TWI344863B - Slit nozzle - Google Patents

Description

I344863 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是以一定的寬度對基板表面塗佈塗佈液的狹縫 噴嘴。 【先前技術】 對玻璃基板等表面塗佈光阻劑（p h 〇 t 〇 r e s i s t )等塗佈 ^ 液的方法，有著從通常的噴嘴對基板表面滴下塗佈液，接 著藉由旋轉的方式形成一致厚度的方法，在上述方法中所 塗佈的塗佈液90%以上形成飛散，浪費的量過多。因此， 近來是採用使用狹縫噴嘴以一定寬度對基板塗佈塗佈液後 •形成一定程度的迴轉而使塗膜的厚度形成一致的方法，或 - 使用狹縫噴嘴以一定寬度對基板塗佈塗佈液，並完成塗佈 步驟的方法。 儘可能使基板不產生迴轉，而使塗膜厚度形成一致的 ‘ 做法，成爲降低上述塗佈液之浪費的條件。因此’狹縫噴 嘴必需使吐出口所吐出之塗佈液的量沿著狹縫狀吐出口形 ^ 成一致。爲了確保該一致性，至今已提出各式各樣的方案 • 〇 在專利文獻1中是揭示一種：是將2個塗佈液貯留部 上下分離地設在構成狹縫噴嘴的其中一個對分體上’並在 連通上述2個塗佈液貯留部的部分中相當於狹縫噴嘴的寬 度方向之中央部的位置設置遮斷部’來確保塗佈量的一致 性。 -5- 1344863 在專利文獻2中是揭示一種：將槽（狹縫狀流路）內 於塗佈液的流動方向上分割成2段的槽元件，並藉由使每 個槽元件形成不同的間隙，控制塗佈液的壓力損失，來確 保塗佈量的一致性。 在專利文獻3中是揭示一種：將塗佈液的貯留部設於 構成狹縫噴嘴的其中一個對分體，並形成整壓部接於該貯 留部的下側，藉由經由該整壓部對吐出口供給塗佈液的方 式，使塗佈液沿著吐出口 一致地吐出。 在專利文獻4中是揭示一種：將塗佈液的貯留部設於 構成狹縫噴嘴的其中一個對分體，並將噴嘴內流路形成用 構件配置在該貯留部中，而形成一致的塗佈量。 [專利文獻1 ] 曰本特開7-326564號公報 [專利文獻2] 日本特開2000-051777號公報 [專利文獻3 ] 曰本特開2002-086045號公報 [專利文獻4 ] 日本特開2002-370057號公報 【發明內容】 [發明欲解決之課題] 如專利文獻2及3所示的狹縫噴嘴，由於設有貯留部 並將整壓部設於其下側，因此無法充分地形成一定程度的 -6- 1344863 均一（一致）塗佈。 此外，如專利文獻1及4所揭示的狹縫噴嘴，當貯留 部形成角形（山形），並將遮斷部設於貯留部的下面或將 噴嘴內流路形成用構件配置在該貯留部內的場合中，將如 第6圖所示形成寬度方向之中央部的塗佈液流下量降低， 中央部兩側的塗佈液留下量變多，並使兩端側的塗佈液流 下量降低的傾向。 [解決課題之手段] 爲解決上述的課題，本發明的狹縫噴嘴是在結合2個 噴嘴對分體的狀態下，形成朝下方開口之狹縫狀吐出口的 狹縫噴嘴，在上述2個噴嘴對分體的其中一個形成有塗佈 液的第1貯留部，並在連接於該第1貯留部的下側，以噴 嘴對分體的厚度方向作爲基準形成較第1貯留部更淺的第 2貯留部，在連接於該第2貯留部的下側，於與另一個噴 嘴對分體之間設置有使下端形成狹縫狀吐出口之孔口（ orifice)的平坦面’上述第1貯留部是構成：與形成於噴 嘴對分體之寬度方向中央部的塗佈液供給孔相連通的部分 爲最高，而兩側端降低的山形，此外上述第2貯留部的下 邊是構成：噴嘴對分體之寬度方向中央部最低，朝兩側端 依序變高的V字型傾斜面。 而最好的是：上述V字型傾斜面兩側端的起點，在上 述第2貯留部下邊形成直線狀的場合中，是塗佈液之流下 量最多的點。 1344863 藉由形成上述的構造，可使從狹縫狀吐出口流下之塗 佈液的量，沿著吐出口的寬度方向形成一致。因此，能使 塗佈於基板上之塗佈液的厚度形成一致，故可提高製品的 良率。 [發明的效果] 如上所述地根據本發明的狹縫噴嘴，由於從沿伸於噴 嘴之寬度方向的狹縫狀噴嘴之塗佈液的流下量，無論在哪 個位置均相等，故可使形成於基板上之塗膜的厚度均一。 特別的是，由於在1 0〜2 Ο μιη的範圍內可正確地控制光 阻劑膜的厚度，故可簡單地應用於譬如在1C圖型面上形 成正確高度之凸塊（隆起狀電極）的積體電路技術。此外 ，也能應用於取代打線接合（wire bonding )對晶片設置 金屬柱的技術。 【實施方式】 接下來根據圖面說明本發明的實施型態。第1圖是本 發明之狹縫噴嘴的全體立體圖，第2圖是沿著第1圖中 A-A線的剖面圖，第3圖是第2圖中B-B線之箭號方向的 剖面圖’第4圖是形成貯留部之噴嘴對分體的放大剖面圖 ，第5圖是噴嘴下端部的放大剖面圖。 狹縫噴嘴是使左右噴嘴對分體（對分爲半體）1、2形 成對接後利用螺栓3結合成一體的方式構成，在其中之一 之噴嘴對分體1面對噴嘴對分體2的面上，形成塗佈液的 -8- 1344863 第1貯留部4及第2貯留部5。 第1貯留部4是設成貫穿至噴嘴對分體1之厚度方向 (第2圖中的左右方向）的約1 /2附近的深度，其剖面形 狀是形成具有同寬度’且以深度越深高度就越高的方式傾 斜。此外，如第3圖所示，於第1貯留部4之噴嘴對分體 1面對噴嘴對分體2的面上形成開口部分的形狀，是形成 寬度方向（第3圖中的左右方向）的中央部最高，兩端降 低的山形，並在形成最高點的中央部連通有塗佈液供給孔 6。此外，在形成最高點的中央部連通有排氣孔7。 第2貯留部5是連接於上述第1貯留部4的下側而形 成，其深度是形成：以噴嘴對分體1的厚度方向作爲基準 時是小於上述第1貯留部4。該第2貯留部5的下邊是設 成：噴嘴對分體1之寬度方向的中央部最低，愈隨著朝向 兩端愈升高的V字型傾斜面8，使中央部形成較傾斜面8 之兩端8a、8a更低0.5〜3mm。 上述V字型傾斜面8的兩端亦可延伸至噴嘴的兩端爲 止，在該實施例中傾斜面8之兩端8 a、8 a可位於噴嘴兩 端的內側位置。具體地說，兩端8 a、8 a是根據第6圖所 示傳統技術之流下量的大小關係，將流下量最大的點選定 爲：當第2貯留部5之下邊爲水平時塗佈液之流下量爲較 多的點。藉由上述的方式，可形成更均一的塗佈。 此外，於第2貯留部5的下側，在與另一個噴嘴對分 體2之間連續形成平坦面9，該平坦面9形成有孔口，該 孔口的下端形成狹縫狀吐出口 10。 -9- 1344863 此外，爲了防止塗佈液從第1貯留部4、第2貯留部 5及孔口處洩漏，在噴嘴的兩端組裝端板1 1 ' 1 2，並將噴 嘴對分體1、2之下部傾斜面la、2a的角度設定成：與水 平面間的夾角約30〜60度。 如上所述，從塗佈液供給孔6流入第1貯留部4的塗 佈液，是傳統技術中集中於中央部的塗佈液，由於第1貯 留部4呈山形，因此可平均地分配置左右進而流入第2貯 留部5。 接著，當該第2貯留部5的下邊爲水平時，雖然是形 成兩側的流下量較其他部位的流下量更多的傾向，但藉由 使第2貯留部5的下邊形成V字型傾斜面，可使流下量形 成一致。 【圖式簡單說明】 第1圖：本發明之狹縫噴嘴的全體立體圖。 第2圖：沿著第1圖中A-A線的剖面圖。 第3圖：第2圖中B-B線之箭號方向的剖面圖。 第4圖：形成貯留部之噴嘴對分體的放大剖面圖。 第5圖：噴嘴下端部的放大剖面圖。 第6圖：傳統狹縫噴嘴所產生之問題的說明圖。 【主要元件符號說明】 1、2 :噴嘴對分（halve )體 1 a、2 a :噴嘴對分體的下部傾斜面 -10- 1344863 3 :螺栓 4 :第1貯留部 5 :第2貯留部 6 :塗佈液供給孔 ' 7 :排氣孔 ' 8 : V字型傾斜面 8a :傾斜面的端部 9 :平坦面 i^r 1 0 :狹縫狀排氣孔 1 1、1 2 :端板 -11 -

Claims (1)

1344863 十、申請專利範圍 1 . 一種狹縫噴嘴，是在結合2個噴嘴對分體的狀態下 ’形成朝下方開口之狹縫狀吐出口的狹縫噴嘴，其特徵爲 在上述2個噴嘴對分體的其中一個形成有塗佈液的第 1貯留部’並在連接於該第1貯留部的下側，以噴嘴對分 體的厚度方向作爲基準形成較上述第1貯留部更淺的第2 貯留部’在連接於該第2貯留部的下側，於與另一個噴嘴 對分體之間設置有使下端形成狹縫狀吐出口之孔口的平坦 面’上述第1貯留部是構成：與形成於噴嘴對分體之寬度 方向中央部的塗佈液供給孔相連通的部分爲最高，而兩端 降低的山形，且上述第2貯留部的下邊是構成：噴嘴對分 體之寬度方向中央部最低，愈隨著朝向兩端愈升高的V字 型傾斜面。 2.如申請專利範圍第1項所記載的狹縫噴嘴，其中上 述V字型傾斜面兩端的起點，在上述第2貯留部下邊形成 直線狀的場合中，是塗佈液之流下量最多的點。 -12- 1344863 七、指定代表圖： (一） 、本案指定代表圖為：第（3 )圖 (二） 、本代表圖之元件代表符號簡單說明： 1 :噴嘴對分體 4 :第1貯留部 5 :第2貯留部 6 :塗佈液供給孔 8 : V字型傾斜面 8a :傾斜面的端部 9 :平坦面

1 〇 :狹縫狀排氣孔 1 1、1 2 :端板 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：

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