TWI327258B - Developing apparatus with macroscopic inspection - Google Patents

Description

1327258 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種顯影裝置，尤指一種具巨觀檢測之顯影裝置。 【先前技術】

按’傳統基板經光阻塗佈至顯影之製作過程，如第八圖所示，先執行 步驟S10，由一載體承載一基板，接著進行步驟S11，清洗該基板，再執 行步驟S12，塗佈光阻經清洗後之該基板，進入步驟S13，將經光阻塗佈後 之該基板進行曝光，接著進入步驟S14，顯影經曝光之該基板，再執行步驟 S15 ’將經顯影之該基板進行光學檢查，最後執行步驟si6，將經光學檢查 之該基板利用該載體承載’因此該基板必須經顯影後，利用一人工搬運車 將完成顯影製程之該基板送至一巨觀檢測裝置，以檢測該基板是否產生缺 陷，若發現該基板產生缺陷時，該基板必需回收報廢，如此已浪費大量製 程時間，亦耗費材料及機台運轉之成本。 上述之巨觀檢測裝置係如日本專利公告號第2〇〇33371〇6號，此篇專利 内容係為一種巨觀檢測裝置，該巨觀檢測裝置係提供一第一遮罩及一第二 遮罩，分別遮蔽一第一投射光源L1及一第二投射光源L3，並包含一第一^ 涅爾（Fresnel)透鏡及一第二菲涅爾透鏡係分別使該第一投射光源及第二 投射光源呈平行光’更包含-固定捕元件，顧定切元件係為了支^ -可放置物狀平台，並調魏料之傾斜角度，且提供—切树，該 支撐元件係可擴張及縮小’使置有物件之該平台上之可自由低擴張及^ 小’另包含-控’該控制縣可調整該固定讀元件 p :，批 制該平台之傾斜角度。 牙干’径 雖然上述習知技術’能達職測出產生缺陷之基板，但須 '間，並耗 製程後才能檢測該基板使否產生缺陷，因此已浪費整個製程的時p登 費機台運轉之成本。 5 1327258 【發明内容】 本發明之主要目的’在於提供—種具E觀檢測之聽裝置可於顯影 •前檢測已塗佈光阻之-基板，即時檢測該基板是否產生缺陷，減少製程^ 間浪費及提刖發現基板異常時間，進而有效降低成本，並提高生產量。 . 本發明之次要目的，在於提供—種具巨觀檢測之顯織置，不需花費 人力將已塗佈光阻之該基板搬運至另—巨觀檢測裝置進行檢測，因而節省 時間而提高生產量。 為了達到上述㈣，本發明係為一種具巨觀檢淘之顯影裝4，該顯影 裝置係包含-巨觀檢測裝置及一顯影裝置，該巨觀檢測裝置係於顯影前檢 鲁測已塗佈光阻之該基板是否產生缺陷’若發現該基板產生缺陷時，則將該 基板回收報廢；或者在曝光前制已塗佈光m之絲板，若發現該基板產 生缺陷時，係可將該基板回收重新塗佈光阻。 . 上述之巨觀檢測裝置係包含一燈箱及一檢測平台，該燈箱係包含至少 一光源組，該光源組係包含複數個光源，該些光源係可為白光源及鈉光源， 而該光源組前係具有一活動遮罩，該活動遮罩係選擇遮蔽該光源組中之一 光源’該光源組係光源至置於該檢測平台之該基板上。 該檢測平台係進一步連接一支撐座，該支撐座係具有至少一螺桿，並 調整該螺桿以調整該檢測平台之傾斜角度，該支撐座上係進一步設有一罩 • 體，該罩體係使該檢測平台被罩設於其内，該罩體内頂部係設置該燈箱， 並於該燈箱與檢測平台間，於該罩體上開設一觀測窗，使檢測員於該觀測 窗前檢測該基板是否產生缺陷。 【實施方式】 兹為使貴審查委員對本發明之結構特徵及所達成之功效有更進一步 之瞭解與認識，謹佐以較佳之實施例及配合詳細之說明，說明如後： 凊參閱第一圖，係為本發明之裝置示意圖。如圖所示：本發明係為一 種具巨觀檢測之顯影裝置，該具巨觀檢測之顯影裝置1係包含一巨觀檢測 1327258 裝f 10及一顯影裝置12，該巨觀檢測裝置10係與該顯影裝置12連接，該 =檢測裝置10係於顯影前檢測已塗佈光阻之透明基板，檢測該基板是否 • 生缺陷，如：光《佈不均或已塗佈光阻之該基板上產生複數條痕跡 嶋）等軸’若發現職板產生雜時，磨錄板報廢，如此減少 :試新，程及新光_間之浪f，並且可以提前在娜前觀_基板品質 疋否異常降低產品報廢率；或者讓6塗佈光阻之職板杨光而直接利用 該巨觀檢峨置1G進行巨觀_，若發職基板產生缺陷時，則回收該基 板重新塗佈光阻5不會導致浪費製程時間有效降低製造成本及提高生 產量。 翁 一凊參閱第二圖，係為本發明之一較佳實施例之裝置側面示意圖。如圖 所不·該巨觀檢測裝置10係包含一罩體1〇〇、一燈箱1〇3、一檢測平台1〇7 及一支撐座108，該支撐座108係支撐該檢測平台1〇7，並設有複數個螺桿 109，調整該些螺桿109以調整該檢測平台107之傾斜角度，而該罩體100 内之頂部設置-燈箱1〇3，該罩體1〇〇係罩設於該支標座1〇8上，使該檢測 平台107係被罩設於該罩體1〇〇内，該檢測平台1〇7上係置放一基板2，並 透過該燈箱103内之投射光源檢測該基板2是否產生缺陷。 6月一併參閱第二圖，係為本發明之一較佳實施例之裝置剖面示意圖。 Φ 如圖所示.5玄燈箱103係包含至少一光源組104 ’本實施例之燈箱103係包 含六組光源組104，每一組光源組104係包含複數個光源1〇5，此實施例每 一組光源組104係包含兩個光源105，一光源105為白光源，另一光源1〇5 為鈉光源，而每一組光源組104前係具有一活動遮罩1〇6，該活動遮罩1〇6 係可用以遮蔽一光源105，檢測員係可調整活動遮罩1〇6，以遮蔽另一光源 105。該燈箱103内之該些光源組1〇4係投射光源至放置該基板2之檢測平 台107 ’以便觀測該基板2是否產生缺陷。 請一併參閱第四圖，係為本發明之一較佳實施例之裝置前視示意圖。 如圖所示：該罩體100係開設一觀測窗1〇1，該觀測窗1〇1係開設於該燈箱 103與檢測平台107之間，以方便檢測員於該觀測窗1〇1前檢測該基板2是 7 1327258 參

否產生缺陷，而該觀測窗101中間係設有一支撐柱102支撐該觀測窗， 並將該觀測窗101分為一第一觀測窗1010及一第二觀測窗1〇12,該第一觀 測窗1010及第二觀測窗1012係分別設置一安全拉門ion、1〇13，該些安 全拉門1011、1013係於該巨觀檢測裝置1〇未使用時，可關閉使外界灰塵 及粉塵不容易落於該巨觀檢測裝置1〇内。 請參閱第五圖，係為本發明之另一較佳實施例之裝置剖面示意圖。如 圖所示：本實施例係改善上述實施例之燈箱1〇3内之該些光源組1〇4之該 些才X射光源105技射至該基板2上時，該些光源1〇5產生散射並不會均勻 投射於該基板2上，因此本實施例係於該燈箱1〇3前加設一基座1〇3〇於該 罩體100内，該基座1030係用以架設一遮罩1〇32，而該遮罩1〇32之材質 係為一透光材質，如此使該些光源105投射至該基板2時，透過該遮罩係 可使該些光源105均勻投射於該基板2上。 清參閱第六圖’係為本發明之另一較佳實施例之裝置前視示意圖。如圖 所示：本實施例係改善上述實施例之觀測窗1〇1中間之支撐柱1〇2，該支撐 柱102係使該觀測窗ιοί分為該第一觀測窗1〇1〇及該第二觀測窗1〇丨2，如 此使檢測員視線產i死角不便檢測，因此本實施例係於織測f⑻上方 兩端分別設置-支樓柱102 ’並於該觀測窗⑻加設一安全拉門1(m，如 此不會遮住檢測員檢測視線。 -請參閱第七A圖，係為本發明之—較佳實施例之顯影流穌意圖。如圖 所示：傳統_影過程將已塗佈光阻之基板先進行娜，再送至另外之巨 觀檢測裝置進行制，絲_峰陷之基板，只能雜報廢，並往往已 A浪費大#時間’且祕機台運轉之成本，不符合經濟制，而本發明之 ^心裝置係有峨檢測裝置’並於縣板進棚獅，先利贱巨觀檢測 2檢測已塗佈光阻之絲板，當發現產生缺陷之基板時，就先將該基板 此減知m難程讀光_間之浪f，並且可哺前在顯影前 觀察到基板品質是否異常降低產品報廢率。 本發明之顯影流程係先由執行步驟S2G，利用一載體載運該基板，接著 8 1327258 執^步驟S21，清洗該基板，進入步驟S22，塗佈光阻於經清洗之該基板上， 接著執行步驟S23，曝光已塗佈光阻之該基板，進入步驟S24，利用該巨觀 檢測裝置檢測已曝光之該基板是否產生缺陷，#發現該基板產生缺陷^， 則進入步驟S25，將該基板報廢；另當發現該基板未產生缺陷時，再執行步 驟S26 ’顯影已曝光之該基板，最後執行步驟兑7，將已顯影之該基板進行 光學檢查，再利用該載體將已顯影之該基板運輸出去。

晴參閱第七B圖，絲本發明之另—較佳實細之顯影流程示意圖。 如圖所不：上述實補之已塗佈姐之該基板不曝光直接先經巨觀檢測 後’發現該基板產生缺陷時，係可將該基板回收，重新塗佈光阻，如此不 會浪費_可有麟減本。本發明讀職_先域行麵，利用 i體載運該基板’接著執行步驟S31，清洗該基板，進入步驟诩， ^於經清洗之該基板上，接著進人挪S33，該峨檢·置檢測已 咖佈先阻之該基板技產生缺陷，t發現職板產生缺_，進入步驟 ，回收產生雜之職板，經由清洗並重新_光阻於該基板上。 由上述可知，本發明係提供一種具巨觀檢測之顯影裝置，可於檢測已塗 1 且之基板於曝光前，發現該基板是否產生缺陷，若發現產生缺陷之基 ^ ’即將該基板回收重工’如此減少測試新製程及新光阻時間之浪費，並 提前麵顯觀察板品f是砰常降減品報料 =檢測已塗佈光阻之該基板，發現該基板產生缺陷時，即時停止生產顯 °以有效降低品質不良造成的產品報廢成本。 综上所述，本發明係實為一具有新穎性、進步性及可 彳法所規定之專辦請要件無疑，纽法提綠明=申 °月祈鈞局早日賜准專利，至感為禱。 明實述ϊ ’僅為本發明之—較佳實施例而已，並非用來限定本發 實&之㈣，舉驗本發”料觀_述之雜、構造 神所為之解變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利·…及精 9 1327258 【圖式簡單說明】 第1圖：本發明之裝置示意圖； 第2圖：本發明之一較佳實施例之裝置側面示意圖； 第3圖：本發明之一較佳實施例之燈箱剖面示意圖； 第4圖：本發明之一較佳實施例之裝置前視示意圖； 第5圖：本發明之另一較佳實施例之燈箱剖面示意圖； 第6圖：本發明之另一較佳實施例之裝置前視示意圖； 第7A圖：本發明之一較佳實施例之顯影流程示意圖； 第7B圖：本發明之另一較佳實施例之顯影流程示意圖；及 第8圖：習知之流程示意圖。 【主要元件符號說明】 1 具巨觀檢測之顯影裝置 10 巨觀檢測裝置 100 罩體 101 觀測窗 1010 第一觀測窗 1011 安全拉門 1012 第二觀測窗 1013 安全拉門 102 支撐柱 103 燈箱 1030 基座 1032 遮罩 104 光源組 105 光源 106 活動遮罩 1327258 107 檢測平台 108 支撐座 109 螺桿 12 顯影裝置 2 基板

Claims (1)

1327258 十、申請專利範園： 1. 一種具巨觀檢測之顯影裝置，其係包含·· -巨觀檢測裝置’係檢測已塗佈光阻之—基板是否產生缺陷，該巨觀 檢測裝置係包含-檢測平台及-燈箱，該燈箱係包含至少—光源 組，该光源組係投射光源至放置於該檢測平台上之該基板上，以便 觀測該基板是否產生缺陷，該光源組係包含一活動遮罩，該活動遮 罩係選擇遮蔽該光源組之—光源；及 -顯影裝置，錢麟酿置，料產生編之祕板作顯影。 2. 如申請專利範圍第1項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該基板係為 透明基板。 3. 如申請專利範圍第1項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該巨觀檢測 裝置係更包含： 一支撐座，係支撐該檢測平台，並設有複數個螺桿，該些螺桿係調整 該檢測平台之傾斜角度。 4·如申請專利範圍第1項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該光源組係 包含複數個光源。 5. 如申請專利範圍第4項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該光源係為 一白光源。; 6. 如申請專利範圍第4項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，纟中該光源係為 一鈉光源。 7. 如申明專利範圍第1項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該檢測平台 與該燈箱間係設有-基座，該基座係以架設—解（a)VER)，該遮罩係 使該光源均勻投射於該基板上。 ^ 8·如申請專利範圍帛7項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該遮罩之材 質係為透光材質。 9.如申請專利範圍第3項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該巨觀撿測 12 1327258 裝置係進一步包含： 一罩體，係設置於該支撐座上，並開設至少一觀測窗。 10. 如申請專利範圍第9項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該觀測窗係 開設於該罩體對應該檢測平台及該燈箱之間之位置，以便觀測該基板狀 態。 11. 如申請專利範圍第9項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該觀測窗之 中心係設置一支撐柱，該支撐柱係將該觀測窗劃分為一第一觀測窗及一 第二觀測窗。 12. 如申請專利範圍第11項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該第一觀 測窗及第二觀測窗係分別設置一安全拉門。 13. 如申請專利範圍第9項所述之具巨觀檢測之顯影裝置，其中該觀測窗之 兩側上方角落係分別設置一支撐柱，並於該觀測窗係設置一安全拉門。 13