TWI338912B - Stage device and exposing device - Google Patents

Description

1338912 I3576pifl.doc 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 、，本發明涉及平台裝置及曝光裝置，特別是關於具備了至少 向長衝程驅動平台的平台裝置’具備該平台裝 【先前技術】 ，年，在製造半導體元件和液晶顯示元件的微影工程中， 栅(以/統稱光柵)，晶圓及玻璃板等感光物體(以 I統稱曰曰囫）沿者指定的掃描方向（掃描方向）同步移動，同 時’通過光栅的圖案和投影光學系統轉寫入晶圓上，步進 掃=方式的掃描型曝光裝置（所謂的掃描步進器）等方式被較 了。這種掃描型曝光裝置比起步進㈣靜正曝光型 於的㈣由較小的投影光㈣树光。為此， 二製？容易’並且，由於大範圍曝光的拍攝數減 kL 能。相對於投影光學系統，光栅及豆 基板由相_财式，具有平均㈣縣 : 改善失真及焦點深度等方面的優點。 而且，作為掃描型曝光裝置，無論施加在晶圓側，或光栅 置驅動光拇的驅動裝置。現有技術的婦描型曝光裝 ^正^為先栅側的驅動裝置採用了具有光柵粗動平台及光拇 動平σ的粗微動構造的光柵平台 ’、 動地支標在光栅定盤的上方在二 =::軸承等呈浮, 向（非掃描方向）的兩侧設置_/對線性^目^，非掃描方 掃描方向規定的衝：面=== 平台相對應的’光栅微動平台在掃描方向、非掃描4= 1338912 13576pifl.doc 方向，由音圈馬達等進行微小驅動。 、在如此構造的光栅平台裝置中’在移動體的光柵粗動平台 及光栅微動平台上，使祕性馬達、音®馬達或空氣軸承等二 配，或配官等從外部連接絲，因此，驅動這些平台時，會拉 脫這些配線、配管’這就成了光栅位置控紐低下的原因。 為了改善這些不適當處，最近，採用了可以在向著掃描方 '衝程驅動和非掃描行走方向微小驅動的單—光柵平台，而 j開發了採用在光柵平台兩側配置了磁極單元的可動磁鐵 f•線性馬達的光柵平台裝置。運用這樣構成的光柵平台裝置， =可以控制由拉脫配線所引發的光柵平台位置操作^差的 低下此 抑制由拉脫配線所引發的光柵平台位置操作性 最好在光柵平台側不配置管線。為了在架 = = 侧的技術，我們知道有從定盤t 考專氣型的靜壓氣體轴承)(例如參 (專利文獻1)特開2QQ1-2〇951號公報 (本發明擬解決的課題） 如上所述，採用了可動磁鐵型的線性馬 另外/料散獻巾記_靜觀飾承， >成的供氣孔供給氣體產生磨力，在錢和

:::，隔’然後，供給的氣體通過移動S:::; A置的嘗路’從移動體底盤形成的氣體回 _ P 間隙’再經過定盤上成形的排氣孔排出氣體。因^將== 8 1338912 13576pifl.doc 文獻1中記載的靜壓氣體軸承原封不動地使用在輕量的平台 場合時’從定盤向低盤的底面供給氣體的壓力，以及從氣體回 收溝上述微小間隙吹出的氣體壓力共同產生向上的力，較之平 台向下的自重重量大，就會擔心出現平台向上產生大浮力的情 況。 根據上述專利文獻1中圖1_圖5 ’上述及後述段落的記 載’移動體（1)是以具有微小間隙的狀態接合至指定軸方向 作為長臂方向的固定體（2 )上，經過定盤（3 )向移動體（1 ) · 供給高壓空氣’從移動體噴出的高壓空氣產生向上的力作用在· 固定體面對移動體的位置。且，上述各部件（移動體、固定體、 定盤等）的名稱及添附在括號内的符號全部按照專利文獻1的 圖面和實施例中原來零部件的名稱引用。 此時’固定體（2)有—例是兩端固定樑的形式，與集中 負荷在兩端固定的樑上移動時情況相同，隨著移動體（i )的 位置變化’固定體（2)的撓度變大。即，當移動體（丄）位 於衝程的中央（固定體（2)長臂方向的中央）時，固定體（2 ) 的撓度增大丄當移動體（i )位_程兩端部附近的位置時， 其撓度小。這也意味著隨著移動體（丨）的位置變化，固定體 (2 )的·彎曲（曲線形狀）也在變化。另外，移動體⑴對 應於定盤（3)及固定體（2)的兩方，由空氣墊（airpad) 引導’移動體（1 )的運動轨跡顯示了定盤（3 )和固定體⑵ 的導向面的平均，狀。這意味著，固定體（2) f曲形狀5 〇 %的程度( 1 )的運動施加影響。換言之，在上述專 利文獻1的構成中’要使移動體（i)達到高的導_度是困 難的。 1338912 I3576pifl.doc 这樣，為了改善此不適當，作為手段，會考慮提高固定體 (2 )的剛性，但這樣一來，固定體（2 )的尺寸會變得很大， 設計的自由度將受到很大的約束。 而且，還將考慮到按上述預見的撓度，將固定體（2 )加 工到，先的曲面’不僅成本負擔變大’而且，為了使移動體（1 ) 的供乳孔像光罩-樣作用在衝程的整個範圍中，必須對衝程的 全長加工為曲面，技術上的實現也是很困難的。 亚且’在專利文獻1的構造中，為了使引導移動體（1) 的固定體（2)的f曲適應移動體的位置變化，意味了移動體 (1)在移動中會出現上下方向的振動^因此，上述專利文獻 (1 )中記載的靜壓氣體軸承，例如用於支撐曝光裝置的晶圓 平台（移動體）的場合’晶圓平台上產生振動，對於曝光裝置 的投影光學系統的像面，晶圓平台上的晶圓表面產生了振動性 =位置偏差現象。而且’專利文獻i中記載的靜壓氣體抽承， 無論用於支#曝光裝㈣光柵平台、或晶圓平台的平台，上述 =將傳遞到曝光裝置本體（機體），使檢測平台位置的 儀錄的各部t振動，其結果，成為了降鱗光裝置精度的原因。 這樣-來’在上述專利文獻工的靜壓氣 ”精度、=、空間、成本等問題，無論 1 以適用於精密機械的平台裝置和曝光裝置。 丹义甩猙 此外，在平㈣底面形成了供氣 的表面導引溝，從定盤喷出的加壓氣 通道 …表面導引溝向平台底面和定盤之間喷， 面導引型的氣體靜壓軸承，然而採用此種型?二 體靜壓軸承的高性能，必須採用下述 )·為了達到乱 义舉措，即在從定盤側面給 1338912 13576pifl.doc

供氣通道供It時’為了消除在平台與定盤之間的中產生的 正壓，須給予真空預壓力和磁性預壓力。例如，在給予磁性預 壓力時，定盤必須用金屬製成，把磁鐵安裝在平台上，或者平 台必須由金屬製的平台，磁鐵安裝在定盤上，無論怎樣，平‘ 都必須達到一定的重量。 D 另外，在施予真空預壓力時，必須確保平台的真空範圍的 面，，使得平台大型化。尤其，在表面導引型的氣體靜壓轴承 的場合’會出現所謂的氣錘(pneumatic hainmering)穩定性， 差的不合適現象。 【發明内容】 > _本發明的主要内容如下，其目的是提供一種可以使用小型 輕型化的平台，可以提高該平台的位置操縱性的平台裝置。 本發明的又一目的是提供可以實現高精度曝光的曝光裝 置。 (為解決課題而採取的手段） 本發明的目的是提供一種平台裝置，具備定盤（16)、 平口（R S T )及驅動裝置。定盤（丄6)分別開設了把從外 部供入加壓氣體往在重力方向的上方和重力方向下方喷出的 第1嘴出口 (66a)和第2噴出口 (66b)。平台（RST) 具有第1接受部（56a)通氣道（58a、58b、 161)、的軸承部（5 7)及第2接受部（5 6 c)。第1 ， 接文部（5 6 a)是在相對上述定盤的第丄喷出口一侧的平面· 上’接受從沿著規定的一個軸的方向形成的上述第丄喷出口噴 出的上述加壓氣體。第1通氣道（58a、58b、16li 將由戎第1接受部接受的加壓氣體，與前述一側面的第1接受 部不同的位置。軸承部（5 7)將從上述—側面開設的第工通 1338912 13576pifi.<ioc 體，對？述定盤噴出。第2接受部(5 置（1 3 6 ii 3 6盤2的第口喷出的加壓氣體。驅動裝 起碼沿著上述-個_2方向 =、138加 1喷二'和在第定2盤,上出= 分別進行噴:二壓 受。然後，在對著定盤的第i噴出σ平台接 下方的面，也即底面)的第i接受=二力方向 第1通道，導入到與平台底面不相同的位;=='= ^二if部嘴出的加壓氣體的靜壓，將平台浮動地 ί第1二::Γ ’當平台是較輕重量的場合，從定盤 第的 2喷出口喷出的加壓氣體的壓力是 ：。二=第 撕，皁么可能7疋,J Μ乍用的，由於兩者的平 定_1方。以，、形式，被浮動支樓在 被卿式的浮舉於定盤之上， =引=r控制精度(包括決定位置= ::的=:用小型輕量級的平台，僅此-點，也能提高 氣體二由接受部喷出的加壓 加卿的壓力，兩者會相抵 1338912 13576pifl.doc ’f·起’同時’可以確保良好的氣鐘的穩定性。其結果，可以 高軸承的剛性。 在此場合，在上述的平台裝置_，上述第1喷出口及上述 第2喷出口是設置在相互對應的位置上。此時，不僅平台不往 上浮起’而且不必擔心從第1噴出口喷出的加壓氣體的壓力， 與從第2嘴出口喷出的域氣體的壓力成為力偶對平台起作 用。 在上述各平台裝置中’上述第1通氣道至少有一 成在上述平台内。 丨刀疋心 在上述平台裝置中，上述軸承部，既可以是將平台的 2工形成’也可以是埋人上述平台的底面裏而與該上述料 CT为別為個體而非同一體的氣體靜壓轴承。 Η *在=平台裝置中’在上述軸承部與上述第1接受部之 氣部（39)。此時，由於防止了第1接 ==軸承部兩者之間的直接氣齡動，可以防止降低轴= 在上述平台裝置中，在上述定盤的 壓氣體共同供給上述第1喷出口和第2噴°出口,1給的加 的供給通路，或者，在上述定盤的内部，從 同供給 體分別供給上述第i喷出口和第2噴出σ 2供給的加壓氣 系統供給通路。 形成为別供給的兩 在上述平台裝置中，上述平台更具_ 2 把由上述第2接受部接受的加壓氣體，起^1 $ 1通氣道或上述軸承部兩者之一。 ”、上述第 在上述平台裝置中，在上述定盤的内部，形成了將上述轴 13 1338912 13576pifl.doc 承部周圍的氣體強制向外部排出的排氣通道。 在本場合’在上述平台裝置t，上述平台具有承載物體 (R)的承載部（3 4)，該承載部上形成了吸引上述物體的 吸引孔（3 4 a )，該吸引孔與上述軸承部的周圍呈連通狀態。 在上述平台裝置令，上述第i喷出口的數量在平台的上面 為多個’且在上述平台上以能夠接受從上述多個的第工個喷出 口喷出的加壓氣體的形狀或配置方式設置上述第^接受部。 在上述平台裝置中，上述定盤是由陶究製成，或在定盤的 表面喷塗陶瓷熔液的石製定盤。 在上述平台裝置中’上述驅動裝置包括了多個馬達，該全 部馬達是可動磁鐵型線性馬達或㈣馬達。 本發明更提供-種曝光裝置，同步移動光罩 成的圖案，轉寫入上述感光體的曝 先裝置。，、特徵在於此曝光裝置具有上述的平台裝置，以作 上述光罩和上域祕體巾至少—者的驅動裝置。 ”、、 j配置了上述的料裝置作為光罩和上述感光物體中 二I者，動裝置’故起碼對光罩或感光物體之-的位置控 可^到果1 ’提高光罩和感綠體的同步精度也變得 重合（直形成的圖案和感光物體的位置 轉寫。錢好的圖案的感光物體，進行高精度 【實施方式】 ’ 二：了圖有匕圖9對本發明的實施狀_ ’ 1 〇是步進盥掃"二/光裝置1 0的基本構成。該曝光裝置 器(也二的:二曝=即所謂的掃描步進 在後述本貫施例中，設置了投影光學 14 13576pifl.doc 糸統組件P L，以下，將構成投影光學系組件p乙 ！“ 的光轴ΑΧ方向為Z方向，在與此正交的平面内作1〜光學系 物體）的光柵R，及作為感光體的晶圓…相對掃描為光罩（及 紙面左右方向為Υ軸方向，將與該2軸、γ點:的圖1中的 X方向。 釉相正父的方向為 該曝光裝置’在將照明單元I 0Ρ、光柵R沿 所規定的衝程驅動的同時，作為在又軸方向、γ軸方。釉方向 0 ζ方向（圍繞Ζ軸旋轉的方向）進行微小驅動的平=从及 具備了光栅平台裝置1 2、投影光學系單元PL ’ ΧΥ平面内進行ΧΥ2次方方向驅動的晶圓平台二’在 對這些部件的控制系統。 ’以及 上述照明單兀I Ο Ρ包括了光源和照明光學系統 在其内部的視野光圈（也可稱遮罩片或光柵遮光簾），栩， 的矩形或圓弧形照射範圍内，照射作為能量束的照明光丨定 將回路圖案形成的光栅R以均勻的照明度進行照射。和照’ 元I〇Ρ同樣的照明系統，例在特開平6 — 3 4 9 7 〇 〇皁 報上公開。在此，作為照明光！ L，採用ArF埃氏激j = Α 長1 9 3nm)或F 2激光（波長！ 5 7nm)等真空紫外' 且’作為照明光I L，還可採用KrF埃氏激光（波長2 = nm)〃等遠紅外光、超高壓水銀燈發射的紫外範圍的輝線（g線、

在將真空紫外範圍波長的光作為曝光用光時，必 樣的氣體（以下稱之謂“吸收性氣體，，），即從光路中= 烈祕收在這樣的波長帶㈣巾的氧、水魏、碳水化合物 1 的乱體。為此，在本實施例，照明單元丨〇p内部的照明光I I3576pifl.doc 光路的二間中，充滿了較之在真空紫外域光中吸收空氣（氧） =的特性的特定氣體，例如氮、以及氦、氬、氖、II等的惰性 氣體日，匕們的混合氣體（以下適稱“低吸收性氣體，，）。其結 果…、明單元1Q p内光路空間的空氣濃度為吸收性氣體的濃 度值以下的ppm。 _上述光栅平台裝置1 2配置在，照明單元I〇P下端外 圍’經過◦型環等密封部件連接的環形安裝部101的照明系 側板（間隔板）14，圖1所示的下方。照明系側板丄4，由 圖中未顯7F的支料件略呈水平地支料，在其巾央部形成了 成為照明光1 L光路（通道）矩形的開口14 a。 由圖1及光栅平台裝置1 2的側視圖圖2可以明白，光柵 平二裝置1 2具備了以下部件，上述照明系側板丄4的下方按 ，定的間隔隔開’作為略呈平行配置的定盤的光柵平台定盤 (以下稱“光柵定盤”），該光柵定盤16盥昭明系側板 1。4的間么隙之間配置的平台，即調製平台rst，以及園繞該 調$，σ R S T，光柵定盤1 6與照明系側板14之間設置的 件18 ’以及驅動魏的驅動裝置的調製平 σ驅動糸統。 定盤^6 ’由圖中未顯示的支揮部件略呈水平地支 二;由陶究材料製成’而且，光柵定盤1 6也 了月匕私用表面溶射陶曼的石製定盤。 光栅定盤1 6如圖2分解側視_圖3 =的=成’在其中央部形成了凸起邹…在凸: 方向，形成了貫穿Z轴方向的矩形開口部^ 6b，在 1338912 I3576pifl.doc 口邛1 6 b的χ軸方向一側和其它側，分別設置了將γ轴方向 作為長臂方向的ΧΖ截面，反L字形態的導向部16 c、1 6 d。這些導向部1 6 c、1 6d，以上端部突出外側面的狀態所 設置，上端面與凸部丄6 a的上平面相平行。 在光柵定盤16的下側面，如圖1所示，以圍繞矩形開口 部1 6 b周圍的狀態，經過v字環形，或伸縮自如的波紋箱管 等的密封部件9 8，連接到投影光學系單元p l鏡筒部的上 端。 ,上述光柵平台r S T，如圖4 ( A)顯示的那樣，具有特 殊形狀的光栅平台本體2 2 ’以及固定在該光柵平台本體2 2 上的各種磁極單元（對此將待後敘）。 光栅平台本體2 2具備了下列部件，即平面視（從上方觀 f)略呈矩形的板狀部2 4 A，設置在該板狀部2 4 a的χ端 部的鏡士部.2 41從板狀部2 4 A的Y轴方向的-側面或他 側面端部，沿γ財向，分別突起設置了各—對的2 4 C丄、 24C2、24D1和24D2。上述四個延伸部2 4 c丄、 、24D1、24D2 ’如圖4 (A)所示那樣，具 :本，的形狀’在各個延伸部，設置了為了增加強度的，戴 面呈二角形的補充強度部。 r r f ίί平台本體2 2是由重量輕、剛性好的材料，如Μ Μ 屬石 :严屬槪的複合體(紹合金或將金 的說明先了 1二、再複合入陶竞的材料））。但是，在以下 β L a ，’’’、使5兄明容易明白，也採用了相應必要的各部分 5，、它材料所具有的那樣表現。㈣管在上述部件中，既 α以疋上述的-個和其它別的部件相構成，也可以全部是別的 17 1338912 13576pifi.doc 部件來構成。 曰月光ΐ ί、=ί f _柯’形成了成為照 在該階_ 2 2 a _ 置2了 _ (例第3點）支撐光栅R的多個 栅支樓部件（稱作光栅支撐部）3 4。 、心⑷的九 支樓部3 4所支#的那樣。.也g 承乂、=夕個 台立面CT基本呈_致先柵(=載二， _部==二=應’在板狀部2“先柵 3 7。在置 （例3個）的光拇固定機構 為中心==7狀’將L字角的部位設置的轴 件，各光裝了板狀部24八的固定部 制系統9 ◦驅動的===:，由，平台控 轉驅動，盘弁構在各自私疋的方向旋 光㈣固=:編3/的之間，夹持光雛，以此，將 R向支樓部件3 4側面=安裝手段，將光栅 方式裳配結構。 U&。卩件可以顧以這樣的常態 上述鏡子部24B，如圖4 與長臂方向略呈夾条 ）可以明白，將Y軸方向 為圓形$洞:二以=其=化所 ^面採用鏡面加工的反射面。 1338912 13576pifl.doc 在光柵平台本體2 2的板狀部2 4 A的一Y側端部，如圖 4 (Α)所示’形成了兩個凹部24gl和24g2，在該兩凹 部24gl和24g2，分別設置了反向反射板3 2 1和3 2 2。 從上述延設部2 4 C1的+ Y端部一直到2 4 D1的一 Y端部，由圖4(B)顯示的截面L字狀，把γ軸方向作為長 臂方向的角鋼板狀部件（以下稱“角鋼部件”）2 7A固定在 光柵平台本體2 2的底面（_Z側面）上。實際上如圖6、圖 7所顯示的那樣，由螺絲5 5，在多個地方將此角鋼部件2 7 A固定在光栅平台本體2 2上。

從上述延伸部2 4 C 2的+ Y端部一直到延伸部2 4D 2的一Y端部，由圖4(B)顯示的截面L字狀的角鋼部件2 7 B，與上述角鋼部件2 7 A相同，被固定在在光栅平台本體 2 2的底面。 在光柵平台裝置1 2，從中心部附近，與X z面平行的面 截開，由圖5可知，在光柵定盤16的導向部16c、i6d 各自上部突出部，從側方及下方分別經過規定的間隔，由相關 的位置及方向，將上述角鋼部件2 7 A和2 7B固定在光栅平 台本體2 2的底面。即，和角鋼部件2 7A、2 7 B，和光柵 平台本體2 2，從X軸方向的兩側如抱住般地將導向部工6 c ' 1 6d各自的上部突出部進行配置。 —在與導向部1 6 c的上面向對位置，如圖6所示那樣，指 ，深度的凹溝形成的接受部的第1凹部5 6 a，及從該第工^ 部5 6 a + X軸指定間隔，在光柵平台本體2 2的底面上形成 了與第1凹部5 6 a同樣深度的第2凹部5 6 b。把光柵^台 19 1338912 I3576pifl .doc 本體2 2部分沿著圖6的A — A線剖切，從底面側由圖7可 知，這些第1凹部5 6 a及第2凹部5 6 b是與γ軸同方向的 長矩形凹槽。第1凹部5 6 a與第2凹部5 6 b在γ軸方向的 長度幾乎一樣，但在X軸方向的長度（寬幅），較之第i凹部 5 6 a，第2凹部5 6 b要來得大。即第2凹部5 Θ b的面積 比第1凹部5 6 a設置得大。 在光栅平台本體2 2底面的第1凹部5 6 a和第2凹部 5 6 b之間，如圖6及圖7所示那樣，較第1凹部5 6 a和第4 2凹。卩5 6 b深度更深，而且在γ軸方向的兩端是開放式的，、 形成了大氣開放部3 9。 且’在光拇平台本體2 2上’如圖6所示，從第1凹部5 6 a的内部底面至上述階梯開口 2 2 a的内部底面，形成了上 下方向（Z軸方向）的細孔5 8 a。該細孔5 8 a，實際上在 Y軸方向上是按規定的間隔形成多個（參照圖7)。 且，在光柵平台本體2 2底面的第2凹部5 6b的内部的 多個細孔§ 8 a.相對應的位置上，如圖7所示，作為轴承部的 氣體靜壓軸承分別埋在裏面。各氣體靜壓軸承5 7，如圖6所 示，軸承面（即底面）與光栅平台本體2 2的底面幾乎是一個 面’在軸承面上’形成了如圖7所示那樣的I (或η)在中央 部，以直角相交叉的，略呈十字狀的數深度的溝槽5 γ a ’在各氣體靜壓軸承5 7的溝槽5 7 a中心處形成了貫通孔· 5 7 b ° ' η 對應各個氣體靜壓軸承，在光柵平台本體2 2上，從階梯 開口 2 2 a的内部底面至與各氣體靜壓軸承5 7的軸承面的 相反背面，形成了上下方向的細孔5 8 b (參閱圖6)。各細 20 1^38912 13576pifl.doc 孔5 8 b連通到各氣體靜壓軸承5 7的貫通孔5 7乜。 另外’在光柵平台本體2 2上的階梯開口 2 2 a的内部底 '各細孔 b形成的位置上，如圖6所示那樣，分別配置 了插孔5 9 a °同樣’在光栅平台本體2 2上的階梯開口 2 2 a的内部底面的各細孔5 8 b形成的位i上，分別配 置了插孔 5 9 b ° 此時’與X軸方向平行配置的插孔5 9 a、5 9 b，由軟 管161相連接。即’在本實施例中’如上所述，由細孔5 8 ' a與軟管1 6 1内部空間與細孔5 8 b，構成了從第1凹部5 * 6 a至各氣體靜壓轴承5 7的第1通氣道的通氣回路。如圖7 所示，與各細孔5 8 a、氣體靜壓軸承5 7相對應，沿著γ押 方向，在規定的間隔’設置了多個這樣通氣回路（圖7中為3 個）。 上述光樹定盤16的導向部1 6 c，如圖6所示，與凸部 1 6 a的光柵的其它剩餘部分’由別的部件構成，被固定在 凸部1 6 a的上面。 在本實施例中，在光柵定盤1 6的凸部16 a上面，如圖 6所示，分別形成了 2個深度不同的圓截面形的孔6 〇 a和6 1 A。從凸部1 6 a的一X側面的端面開始’至+ χ方向貫通 形成的貫通孔6 〇 B + X側的端面連通了其中深度較淺的孔 6 Ο A。而深度較深的孔6 1A連通了，從凸部16 a的—χ . 側面的端面開始，至+ X方向貫通形成的貫通孔6 1Β + χ侧、 的端部。 此外，在導向部16 C的底面，開設了幾乎同樣深度，圓 形截面的孔6 0 C、6 1C。孔6 0 C和上述孔6 〇a為相同 21 1338912 13576pifl.doc 的直徑’兩者以同軸心狀態相連通，由孔6 〇 a和孔6 0 C， 從凸部1 6 a的内部至導向部1 6 C的上端面附近，形成了一 個圓孔。同樣’孔6 1C和上述孔6 1A有相同的直徑，兩者 以同軸心狀態相通，由孔6 1A和孔6 1 C，從凸部1 6 a的 内部至導向部16C的上端面附近形成了一個圓孔。 另外’上述孔6 0 C連通了從導向部16 C的一X側的端 面開始，以+ χ方向貫通成形的貫通孔6 〇 d的+ χ側端部。 而貝通孔6 OD的一X侧的開口端，由检1 g將其塞住。在導‘ 向部1 6 C中，與上述細孔5 8 a相對，從其上端面開始至貫· 通孔6 0 D，形成了作為第1喷出孔的細孔6 6 a。 相對於導向部1 6 C的貫通孔6 〇 D的細孔6 6 a的位 置，形成了作為第2噴出口的細孔6 β b。對著細孔6 6 b， 在上述角鋼部件2 7 A上，形成了從向著γ軸方向延伸的規定 深度的凹槽而成的作為第2接受部的第3凹部5 6 c。該第3 凹部5 6 c與上述第1凹部5 6 a幾乎為同樣的幅度和同樣 的深度。 特別，在導向部1 6 c中的孔6 1C上部，形成了與6 1 c内外部相連通的細孔66 c。 在由光栅定盤16的凸部16a上形成的上述貫通孔6 OB的一X側的端部，經過連接器6 3A連接到給氣管6 5 A，給氣官6 5 A的另一端連接到了如圖丄所示的氣體供給裝· 置6 7。本實施例中，憑藉上述貫通孔6 〇 B、孔6 〇A、6 Q C以及貫通孔6 〇 d，經過配管6 5 A，從氣體供給裝置6 供給的氮氣及稀有氣體的加壓氣體，如氦氣，導入細孔6^ a、細孔6 6 b，構成了一系列的氣體供給回路。以下，稱 22 1338912 13576pifl.doc 此氣體供給回路為氣體供給回路6 〇。 由此氣體供給回路6 6，從細 的加壓氣體，分别相對於細孔66 a b a、細孔66b導入 T侧的第1凹部5 6 a、第3凹 / 6 b的光柵平台R S 6 a喷出的加壓氣體，—旦被第} j入翁。從細孔6 從細孔66 a繼續喷出加壓氣體。6=接受足’而由於 a的全體送去，在加壓氣體的靜壞達^㈣肖第1凹部5 6 體就向在第1凹部5 6 a上設置的多個C，此加壓氣 後，該送入的加壓氣體通過軟管 、 8 a内供給。然 部57向著定盤16的導向部16^1=585，從轴承 來，在光柵平台本體2 2的底面 ^人喷射。這樣- 者哈入的知厭名触α 、導向416c的上面之間， 壓(間隙内的壓力)達到某-程度時， 於光柵定盤被浮動地支樓起來。 靜壓將如上所述，從轴承部5 7喷出的加壓氣體的 = = ST浮動支樓時，以及其後又從細孔6 6: 广的第3凹部5 6 c喷射加壓氣體，故，該加 礼體也將光栅平台向下方不斷擠壓。隨之，從細孔6 6 出的加壓氣體對第1凹部5 6 a的壓力（向上的力），由其 下的擠^力所抵消’光柵平台RST沒有超過限度地浮出上° =。其結果，從軸承部5 7喷出的的加壓氣體對上述間隙内的 壓力，稽了光柵平台R S T的自重，由在光栅平台本體2 2和 導向部1 6 c上面的間隔中維持規定間隔的狀態，光柵平台R S T被非接觸式’且高剛性地支樓著。 尤其’細孔6 6 a與細孔6 6 b在上下相對應導入的位置 (略呈同轴的位置）所形成，從細孔6 6 a和細孔6 6 b分別 23 1338912 13576pin.doc 對光柵平台R s τ喷出側的加壓氣體的壓力，作為一種力偶， 不必擔心其作用於光栅平台R s τ上，據於此點，防止了光拇 平台RST不需要的彎曲力矩的作用。 另外’在光柵定盤1 6的凸部1 6 a上形成的貫通孔6 i B-X側的端面，經過連接器63B連接到排氣管65b的一 端，該排氣管6 5B的另-端連接到圖工的示的真空栗76。 β真空系7 6連制圖中未示的氣體回收裝置。本實施例，由 ==、？61。、61八，及貫通孔61卜形成了將 二方外部側的空間，即導向部1 “與光柵平台 2 的氣體導入到排氣管6 5 Β的排氣回路。 二真工系7 6工作時’從轴承部57向導向部i 6 c喷出 體，經過轴承部57周圍的第2凹部56b的内部 ，說法是’該第2凹部川與導向部…上 植），通過上述排氣回路（細孔6 6 c、孔61 〇、6 向夕及It6 1 B )，也即排氣管路，強制性地將氣體排 能漏】中，從軸承部57喷出的加壓氣體幾乎不可 由於排 作為加壓氣體可以使用加壓空氣。另外，此時， =排::路(細孔66c、孔61c、6lA，及貫通孔6 壓力。内部疋負壓’因此’在光柵平台RST中僅給予真空預 這樣一來，在本實施例中，由光柵定盤丄6的導向部 :平3:ΪΓΤ的靡27 A附近的各構成部件，將光 剛性側的部》，相對於光桃定盤16，以高的 非接觸形式’構成了進行支樓的支撐裝置。 再者，圖中省略了，而圖5中有顯示，光栅定盤丄6的導 24 1338912 13576pifl.doc 柵平台R S T的角鋼部2 7 B附近的各構成部 It t支樓裝置相同，構成了相對於光柵定盤1 6， 觸形式’將光柵平台RST的+ X側的部分 構成^料1切裝置⑽成科是 稱·^裝的 隔狀態，光柵平台R S τ相射持了例數只峰度的間 支撐著。 相對先栅疋盤16，非接觸地被浮動 j回圖2 ’在上述框架部件18的上面，二重形式地形成 的内部，形成了多個(圖中未處於内側的環狀凹溝83 ,,ηη^Ο . 中未不）排氟口，且，處於外侧的環 狀凹溝85的内和形成了多個（圖中未示）排氣口， 將内侧的環狀凹溝8 3稱為“給氣溝8 ，， 凹溝8 5稱作“排氣溝85,，。孔48 3，而將外側的環狀 在給氣溝83内部形成的排氣口一 Γ=-，的連接:了供給氮氣及希有氣體等低吸：氣敢 及，5内部形成的:氣 真空泵。 、s路及、，，σ虱管，連接到了圖中未示的 且’在該框架部件i 8的底面，將 轉，如其斜視圖9所示可明白的那、二8下反 環狀的凹溝8 2、8 4。在處於…’―重形式地形成了基本 形成了多個（圖中未示）内侧的環狀凹溝8 2的内部， 4的内部，形成了多個(二;^外側的環狀凹溝8 u旧中未不）排氣口。以下，將内側的 25 13576pifl.doc =凹‘以Π，，'給氣溝8 2”，而將外側的環狀凹溝8 4 路及=;溝2内部形成的給氣口，經過圖中未示的給氣管 的，圖中未+ ί到了供給亂氣及希有氣體等低吸收性氣體 口，經過在排氣溝84内部形成的排氣 真空栗。未不的給氣管路及給氣管，連接到了圖中未示的 底面ΐΓΓί裝ί的動作和真空紅作時，在框架部件18的 a低-級溝8 2帽光柵定盤1 6的上面（較凸部1 6 射出的加壓力;=(低吸收性氣體)，由此喷 動支標著。L产6上面的上方’經數的程度的間隔被浮 吸引力向外二=中：氣體經排氣溝84，由真空系的 4的氣體产動Γμ同時’也產生了從排11溝8 2向排氣溝8 内部混入忒:’經間隔，有效地阻止了向框架部件18 以此’由框架部件工8底面的全 ==成7浮動支_物8== 的上==^^框架部㈣ 壞氣體_性氣體)的同時=,1 4的下面噴射加 件1 8之間間隔中的氣體，轉盖^則底板1 4和框架部 外排出。此時，產生了，排:2溝8 5 ’由真空系的吸力向 動。由&，女 孔溝8 3向排氣溝8 5的氣體流 由此紅叫，有效地阻止了向框架部件18内部混入外 26 1338912 13576pifl.doc 。而且，此場合’由於噴射出加壓氣體的靜壓與 二的平衡，在框架部件18與照明系側底板14之間維持= 即由框架部件i 8底面的全體，構成了維持框架部件= ......月系側底板14間間隔的差動式排氣型的氣體靜壓轴承。 在本實施例在場合中，框架部件工8與光柵定盤工6之 的間隙’上述間隔（也即轴承間隙）實際上決定了，框架部^ 18的上下差動式排氣型的氣體靜壓軸承對框架18施予的 力，與框架部件18整體的自重達綜合平衡。 _這樣一來’框架部件18與照明系側底板i 4之間的間 隔，及光栅定盤16與框架部件χ 8之間的間隔，由上述氣體 的流動而氣密化了 ’ 如前所述’投影光學系元件p L的上端 與光柵定盤16之間，由於上述密封部件9 8連接在一起（參 照圖7二圖8)，在由框架部件18圍聚的空間内，變得氣密 度非$咼的空間了。以下方便起見，將由框架部件18圍聚的 空間稱之謂“氣密空間”。 如本實施例所述，使用真空紫外的曝光波長的曝光裝置， 為了避免吸收在氧氣等吸收性氣體中的曝光光線，從照明單元 I 〇 P至投影光學系單元p L的光路中，即在上述氣密空間内 (的光路中）也必須由氮氣、稀有氣體來置換。 此時，最好在框架部件18的側壁上分別連接了給氣管和 排氣管，經過給氣管向上述氣密性空間供給低吸收性氣體，經 過排氣管’將内部氣體向外部排出。 此外，將由έ亥框架部件18連接的圖中未顯示的給氣管 内凌動的氮氣或稀有氣體的一部分，經過從框架部件1 8内的 一邹分，分叉的給氣支路流入上述氣密空間内，由此結構向氣 27 1338912 13576pifl.doc 密空間供給氮氣或稀有氣體，另外，也可以採用經過從排氣总 路-部分奴的排氣支路，排出氣密空_的氣體那樣的結^ 構。如果這樣做的話，與上述氣密化相應，可以在光柵保持。 空間内，由曝光光線吸收的少量氮氣或稀有氣體，進行置換。 且，在使用作為供給氣密空間的氦氣的場合，最好經過$ 體排氣機構回收的氦氣，進行不純物的去除後，再予利用。軋 如圖2所示，在框架部件i 8的内部，沿γ軸方向 設置卜ϋ定子單元此和3上，由此構成了上述光撕平a 驅動系，㈣具備了以下機構，在將細平台rst沿: 向驅動的同時’在θζ方向（圍繞z軸的旋轉方向） 的第1驅動機構，在框架部件18内部的定子單 = 軸方向的固定子單元40，將光栅平台^ 5 Τ/σΧ軸方向微小驅動的第2驅動機構。 γ軸===所:二述固定子單元3 6具備了將 6 2的Y軸方向的兩個端部，線陘導板1 3 6 1、1 3 時，由這—對固定部件保持的固定部件！52。此 3 6 2在Z轴方向（上下=:訂轴線性導板1 3 6 1、！ 且在XY平面上分聰 目互對應地隔開—定的間隔， 定在框架部件！ 8的内壁面了、對固定部件1 5 2被分別固 上述Y軸線性導板 知，具有戴面為矩形（長 /1362,由圖3和5可 在其内部沿Y軸方向士招/的非磁性材料所構成的架構， 固定子單元Μ和上述上配置了電機子線圈。 口疋子早元3 6有相同的結構。即 28 1338912 13576pin.doc 固定子單8具備了如下結構將γ轴方向作為長臂方向的 -對電機子單元構成的γ軸線性導板工3 8丄、工3 8 2，以 及將Υ軸線性導板1 3 8 1、i 3 8 2的在2軸方向維持規定 間隔狀態’兩個端㈣定的固定部件154。這對固定部#1 5 4分別被固定在上述框架部件丄8的内壁面。 扣ί 轴線性導板1381、1 3 8 2與上述¥軸線性導 板1361、136 2有相同的構成（參照圖5)。 如圖5所示，在Y軸線性導板1361、1362和γ轴 線性導板1381、1 3 8 2之間，分別經過蚊的間隔，分 別配置了光柵平台RST，相對於γ軸線性導板i 3 6丄 3 6 2，在光柵平台RST的上面和下面，分別埋置了一對磁 極單元2 6 1和2 6 2，對著Y轴線性導板1 3 6 1、13 6 2 ’在光柵平台RST的上面和下面，分別埋^ 元281和282。 1 如S4(B)所在上述光柵平台本體2 2的板狀部2 4A的階梯開口 2 2 a的-X侧，把光柵平台本體2 2的中立 面CT為基準’將磁極單元2 6丨和2 6 2配置在上下對稱的 側面形成的凹部2 4 e 1和2 4 e ?内。 此時，-線性導板AS内13一^ T為基準，幾乎在對稱的位置上配置。 ，磁極單元2 61和2 6 2，分別具備了磁性體部件， 以及沿著丫_方向，在該磁性體部件的表面，相隔一定的間 隔配置了多個界磁鐵。多個界磁鐵相鄰界磁鐵之間，以相反的 極性排列f此’在磁極單元2 6 1的上方空間，沿著γ軸方 向’形成了父變磁場⑽⑽㈣㈣聊以⑪⑷而在磁 29 1338912 13576pifl.doc 性早疋2 6 2的下方空間，沿著γ轴方向，也形成了交變磁場。 仲邮’如圖4 (Β)所示’在上述光栅平台本體2 2的板 =2 4 Α的階梯開口 2 2 a的+ X側’將光栅平台本體2 2 的中立面口作為基準，將上述-對磁極單元2 8 1和2 8 2 配置在上下對稱的側面形成的凹部2川和2⑽内。而 ^ s % σ 2 2 a的X轴方向的中心位置（和光柵平台 、叫X軸方向位置幾乎—致）的^，—對磁極單 ΐ乎呈對==對於該z軸’與磁極單元… 準，ΐϊί===?81、1382以中立面口為基 件，元2 81和2 8 2，分別具備了磁性體部 向，在該磁性體部件的表面，相隔-定 鐵。乡轉_鴻細狀間，以相 =性开排:卜因此’在磁極單元2 6 i的上方空間，沿著γ ==了交變磁場’而在磁性單元2 6 2的下方空間， σ者Υ軸方向，也形成了交變磁場。 =極單元261、2 6 2和281、2 8 2:= 由『有了該第丄驅動機構，由γ軸線性導板136 的電機子線圈供給的電流，磁極單 d 6 2發生的磁場與電機子單元丄 ?間的相互電磁作用，產生7Y軸方二 此洛倫兹力的反力成為了驅動磁極單元2 6丨、2 ^ 30 1338912 13576pifl.doc (光栅平台RST)的驅動力。 同樣’由Y軸線性導板1 38 1、1 382内的電機子線 圈供給的電流，磁極單元2 8 1和2 8 2發生的磁場與電機子 單元1 3 81、1 3 8 2内流動的電流間的相互電磁作用，產 生了Y軸方向的的電磁力（洛倫茲力），此洛倫茲力的反力成 為了驅動磁極單元2 81、2 8 2 (光柵平台RST)的驅動 力。 在本貫施例場合’將光栅平台RST的中立面〇丁作為基. 準，磁極單元261、262與磁極單元281、282分別. 對稱配置，對應於這些磁極單元的γ軸線性導板1 3 61、1 3 6 2、Y轴線性導板1 3 8 1、1 3 8 2，也是以中立面c T為基準，對稱地配置著。由於供給γ軸線性導板i 3 6工、 1362、1381、138 2的電機線圈均是同一的電流， 給予磁極單元2 61、262，281、282分別是同一的 驅動力，可以在光柵平台r S T的中立面C T(參照圖4( B )) 的兩處產生Υ軸方向的驅動力（磁極單元2 6 1、2 6 2的驅 動力合力’磁極單元2 8 1、2 8 2的驅動力合力），由此， 在光拇平台R S Τ上將儘量沒有俯仰力矩(pit c hing moment) 的作用了。 此時’磁極單元2 61、2 6 2與磁極單元2 81、2 8 2即使對於X軸方向，在光栅平台RST重心附近位置基本也· 呈對稱地配置，由上述γ軸方向的驅動力從光柵平台R s τ重· 心開始等距離的兩處進行驅動，因此，可以在此兩處發生的是 同一個力，也可以在光柵平台R s 丁的重心附近位置產生γ軸 方向的驅動合力作用。因而，在光柵平台RST上也將儘量不 1338912 13576pifl.doc 出現俯仰力矩的作用了。 與上述相反’使γ軸左右方向上的驅動力不同，就可以控 制在光栅平台R ST上的偏離了。 的vf至今的說明可以知道，磁極單元2 6 1、2 6 2與對應 Y線性導板1 3 6 1、1 3 6 2構成了錢平台r s T在 方向上驅動的—對¥軸線性馬達；而磁極單元2 8工、2 平==、1 3 6 2、1381、1 3 8 2構成了光柵 =s 丁在γ轴方向上雜動的一對膠片馬格财脫型丫軸線 導向倍^下’將丫軸線性馬達和各丫鱗性馬達構成的線性 ^使用同—的符號，以“γ軸線性馬達1361、136 、1381、1382” 來記载。 8 1由對的Υ軸線性馬達13 61、1 3 6 2、1 3 丄d 8 2來構成了上述第i驅動機構。 軸方二mi述岐子單元4()具備了如下結構，以γ 及與這—子單元W0W40 2以 臂方w電機子早701 4Q1、14Q2以的Y軸方向（長 刀另i保持平行。這對固定部件]r 部件18的内壁面。 5 6破分別固定在框架 上述電機子單元}4〇 ii 4〇 截面為矩形(長方形)的非磁性材料二：5可知，具有 配置了電機子咖。 ㈣所構成的_，在其内部 在電機子單元14〇1、1402相 立之間，由圖5所 32 1338912 13576pifl.doc :方=自：=隔：置了固定在光柵平台RST的X 分別固定在雜P 板狀如切鐵3 Q。也可以採用在 的磁極單元來代替i久對平台狀永久磁鐵所構成 0 1^1 4 0 2^ 配置。 及® 5 )財立面CT為基準略呈對稱狀 相互電磁作用，產生了： ::===力動成力為了驅動一。(二 此時’在分別構成電機子單元1401、140 =線【中供給同-的電流，可以在光柵平台? :ί=尸)）的位置上，產生X轴方向的== 光柵平。1^7'上將儘量不出現俯仰力矩的作用了。 如下所述，由電機子單元1401、1402和永久 3 0 ’構成了將光柵平台以丁在父方向可以微小驅 動磁鐵型的音圈馬達。以下’將此音圈馬達構成的可動子2 使用此水久賴的符號，稱作音圈馬们Q。由此 0構成了第2驅動機構。 ύ ^ 在本實施例中，尤其如圖3所示，在上述框架部件工 + Χ軸側面及+Υ軸側面，設置了由雜單元構成的可 601、2602和2603,對應於這些可動子2 6 〇 2602和2603’在光柵定盤i 6上，經過支持台2 6 4 33 1338912 I3576pifl.doc 4I和2643 ’設置了由電機子單元構成的固定子 2621、2622和2623。 在上述可動子2601、2602的内部配置了永久礙 鐵，形成了 Z軸方向的磁場。在上述固定子2 6 22

f 電機子線圈’在上述2軸方向的磁場中，電流沿Y 軸方H因此，由在固定子2 6 2丨、2 6 2 2内 子線圈中沿Y軸方向供給電流，在可動子26〇丄、26 g=向的_力（洛倫兹力的反力）。即由可動 達升疋子2 6 2 1 ’構成了從可動磁鐵型的音圈馬 3 =方向驅動用的調整馬達，由可動子2 6 〇 2和固定 動用成了由可動磁鐵型的音圈馬達形成X軸方向驅 軸方動：2 6 〇 3的内部配置了永久磁鐵，形成了 2 機子線圈，在上述z轴方=23、2 6 2 2的内部有電 因此，由在固定子2 6 2 3内的:中，電流沿X軸方向流動。 電流，在可動子2機子線圈中沿X軸方向供給 兹力的反力）。即由可二2=又軸:向的驅動力(洛倫 達 ⑽向、Y轴方向，以。達，框架部件1 8可以在 在上述框架部件i γ向二個自由度方向被驅動。 3所示，形成了凹立M R X侧的側壁的約中央部位’如圖 架部件i 8的内神外部；矩 =凹？，上形成了，框 8 b中嵌入了窗玻璃g i =形[開口 1 8 b，在該矩形開口 1 g 在框架部件18的一Y側的侧壁 34 1338912 13576pifl.doc 上，形成了連通框架部件18的内部和外部的矩形開口18 c，在該矩形開口 1 8 c中嵌入了窗玻璃§2，為了使這些窗玻 璃gl、g2不從其安裝位置產生氣體洩漏，在安裝部分，施加 了銦、銅等金屬粘劑，或由氟素樹脂予以封閉（密封）。作為 上述氟素樹脂，最好使用經過在8 〇。(：、2個小時加熱、脫氣 處理。 如圖5所示由光柵平台裝置的X z戴面圖可知，在上述窗 玻璃gl的外铡（一X側），對著光柵平台RST的射鏡部件. 24B的反射面，設置了X轴激光干涉儀69χ。從該X軸激. 光干涉儀6 9 X的測長光束’經過窗玻璃gi，投射到射鏡部 件2 4 B的反射面’該反射光經過窗玻璃gi，反射到X軸激 光干涉儀6 9 X。此時，測長光束z軸方向的位置與中立面c T位置相一致。 如圖5所示，固定鏡Mrx經過安裝部件9 2設置在在投影 光學系統單元P L鏡筒的上端部附近。從該X軸激光干涉儀6 9 X的參照光束，經過由光柵定盤形成的貫通孔（光路） XI投射到固定鏡Mrx，其反射光反射到又軸激光干涉儀6 9 X内。在X軸激光干涉儀6 9 X中，將測長光束的反射光、參 照光束的反射光，由内部光學系，同軸，且與同一的偏光方向 的光進行合成。兩反射光的干涉光由内部的感測器接受光。然 後’根據由此干涉光在感測器的受光面上生成的干涉縞的放射· 性粒子數值，X軸激光干涉儀Θ 9 X，以固定鏡Mrx為基準，· 以例0.5-lnm程度的分解能’時常能測出光栅平台本體2 2在X軸方向的位置。 在上述窗玻璃g 2的外側（一Y側），從光栅平台裝置1 35 1338912 13576pifl.doc 2附近的YZ截面圖圖8可以知道，相對於設置在光柵平台本 體2 2上的反向反射板3 2 1、3 2 2，設置了γ軸激光干涉 儀6 9 Υ。此時，Υ軸激光干涉儀6 9 Υ分別對應地設置了一 對反向反射板3 21和3 2 2。從各Υ軸激光干涉儀6 9 γ的 測長光束，經過窗玻璃g2，分別投射到反向反射板3 2工、 3 2 2的反射面，該反射光經過窗玻璃g2，返回到各γ軸激 光干涉儀β 9 Y。此時，測長光束z軸方向的位置與中立面c Τ位置相一致。 . 如圖8所示，固定鏡Mrx經過安裝部件g 3設置在投影光. 學系統單元P L鏡筒的上端部附近。從各γ軸激光干涉儀6 9 Y的參照光束，經過由在光栅定盤1 6上形成的貫通孔（光路） 7 2分別投射到固定鏡Mrx。各反射光反射到γ軸激光干涉儀 6 9Y内。在各Y軸激光干涉儀6 9Y中，與上述又軸激光干 涉儀6 9 X相同，根據測長光束的反射光和參照光束反射光的 干涉光，以固定鏡Mrx為基準，以例〇 . 5 — 1 nm程度的分解 能，時常能測出光柵平台本體2 2在各自測長光束的投射位置 (反向反射板3 21、3 2 2的反射面的位置）的光栅平台本 體2 2的Y軸方向的位置。 此時，由一對Y軸激光干涉儀6 9Y，可以測出光柵平台 R s τ繞z軸旋轉的旋轉量。 在本實施例中，如圖2所示，射鏡部件2 4B的反射面配. 置在Y軸線性馬達1361、1362、1381、1382 ‘ 來的外側，由於X軸激光干涉儀6 9 X的測長軸不通過γ軸線 性馬達1 3 6 1、1 3 6 2固定子的方向，因此，即使流入γ 轴線性馬達13 61、1 3 6 2固定子的電流發熱，在γ軸線 36 1338912 13576pin.doc 性馬達1 3 6 1、1 3 6 2固附近的空氣發生搖晃，該空氣的 搖晃也不會對X軸激光干涉儀6 9 X產生影響。所以，光柵平 台R S T的偏移，在光栅平台r在X軸上的位置，能夠被高精 度地檢測。而且，此時，如上所述，X轴激光干涉儀6 9χ的 測長光束的光路在Z軸方向上的位置與中立面C T的位置相 一致，將沒有任何誤差，光柵平台R S T的偏移，在光柵平台 R在X軸上的位置，能夠精度很高地進行檢測。一對γ軸激光 干涉儀6 9 Υ，也是同樣的理由，光柵平台r s Τ的偏移，在 光柵平台R在Υ軸上的位置，能夠精度很高地進行檢測。 且，上述X軸激光干涉儀6 9 χ及一對γ軸激光干涉儀6 9 Υ配置在框架部件8的外部，因此，即使，從構成各干涉 儀的，鏡等光學部件以及偵測器(dete c⑽等中假如有微量吸 收性氣體發生，也不會對曝光出現壞的影響。 如上述那樣，實際上，作為移動鏡設置了射鏡部件2 4 B 矛，反向反射板3 2 1、3 2 2三個部件’與此對應，設置了激 光干涉儀、X軸激光干涉儀6 9 χ和—對丫滅奸涉儀6 9 干井儀=^〖僅顯不了作為代表的光柵移動賴01、光栅 義錢69，Μ略了固定鏡（狀鏡MRX'固定鏡 ΜΚ Υ ) 〇 上述從，柵干涉儀系統69的光柵平台r s τ的位置資 Γ、:經過圖？的平台控制系統9 0及此，送到 二’平台控制系統90對應從主控制裝置70的 光栅平台RST的驅動。的位置資訊（及速度資訊）控制對 返回到圖1，上述光學系 單元P L是由，鏡筒及有與該鏡 37 1338912 13576pifl.doc 向的光軸的多個激光部件構成的投影光學 維=學系）所構成。作為投影光學系，採用了兩端遠心 光學系單元pl，實際上經過了設置在該投影 株:㈣/筒部的法蘭盤部件？ L G ’由圖中未示的保持部 ΓΓΐ?。構成該投影光學系pl的投影光學系的投影倍率 昭昍伞τ τ 或I〆5。如上述，從照明單元I〇P發出的 的、卜、f昭日日^明了光栅平台R，以及由在光柵平台尺上所形成 ’·"、、乾圍内的回路圖案，由投影光學系單元p L在軟片 ^的照，範圍及由共同的照明光I L的照射範圍（曝光範 圍）上被縮小投影’以上兩步轉寫形成了回路圖案的縮 (部分等比像）。 在投影光學系P L的筒鏡中’給氣管路5 〇的一端分別連 接到排氣管路50的-端。給氣管路的另一端連接到圖中未示 的低吸收裝置’比如氦氣供給裝置。而排氣管路5丄的另一 端:連接到外部氣體回收裝置上。然後，氦氣供給裝置的高純 度氦氣經由給氣管路5 Q流人了投影光學系單元？ L鏡筒的 内部。此時，氦氣由氦氣回收裝置進行回收。而且，使用低吸 收氣體的氦氣這是因為，加之與前述同樣的理由，作為投影光 學系單元PL的激光材料，採用熱膨脹係數大的氟石（螢石），由 此’激光吸收了照明光I L後產生了溫度上升使激光的結像現 象惡化，從以上的角度考慮，最好使用冷卻效果大的吸收性氣- 體。 ， 上述晶圓平台WS 丁配置在晶圓室8 〇内，在天井部的近 中央部形成了圓形開口 71 a，由此構成了該晶圓室8 〇。該 隔板71由不銹鋼（S U B)等茂氣少的材料形成。在隔板7 38 1338912 13576pifl.doc 1的天井部的開口 7 1 a内’被插人了投 鏡筒的下端部。且，在隔板7 !的天井部的開L的 =㈣法蘭部:” G之間’由彈性軟管9 7無間= ° k樣-來’ a日日圓室8 〇的内部的氣體與 在晶圓室80内，平台底座Bs經過：了6 略呈水平地支樓著。這些防震單元86，可 ;

$到平台底座BS的微震動，例微型。水平。且，：3 6被安裝在平台底座B S的-部分的半導體加速 =防 ^動感測器的輸出力，根據此輸出力可積極地制服^^座 S的振動，可以使用如此所謂的有效防雷梦罢 " 伴持？圓平台WST經過晶圓托座25，由真空吸附晶B1W而 保持者，由包括線性馬達等圖中未示的晶圓驅動器，沿著上述 底座BS的上面’以χγ2次方方向自由地驅動晶圓平台ws T。 本實施例中’在使用真空紫外範圍的曝光波長的曝光裝置 中，為了避免吸收由氧氣等吸收性氣體對曝光光線的吸收，從

投影光學系單元P L至晶圓W的光路上，也必須由氮氣及稀有 氣體進行置換。 在晶圓室8 〇的隔板71 ’如圖1所示，給氣管路41的 —端分別與排氣管路4 3的一端相連。給氣管路41的另一 端’連接到圖中未示的低吸收性氣體的供給裝置，例氦氣供給 裝置上。而排氣管路4 3的另一端’連接到外部的氣體回收裝 置上。而且’與前述一樣，時常向晶圓室8 0内充入氦氣。 、 在晶圓室8 〇的隔板71的一Y側的侧壁上開設了光透 過固8 5 °與此相同，圖中雖然省略了，但隔壁71的+ χ側 39 1338912 13576pifl.doc (在fi的紙面真前側）的侧壁上也開設了光透過窗。這些光 透^窗是如下般地構成的’即在隔板7丄形成的窗部（開口部） 上β又置了閉塞該窗部的光透過材料，在此，取用普通的光學玻 璃二^時，為了不產生從構成光透過窗8 5的光透過材料的安 裝《卩刀邻分的氣體洩漏，在安裝部位，施加了銦、銅等金屬枯 劑，或由氟素樹脂予以封閉（密封）。作為上述氟素樹脂，最 好使用經過在8 (TC、2個小時加熱' 脫氣處理的。 在上述晶圓托座2 5的一 Y侧的端部，順延X軸方向設置. 了由平面鏡構成的γ移動鏡2 5 6 Y。從幾乎垂直地配置在晶· 圓室8 0的外部γ轴激光干涉儀2 5 7 γ的測長光束通過光 透過窗8 5投射到該Y移動鏡2 5 6 Y上，該反射光，經過光 透過窗8 5，由Y軸激光干涉儀2 5 7Y内部的感測器被接 受，將Y軸激光干涉儀2 5 7 Y内部的參照鏡的位置為基準， 檢測出Y移動鏡2 5 6 Y的位置，即晶圓w的Y位置。 同樣，圖示省略了，但在晶圓托座2 5的+ X側的端部， 順延Y軸方向設置了由平面鏡構成的X移動鏡。經過該又移動 鏡’由X軸激光干涉儀，與前述相同’能檢測出X移動鏡的位 置，即晶圓W的X位置。上述兩個激光干涉儀的檢出值，經由 平台控制系統9 0及等’供給給主控制裝置7 0，由平台控制 系統9 0 ’根據主控制裝置7 0的指令，繼續監視上述兩個激 光干涉儀的檢出值，經過晶圓驅動系，對晶圓平台WS T進行· 位置控制。 本實施例’激光干涉儀，即激光光源、棱鏡等光學部件及 迪等，配置在晶圓室8 0的外部，因此，即使從上述迪等處有 微量吸收性氣體發出，也不會對曝光產生惡劣的影響。 1338912 13576pifl.doc c n另外，將連接耻述投影鮮系單元PL鏡筒的給氣管 -沾，f—端，及排氣管路5 1的另—端分別連接翻中未表 不的魏供給I置’從氦氣供給裝置經過給氣管路5 ◦，平日^ 向技〜光子系單元L P的鏡筒供給高純度的氦氣 汽 内的氣體經過排氣管路5i_氦氣供給裝置，這樣一來鏡j 氦氣循環使用的結構了。此時，在氦氣供給裝置中Ϊ =内減氣體精製裝置。這樣做的話，由於纽精製裝置最 ’攸包括氦氣供給裝置和投影光學系單元p L内部的循 t即使氦氣經過了長時間的使用，投f彡光學系單元P。& ϋ以外的吸收性氣體（氧氣、水蒸氣、有機 、 值以下的濃度。且，此時也可以，在投農|先 Γ Γ壓域靡、吸收性氣體濃度等感測 ° χ這些感測益的檢測值，經圖中未顯示的控制聲i 、 氦氣供給裝置内，適宜的控㈣内藏㈣_和=裝置’在 環回Γ’在晶圓室8◦中，也可以採用與上述相同的氮氣揭 在，上述那樣構成的本實關的曝光裝置i 0及 U製造時，使用了主控制裝置7 Q的管理下的，光拇私 t'圖曰台W S T上的基準標識板、切斷軸心線校準檢‘ 全部省略）’光栅校準、底座界限檢測（測試從校準俗 =的檢财心到投f彡光學轉元pL的絲_轉^檢 準備作業按規定的順序進行。 ）專的

A (: ’用圖中未示的校準檢測系E G 广強王权、杈準）4進行晶圓校準檢測。然後，曰 > «測結束後，再進行步進掃描㈣光動作。此曝光動=由^ I3576pifl.doc 與通常的掃描步進動作是相同的，詳 曝光時，根據主控制褒置7 〇的指令，由二了，在榜描 ί圓平台WST對光柵平台RST進行追 者光栅平台RS丁移動的反力，由# 工 時，伴& 抵消了。 化未邛件18的移動，而被 ,且，在上述追蹤控制之際，當光柵平台RST/v±七心 述音’達3 ◦的可動子與光柵平台RST以一體 部件18上。〇2)及固定了該固定子的框架 側板1 4，二招1框架部件1 8對於光柵定盤1 6及照明系 的=框tti間隙校準，以非接觸形式，由上述反力 對庫苴反力^P 8僅按照運動量的守恒法則確定的距離， :吸irn移動。由於框架部件18移動，上述的反力 =軸，動力的反力引起的偏轉在力矩==置產生由了上 運動量守一現了伴隨吸收此反=轉 +，取得光拇平台rst和晶圓平台wst的同 夂動之際，Υ轴線性馬達13β1、136 1 3 8 2的各個可動子和光栅平台R s τ一體 ir聿W β 1方向驅動；各可動子的驅動力的合力對Y軸線性. vim 1 3 6 2，1 3 8 1、1 3 8 2 的各個可動子‘ 力的人ί2的框架部件18產生作用。在此場合，由於該反 二、用’框架部件18遵守運動量守恒法則 ，僅吸收 上述反力的δ力產生的距離，相應反力的合力的方向發生移 42 1338912 13576pifl.doc 動。 並且，讓Y軸線性馬達13 6 i、i 3 6 2和γ軸線性馬 達1381、138 2產生的驅動力（推力）不相#，使光柵 平台RST繞(9ζ讀，此時’偏轉力矩對框架部8發生 了作用’而此時’由於此偏轉力矩及γ軸方向的反力作用，遵 循運動篁守恒法則，出現了伴隨吸收此反力的回轉的自由 運動。 而且，無論在何场合，由於不出現包括框架部件工8 柵平台R S T系統的重心移動，因此，在光柵定盤的K 不會出現偏負重的作用。 本實施例中，當驅動光栅平台R s τ時，確實會出現抵消 伴&驅動光栅平台RST而產生的反力（χ軸方向及¥轴方 二，該反力產生的偏轉力矩，可能抑制伴隨驅動光柵 因I 而產生的振動。且由於能防止發生上述的偏負荷， 因此，也月匕防止由此引發的光柵定盤χ 6的姿勢變化。

本實施例中，為了消除上述反力的 件1 8在光栅定盤1 6上方移動時，浐甘A .隹， ^ P 值那樣(即如:，部件二=== 發生了外部=不二，隙’ r台控制===二 8返回到料的鮮位置上。 U细框架部件工 細的說明那樣，由有關本 置1 2、圖1的氣體供給裝置6 7經過給氣管== 43 1338912 13576pifl.doc 壓氣體，經由光柵定盤16内上述的供給回路，龙水 Θ上形成的細孔6 Θ a、θ Θ b中分別向重力方向上方^诞丄 方向下方喷射出氣體，這些喷出的加壓氣體分別被由光 驅動系統驅動的光栅平台RST的第1凹部56 和* ° 部5 6 c所接受。然後，對著光柵定盤工6的細孔6 f 桃平台RST的底面的第1凹部5 “接受的加壓氣體，順a 經由細孔5 8a、軟管161、細孔58b，導入與平： RST底面上第1凹部5 6 a相不同的位置，從軸承 二 光栅定盤1 6進行喷射。由此，從該軸承部5 7 =

=中的靜壓部分，將光柵平台RST浮動支撐在定盤丄6 J 在本實施例中，如前所述，雖然使用 材料構成的小型的光栅平台RST =7! 中對著光拇平台RST底面 t壓氣f的壓力(向上的力），不將先柵平台RST支樓在 方為，在被固定在光栅平台Rst上角鋼部件^ 喷出力壓-第3凹部5 6 C上，從定盤細孔6 6 b中 噴出加Μ乳體的壓力是向下作用的，因此，上述 方舉樓的力與其向下的力相互斜 ° 於上述向上的力與向==生了如此結果。此時，由 」===，同時’能夠確保良好的氣錘穩定性。 型二=:T7r生。由此，無故障地_、 ®，：將=二t:5s ;向:=盤16喷出加*氣體的靜 S 丁，以維持苦力安斯的狀態，非接觸 44 1338912 13576pifl.doc 地浮動支撐在光柵定盤1 6的上方。 本實施例中’在作為移動體的光栅平台r S T上不連接g 管’可能將光柵平台R S T以非接觸式地浮動支撐在光拇定= 1 6的上方，因此，可以防止由於拉脫光柵平台RST上配放 為起因的，光栅平台RST位置控制精度（包含決定位置的^ 度）低下的問題。此時，由於可以採用小型輕量的光栅平台= S 丁，從此角度，也可以提南光拇平台的位置控制性能。 而且，在有關本實施例的光柵平台裝置i 2中，由於在光 栅平台R S T底面形成的第1凹部56a和第2凹56b的 之間，設置了大氣開放3 9，因此在第1凹部5 6 a和第2凹 5 6 b之間不發生氣體的直接流入、流出，也因此可以一定地 維持上述第1、第2支撐裝置的性能。 另外，因為光柵平台R S T在配管未扯脫的狀態下不移 動，且光栅平台R S T在進行等速運動的曝光中，幾乎不需要 對其施加用以保持等速運動的外力，因此，也有不受線性馬達 推力的脈動(ripple)等其它影響的優點。 另外，在本實施例中，由於構成驅動光柵平台R S T的光 柵平台驅動系的馬達全部是可動磁鐵型線性馬達或音圈馬 達而且對軸承部5 7也不必再配接管線，沒有與光柵平台r ，丁相連接的配管，因此，可以完全避免了因扯脫配管、線路 等引起的光柵平台r S T位置控制性能低下的問題。 《 另外，由本實施例的曝光裝置2 〇，如上所述，能夠極好. 地確保光柵平台r s τ的位置控制性，其結果可以提高掃描曝 光時（同步移動時）光柵平台r ST和晶圓平台WST的同步 精度’最終’在光栅R上形成的圖案及晶圓墀上的各發射範圍 45 1338912 13576pifl.doc 相互^合’可以向良好_的晶_上進行高精度 且，在上述實施例中，作為將第1凹部5 6 a 5 6 b作為連接的通氣路，採用了將與光柵平 =部 通氣路’及設置在光柵平台RST本體外部的軟f 成的 結構，但本發明不限於此’也可以將 為在ί拇平台本體2 2内部形成的通氣回路來用，或t = 將通亂路的全部作為與第lc^5 6 a和第2 — =路。主要是，只要將第1凹部5 6 a和第2凹= b作相連通，而不論其的構造。 丨13 b 在上述實施例中，對於轴承部5 7 =凹部56b内光栅平台底面的情況進行了說:而;： 發明中，秘於這樣的構造，例如，將姉 = RST本體2 2的底面製成-體也是可叫匕、光柵千σ 平台 1如園1〇所示，為了形成將給 第3凹部56C供給的加壓氣體導入到轴承部57的通氣回 路158,可以製成將對著第3凹部56e的加壓氣體從軸承 部5 7喷射出的結構。由此’可以不浪費地利用加壓氣體，同 時，可以使光柵附近沒有加壓氣體的_，效率良好。 在加壓氣體向第1凹部56a供給時發生正壓比較小的 場合，可以科置細部件Ua、27b以及第3凹部。 在導向部16 C、16d中，作為第1喷出口的細孔66 a，可以沿著Y軸方向形成多個，對應此，作為第2喷出口的 細孔6 6 b，也要以沿著Y轴方向形成多個。此時，此時，必 須使各個細孔6 6 a、6 6 b與第丄凹部5 6 a、第3四部5 46 1338912 13576pifl.doc 6 c保持相對那樣地決定細孔的位置及凹溝在γ方向上的長 度。 在上述實施例中，供給第1凹部5 6 a、第3凹部5 6 c 加壓氣體時，由1系統的供給回路進行供氣，但也不限於此， 對於各凹部，也可以由另外（2系統）供給加壓氣體。 在上述實施例中’對第2凹部5 6内的氣體進行強制排氣 的情況作了說明，但是，例如，使用與光柵平台周圍環境相同 的氣體的場合、氣體即使洩漏，在對曝光精度影響較小時，也. 可以不進行強制排風。 · 尚且’以提高光柵支撐部的光柵保持力為目的，可以利用 真空泵的真空吸力進行光栅的保持。即如圖1〇所示，在設置 在光桃平纟核2 2哺梯開σ 2 2 a的段部細支撐部3 ^的上面’形成了凹部3 4 a和第2凹部5 6 b之間相連通的 貫通回路1 6 0 ’使真空泵的真空吸力在光柵支樓部3 4的上 面起作用’這樣可以輔助光柵的保持力，由此，由於可以較低 地設定光拇固定機構3 7的固定力，由光柵固定機構3 7與光 栅支樓部3 4之間的夾持，使降低光柵的變形成為可能，抵制 曝光精度的降低也成為可能。 、，且’在上述實施例的形態中’將光柵平台R S T是以一體 成形的結構構成’但本發明不限於如此構成形式，也可以將各 件由，它多體構成。而且，關於光柵平台的形狀，也*僅限於· 上述貫施例的光柵平台的形狀，可以採用其它多種形狀。. 另外’在上述實施例中，有關本發明的平台裝置對適用於 Π,νυν曝光裴置的光柵平台裝置的場合進行了說 月仁是不僅如此’有關本發明的平台裝置，也能適宜地適 47 1338912 13576pifl.doc 用於不職影光料、，將以鮮和絲緊密結合鮮圖案轉寫 入基板的接近型的校正光罩平台裝置；液晶用一並轉寫的掃描 型曝光裝置等的光罩平台裝置；或者金屬底板的平台敦置上。 此外’在E B P S方式的電子線曝光裝置，將波長5〜3 〇nm 程度的軟X光範圍的光作為曝光的光，即所謂E u v L等的曝 光裝置中，本發明的平台裝置也適用。 ★此外，能夠將承載物體（試驗用料）的移動體沿著規定的 第1軸方向驅動，同時，與第丄軸方向正交的第2軸方向，以 及在回轉的方向也有微小驅動的必要的裝置，不僅用於曝光裝 置，對於其它的精密機械，本發明相關的平台裝置也能適宜^ 被應用。

尚且，在上述實施例形態中，作為照明光丨L，使用了 A rF埃克西瑪激光（波長1 9 3nm)或？ 2激光光（波長 7細）等的真空紫外光KrF激光光（波長2 4 8nm)等的 运紫外光、超高壓水銀燈發出的紫外範圍的輝線（g線、^線 等），但也不僅於此，也可以使用Ar2激光光（波長工2 6 nm)等的其它真空紫外光。此外mx使關如，不限於 上述作為真空糸外光的各種激光光，其它還可使用D ρ b半導 體激光，財從纖維激光發錄_紅外範圍、而且可視範圍 的單一波長激光光’如由辑（Er)(及铒和鏡(Yb)的兩 =)由混合的纖維增幅器進行放大、使用非線型光學結晶、由 紫外光變換賴頻波。尤其’作為㈣幻L不是紫外線，χ 光（包a E U V光）電子光及離子光束等電荷粒子光等也 以使用。 在上述實施例中’將關於作為投影光學系單元p L用於縮 48 13576pifl.doc 13576pifl.doc 小系統中進行了說明，但將投影光 或擴大系統的任何系統中。再者， 再者’作為投影光學系統，其照明 學系統也可以用於等倍系統

_ w ^ 丨二心个理哏於此，馬f製造比 . 如將液晶表示元件圖案轉寫職型的玻璃板上的液晶用的曝 光裝置、薄膜磁性磁頭、攝像元件、有機E L、微型機械、D NA b曰片等的曝光裝置中，本發明也能廣泛地被應用。 不僅半導體元件等的微型裝置，而且在光曝光裝置、E。 V曝光裝置、X光曝光裝置、以及電子光曝光裝置等裝置中， 為了製造使用的光柵或光罩，在將回路圖案轉寫入玻璃基板以 及矽晶圓等的曝光裝置中，本發明也能適用。在此，在採用D UV(遠紫外）光及νυν(真空紫外）光等的曝光裝置中， 一般是使用透過型（穿透型）光柵，作為光栅基板，使用的是石 英玻璃、塗抹氟素的石英玻璃、螢石、氟化鎂、及水晶等。 並且，例在國際公開W0 9 9/4 9 5 0 4號中所公開， 在投影光學系單元P L與晶圓之間的間隔中充滿液體的液浸， 曝光裝置中，本發明也能適用。 . 且，由多個激光構成的照明光學系，將投影光學系裝配入 曝光裝置本體’進行光學調整的同時，由多個機械部件形成的 光柵平台及晶圓平台安裝在曝光裝置本體，連接配管和配線， 13576pifl.doc 再經過綜合調整（電氣調整、 狀態的曝光裝置。而且，曝=作確認），可以製造上述實施 受管理的淨室來進行。 衮置的製造最好由溫度及清潔度 本發明不限於半導體製洪 用於如下這些裝置製造中的肚曝光裝置’而且也能適用於 製造包含液晶表示元件的^ 1置等場合’這些裝置是用於 上的曝光裝置、將用於製造薄;^將裝置的圖案轉寫入玻璃板 究晶圓上的曝錄置、以及磁頭中褒置_轉寫到陶

件，在光曝光裝置、E UVJ二體元件等的微型元 子光曝光裝置等裂置中，為了製造其中使用=二電 ==轉=玻，切晶圓等的曝光裝置中二 在此，在採用Duv (遠紫外）光及vuv (真 4的曝光裝置中，—般是使用透過型光栅，作為光 冊基板’使用的是石英玻璃、塗抹氟素的石英玻璃、螢石今氣 i匕鎮、及水晶等。而且，在相近方式的χ光曝絲置、電子光

广光裝置中’採用透過型光罩（絲網鮮和膜片型光罩），作 為光罩基板，使用矽晶圓。 ^半導體元件是經過如下各道步驟來製造的，即’元件的功 能、性能設計步驟，製作基於此設計步驟的光柵的步驟，由矽 材料製作晶圓的步驟，由使用上述實施狀態的曝光裝置的方♦ 法，將光柵圖案轉寫入晶圓的步驟，元件的裝配步驟（包括切. 片工程、連接[bonding]工程、組裝工程），檢查步驟等。 (發明的效果） 如以上的說明那樣，由本發明的平台裝置，可以實現小 50 1338912 13576pifl.doc 型、輕量化平台的使用，可以提高該平台的位置控制性，取得 從來沒有的優秀效果。 且本發明的曝光裝置還具有了能夠實現高精度曝光的效 果。 【圖式簡單說明】 圖1繪示有關一實施例曝光裝置結構的概略圖。 圖2繪示圖1的光柵平台裝置的斜視圖。 圖3繪示圖2的光柵平台裝置的分解斜視圖。 * 圖4(A)繪示光柵平台的斜視圖，圖4(B)是光柵平* 台的剖面圖。 圖5光柵平台裝置的γ z剖面圖。 圖6繪示光栅定盤的導向部及光柵平台本體側的角鋼部 附近結構的剖面圖。 圖7繪示圖6的A-A剖線的剖面圖。 圖8緣示細平台裝置⑽Μ面圖。 ==用=說明框架部件下側面的說明圖 圖1 0繪示變化例的圖。 【主要元件符號說明】 1 0…曝光裝置 1 2···光柵平台裝置（平台骏置 1 β ···光柵定盤（定盤） 、 16 a…凸起部 1 6 b…矩形開口部 1 6 c…L字形態的導向邹 1 9 .··栓 2 2…光栅平台本體 1338912 13576pin.doc 2 2 a階梯開口 2 7A角鋼板狀部件（角鋼部件 3 4…光柵切部（承載部） 3 4 a…凹部（吸引孔） 3 9…大氣開放部 5 5…螺絲 56a…第1凹部（第1接受部） 56c··.第3凹部（第2接受部） 5 6 b…第2凹部 5 7…抽承部

5 7 b…貫通孔 (第1通氣路的〜部分） 5 8 a、5 8 b ···貫通孔 5 9 a、5 9 b…插孔 6 Ο A···第1供氣管路（供氣回路的一部 6 Ο B…第2供氣管路（供氣回路的一部$ 6 0 C、6 0D…孔

6 1A…第1排氣管路（排氣回路的一部分） 6 1B…第2排氣管路（排氣回路的一部分） 6 1 C…孔 6 3 A、6 3 B…連接器 6 5 A…給氣管 6 5 B…排氣管 6 6 a、6 6 b、6 6 c …細孔 γ轴線性馬 1361、1362、1381、1382 達（驅動裝置） 52 1338912 13576pifl.doc 1 5 8…通氣管路（第2通氣道） 1 6 1…通氣管路（第1通氣道的一部分） R…光柵（物體、光罩） R S T…光柵平台（平台） W…晶圓（感光物體） 53

Claims (1)

1338912 13576pif2 曰期：丨00^ _f乐:4 年月〖:：Γ 爲第93 Π1046號中文專利範圍無劃線修正本 十、申請專利範圍： 1. 一種平台裝置，其特徵在於，包括.· 一定盤’分別設有把從外部供入的加壓氣體噴出 出^楚把^力1壓氣體往該第1嗔出口的噴出方向的相反方向 賀出的第2喷出口； 一平台，包括： 一第1接受部，在對著上述定盤的Μ嘴出口一側的 平面上，接文從沿著規定的一個軸的方向形成的上 口喷出的上述加壓氣體， 胃& 辦道入通氣道’將由該第1接受部接受的該加塵氣 體，¥入到與則述一側面的第1接受部不同的位置， 軸承。P將從上述設置在一側面的第 的前述加壓氣體，對著前述定盤噴出，以及丄1狀導 述的加壓部’接受從上述定盤的第2噴出口喷出上 行軸驅動裝置’將上述平台，至少沿著上述叫_的方向進 2. 如中請專利範圍第i項所述的平 龍範圍第1項或第2項所述的平台裝置’其 5 至〉、有—部分的上述第1通氣道形成在上述平台 XL釉承。(5疋由平台的一部分加工形成。 特徵 其 神承邛被埋入上述平台的底面，是與上述平台 54 1338912 13576pif2 爲第93lU〇46號中文專利範圍無劃線修正本 修正日期: 分別為個體而不同—體的氣體靜壓軸承。 、 ,η ·*ν 6 .如申請專利範圍第1項或第2項所述的平台心之 特徵在於’在上述軸承部與上述第1接受部之間形成有大氣^ 放部。 / 7.如申請專利範圍第1項或第2項所述的平台裝置，其 特徵在於，在上述定盤内部形成有供給通路，將由外部供給^ 加壓氣體共同地供給予第1喷出口和第2嘴出口。 、 8 ·如申請專利範圍第1項或第2項所述的平台裝置，其 特徵在於’在上述定盤内部形成有兩套系統的供給通路，將/由 外部供給的加壓氣體，分別供給給第i噴出口和第2噴出口。 士 9.如申請專利範圍第1項或第2項所述的平台裝置，其 知·徵在於，上述平台更包括第2通氣道，將由上述第2接受部 接文的加壓氣體，至少導入上述第丄通氣道及上述軸承部兩者 1 0.如申請專利範圍第1項或第2項所述的平台裝置， 特徵在於在上述定盤的内部形成有排氣通道，將上述轴 部周圍的氣體向外部強制排放。 1 1.如申請專利範圍第1項或第2項所述的平台裝置， 其特徵在於，上述平台具有承載物體的承載部，在該承栽部上 形成有吸引上述物體的吸引孔’該吸引孔與上述軸承部的 呈連通狀態。 1 2.如申請專利範圍第1項或第2項所述的平台裝置， 其特徵在於’在上述定盤的上面形成有多個上述第1喷出σ， 且在上述平台上，以可接受由上述多個的第1喷出口噴出的加 壓氣體的形狀或配置方式，設置上述第1接受部。 55 1338912 13576pif2 爲第93lll〇46號中文專利範圍無劃線修正本 修正曰期: 1 of-年召月1¾

3 .如申請專利範圍第1項或第2項所述的裝置T

其特徵在於，上述平台是由陶瓷製成的，或表面由陶瓷熱熔射 形成的定盤。 1 4·如申請專利範圍第丄項或第2項所述的平台裝置， 其特徵在於’上述驅喊置包含多個馬達，該些馬達是可動磁 鐵型線性馬達或音圈馬達。 1 5 ·如申4專利範圍第2項或第2項所述的平台裝置， :特徵在於’該第工噴出口把該加壓氣體往重力方向上方喷 該第2噴出口把該加壓氣體往重力方向下方噴出。 於μ ^ 6.—種曝光裝置’同步移動光罩和感光體，以將形成 光罩的圖案轉寫至上述感紐’其特徵在於該曝光裝置 台利I圍第1項至第1 5項中的任何—項所述的平 ° t ^為上述光罩和感紐兩者中至少之—的驅動裝置。 1/7.—種平台裝置，其特徵在於，包括： 導向。卩，⑦有把從外部供人的加壓氣體噴出的第丄喷出 乐匕噴出口 出D &又々琢等向部的面上，位於設置該第1喷 的=反，側，該第2喷出口喷出該加璧氣體； —千台，包括： 向的面>· ί 1接叉部’形成在上述導向部的帛1喷出口的對 的面上述第1嘴出口嘴出的上述加壓氣體， 體，導人到將由該第1接受部接受的該加歷氣 I、别述第1接受部不同的位置， 體，朝^從上述第1通氣道導人的前述加壓氣 朝向刖述導向部噴出，以及 56 1338912 13576pif2 ! ：：-------·： 爲第州_二文專利範圍無劃線修正本 修正“，；月W ? 一第2接受部，形成於上述導向部的第2 出·石·^-對」 向的接受從上述第2噴出口所喷出的該加邀氣體；以及 -驅動裝置’將上述平台，沿著該導向部至少在 進行驅動。 1 8.=申請專利範圍第1 7項所述的平台裝置，其特徵 在於’上述第1噴出口與上述第2噴出口設置在相互對應的位 置。 ‘如申請專利範圍第1 7項所述的平台裝置，其特徵 在^ °亥第1接受部设置在該平台裝置的一個平面侧，該第2 接文部是設置成失該導向部而與該第1接受部呈對向。 2 〇.如申請專利範圍第1 7項或第1 8項所述的平台裝 置’其特徵在於’至少有一部分的上述第1通氣道形成在上述 平台内。 2 如申請專利範圍第1 7項或第1 8項所述的平台裝 ，:其特徵在於’在上述軸承部與上述第工接受部之間形成有 大氣開放部。 2 如申請專利範圍第1 7項或第1 8項所述的平台裝 ，其特徵在於，在上述導向部的内部形成有供給通路，將由 P供、的加壓氣體共同地供給予第1噴出口和第2噴出口。 2 3·如申請專利範圍第第17項或第18項所述的平台 二置其舰在於’在上料向部的内部形成有兩套系統的供 路’將由外部供給的加壓氣體’分別供給予第工嗔出口 弟2噴出口。 τ 2 4·如申請專利範圍第17項或第1 8項所述的平台裝 ’其特_於，上述平台更包括第2通氣道，將由上述第2 57 1338912 修正日期: 通氣道及上

13576pi〇 爲第931丨1046號中文專利範圍無劃線修正本 接受部接受的加壓氣體，至少導入上述第 部兩者之一。 2 .如申請專利範圍第1 7項或第1 8項所述的平A 置’其特徵在於，在該導向部的内部形成有排氣通道二 軸承部周圍的氣體向外部強制排放。 上现 26.如申請專利難7項或第i 8項所述 置’其特徵在於’上述平台具有承載物體的承載部，在該^ 部上形成有吸引上述物體的吸引孔，該吸引孔與上述轴 周圍呈連通狀態。 2 7.如申請專利範圍第i 7項或第i 8項所述的平台裝 置’其特徵在於，在該導向部上形成有多個該第工喷出口。 2 8.如申請專利範圍第1 7項或第1 8項所述的平台裝 置，、其特徵在於，上述驅動裝置包含多個馬達，該些馬達是可 動磁鐵型線性馬達或音圈馬達。 2 9·如申請專利範圍第i 7項或第丄8項所述的平台裝 置’其特徵在於，該第1噴出口把該加壓氣體往重力方向上方 噴出，該第2喷出口把該加壓氣體往重力方向下方噴出。 3 種曝光裝置，將—預㈣圖案轉寫至—感光體， 八特徵在於該曝光裝置包括如請專利範 :中的任何-項所述的平台裝置，作為上述感光體的 置。 3 1，一種平台控制方法，沿著一導向部至少在一軸方向 驅動著作為平台的可動體，其特徵在於，包括： 把—加壓氣體供給到設於該導向部的第丄喷出口、第2噴 58 1338912 13576pif2 爲第93111046號中文專利範圍無劃線修正本 100’年1月，補亦 修正曰期: ιυν -^t- 1 /-j if K 從該第1喷出口把該加壓氣體喷出到設在該第 的對向的可動體的面的第1接受部； 從該第2噴出口把該加壓氣體噴出到設在該第2噴出口 的對向的可動體的面的第2接受部； 、 "由一第1通氣道’把該第1接受部所接受的該加壓氣體 導入到與該弟1接受部不同的位置.以及 把由該第l+通氣道導人的該加壓氣體朝該導向部嘴出， ’、中從該第1噴出口嘴出的力。壓氣體給予該可動體的 ^抵^該第出的域氣體給予該可動體的力彼此 3 2.如申料鄕圍第31顧賴平台控制方法，宜 =在於，上述Μ喷出σ與第2喷出σ設置在相互對應的ς 置上。 技j 3.如申請專利範㈣3 1項所述的平台控制方法，盆 二I1接受部設置在該平台裝置的一解‘，該 ，又。^又置成夾該導向部而與該第消受部呈對向。 特範圍第31項所述的平台控制方法，其 噴出σ把該加壓氣體往重力方向上方嗜出， 該第2喷出Π把該加壓氣體往重力方向下村出。、出 3 5.—種元件製造方法 體，其特徵在於，包括將^的圖案形成在—感光 住何-項所述的平台控‘ H苐3 "至第3 4項中的 方法。 工 ，作為移動該感光體的平台控制 59 1338912 13576pifl.doc 七、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：圖6。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 1 6 a…凸起部 1 6 b…矩形開口部 1 6 c…L字形態的導向部 1 9…检 2 2…光柵平台本體 2 2 a…階梯開口 2 7A…角鋼板狀部件（角鋼部件） 3 9…大氣開放部 5 5…螺絲 56 a…第1凹部（第工接受部） 5 6 b ···第2凹部 5 6 c…第3凹部（第2接受部） 5 7…軸承部 5 7 b···貫通孔 5 8 a、5 8 b…貫通孔 5 9 a、5 9 b 插孔 第1通氣路的〜部分) b ◦ A···第1供氣管路（供氣回路的一部八 6 Ο B···第2供·氣管路（供氣回路的二 6〇C、6〇D·..孔 … 6 1 A···第1排氣管路（排氣回路的一部分 6 1 B’··第2排氣管路（排氣回路的一部分） 6 1 C ...孔 6 3 A、6 3 B…連接器 1338912 13576pifl.doc 6 5 A…給氣管 6 5 B…排氣管 6 6 a、6 6 b、6 6 c …細孔 1 6 1…通氣管路（第1通氣道的一部分） R S T…光柵平台（平台） 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：