KR20080063004A - 매크로 검사를 갖는 현상 장치 - Google Patents

매크로 검사를 갖는 현상 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20080063004A
KR20080063004A KR1020070024241A KR20070024241A KR20080063004A KR 20080063004 A KR20080063004 A KR 20080063004A KR 1020070024241 A KR1020070024241 A KR 1020070024241A KR 20070024241 A KR20070024241 A KR 20070024241A KR 20080063004 A KR20080063004 A KR 20080063004A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
developing apparatus
macro inspection
inspection
observation window
Prior art date
Application number
KR1020070024241A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100907150B1 (ko
Inventor
쉥 카이 후앙
슈 양 휴
충 츄 케
지히 싱 양
Original Assignee
우 옵트로닉스 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 우 옵트로닉스 코포레이션 filed Critical 우 옵트로닉스 코포레이션
Publication of KR20080063004A publication Critical patent/KR20080063004A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100907150B1 publication Critical patent/KR100907150B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67288—Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
    • H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은, 매크로 검사 기구(macro inspection device)와 현상 기구(developing device)를 포함하는, 매크로 검사를 갖는 현상 장치에 관한 것이다. 매크로 검사 기구는 현상 기구와 연결되고, 현상 기구의 전방에 위치된다. 매크로 검사 기구는 우선 포토레지스트가 도포된 기판을 검사하는데 사용된다. 검사자는 기판상에 어떠한 결함이 발생하였는가를 관찰한다. 기판상에 결함이 발생하였다면, 기판은 회수되어 폐기되거나, 또는 포토레지스트가 재도포된다. 따라서, 새로운 제조 공정 또는 새로운 포토레지스트의 시험 시간이 절약될 수 있다. 또한, 기판의 품질은 현상 전에 관찰될 수 있다. 따라서, 제품 폐기율이 감소되며, 그 결과 비용이 절감되고 수율이 향상된다.
매크로 검사를 갖는 현상 장치, 매크로 검사 기구, 현상 기구

Description

매크로 검사를 갖는 현상 장치{DEVELOPING APPARATUS WITH MACRO INSPECTION}
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 개략적인 다이어그램.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 장치의 측면도.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 장치의 단면도.
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 장치의 정면도.
도5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 장치의 단면도.
도6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 장치의 정면도.
도7a는 본 발명의 일 실시예에 따른 현상 공정의 플로우챠트.
도7b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 현상 공정의 플로우챠트.
도8은 종래 기술에 따른 플로우챠트.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 매크로 검사를 갖는 현상 장치
2 : 기판
10 : 매크로 검사 기구
12 : 현상 기구(12)
100 : 덮개부 본체
103 : 라이트 박스
107 : 검사 플랫폼
108 : 지지대
1032 : 덮개부
본 발명은 현상 장치에 관한 것이고, 특히 매크로 검사를 갖는 현상 장치에 관한 것이다.
포토레지스트를 기판상에 도포 및 현상하는 종래의 제조 공정이 도8에 도시되어 있다. 우선, 캐리어로 기판을 이송하는 단계(S10)가 실시된다. 이후, 기판을 세정하는 단계(S11)가 실시된다. 다음으로, 세정된 기판상에 포토레지스트를 도포하는 단계(S12)가 실시된다. 그 후, 포토레지스트가 도포된 기판을 노광(expose)시키는 단계(S13)가 실시된다. 그 후, 단계(S14)에서, 상기 노광된 기판을 현상한다. 그 후, 현상된 기판상에서 광학 검사가 실행되는 단계(S15)가 실시된다. 마지막으로, 광학 검사된 기판을 캐리어로 이송하는 단계(S16)가 실시된다. 따라서, 기판이 현상된 후, 현상된 기판에 결함이 있는지를 검사하기 위한 매크로 검사 기구 쪽으로 상기 기판을 이송하기 위해서는 수동 캐리어가 사용될 필요가 있다. 기판에서 결함이 발견되면, 기판은 회수되어 폐기되어야 한다. 따라서, 공정 시간 중 상당 시간이 이미 소모되어 버리게 되었다. 그 외에도, 재료비 및 기계의 작동 비용이 마찬가지로 이미 낭비되어 버리게 되었다.
전술한 매크로 검사 기구가 일본 특허 공개 제2003337106호에 개시되어 있다. 이러한 매크로 검사 기구에는 제1 프로젝션 광원(L1)을 보호하는 제1 후드(hood)와, 제2 프로젝션 광원(L2)을 보호하는 제2 후드가 제공되며, 제1 및 제2 프로젝션 광원이 평행광(parallel light)이 되도록 하는 제1 프레넬 렌즈(first Fresnel lens) 및 제2 프레넬 렌즈가 포함된다. 매크로 검사 기구는 물체가 놓일 수 있고 경사각이 조절될 수 있는 플랫폼을 지지하도록 사용되는 장착/지지 부재(mounting-and-supporting member)를 더 구비한다. 또한, 물체가 놓일 수 있는 플랫폼이 자유롭게 신장 및 수축할 수 있도록 신장 및 수축가능한 지지 부재가 제공된다. 또한, 장착/지지 부재 및 지지 부재를 조종하여, 플랫폼의 경사각을 제어하는 제어기가 포함된다.
전술된 종래기술은 결함을 갖는 기판을 걸러낼 수 있지만; 전체 제조 공정이 모두 실시되어야만 하고, 그 후에 결함이 검사될 수 있다. 따라서, 공정 시간이 낭비되었으며, 기계의 작동 비용이 증가되었다.
본 발명의 목적은, 현상 전에 포토레지스트가 도포된 기판을 검사할 수 있고, 기판이 결함을 갖는지 유무를 실시간으로 검사할 수 있는, 매크로 검사를 갖는 현상 장치를 제공하는 것이다. 그에 따라, 공정 시간이 절약될 수 있으며, 기판의 불량이 초기 단계에서 발견될 수 있다. 결과적으로, 비용이 절감될 수 있고, 생산 수율(production yield)이 향상될 수 있다.
본 발명의 다른 목적은, 포토레지스트가 도포된 기판을 검사를 실시하기 위해 노동력 없이 다른 매크로 검사 기구 쪽으로 이송할 수 있는, 매크로 검사를 갖는 현상 장치를 제공하는 것이다. 그에 따라, 시간이 절약되고 생산 수율이 향상된다.
전술된 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 매크로 검사를 갖는 현상 장치를 제공한다. 현상 장치는 매크로 검사 기구와 현상 기구를 구비한다. 매크로 검사 기구는 현상 전에 포토레지스트가 도포된 기판에 결함이 발생하였는지 아닌지 상기 기판을 검사한다. 결함이 발견되면, 기판은 회수되어 폐기된다. 대안으로, 매크로 검사 기구는 현상 전에 포토레지스트가 도포된 기판에 결함이 발생하였는지 아닌지 상기 기판을 검사한다. 결함이 발견되면, 기판은 회수되고 포토레지스트가 재도포된다.
매크로 검사 기구는 라이트 박스와 검사 플랫폼을 포함한다. 라이트 박스는 복수의 광원을 갖는 하나 이상의 광원 세트를 포함한다. 광원은 백색 광원과 나트륨 광원(sodium light source)일 수 있다. 광원 세트의 전방에는 이동가능한 후드가 설치된다. 이동가능한 후드는 광원 세트의 광원을 선택적으로 보호할 수 있다. 광원 세트는 검사 플랫폼상에 놓인 기판에 광을 투사한다.
검사 플랫폼은 하나 이상의 나사식 샤프트를 갖는 지지대에 또한 연결된다. 검사 플랫폼의 경사각은 나사식 샤프트를 조정함으로써 조절될 수 있다. 또한, 덮개부 본체는 지지대에 설치된다. 덮개부 본체는 그의 내측에서 검사 플랫폼을 덮도록 사용된다. 덮개부 본체의 상부에는, 라이트 박스가 설치된다. 또한, 관찰창 이 덮개부 본체에 설치되고, 라이트 박스와 검사 플랫폼 사이에 설치되며, 그에 따라 검사자는 기판이 결함을 갖는지의 유무를 관찰할 수 있다.
본 발명의 효과뿐만 아니라 구조 및 특징을 보다 이해하고 인식할 수 있도록 하기 위해, 바람직한 실시예 및 첨부도면과 함께 본 발명의 상세한 설명이 하기에 설명된다.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 개략적인 다이어그램을 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명은 매크로 검사 기구(10)와 현상 기구(12)를 포함하는 매크로 검사를 갖는 현상 장치(1)를 제공한다. 매크로 검사 기구(10)는 현상 기구(12)에 연결되고; 결함[예를 들어, 포토레지스트가 도포된 기판상의 포토레지스트 비균일성(photoresist non-uniformity) 또는 복수의 무라(mura) 결함]이 기판상에 발생하였는지를 검사하기 위해서 포토레지스트가 도포된 투명 기판을 검사한다. 기판상에서 결함이 발견되면, 기판은 폐기된다. 따라서, 새로운 공정 및 새로운 포토레지스트를 검사하는 시간이 절약될 수 있고, 현상 전에 기판의 품질이 관찰될 수 있다. 대안으로, 포토레지스트가 도포된 기판은 노광되는게 아니라 매크로 검사 기구(10)를 이용해 바로 검사된다. 기판상에서 결함이 발견되면, 기판은 회수되고 포토레지스트가 재도포된다. 따라서, 공정 시간이 낭비되지 않을 수 있고, 생산 비용이 절감될 수 있으며, 생산 수율이 향상될 수 있다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 장치의 측면도를 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 매크로 검사 기구(10)는 덮개부 본체(100)와, 라이트 박스(light box; 103)와, 검사 플랫폼(107)과, 지지대(108)를 포함한다. 지지대(108)는 검사 플랫폼(107)을 지지하며, 복수의 나사식 샤프트(109)가 설치되어 있다. 검사 플랫폼(107)의 경사각은 복수의 나사식 샤프트(109)를 조종함으로써 조절된다. 덮개부 본체(100)의 내부 상측에, 라이트 박스(103)가 설치된다. 덮개부 본체(100)는, 검사 플랫폼(107)이 덮개부 본체(100) 내에 위치하도록, 지지대(108)상에 덮인다. 기판(2)은 검사 플랫폼(107)상에 위치되고, 기판(2)상에 결함이 발생했는지를 검사하기 위해 라이트 박스(103)로부터 광(light)이 투사된다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 장치의 단면도를 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 라이트 박스(103)는 하나 이상의 광원 세트(104)를 구비한다. 본 실시예에 있어서, 라이트 박스(103)는 6세트의 광원 세트(104)를 구비하고, 각각의 광원 세트는 복수의 광원(105)을 갖는다. 본 실시예에 있어서, 각각의 광원 세트(104)는 2개의 광원(105)을 갖는다. 광원(105) 중 하나는 백색 광원이고, 나머지 광원(105)은 나트륨 광원이다. 각각의 광원 세트(104)의 전방에는, 광원(105) 중 하나를 보호하기 위해 이동가능한 후드(106)가 설치된다. 검사자는 나머지 광원(105)을 보호하기 위해 상기 이동가능한 후드(106)를 조정할 수 있다. 결함이 발생하였는지를 관찰하기 위해, 라이트 박스(103) 내의 복수의 광원 세트(104)는 기판(2)이 놓인 검사 플랫폼(107) 쪽으로 광을 투사한다.
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 장치의 정면도를 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 관찰창(101)이 덮개부 본체(100)에 설치된다. 검사자가 관찰창(101)을 통해서 기판(2)을 용이하게 관찰할 수 있도록, 관찰창(101)은 라이트 박 스(103)와 검사 플랫폼(107) 사이에 설치된다. 관찰창(101)의 중앙에는, 관찰창(101)을 지지하고, 관찰창(101)을 제1 관찰창(1010)과 제2 관찰창(1012)으로 분할하도록 지지 기둥(102)이 설치된다. 안전 미닫이문(safety sliding door; 1011, 1013)이 제1 및 제2 관찰창(1010, 1012)에 각각 설치된다. 매크로 검사 기구(10)가 사용중이지 않을 때에는 안전 미닫이문(1011, 1013)은 닫혀있으며, 따라서 외부 먼지가 매크로 검사 기구 내로 용이하게 침입할 수 없다.
도5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 장치의 단면도를 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예는, 라이트 박스(103)내 복수의 광원 세트(104)의 복수의 광원(105)이 기판(2)을 향해 광을 투사하는 경우, 복수의 광원(105)의 산란에 의해 기판(2) 표면에서의 광의 불균일성을 개선할 수 있다. 따라서, 본 실시예에 있어서, 덮개부 본체(100) 내측의 라이트 박스(103) 아래에 기부(1030)가 설치된다. 기부(1030)는 덮개부(1032)를 지지하기 위해 사용된다. 덮개부(1032)의 재료는 투명한 재료이다. 따라서, 복수의 광원(105)의 광이 기판(2)상으로 투사될 때, 덮개부(1032)는 투사광을 기판(2) 표면상에서 균일화시킬 수 있다.
도6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 장치의 정면도를 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예는 전술한 실시예에서 관찰창(101)의 중앙에서 관찰창(101)을 제1 및 제2 관찰창(1010, 1012)으로 분할하는 지지 기둥(102)을 개선한다. 분할된 관찰창(101)은 시야에 있어서 데드 스페이스(dead spaces)를 발생시켜, 관찰시 불편함을 초래한다. 따라서, 본 실시예에 있어서, 지지 기둥은 관찰창(101)의 상부 양측에 각각 설치되고, 안전 미닫이문(1011)도 마찬가지로 설치된 다. 그 결과, 관찰자의 시선은 방해받지 않는다.
도7a는 본 발명의 일 실시예에 따른 현상 공정의 플로우챠트를 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 종래의 현상 공정에 있어서는, 포토레지스트가 도포된 기판이 우선 현상되고, 그 후 검사를 위해 매크로 검사 기구로 이송된다. 일반적으로 결함을 갖는 기판은 회수되어 폐기될 수 있고, 기계 작동 중 상당한 시간 및 많은 비용은 이미 낭비되게 되었으며, 이는 경제적이지 않다. 그에 반해, 본 발명에 따른 현상 장치는 매크로스코픽 기구(macroscopic device)를 갖는다. 기판을 현상하기 전에, 매크로 검사 기구를 이용해 기판이 검사된다. 기판상에 결함이 발견되면, 기판은 폐기된다. 따라서, 새로운 제조 공정 및 새로운 포토레지스트를 시험하는 시간이 절약될 수 있다. 또한, 현상 전에 기판의 품질이 불량인가를 관찰함으로써 제품 폐기율이 감소될 수 있다.
본 발명에 따른 현상 공정은 우선 캐리어로 기판을 이송하는 단계(S20)를 실시한다. 그 후, 기판을 세정하는 단계(S21)가 실시된다. 다음으로, 세정된 기판상에 포토레지스트를 도포하는 단계(S22)가 실시된다. 그 후, 포토레지스트가 도포된 기판을 노광시키는 단계(S23)가 실시된다. 그 후, 매크로 검사 기구를 이용해 결함이 발생하였는가를 관찰하기 위해서 상기 노광된 기판을 검사하는 단계(S24)가 실시된다. 결함이 발생하였다면, 기판을 폐기하는 단계(S25)가 실시된다. 그렇지 않으면, 노광된 기판을 현상하는 단계(S26)가 실시된다. 마지막으로, 현상된 기판상에서 광학적 검사를 실행하고, 그 후 현상된 기판을 캐리어로 이송하는 단계(S27)가 실시된다.
도7b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 현상 공정의 플로우챠트를 도시한다. 도면에 도시된 바와 같이, 위의 실시예에 있어서는 포토레지스트가 도포된 기판은 노광되지 않고 바로 매크로 검사가 실시된다. 기판상에서 결함이 발견되면, 기판은 회수되고 포토레지스트가 재도포된다. 따라서, 시간이 낭비되지 않을 수 있고, 비용이 효과적으로 절감될 수 있다. 본 발명에 따른 현상 공정은 우선 캐리어로 기판을 이송하는 단계(S30)가 실시된다. 그 후, 기판을 세정하는 단계(S31)가 실행된다. 다음으로, 세정된 기판상에 포토레지스트를 도포하는 단계(S32)가 실시된다. 그 후, 매크로 검사 기구를 이용해 결함이 발생했는지를 관찰하기 위해서 포토레지스트가 도포된 기판을 검사하는 단계(S33)가 실행된다. 결함이 발생하였다면, 기판을 회수하는 단계(S34)가 실행된다. 그 후, 기판은 세정되고 포토레지스트가 재도포된다.
전술한 설명으로부터, 본 발명은, 포토레지스트가 도포된 기판이 현상되기 전에 상기 기판이 결함을 갖는지를 발견할 수 있는, 매크로 검사를 갖는 현상 장치를 제공함을 알 수 있다. 기판상에서 결함이 발견되면, 기판은 회수되고 재가공된다. 따라서, 새로운 제조 공정 및 새로운 포토레지스트의 시험 시간이 절약될 수 있다. 또한, 현상 전에 기판의 품질이 불량인가를 관찰함으로써 제품 폐기율을 감소시킬 수 있다. 대안으로, 현상 전에 포토레지스트가 도포된 기판을 검사해 결함이 발견되는 경우, 생산이 일시 중지될 수 있다. 결과적으로, 폐기되는 불량 제품으로 인한 비용이 효과적으로 낮춰질 수 있다.
따라서, 본 발명은 신규성, 비용이성 및 실용성에 기인한 법적 요건을 갖춘 다. 그러나, 전술한 설명은 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐이지, 본 발명의 범위 및 영역을 한정하지는 않는다. 본 발명의 청구항에 기술된 형상, 구조, 특징 또는 사상에 기초해 이루어진 등가의 수정 또는 변형은 본 발명의 첨부된 특허청구범위 내에 포함된다.
본 발명에 의하면, 공정 시간이 절약될 수 있고, 기판의 불량이 초기 단계에서 발견될 수 있으며, 그 결과 비용이 절감될 수 있고, 생산 수율이 향상될 수 있다.

Claims (15)

  1. 매크로 검사를 갖는 현상 장치이며,
    포토레지스트를 도포한 후 기판상의 결함을 검사하는 매크로 검사 기구와,
    매크로스코픽 기구에 연결되고, 결함이 없는 기판을 현상하는 현상 기구를 포함하는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판은 투명한 기판인 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 매크로 검사 기구는,
    검사 플랫폼과,
    라이트 박스를 포함하며,
    상기 라이트 박스는 기판상에 어떠한 결함이 발생하였는가를 결정하기 위해 상기 검사 플랫폼상에 놓인 기판에 광을 투사하는 하나 이상의 광원 세트를 포함하는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 매크로 검사 기구는 상기 검사 플랫폼을 지지하고 복수의 나사식 샤프트가 설치된 지지대를 더 포함하고, 상기 지지대는 상기 검사 플랫폼의 경사각을 조절할 수 있는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 광원 세트는 복수의 광원을 포함하는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 광원은 백색 광원인 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 광원은 나트륨 광원(sodium light source)인 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  8. 제3항에 있어서, 상기 광원 세트는 상기 광원 세트의 광원을 선택적으로 보호하는 이동가능한 후드를 포함하는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  9. 제3항에 있어서, 기부가 상기 검사 플랫폼과 상기 라이트 박스 사이에 설치되고, 상기 기부는 덮개부를 지지하도록 사용되며, 상기 덮개부는 상기 기판상으로 투사되는 광이 균일해지도록 하는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 덮개부의 재료는 투명한 재료인 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  11. 제4항에 있어서, 상기 매크로 검사 기구는 상기 지지대에 설치되고 하나 이상의 관찰창이 설치된 덮개부 본체를 더 포함하는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 관찰창은 상기 기판의 상태를 용이하게 관찰하기 위해 상기 검사 플랫폼과 상기 라이트 박스 사이에 설치되는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  13. 제11항에 있어서, 지지 기둥이 상기 관찰창의 중앙에 설치되며, 상기 지지 기둥은 상기 관찰창을 제1 관찰창과 제2 관찰창으로 분할하도록 사용되는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제1 관찰창과 상기 제2 관찰창에는 안전 미닫이문(safety sliding door)이 각각 설치되는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
  15. 제11항에 있어서, 지지 기둥이 상기 관찰창의 상부 양측에 각각 설치되고, 안전 미닫이문이 상기 관찰창에 설치되는 매크로 검사를 갖는 현상 장치.
KR1020070024241A 2006-12-29 2007-03-13 매크로 검사를 갖는 현상 장치 KR100907150B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW095149973 2006-12-29
TW095149973A TWI327258B (en) 2006-12-29 2006-12-29 Developing apparatus with macroscopic inspection

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080063004A true KR20080063004A (ko) 2008-07-03
KR100907150B1 KR100907150B1 (ko) 2009-07-09

Family

ID=39815058

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070024241A KR100907150B1 (ko) 2006-12-29 2007-03-13 매크로 검사를 갖는 현상 장치

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR100907150B1 (ko)
TW (1) TWI327258B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109061919A (zh) * 2018-10-15 2018-12-21 苏州精濑光电有限公司 一种宏观检查机

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106773170A (zh) * 2016-12-29 2017-05-31 惠科股份有限公司 彩色滤光片巨观检查机设备

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6402401B1 (en) * 1999-10-19 2002-06-11 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and substrate processing method
TW516083B (en) * 2000-09-18 2003-01-01 Olympus Optical Co Optical sensor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109061919A (zh) * 2018-10-15 2018-12-21 苏州精濑光电有限公司 一种宏观检查机
CN109061919B (zh) * 2018-10-15 2024-04-16 苏州精濑光电有限公司 一种宏观检查机

Also Published As

Publication number Publication date
TWI327258B (en) 2010-07-11
KR100907150B1 (ko) 2009-07-09
TW200827943A (en) 2008-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20120077290A (ko) 어레이 테스트 장치
KR100907150B1 (ko) 매크로 검사를 갖는 현상 장치
WO2017049883A1 (zh) 一种掩膜版、曝光装置及曝光方法
KR101275731B1 (ko) 글래스 기판용 외관 검사 장치
US20050226492A1 (en) Acceptable defect positioning and manufacturing method for large-scaled photomask blanks
KR20110032016A (ko) 디스플레이 패널 검사장치의 워크테이블
JP5470456B2 (ja) 点灯検査装置
KR20070006480A (ko) 실 라인 검사 장치 및 이를 이용한 실 라인 검사 방법
KR20100107175A (ko) 액정 패널의 오토 프로브 검사장치 및 검사방법
KR20050070781A (ko) 액정표시장치용 기판 검사장치 및 검사방법
KR20130028591A (ko) 액정표시소자의 리페어장치 및 리페어검사장치
KR20080061739A (ko) 액정 표시패널의 검사 방법
KR20090006456A (ko) 액정패널 검사장치 및 검사방법
KR20080060027A (ko) 액정 표시장치용 검사 장치
KR200461687Y1 (ko) 다단의 기판 투입 게이트를 가지는 기판 품질 검사장치
KR20130033164A (ko) 그루브 휠을 이용한 이형 패널 연마 방법 및 장치
TWM545903U (zh) 配向膜印刷版的顯微檢測系統及其裝置
KR100989216B1 (ko) 액정표시장치 공정 장비의 척 구조
JP2010230338A (ja) 液晶パネル点灯検査装置
KR20060108187A (ko) 평판 디스플레이의 검사장치
JP2012118319A (ja) カラーフィルタ用ガラス基板の再生装置及び方法
KR101371999B1 (ko) 기판 외관 검사 장치
JP2008261995A (ja) 欠陥修正方法および欠陥修正装置
JP2007033976A (ja) 液晶表示装置の製造方法
TWI220454B (en) Method for inspecting alignment layer and equipment thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130618

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140630

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150618

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160617

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170616

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180618

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190618

Year of fee payment: 11