CN103293800B - 一种阵列基板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种阵列基板，包括液晶显示区域和画质检测区域，所述画质检测区域包括多条信号线以及多条与所述信号线电连接的短路棒，且所述画质检测区域的信号线呈倾斜状结构，从而使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够畅通的排出，保证所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够及时更新，进而使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的过程能够充分进行，解决现有技术中画质检测区域的信号线间经常产生短路现象的问题。

Description

一种阵列基板

技术领域

本发明涉及液晶显示制造技术领域，尤其涉及一种阵列基板。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器（TFTLCD）包含阵列排列的薄膜晶体管、匹配电容、驱动单元和其他用以驱动像素以获得丰富图像的电学元件。由于TFTLCD具有体积小、低功耗、无辐射的优点，使得其具有逐步取代传统的CRT、而利用于笔记本电脑、个人数字助理等数码产品上的趋势。

图1为液晶面板的结构示意图。如图1所示，液晶显示器10包含下基板12和置于所述下基板12之上的上基板14，液晶层（未示出）填充于所述上基板14和下基板12之间。从图1中可以看出，所述液晶面板包括液晶显示区域11和画质检测区域13，其中，所述液晶显示区域包含多条信号线，即扫描线16和数据线18，通常，各所述扫描线16和数据线18被置于下基板12上，且每条扫描线16垂直于每条数据线18。

如图2所示，所述画质检测区域13包括多条短路棒20以及多条与所述短路棒电连接的信号线21，如图3所示，所述画质检测区域13的信号线21与所述液晶显示区域11的信号线，即扫描线16和数据线18，通过外围引线电连接，用于对所述液晶显示区域11的信号线进行检测，以确定所述液晶显示区域11是否存在不正常的色彩显示。

但是，现有技术中的液晶显示器的阵列基板中，所述画质检测区域13的信号线21经常发生短路。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种阵列基板，可以解决现有技术中的液晶显示器的阵列基板中，所述画质检测区域的信号线经常发生短路的问题。

为解决上述问题，本发明实施例提供了如下技术方案：

一种阵列基板，包括液晶显示区域和画质检测区域，所述画质检测区域包括多条信号线以及多条与所述信号线电连接的短路棒，所述画质检测区域的信号线呈倾斜状结构。

优选的，所述信号线呈倾斜状结构为所述信号线中的数据线呈倾斜状结构；或/和，所述信号线呈倾斜状结构为所述信号线中的扫描线呈倾斜状结构。

优选的，所述倾斜状结构为弧形或斜线形。

优选的，所述信号线为金属电极。

优选的，所述信号线为透明导电电极。

优选的，所述透明导电电极为ITO电极。

优选的，所述画质检测区域的信号线与外围引线通过第一接触孔电连接。

优选的，所述第一接触孔内填充有金属。

优选的，所述第一接触孔内填充有透明导电电极。

优选的，所述画质检测区域的信号线与所述短路棒通过第二接触孔电连接。

优选的，所述短路棒的材料为金属。

优选的，所述第二接触孔内填充有金属。

优选的，所述第二接触孔内填充有透明导电电极。

优选的，所述透明导电电极为ITO电极。

优选的，所述短路棒表面覆盖有第一绝缘层，所述第一绝缘层表面存在凹槽，所述凹槽中填充有填充物，且所述填充物的表面与所述绝缘层的表面平齐。

优选的，所述填充物为非晶硅。

与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点：

本发明所提供的阵列基板中，所述画质检测区域包括多条信号线，且所述信号线呈倾斜状结构，从而使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够畅通的排出，保证所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够及时更新，进而使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的过程能够充分进行，解决现有技术中画质检测区域的信号线间经常产生短路现象的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中液晶面板的结构示意图；

图2为图1中所述液晶面板的画质检测区域的结构示意图；

图3为图1中所述画质检测区域信号线与液晶显示区域信号线的连接示意图；

图4为图2中所述画质检测区域沿A-A’的剖面图；

图5为图2中所述画质检测区域沿B-B’的剖面图；

图6为图2中所示画质检测区域的信号线形成时，下基板与药液的流动方向示意图；

图7为本发明所提供的阵列基板中画质检测区域的结构示意图；

图8为图7中所示画质检测区域的信号线形成时，下基板与药液的流动方向示意图；

图9为图7中所述画质检测区域沿D-D’的剖面图；

图10为图7中所述画质检测区域沿C-C’的剖面图。

具体实施方式

正如背景技术部分所述，现有技术中的液晶显示器的阵列基板中，所述画质检测区域13的信号线21经常发生短路。

发明人研究发现，这主要是因为：如图4和图5所示，现有技术中画质检测区域13的信号线21的形成包括：首先，在绝缘层23表面形成一整面电极24，再在所述整面电极24表面形成光刻胶25，然后，对所述光刻胶25进行曝光、显影，再以所述光刻胶25为掩膜，对形成的整面电极24进行刻蚀，从而形成符合要求的电极图形，即信号线图形。然而，现有技术中所述画质检测区域13的信号线21包括扫描线和数据线，且现有技术中所述画质检测区域13的信号线21为水平和竖直的，使得在对光刻胶25进行显影和对整面电极24进行刻蚀的过程中，部分信号线21的排布方向与药液26的流动方向相同，部分信号线21的排布方向与药液26的流动方向垂直。

如图6所示，在所述画质检测区域13的信号线21的形成过程中，下基板12的前进方向沿图中所示的I方向，药液的流动方向沿图中所示的II方向，当信号线21的排布方向与下基板12的前进方向相同时，即信号线21的排布方向沿图中所示的I方向时，所述信号线21的排布方向与药液的流动方向垂直，不利于药液的排出，从而导致所述信号线21的形成过程中，对光刻胶25进行显影和对整面电极24刻蚀时的药液26排出不畅，不能及时更新药液，使得显影、刻蚀过程不充分，造成画质检测区域13的信号线21间经常产生短路现象。

基于上述研究的基础上，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括液晶显示区域和画质检测区域，所述画质检测区域包括多条信号线，以及多条与所述信号线电连接的短路棒，且所述画质检测区域的信号线呈倾斜状结构，从而使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够畅通的排出，保证所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够及时更新，进而使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的过程能够充分进行，解决现有技术中画质检测区域的信号线间经常产生短路现象的问题。

以上是本申请的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

其次，本发明结合示意图进行详细描述，在详述本发明实施例时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本发明保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。

实施例一：

本发明所提供的阵列基板包括液晶显示区域和画质检测区域，所述阵列基板中的信号线包括数据线和扫描线，即所述液晶显示区域的信号线包括数据线和扫描线，所述画质检测区域的信号线也包括数据线和扫描线，且所述画质检测区域的数据线和扫描线，分别与所述液晶显示区域的数据线和扫描线一一对应。

如图7所示，本发明实施例所提供的阵列基板包括：液晶显示区域和画质检测区域，所述画质检测区域包括多条信号线62以及多条与所述信号线62电连接的短路棒61，且所述画质检测区域的多条信号线62通过外围引线63与所述液晶显示区域的信号线电连接；其中，所述画质检测区域的信号线62呈倾斜状结构。

如图8所示，本发明实施例所提供的阵列基板中，所述画质检测区域的信号线62的形成过程中，基板的移动方向仍沿图中所示的I方向，药液的流动方向仍沿图中所示的II方向，所述信号线62的排布方向部分与基板的移动的方向相同，部分与所述基板的移动方向不同。

具体的，本发明的一个实施例中，所述液晶显示区域信号线中的扫描线沿图中所示的I方向设置，所述信号线中的数据线沿图中所示的II方向设置，相应的，本实施例中，所述画质检测区域的信号线62呈倾斜状结构具体为：所述信号线62中的扫描线呈倾斜状结构，所述信号线62中的数据线仍沿图中所示的II方向设置。由于所述画质检测区域的信号线62中，数据线的排布方向与药液的流动方向相同，不存在药液排出不畅的问题，而所述信号线62中的扫描线呈倾斜状结构，从而使得所述画质检测区域的信号线62形成过程中，显影、刻蚀的药液能够畅通的排出，保证所述画质检测区域的信号线62形成过程中，显影、刻蚀的药液能够及时更新，进而使得所述画质检测区域的信号线62形成过程中，显影、刻蚀的过程能够充分进行，解决现有技术中画质检测区域的信号线间经常产生短路现象的问题。

在本发明的另一个实施例中，所述液晶显示区域信号线中的扫描线沿图中所示的II方向设置，所述液晶显示区域信号线中的数据线沿图中所示的I方向设置，相应的，本实施例中，所述信号线62呈倾斜状结构具体为：所述信号线62中的数据线呈倾斜状结构，所述画质检测区域的信号线62中的扫描线仍沿图中所示的II方向设置。由于所述信号线62中扫描线的排布方向与药液的流动方向相同，不存在药液排出不畅的问题，而所述信号线62中的数据线呈倾斜状结构，从而使得所述画质检测区域的信号线62形成过程中，显影、刻蚀的药液能够畅通的排出，保证所述画质检测区域的信号线62形成过程中，显影、刻蚀的药液能够及时更新，进而使得所述画质检测区域的信号线62形成过程中，显影、刻蚀的过程能够充分进行，解决现有技术中画质检测区域的信号线间经常产生短路现象的问题。

在本发明的第三实施例中，也可以为了在所述阵列基板的形成过程中，不论所述液晶显示区域中的信号线如何设置，均不存在药液排出不畅的问题，将所述信号线62中的扫描线和数据线均设置成倾斜状结构。

需要说明的是，本发明所提供的阵列基板的画质检测区域，所述信号线62呈倾斜状结构可以为图7中所示的弧形倾斜，也可以为斜线形倾斜，本发明对此并不做限定，只要所述信号线62呈倾斜状结构，有利于所述信号线62形成过程中，药液的排出即可。

还需要说明的是，本发明所提供的阵列基板中，所述画质检测区域的信号线62可以为金属电极，也可以为了降低所述阵列基板的静电击伤，将所述画质检测区域的信号线62设置为透明导电电极。当所述画质检测区域的信号线62为透明导电电极时，所述透明导电电极优选为ITO电极。

如图9所示，本发明所提供的阵列基板中，所述画质检测区域的短路棒61设置在下基板上，其表面形成有第一绝缘层67，且所述第一缘层67完全覆盖所述短路棒61；所述第一绝缘层67表面形成有外围引线63，所述外围引线63的表面形成有第二绝缘层68，且所述第二绝缘层68完全覆盖所述外围引线63和所述第一绝缘层67；所述第二绝缘层68表面形成有信号线62。

参考图7和图9，在本发明实施例中，所述画质检测区域的信号线62与所述外围引线63通过第一接触孔65电连接，所述画质检测区域的信号线62与所述短路棒61通过第二接触孔64电连接。其中，所述第一接触孔65内和第二接触孔64内可以填充金属，也可以填充透明导电电极。当所述第一接触孔65和第二接触孔64内填充透明导电电极时，所述透明导电电极优选为ITO电极。

需要说明的是，当所述外围引线63与液晶显示区域的数据线电连接时，所述外围引线63设置在所述第一绝缘层67的表面上，如图9所示；当所述外围引线63与液晶显示区域的扫描线电连接时，所述外围引线63设置在下基板的表面上，与所述短路棒61位于同一层。

此外，由于相邻的短路棒61之间没有金属层，因此，位于相邻的短路棒61之间区域的第一绝缘层67表面存在凹槽，会对后续外围引线63的制作带来不利影响。有鉴于此，本发明实施例所提供的阵列基板中，在所述凹槽内填充有填充物66，所述填充物66的表面与所述第一绝缘层67表面齐平，以使所述第一绝缘层67表面平坦，如图10所示，从而降低后续所述外围引线的制作难度，提高所述外围引线的制作质量。需要说明的是，在本实施例中，所述填充物66优选为非晶硅，但本发明对此并不做限定。

综上所述，本发明所提供的阵列基板中，通过将所述画质检测区域的信号线设置成倾斜状结构，使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够畅通的排出，从而保证所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的药液能够及时更新，进而使得所述画质检测区域的信号线形成过程中，显影、刻蚀的过程能够充分进行，解决现有技术中画质检测区域的信号线间经常产生短路现象的问题。

本说明书中各个部分采用递进的方式描述，每个部分重点说明的都是与其他部分的不同之处，各个部分之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (14)

1.一种阵列基板，包括液晶显示区域和画质检测区域，所述画质检测区域包括多条信号线以及多条与所述信号线电连接的短路棒，其特征在于，所述画质检测区域的信号线呈倾斜状结构；所述画质检测区域的信号线包括数据线和扫描线；

所述信号线呈倾斜状结构为所述信号线中的数据线呈倾斜状结构；或/和，所述信号线呈倾斜状结构为所述信号线中的扫描线呈倾斜状结构；

所述倾斜状结构为弧形或斜线形。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述信号线为金属电极。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述信号线为透明导电电极。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述透明导电电极为ITO电极。

5.根据权利要求3或4所述的阵列基板，其特征在于，所述画质检测区域的信号线与外围引线通过第一接触孔电连接。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一接触孔内填充有金属。

7.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一接触孔内填充有透明导电电极。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述画质检测区域的信号线与所述短路棒通过第二接触孔电连接。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述短路棒的材料为金属。

10.根据权利要求8或9所述的阵列基板，其特征在于，所述第二接触孔内填充有金属。

11.根据权利要求8或9所述的阵列基板，其特征在于，所述第二接触孔内填充有透明导电电极。

12.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述透明导电电极为ITO电极。

13.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述短路棒表面覆盖有第一绝缘层，所述第一绝缘层表面存在凹槽，所述凹槽中填充有填充物，且所述填充物的表面与所述绝缘层的表面平齐。

14.根据权利要求13所述的阵列基板，所述填充物为非晶硅。