CN101699336A - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法。该液晶显示装置包括第一基板、第二基板、凸起物以及间隔物。第一基板上设置有多个间隔物。第二基板上设置有多个凸起物。凸起物与第一基板上的至少部分间隔物相对应且接触。凸起物的表面为一平滑缓冲表面。凸起物的平滑缓冲表面可以有效防止擦拭缺陷(push mura)或压黑缺陷(touch mura)现象产生。

Description

液晶显示装置及其制造方法

【技术领域】

本发明涉及一种液晶显示装置及其制造方法，特别是涉及一种具有与间隔物相对应设置的凸起物结构的液晶显示装置及其制造方法。

【背景技术】

近年来，由于光电技术的突飞猛进，使得具有体积小、重量轻、显示效果良好等特点的液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)越来越受到消费者的青睐。

图1是一种现有的液晶显示面板的示意图(对应的参考文献为中国专利申请案：CN 1991488)。图2是图1的液晶显示面板受到侧向外力时的示意图。如图1所示，液晶显示面板100包括上基板101、下基板102以及设置在上下两基板101、102之间的液晶层(未标示)。此外，在上基板101上设置有一间隔物103，而在下基板102上设置有一凸起物104。凸起物104与上基板101的一间隔物103相接。这种结构设计可以使两基板101、102之间保持较好的间隙。

但是，当侧向外力F施加在上基板101上，上基板101可能发生偏移(如图2所示)。此时，因为凸起物104表面和间隔物103表面并没有良好的缓冲角度，所以在外力F撤去时，上基板101并不能完全恢复到先前的位置。如此一来，将会产生缺陷，而这样的缺陷在业界称之为擦拭缺陷(push mura)或压黑缺陷(touch mura)。从而，严重影响了液晶显示面板100的显示效果，降低了显示品质。

图3是另一种现有的液晶显示面板(LCD)(对应的参考文献为中国专利申请案：CN 1661425)。如图3所示，液晶显示面板110包括一上基板111、一下基板112以及在上下两基板111、112之间设置的一液晶层(未标示)。此外，在上基板111上设置有一间隔物113，而在下基板112上设置有一凸起结构(未标示)，其中，凸起结构(未标示)由第一凸起物114与第二凸起物115组成。这种结构设置可使两基板111、112之间保持良好的间隙，以确保显示画面的优良。但是，当上基板111受到外力挤压时，上基板111会发生位移。因上基板111发生位移而使其上的间隔物113也会随着产生位移。同样地，间隔物113与凸起结构(114、115)相接处的表面并没有良好的缓冲角度。所以，当外力消失后，上基板111并不能完全恢复到原来的位置，因而产生所谓擦拭缺陷或压黑缺陷；从而严重影响显示器的显示效果，降低显示品质。

综上所述，需要重新设计一种新的间隔物结构来改善上述问题。本发明提出一种新的液晶显示装置，重新设计与间隔物相对应的凸起物结构，以有效防止擦拭缺陷和压黑缺陷现象的产生。

【发明内容】

为了解决上述问题，本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法。液晶显示装置包括第一基板与第二基板。第一基板上设置有多个间隔物。第二基板上设置有多个凸起物。凸起物与第一基板上的至少部分间隔物相对应且接触，其中，凸起物具有一平滑缓冲表面。

在本发明的一实施例中，液晶显示装置包括第一基板，第二基板。在第一基板上设置有多个间隔物，且间隔物包括第一间隔物和第二间隔物。在第二基板上设置有多个凸起物。凸起物与第一间隔物相对应且接触，其中，凸起物例如是由上堆叠层与下堆叠层所组成。上堆叠层包括一上表面和一下表面，而下表面完全覆盖下堆叠层，并且下表面与第二基板相接合。其中，上堆叠层的上表面为一弧形的表面，或是上堆叠层的上表面为一由多段类直线所构成的折曲形表面，且上表面与下表面连接处形成一小于30度的夹角。

在本发明的一实施例中，一种液晶显示装置包括：第一基板，第二基板；在第一基板上设置有多个间隔物，且该间隔物包括第一间隔物和第二间隔物；在第二基板上设置有多个凸起物，该凸起物与第一间隔物相对应且接触；其中，该凸起物是由上堆叠层与下堆叠层所组成，且该上堆叠层包括一上表面和一下表面，该下表面是完全覆盖下堆叠层的，并且该下表面与第二基板相接合。其中，该下堆叠层是由多个堆叠物所组成的，且该上堆叠层的上表面形成为一波浪形的表面；或者该上堆叠层的上表面为一由多段类直线所构成的折曲形表面，且该上表面与下表面连接处形成一小于30度的夹角。

在本发明的一实施例中，一种液晶显示装置包括第一基板和第二基板。第一基板上设置有多个间隔物。第二基板上设置有多个凸起物，且凸起物与第一基板上的间隔物相对应且接触，其中，凸起物具有一平滑缓冲表面。其中，在第二基板上设置有金属线，像素电极和薄膜晶体管，其中，金属线为扫描线(Gate Line)及信号线(Source Line)，且凸起物设置的位置在扫描线或者信号线之上。像素电极连接至薄膜晶体管，而薄膜晶体管连接至金属线。第一基板例如为彩色滤光片基板，而第二基板例如为阵列基板。

在本发明的另一实施例中，一种液晶显示装置包括第一基板以及第二基板。在第一基板上设置有多个间隔物。在第二基板上设置有多个凸起物，而凸起物与间隔物相对应且接触，其中间隔物包括第一间隔物和第二间隔物。凸起物与第一间隔物相对应且接触。凸起物至少包括上堆叠层和下堆叠层。下堆叠层包括有一上表面及下表面，且下表面与第二基板相贴合。另外，上堆叠层包括上表面和下表面，且上堆叠层的下表面与下堆叠层的上表面相贴合，其中上堆叠层的下表面小于或等于下堆叠层的上表面。也就是说，上堆叠层不与第二基板接触。此外，上堆叠层的上表面与下堆叠层的上表面形成一夹角，且此夹角是小于30度。另外，下堆叠层例如为多个堆叠物，且每一堆叠物的上表面与下表面的连接处形成有一夹角，且此夹角小于30度。

在本发明的另一实施例中，提供一种液晶显示装置的制造方法，此方法包括以下步骤：提供一第一基板，其上形成一间隔物。提供一第二基板，其上形成一凸起物。凸起物与间隔物相对应且接触，且凸起物形成一平滑缓冲表面，其中，凸起物的平滑缓冲表面是利用灰阶调掩模(Gray Tone Mask)或半色调掩模(Half Tone Mask)进行曝光显影制作而成。

本发明中所述的凸起物具有平滑缓冲表面，因而可以有效防止擦拭缺陷和压黑缺陷现象的产生。如背景技术中所描述：因基板受到外力的作用时，基板会产生位移，则间隔物也会跟着基板产生位移。若间隔物与凸起结构的表面并没有设置平滑缓冲的角度，则外力消失时，基板较不容易恢复到原来的位置，因而产生擦拭缺陷和压黑缺陷。本发明将凸起物设计为具有平滑缓冲的表面，所以凸起物与间隔物相接触时，间隔物可以有较好的缓冲力，从而获得较好的缓冲效果。因此，即使基板受到外力的作用基板而产生位移，当外力消失之后，基于凸起物表面的特殊设计，基板则较为容易恢复到原来的位置。因而本发明有效的防止了擦拭缺陷和压黑缺陷；从而提高了液晶显示器的显示效果，达到出货的标准。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。

【附图说明】

图1是一种现有的液晶显示装置结构示意图。

图2是一种现有的液晶显示基板受到外力作用下，基板产生形变的示意图。

图3是另一种现有的液晶显示装置结构示意图。

图4是本发明的一实施例的液晶显示装置结构示意图。

图5是本发明的一实施例的液晶显示装置的制作流程示意图。

图6是本发明的一实施例的液晶显示装置的平面示意图。

图7是图6所示液晶显示装置沿剖线A-A’的剖面图。

图8是本发明的液晶显示面板的另一平面的示意图。

图9是图8所示液晶显示装置沿剖线B-B’的剖面图。

图10是本发明的液晶显示装置第一实施例图。图11是本发明的液晶显示装置第二实施例图。

图12是本发明的液晶显示装置第三实施例图。

图13是本发明的液晶显示装置第四实施例图。

图14是本发明的液晶显示装置第五实施例图。

【具体实施方式】

下面结合附图说明对本发明的具体实施方式进行详细说明。

图4是本发明一实施例的液晶显示装置的结构示意图，其中液晶显示装置10包括第一基板11以及第二基板21。第一基板11上设置有多个间隔物(未标示)，间隔物(未标示)例如由第一间隔物31与第二间隔物61所组成。第二基板21与第一基板11对向设置，并且在第二基板21上设置有凸起物(未标示)，凸起物(未标示)例如是由上堆叠层51与下堆叠层41所组成的。在第一基板11上的第一间隔物31与凸起物(41、51)相对应且接触。举例而言，下堆叠层41的材料为半导体材料，而上堆叠层51的材料为金属材料。另外，第一基板11可以为彩色滤光片基板，而第二基板21可以为阵列基板。

图5是本发明一实施例的液晶显示装置的制作流程示意图。如图5所示，本发明的液晶显示装置的制造方法包括以下步骤：步骤S10，提供一第一基板并在第一基板上形成多个间隔物。举例而言，间隔物包括第一间隔物与第二间隔物。步骤S12，提供第二基板并在第二基板上形成多个凸起物，凸起物与第一基板上的第一间隔物相对应且接触，其中凸起物例如具有一平滑缓冲表面。平滑缓冲表面在本实施例中的形成方法例如是曝光显影工艺。进行曝光显影工艺时可通过对掩模与凸起物表面距离的控制、曝光量的控制、蚀刻的反应速率的控制及其他因素的控制以形成符合需求的平滑缓冲表面。详细而言，曝光的方法是利用灰阶调掩模或半色调掩模进行的。此外，在曝光完毕后，再进行显影蚀刻，以使凸起物的表面形成较为平滑的缓冲表面。利用图5所表示的工艺步骤可以制作图4中所绘示的液晶显示装置10。

图6是本发明一实施例的液晶显示装置的平面示意图。请参照图6，液晶显示装置(未标示)包括横向设置的扫描线211和纵向设置的信号线81。一像素电极PE通过薄膜晶体管TFT分别与扫描线211和信号线81电性连接。在对应的信号线81位置配置有第一间隔物31与第二间隔物61。

图7是图6的液晶显示装置沿剖线A-A’所绘示的剖面示意图。请参照图7，液晶显示装置(未标示)包括第一基板11以及第二基板21。第二基板21与第一基板11对向设置。在第一基板11上设置有第一间隔物31和第二间隔物61。在第二基板21上设置有扫描线211。在扫描线211上设置有栅极保护层71。在栅极保护层71上设置有信号线81。栅极保护层71的作用是将扫描线211与信号线81的重叠部位绝缘隔开以防止扫描线211与信号线81电性接触而产生短路。此外，在信号线81上设置有一保护层91，在保护层91上设置有一凸起物，其由上堆叠层51与下堆叠层41所组成。凸起物(41、51)与第一基板11上的第一间隔物31相对应且接触。在本实施例中，凸起物(41、51)远离第二基板21的顶部面积是小于第一间隔物31远离第一基板11的顶部面积。

图8是本发明液晶显示装置的另一实施例的平面示意图。请参图8，另一实施例的液晶显示装置包括横向设置的扫描线211和纵向设置的信号线81，且像素电极PE通过薄膜晶体管TFT分别与扫描线211和信号线81电性连接。本实施例与前述实施例的主要差异在于与扫描线211对应位置的第一基板上设置有第一间隔物31与第二间隔物61。

图9所示是图8的液晶显示装置沿剖线B-B’的剖面示意图。由图9可知，第二基板21与第一基板11对向设置。在第一基板11上设置有第一间隔物31和第二间隔物61。在第二基板21上设置有扫描线211。在扫描线211上设置有栅极保护层71。在栅极保护层71上设置有信号线81。同样地，栅极保护层71的作用是将扫描线211与信号线81重叠的部位绝缘隔开，以防止扫描线211与信号线81电性接触而产生短路。在信号线81上设置有一保护层91，而在保护层91上设置有一凸起物(未标示)，其中凸起物(未标示)是由上堆叠层51与下堆叠层41所组成。凸起物(41、51)与第一基板11上的第一间隔物31相对应且接触。同样地，凸起物(41、51)的顶部面积例如是小于第一基板11上第一间隔物31的顶部面积。

以下将对第一间隔物与凸起物的不同设计进行详细描述。

由图4、图7以及图9可知，第一基板11上设置有由第一间隔物31与第二间隔物61所组成的多个间隔物。第二基板21与第一基板11对向设置，且在第二基板21上设置有由上堆叠层51与下堆叠层41所构成的凸起物。凸起物是与第一基板11上的第一间隔物31相对应且接触。

详细而言，组成凸起物的上堆叠层51与下堆叠层41有两种位置关系：第一，上堆叠层51将下堆叠41层完全覆盖；第二，上堆叠层51与下堆叠层41相堆叠，并且上堆叠层51堆叠于下堆叠层41之上。由此可以看出，上堆叠层51的总面积可以大于下堆叠层41的总面积，也可以使上堆叠层10的总面积小于下堆叠层20的总面积。当然亦可以使上下两堆叠层41、51的总面积相等。不管前述情况为何，其由上下两堆叠所组成的凸起物的表面应为一平滑缓冲表面。

第一实施方式

图10是图4所述的液晶显示装置中区域D的局部结构放大图。请参照图10，局部放大图包括以下元件：第一基板11与第二基板21，且两基板11、21对向设置。在第一基板11上设置有第一间隔物31。在第二基板21上设置有一凸起物，而凸起物包括上堆叠层51与下堆叠层41。上堆叠层51是堆叠于下堆叠层41之上。在一实施方式中，下堆叠层41为一半导体材料，而上堆叠物51为一金属材料，其中半导体材料可为硅的氧化物或硅的氮化物，当然也可以为其他半导体材料，而金属材料可以为铝(Al)、钼(Mo)或者铝的合金、钼的合金，当然也可以为其他金属材料。

上堆叠层51包括上表面51a和下表面51b，而下堆叠层41包括上表面41a和下表面41b。上堆叠层51的下表面51b是与下堆叠层41的上表面41a相贴合。当然，上堆叠层51的下表面51b的面积可以小于下堆叠层41的上表面41a的面积。在其他实施方式中，也可以使上堆叠层51的下表面51b的面积相等于下堆叠层41的上表面41a的面积。

另外，下堆叠层41的下表面41b是与第二基板21相贴合的，而上堆叠层51的下表面51b是与下堆叠层41的上表面41a相贴合的。在本实施例中，上表面51a与下表面51b接合而形成第一夹角A1。具体而言，上堆叠层51的上表面51a与下表面51b形成的夹角是等于上堆叠层51的上表面51a与下堆叠层41的上表面41a形成的夹角，也就是，第一夹角A1并且第一夹角A1是小于30度。

在本实施例中，上堆叠层51的表面为一平滑缓冲表面，且制作上堆叠层51时通过对曝光量的控制、掩模与凸起物距离的控制、蚀刻反应速率的控制以及其他因素的控制，可使第一夹角A1的大小符合所需。详细而言，形成上堆叠层51的曝光方式是利用灰阶调掩模或半色调掩模进行的，且曝光完毕后，再进行显影蚀刻工艺而形成所需的上表面51a。

值得一提的是，上堆叠层51的上表面51a与第一基板11的第一间隔物31相对应且接触。本实施例的上堆叠层51表面具有第一夹角A1的设计可以使第一间隔物31获得较好的缓冲力。当第一基板11受到外力的作用产生位移，进而使间隔物31、61(绘于图4)也跟着产生位移时，本实施例的上堆叠层51表面的第一夹角A1设计，可以使间隔物31、61(绘于图4)可以获得较好的缓冲。因此，在外力作用消失时，第一基板11较容易恢复到原来的状态，因而有效防止了擦拭缺陷和压黑缺陷现象的产生。

但是，当外力作用过大时，则需要将下堆叠层41的上表面41a与下表面41b连接处形成的第二夹角A2设置为小于30度。此种设计亦可进一步使间隔物31、61(绘于图4)获得更好的缓冲力。换句话说，当外力作用消失时，因为间隔物31、61(绘于图4)获得较大的缓冲力，而使第一基板11仍能恢复到先前的状态，而较佳的避免了擦拭缺陷和压黑缺陷现象的产生，并从而提高了液晶显示装置的显示效果，达到出货的标准。

第二实施方式

图11是图4所述的液晶显示装置中区域D的另一实施例的局部结构放大图。请参照图11，局部放大图包括以下元件：第一基板11与第二基板21，且两基板11、12对向设置。在第一基板11上设置有第一间隔物31。在第二基板21上设置有包括上堆叠层51与下堆叠层41的凸起物，且上堆叠层51是将下堆叠层41完全覆盖。下堆叠层41的材质为一半导体材料，而上堆叠物51的材质为一金属材料。相似地，本实施例的半导体材料可为硅的氧化物或硅的氮化物，当然也可以为其他半导体材料，而金属材料可以为铝(Al)、钼(Mo)或者铝的合金、钼的合金，当然也可以为其他金属材料。

上堆叠层51包括上表面51a和下表面51b，且下表面51b将下堆叠层41完全覆盖，其中上表面51a为一由多段类直线所构成的折曲形表面，前述类直线包括直线、弧线、弯折线等等；举例而言，折曲形由直线与弧线所组成，也可由直线与弯折线所组成，当然，也可为其他类直线所构成；在本实施例中，以直线与弧线所构成的折曲形为例；前述弧线所构成的表面为一弧形表面。如前述的弧形表面是与第一间隔物31相对应且接触的；也就是说，上表面51a是与第一间隔物31是相对应且接触的。另外，上表面51a与第二基板21的连接处形成一第三夹角A3，且第三夹角A3设置为小于30度。第三夹角的形成方式与前述第一夹角A1相似。也就是说，通过对曝光量的控制、掩模与凸起物距离的控制、蚀刻反应速率的控制以及其他因素的控制可使上堆叠层51具有所需的第三夹角A3。

前述上表面51a是与第一基板11的第一间隔物31相对应且相接触，并且上表面51a与第一间隔物31相接触的部分为一弧形表面(未标示)；简单而言，弧形表面即为前述组成折曲形的弧线。要形成弧状表面(未标示)，在制造方法上需要考虑的因素与形成第三夹角A3时所需要考虑的因素相同，在此不赘述。换句话说，形成弧状表面与形成第三夹角A3的曝光方式均是利用灰阶掩模或半色调掩模进行的。并且，曝光完毕后，再对凸起物进行显影蚀刻制作而成。

弧状表面与第三夹角A3的设计可以使第一间隔物31获得更好的缓冲效果。当第一基板11受到外力的作用而产生位移，间隔物31、61(绘于图4)也会跟着第一基板11产生位移。此时，因弧形表面与第三夹角A3的存在，而使得间隔物31、61(绘于图4)获得良好的缓冲效果。当外力作用消失时，第一基板11仍能恢复到先前的状态，因而有效防止了擦拭缺陷和压黑缺陷的现象产生。

第三实施方式

图12是图4所述的液晶显示装置中区域D的另一实施例的局部结构放大图。请参照图12，第一基板11与第二基板21对向设置。在第一基板11上设置有第一间隔物31。在第二基板21上设置有包括上堆叠层51与下堆叠层41的一凸起物，且上堆叠层51是将下堆叠层41完全覆盖的。下堆叠层41与上堆叠层51的材料可以参照前述实施例，在此不赘述。

上堆叠层51包括上表面51a和下表面51b，且下表面51b将下堆叠层41完全覆盖，其中上表面51a为一弧形。在本实施例中，弧形类似于半圆形的圆弧部分，也可以是半椭圆形的圆弧部分。弧形上表面51a与第二基板21的连接处形成一类夹角B1。因上表面51a为一弧形，即上表面51a与第二基板21的连接处所形成的为一非常规夹角，所以定义为类夹角。也就是说，本实施例将弧线与直线相交所形成的夹角称之为类夹角B1，其中类夹角B1设置为小于30度。

前述弧形上表面51a与类夹角B1的形成均是在制作上堆叠层51时，通过对曝光量的控制、掩模与凸起物距离的控制、蚀刻反应速率的控制以及其他因素的控制而形成的。当然，制作上堆叠层51时的曝光方式是通过灰阶调掩模或半色调掩模进行制作的。上表面51a是与第一基板11的第一间隔物31相接触的，因此弧形状上表面51a的存在可以使第一间隔物31获得更好的缓冲效果。

也就是说，当第一基板11受到外力的作用而使间隔物31、61(绘于图4)跟着第一基板11产生位移，弧形状上表面51a的存在可使得间隔物31、61(绘于图4)具有良好的缓冲效果。当外力作用消失时，第一基板11仍能恢复到先前的状态，因而有效防止了擦拭缺陷和压黑缺陷的现象产生。

第四实施方式

图13为图4所述的液晶显示装置中区域D的另一实施例的局部放大图。请参照图13，第一基板11与第二基板21对向设置。在第一基板11上设置有第一间隔物31。在第二基板21上设置有由下堆叠层41与上堆叠层51构成的一凸起物，且上堆叠层51是将下堆叠层41完全覆盖的。凸起物的上堆叠层51与第一间隔物31相对应且接触。上堆叠层51是由上表面51a和下表面51b所构成，且上表面51a是将下堆叠层41完全覆盖的，其中下表面51b是与第二基板21相接合的。

在本实施例中，下堆叠层41由两个相连接的堆叠物410所组成(下堆叠层并不局限于两个，也可以为多个，本实施例中以两个为例来说明)，且上堆叠层51的上表面51a为一由多段类直线所构成的折曲形表面，前述类直线包括直线，弧线，弯折线等等；举例而言，折曲形由直线与弧线所组成，也可由直线与弯折线所组成，当然，也可为其他类直线所构成；在本实施例中，以直线与弯折线所构成的折曲形为例；本实施例中，弯折线是为一波浪线，即该波浪线是由两个相连接的弧线所组成；简单而言，弯折线所构成的表面即为一波浪形表面。如前述的波浪形表面是与第一间隔物31相对应且接触的，也就是，上表面51a是与第一间隔物31是相对应且接触的。另外，上堆叠层51的上表面51a与下表面51b的连接处形成一第四夹角A4。因为下表面51b与第二基板21相贴合，第四夹角A4也可以由上表面51a与第二基板21所形成，且第四夹角是小于30度。

要达到使上堆叠层51的上表面51a设计成具有一波浪形的表面并且使第四夹角小于30度，可以通过曝光显影制作上堆叠层51，且曝光方式是通过灰阶调掩模或半色调掩模进行制作的。

因上堆叠层51是与第一基板11上的第一间隔物31直接接触，所以上堆叠层51的上表面51a的波浪状设计和第四夹角A4的设计可以使间隔物31、61(绘于图4)获得更好的缓冲力。当第一基板11受到的外力作用消失时，第一基板11仍能恢复到先前的状态，因而有效防止了擦拭缺陷和压黑缺陷现象产生，并从而提高了液晶显示装置的显示效果，达到出货的标准。

第五实施方式

图14是图4所述的液晶显示装置中区域D的又一实施例的局部放大图。请参照图14，第一基板11与第二基板21对向设置。在第一基板11上设置有第一间隔物31；在第二基板21上设置有由下堆叠层41与上堆叠层51构成的一凸起物，且上堆叠层51是将下堆叠层41完全覆盖的。其中，上堆叠层51与第一间隔物31相对应且接触。

值得一提的是，本实施例的下堆叠层41由两个相连接的堆叠物410所组成(下堆叠层41的堆叠物410并不局限于两个，也可以为多个，本实施例中以两个为例来说明)。上堆叠层51的上表面51a为波浪形表面，且波浪形上表面51a是与第一间隔物31直接接触。波浪形上表面51a与下表面51b的连接处形成一类夹角B2，且类夹角B2是小于30度的。

相似地，上堆叠层51的上表面51a的波浪形设计是通过曝光显影制作而成的，且曝光方式是通过灰阶调掩模或半色调掩模进行制作的。上堆叠层51是与第一基板11上的第一间隔物31直接接触，所以上堆叠层51的波浪形上表面51a的设计可以使间隔物31、61(绘于图4)获得较好的缓冲力。第一基板11受到外力的作用时，因波浪形表面51a的存在，而使得间隔物31、61(绘于图4)具有良好的缓冲效果。所以，外力作用消失时，第一基板11仍能恢复到先前的状态，因而有效防止了擦拭缺陷和压黑缺陷现象的产生并提高了液晶显示装置的显示效果，达到出货的标准。

在上述实施例中，仅对本发明进行了示范性描述，但是本领域技术人员在阅读本专利申请后可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下对本发明进行各种修改。

Claims (20)

1.一种液晶显示装置，其特征在于，该液晶显示装置包括：

第一基板；

第二基板；

多个间隔物，设置于该第一基板上；

多个凸起物，设置于该第二基板上，且该多个凸起物与该第一基板上的至少部分间隔物相对应且接触，其中每一该凸起物具有一平滑缓冲表面。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，该第一基板为一彩色滤光片基板，该第二基板为一阵列基板。

3.根据权利要求2所述的液晶显示装置，其特征在于，该第二基板上设置有多条金属线、多个像素电极和多个薄膜晶体管，且该多个像素电极连接至该多个薄膜晶体管，而该多个薄膜晶体管连接至该多条金属线。

4.根据权利要求3所述的液晶显示装置，其特征在于，该多条金属线包括有多条扫描线及多条信号线，且该多个凸起物设置于该多条金属线上。

5.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，每一该凸起物包括一上堆叠层和一下堆叠层。

6.根据权利要求5所述的液晶显示装置，其特征在于，该上堆叠层包括：

一上表面；以及

一下表面，相对于该上表面且完全覆盖该下堆叠层，该下表面与该上表面于该第二基板上相接合。

7.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，该上堆叠层的该上表面为一弧形。

8.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，该下堆叠层由一堆叠物构成。

9.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，该下堆叠层为多个堆叠物，且该上堆叠层覆盖该多个堆叠物以使该上堆叠层的该上表面形成为一波浪形。

10.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，该上堆叠层的该上表面为一由多段类直线所构成的折曲形表面。

11.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，该上表面与该下表面相接合处形成一小于30度的夹角。

12.根据权利要求5所述液晶显示装置，其特征在于，该下堆叠层包括一上表面及一下表面，该上表面与该下表面相对且该下表面与该第二基板相贴合。

13.根据权利要求12所述的液晶显示装置，其特征在于，该下堆叠层的该上表面与该下表面连接处形成之一夹角小于30度，而该上堆叠层覆盖于该下堆叠层的该下表面。

14.根据权利要求5所述的液晶显示装置，其特征在于，该上堆叠层包括：

一上表面；以及

一下表面，相对于该上表面，且与该下堆叠层的一上表面相贴合。

15.根据权利要求14所述的液晶显示装置，其特征在于，该上堆叠层的该下表面小于或等于该下堆叠层的该上表面。

16.根据权利要求14所述的液晶显示装置，其特征在于，该上堆叠层的该上表面与该下堆叠层的该上表面相接所形成的一夹角小于30度。

17.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，该多个间隔物包括多个第一间隔物和多个第二间隔物，且该多个第一间隔物与该多个凸起物相对应且接触。

18.一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，该液晶显示装置的制造方法包括：

提供一第一基板，其上形成多个间隔物；以及

提供一第二基板，其上形成多个凸起物，该多个凸起物与至少部分间隔物相对应且接触，且每一该凸起物形成一平滑缓冲表面。

19.根据权利要求18所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，形成每一该凸起物的该平滑表面的方法包括利用一灰阶调掩模或一半色调掩模对每一该凸起物进行一曝光显影工艺。

20.根据权利要求18所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，该多个间隔物包括多个第一间隔物和多个第二间隔物，且该多个第一间隔物与该多个凸起物相对应且接触。

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