，其上形成一間隔物。提供一第二基板，其上形成一凸起物。凸起物與間隔物相對應且接觸，且凸起物形成一平滑緩衝表面，其更包括一上堆疊層和一下堆疊層，該上堆疊層包 含一上表面和一下表面，且該上堆疊層的該上表面與該上堆疊層的該下表面相接所形成的一夾角小於30度。其中凸起物的平滑緩衝表面是利用灰階調光罩(Gray Tone Mask)或半色調光罩(Half Tone Mask)進行曝光顯影製作而成。

本發明中所述的凸起物具有平滑緩衝表面，其更包括一上堆疊層和一下堆疊層，該上堆疊層包含一上表面和一下表面，且該上堆疊層的該上表面與該上堆疊層的該下表面相接所形成的一夾角小於30度，而可以有效防止擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)現象的產生。如先前技術中所述：因基板受到外力的作用時，基板會產生位移，則間隔物也會跟著基板產生位移。若間隔物與凸起結構的表面並沒有設置平滑緩衝的角度，則外力消失時，基板較不容易恢復到原來的位置，因而產生擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)。本發明將凸起物設計為具有平滑緩衝的表面，該凸起物更包括一上堆疊層和一下堆疊層，該上堆疊層包含一上表面和一下表面，且該上堆疊層的該上表面與該上堆疊層的該下表面相接所形成的一夾角小於30度，所以凸起物與間隔物相接觸時，間隔物可以有較好的緩衝力，從而獲得較好的緩衝效果。因此，即使基板受到外力的作用基板而產生位移，當外力消失之後，基於凸起物表面的特殊設計，基板則較為容易恢復到原來的位置。因而本發明有效的防止了擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)；從而提高了液晶顯示器的顯示效果，到達出貨的標準。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

10‧‧‧液晶顯示裝置

11‧‧‧第一基板

21‧‧‧第二基板

31、61‧‧‧第一間隔物

41、51‧‧‧堆疊層

41a、51a‧‧‧上表面

41b、51b‧‧‧下表面

71‧‧‧閘極保護層

81‧‧‧信號線

91‧‧‧保護層

100、110‧‧‧液晶顯示面板

101、111‧‧‧上基板

102、112‧‧‧下基板

103、113‧‧‧間隔物

104、114‧‧‧凸起物

211‧‧‧掃描線

410‧‧‧堆疊物

A-A’、B-B’‧‧‧剖線

A1~A4‧‧‧夾角

B1、B2‧‧‧類夾角

D‧‧‧區域

F‧‧‧外力

PE‧‧‧畫素電極

S10、S12‧‧‧步驟

TFT‧‧‧薄膜電晶體

圖1 為習知的一種液晶顯示裝置結構示意圖。

圖2 為習知的一種液晶顯示基板受到外力作用下，基板產生形變的示意圖。

圖3為習知的另一種液晶顯示裝置結構示意圖。

圖4為本發明的一實施例的液晶顯示裝置結構示意圖。

圖5為本發明的一實施例的液晶顯示裝置的製作流程示意 圖。

圖6為本發明的一實施例的液晶顯示裝置的平面示意圖。

圖7為圖6所示液晶顯示裝置沿剖線A-A’的剖面圖。

圖8為本發明的液晶顯示面板的另一平面的示意圖。

圖9為圖8所示液晶顯示裝置沿剖線B-B’的剖面圖。

圖10為本發明的液晶顯示裝置第一實施例圖。

圖11 為本發明的液晶顯示裝置第二實施例圖。

圖12 為本發明的液晶顯示裝置第三實施例圖。

圖13 為本發明的液晶顯示裝置第四實施例圖。

圖14 為本發明的液晶顯示裝置第五實施例圖。

下面結合附圖說明對本發明的具體實施方式進行詳細說明。

圖4為本發明一實施例的液晶顯示裝置的結構示意圖，其中液晶顯示裝置10包括第一基板11以及第二基板21。第一基板11上設置有複數間隔物(未標示)，間隔物(未標示)例如由第一間隔物31與第二間隔物61所組成。第二基板21與第一基板11對向設置，並且在第二基板21上設置有凸起物(未標示)，凸起物(未標示)例如是由上堆疊層51與下堆疊層41所組成的。在第一基板11上的第一間隔物31與凸起物(41、51)相對應且接觸。舉例而言，下堆疊層41的材料為半導體材料，而上堆疊層51的材料為金屬材料。另外，第一基板11可以為彩色濾光片基板，而第二基板21可以為陣列基板。

圖5為本發明一實施例的液晶顯示裝置的製作流程示意圖。如圖5所示，本發明的液晶顯示裝置的製造方法包括以下步驟：步驟S10，提供一第一基板並在第一基板上形成複數間隔物。舉例而言，間隔物包括第一間隔物與第二間隔物。步驟S12，提供第二基板並在第二基板上形成一凸起物，凸起物與第一基板上的第一間隔物相對應且接觸，其中凸起物例如具有一平滑緩衝表面，該凸起物更包括一上堆疊層和一下堆疊層，該上堆疊層包含一上表面和一下表面，且該上堆疊層的該上表面與該上堆疊層的該下表面相接所形成的一夾角小於30度。平滑緩衝表面在本實施例 中的形成方法例如是曝光顯影製程。進行曝光顯影製程時可通過對光罩與凸起物表面距離的控制、曝光量的控制、蝕刻的反應速率的控制及其他因素的控制以形成符合需求的平滑緩衝表面。詳言之，曝光的方法是利用灰階調光罩(Gray Tone Mask)或半色調光罩(Half Tone Mask)進行的。此外，在曝光完畢後，再進行顯影蝕刻，以使凸起物的表面形成較為平滑的緩衝表面。利用圖5所表示的製程步驟可以製作圖4中所繪示的液晶顯示裝置10。

圖6為本發明一實施例的液晶顯示裝置的平面示意圖。請參照圖6，液晶顯示裝置(未標示)包括橫向設置的掃描線211和縱向設置的信號線81。一畫素電極PE通過薄膜電晶體TFT分別與掃描線211和信號線81電性連接。在對應的信號線81位置配置有第一間隔物31與第二間隔物61。

圖7為圖6的液晶顯示裝置沿剖線A-A’所繪示的剖面示意圖。請參照圖7，液晶顯示裝置(未標示)包括第一基板11以及第二基板21。第二基板21與第一基板11對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31和第二間隔物61。在第二基板21上設置有掃描線211。在掃描線211上設置有閘極保護層71。在閘極保護層71上設置有信號線81。閘極保護層71的作用是將掃描線211與信號線81的重疊部位絕緣隔開以防止掃描線211與信號線81電性接觸而產生短路。此外，在信號線81上設置有一保護層91，在保護層91上設置有一凸起物，其由上堆疊層51與下堆疊層41所組成。凸起物(41、51)與第一基板11上的第一間隔物31相對應且接觸。在本實施例中，凸起物(41、51)遠離第二基板21的頂部面積是小於第一間隔物31遠離第一基板11的頂部面積。

圖8為本發明液晶顯示裝置的另一實施例的平面示意圖。請參圖8，另一實施例的液晶顯示裝置包括橫向設置的掃描線211和縱向設置的信號線81，且畫素電極PE通過薄膜電晶體TFT分別與掃描線211和信號線81電性連接。本實施例與前述實施例之主要差異在於與掃描線211對應位置的第一基板上設置有第一間隔物31與第二間隔物61。

圖9所示為圖8的液晶顯示裝置沿剖線B-B’的剖面示意 圖。由圖9可知，第二基板21與第一基板11對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31和第二間隔物61。在第二基板21上設置有掃描線211。在掃描線211上設置有閘極保護層71。在閘極保護層71上設置有信號線81。同樣地，閘極保護層71的作用是將掃描線211與信號線81重疊的部位絕緣隔開，以防止掃描線211與信號線81電性接觸而產生短路。在信號線81上設置有一保護層91，而在保護層91上設置有一凸起物(未標示)，其中凸起物(未標示)是由上堆疊層51與下堆疊層41所組成。凸起物(14、15)與第一基板11上的第一間隔物31相對應且接觸。同樣地，凸起物(14、15)的頂部面積例如是小於第一基板11上第一間隔物31的頂部面積。

以下將對第一間隔物與凸起物的不同設計進行詳細描述。

由圖4、圖7以及圖9可知，第一基板11上設置有由第一間隔物31與第二間隔物61所組成的複數間隔物。第二基板21與第一基板11對向設置，且在第二基板21上設置有由上堆疊層41與下堆疊層51所構成凸起物。凸起物是與第一基板11上的第一間隔物31相對應且接觸。

詳細而言，組成凸起物的上堆疊層41與下堆疊層51有兩種位置關係：第一，上堆疊層41將下堆疊51層完全覆蓋；第二，上堆疊層41與下堆疊層51相堆疊，並且上堆疊層41堆疊於下堆疊層51之上。由此可以看出，上堆疊層41的總面積可以大於下堆疊層51的總面積，也可以使上堆疊層10的總面積小於下堆疊層20的總面積。當然亦可以使上下兩堆疊層41、51的總面積相等。不管前述情況為何，其由上下兩堆疊所組成的凸起物的表面亦應為一平滑緩衝表面。

第一實施方式

圖10為圖4所述的液晶顯示裝置中區域D的局部結構放大圖。請參照圖10，局部放大圖包括以下元件：第一基板11與第二基板21，且兩基板11、21對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31。在第二基板21上設置有一凸起物，而凸起物包括上堆疊層51與下堆疊層41。上堆疊層51是堆疊於下堆疊層41之上。在一實施方式中，下堆疊層41為一半導體材料，而上堆疊物51為一金屬材料，其中半導體材料可為矽的氧化物或矽的氮化物，當然亦可以為其他半導體材料，而金屬材料可以為鋁 (Al)、鉬(Mo)、或者鋁的合金、鉬的合金，當然亦可以為其他金屬材料。

上堆疊層51包括上表面51a和下表面51b，而下堆疊層41包括上表面41a和下表面41b。上堆疊層51的下表面51b是與下堆疊層41的上表面4la相貼合。當然，上堆疊層51的下表面51b的面積可以小於下堆疊層41的上表面41a的面積。在其他實施方式中，也可以使上堆疊層51的下表面51b的面積相等於下堆疊層41的上表面41a的面積。

另外，下堆疊層41的下表面41b是與第二基板21相貼合的，而上堆疊層51的下表面51b是與下堆疊層41的上表面41b相貼合的。在本實施例中，上表面51a與下表面51b接合而形成第一夾角A1。具體而言，上堆疊層51的上表面51a與下表面51b形成的夾角是相等於上堆疊層51的上表面51a與下堆疊層41的上表面41a形成的夾角，業就是第一夾角A1並且第一夾角A1是小於30度。

在本實施例中，上堆疊層51的表面為一平滑緩衝表面，且製作上堆疊層51時通過對曝光量的控制、光罩與凸起物距離的控制、蝕刻反應速率的控制以及其他因素的控制，可使第一夾角A1的大小符合所需。詳言之，形成上堆疊層51的曝光方式是利用灰階調光罩(Gray Tone Mask)或半色調光罩(Half Tone Mask)進行的，且曝光完畢後，再進行顯影蝕刻製程而形成所需的上表面51a。

值得一提的是，上堆疊層51的上表面51a與第一基板11的第一間隔物31相對應且接觸。本實施例的上堆疊層51表面具有第一夾角A1的設計可以使第一間隔物31獲得較好的緩衝力。當第一基板11受到外力的作用產生位移，進而使間隔物31、61(繪於圖4)也跟著產生位移時，本實施例上堆疊層51表面的第一夾角A1設計，可以使間隔物31、61(繪於圖4)可以獲得較好的緩衝。因此，在外力作用消失時，第一基板11較容易恢復到原來的狀態，因而有效防止了擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)的現象產生。

但是，當外力作用過大時，則需要將下堆疊層41的上表面41a與下表面41b連接處形成的第二夾角A2設置為小於30度。此種設計亦可進一步使間隔物31、61(繪於圖4)獲得更好的緩衝力。換言之，當外力作 用消失時，因為間隔物31、61(繪於圖4)獲得較大的緩衝力，而使第一基板11仍能恢復到先前的狀態，而較佳的避免了擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)現象的產生，並從而提高了液晶顯示裝置的顯示效果，到達出貨的標準。

第二實施方式

圖11為圖4所述的液晶顯示裝置中區域D的另一實施例的局部結構放大圖。請參照圖11，局部放大圖包括以下元件：第一基板11與第二基板21，且兩基板11、12對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31。在第二基板21上設置有包括上堆疊層51與下堆疊層41的凸起物，且上堆疊層51是將下堆疊層41完全覆蓋。下堆疊層41的材質為一半導體材料，而上堆疊物51的材質為一金屬材料。相似地，本實施例的半導體材料可為矽的氧化物或矽的氮化物，當然亦可以為其他半導體材料，而金屬材料可以為鋁(Al)、鉬(Mo)、或者鋁的合金、鉬的合金，當然亦可以為其他金屬材料。

上堆疊層51包括上表面51a和下表面51b，且下表面51b將下堆疊層41完全覆蓋，其中上表面51a為一由多段類直線所構成的折曲形表面，前述類直線包括直線，弧線，彎折線等等；舉例而言，折曲形由直線與弧線所組成，也可由直線與彎折線所組成，當然，亦可為其他類直線所構成；在本實施例中，以直線與弧線所構成的折曲形為例；前述弧線所構成的表面為一弧形表面。如前述的弧形表面是與第一間隔物31相對應且接觸的；也就是說，上表面51a是與第一間隔物31是相對應且接觸的。另外，上表面51a與第二基板21的連接處形成一第三夾角A3，且第三夾角A3設置為小於30度。第三夾角的形成方式與前述第一夾角A1相似。也就是說，通過對曝光量的控制、光罩與凸起物距離的控制、蝕刻反應速率的控制以及其他因素的控制可使上堆疊層51具有所需的第三夾角A3。

前述上表面51a是與第一基板11的第一間隔物31相對應且相接觸，並且上表面51a與第一間隔物31相接觸的部份為一弧形表面(未標示)；簡言之，弧形表面即為前述組成折曲形的弧線。欲形成弧狀表面(未標示)時在製造方法上需要考慮的因素與形成第三夾角時所需要考慮的因素相 同，在此不贅述。換言之，形成弧狀表面與形成第三夾角A3的曝光方式均是利用灰階光罩(Gray Tone Mask)或半色調光罩(Half Tone Mask)進行的。並且，曝光完畢後，再對凸起物進行顯影蝕刻製作而成。

弧狀表面與第三夾角A3的設計可以使第一間隔物31獲得更好的緩衝效果。當第一基板11受到外力的作用而產生位移，間隔物31、61(繪於圖4)也會跟著第一基板11產生位移。此時，因弧形表面與第三夾角A3的存在，而使得間隔物31、61(繪於圖4)獲得良好的緩衝效果。當外力作用消失時，第一基板11仍能恢復到先前的狀態，因而有效防止了擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)的現象產生。

第三實施方式

圖12為圖4所述的液晶顯示裝置中區域D的又一實施例的局部結構放大圖。請參照圖12，第一基板11與第二基板21對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31。在第二基板21上設置有包括上堆疊層51與下堆疊層41的一凸起物，且上堆疊層51是將下堆疊層41完全覆蓋的。下堆疊層41與上堆疊層51的材料可以參照前述實施例，在此不贅述。

上堆疊層51包括上表面51a和下表面51b，且下表面51b將下堆疊層41完全覆蓋，其中上表面51a為一弧形。在本實施例中，弧形類似於半圓形的圓弧部分，也可能是半橢圓形的圓弧部分。弧形上表面51a與第二基板21的連接處形成一類夾角B1。因上表面51a為一弧形，即上表面51a與第二基板21的連接處所形成的為一非常規夾角，所以定義為類夾角。也就是說，本實施例將弧線與直線相交所形成的夾角稱之為類夾角B1，其中類夾角B1設置為小於30度。

前述弧形上表面51a與類夾角B1的形成均是在製作上堆疊層51時，通過對曝光量的控制、光罩與凸起物距離的控制、蝕刻反應速率的控制以及其他因素的控制而形成的。當然，製作上堆疊層51時的曝光方式是通過灰階調光罩(Gray Tone Mask)或半色調光罩(Half Tone Mask)進行製作的。上表面51a是與第一基板11的第一間隔物31相接觸的，因此弧形狀上表面51a的存在可以使第一間隔物31獲得更好的緩衝效果。

也就是說，當第一基板11受到外力的作用而使間隔物31、 61(繪於圖4)跟著第一基板11產生位移，弧形狀上表面51a的存在可使得間隔物31、61(繪於圖4)具有良好的緩衝效果。當外力作用消失時，第一基板11仍能恢復到先前的狀態，因而有效防止了擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)的現象產生。

第四實施方式

圖13為圖4所述的液晶顯示裝置中區域D的另一實施例的局部放大圖。請參照圖13，第一基板11與第二基板21對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31。在第二基板21上設置有由下堆疊層41與上堆疊層51構成的一凸起物，且上堆疊層51是將下堆疊層41完全覆蓋的。凸起物的上堆疊層51與第一間隔物31相對應且接觸。上堆疊層51是由上表面51a和下表面51b所構成，且上表面51a是將下堆疊層41完全覆蓋的，其中下表面51b是與第二基板21相接合的。

在本實施例中，下堆疊層41由兩個相連接的堆疊物410所組成(下堆疊層並不局限於兩個，也可以為多個，本實施例中以兩個為例來說明)，且上堆疊層51的上表面51a為一由多段類直線所構成的折曲形表面，前述類直線包括直線，弧線，彎折線等等；舉例而言，折曲形由直線與弧線所組成，也可由直線與彎折線所組成，當然，亦可為其他類直線所構成；在本實施例中，以直線與彎折線所構成的折曲形為例；本實施例中，彎折線是為一波浪線，即該波浪線是由兩個相連接的弧線所組成；簡言之，彎折線所構成的表面即為一波浪形表面。如前述的波浪形表面是與第一間隔物31相對應且接觸的，也就是，上表面51a是與第一間隔物31是相對應且接觸的。另外，上堆疊層51的上表面51a與下表面51b的連接處形成一第四夾角A4。因為下表面51b與第二基板21相貼合，第四夾角A4也可以由上表面51a與第二基板21所形成，且第四夾角是小於30度。

要達到使上堆疊層51的上表面51a設計成具有一波浪形的表面並且使第四夾角小於30度，可以通過曝光顯影製作上堆疊層51，且曝光方式是通過灰階調光罩(Gray Tone Mask)或半色調光罩(Half Tone Mask)進行製作的。

因上堆疊層51是與第二基板21上的第一間隔物31直接接 觸，所以上堆疊層51的上表面51a的波浪狀設計和第四夾角A4的設計可以使間隔物31、61(繪於圖4)獲得更好的緩衝力。當第一基板11受到的外力作用消失時，第一基板11仍能恢復到先前的狀態，因而有效防止了擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)現象的產生，並從而提高了液晶顯示裝置的顯示效果，到達出貨的標準。

第五實施方式

圖14為圖4所述的液晶顯示裝置中區域D的再一實施例的局部放大圖。請參照圖14，第一基板11與第二基板21對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31；在第二基板21上設置有由下堆疊層41與上堆疊層51構成的一凸起物，且上堆疊層51是將下堆疊層41完全覆蓋的。其中，上堆疊層51與第一間隔物31相對應且接觸。

值得一提的是，本實施例的下堆疊層41由兩個相連接的堆疊物410所組成(下堆疊層41的堆疊物410並不局限於兩個，也可以為多個，本實施例中以兩個為例來說明)。上堆疊層51的上表面51a為波浪形表面，且波浪形上表面51a是與第一間隔物31直接接觸。波浪形上表面51a與下表面51b的連接處形成一類夾角B2，且類夾角B2是小於30度的。

相似地，上堆疊層51的上表面51a的波浪形設計是通過曝光顯影製作而成的，且曝光方式是通過灰階調光罩(Gray Tone Mask)或半色調光罩(Half Tone Mask)進行製作的。上堆疊層51是與第二基板21上的第一間隔物31直接接觸，所以上堆疊層51的波浪形上表面51a的設計可以使間隔物31、61(繪於圖4)獲得較好的緩衝力。第一基板11受到外力的作用時，因波浪形表面51a的存在，而使得間隔物31、61(繪於圖4)具有良好的緩衝效果。所以，外力作用消失時，第一基板11仍能恢復到先前的狀態，因而有效防止了擦拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)現象的產生並提高了液晶顯示裝置的顯示效果，到達出貨的標準。

發明的詳細說明專案中形成的具體實施形態或實施例終究用於瞭解本發明的技術內容，但不是僅限定與那樣的具體例並被狹義地解釋，在本發明的精神和以下記述的權利要求事項的範圍內，可以進行各種變更來實施。

10‧‧‧液晶顯示裝置

11‧‧‧第一基板

21‧‧‧第二基板

31、61‧‧‧第一間隔物

41、51‧‧‧堆疊層

D‧‧‧區域

Claims (14)

1. 一種液晶顯示裝置，包括：一第一基板；一第二基板；多個間隔物，設置於該第一基板上；多個具有一平滑緩衝表面的凸起物，設置於該第二基板上，且該些凸起物與該第一基板上的至少部份間隔物相對應且接觸，其中各該凸起物包含一上堆疊層和一下堆疊層，該上堆疊層包含一上表面和一下表面，且該上堆疊層的該上表面與該上堆疊層的該下表面相接所形成的一夾角小於30度。
2. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該第一基板為一彩色濾光片基板，而該第二基板為一陣列基板。
3. 如申請專利範圍第2項所述的液晶顯示裝置，其中該第二基板上設置有多條金屬線、多個畫素電極和多個薄膜電晶體，且該些畫素電極連接至該些薄膜電晶體，而該些薄膜電晶體連接至該些金屬線。
4. 如申請專利範圍第3項所述的液晶顯示裝置，其中該些金屬線包括有多條掃描線(Gate Line)及多條信號線(Source Line)，且該些凸起物設置於該些金屬線上。
5. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該上堆疊層的該上表面為一弧形。
6. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該下堆疊層由一堆疊物構成。
7. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該下堆疊層為多個堆疊物，且該上堆疊層覆蓋該些堆疊物以使該上堆疊層的該上表面形成為一波浪形。
8. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該上堆疊 層的該上表面為一由多段類直線所構成的折曲形表面。
9. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該下堆疊層包括一上表面及一下表面，該上表面與該下表面相對且該下表面與該第二基板相貼合。
10. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該下堆疊層的該上表面與該下表面連接處形成之一夾角小於30度，而該上堆疊層覆蓋於該下堆疊層的該上表面。
11. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該上堆疊層之該下表面小於或等於該下堆疊層之該上表面。
12. 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示裝置，其中該些間隔物包括多個第一間隔物和多個第二間隔物，且該些第一間隔物與該些凸起物相對應且接觸。
13. 一種液晶顯示裝置的製造方法，包括：提供一第一基板，其上形成多個間隔物；以及提供一第二基板，利用一灰階調掩模或一半色調掩模曝光顯影工藝在其上形成多個凸起物，該些凸起物包括一上堆疊層和一下堆疊層，該上堆疊層包含一上表面和一下表面，且該上堆疊層的該上表面與該上堆疊層的該下表面相接所形成的一夾角小於30度。
14. 如申請專利範圍第13項所述的液晶顯示裝置，其中該些間隔物包括多個第一間隔物和多個第二間隔物，且該些第一間隔物與該些凸起物相對應且接觸。