TWI326675B - - Google Patents

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1326675 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明為有關一種高速離心式臭氧水產生方法與系統，乃 係涉及包括半導體晶圓或光電材料與TFT顯示裝置之臭氧清洗 5 的技術領域、殺菌清潔或污水之高級氧化處理等應用之臭氧水 產生方法與系統領域，特別是指一種利用氣相臭氧與水溶劑在 一高速離心力場裝置中，產生高度質傳之氣、液相溶解形成清 洗溶液之臭氧水溶液，以快速產生穩定之高濃度臭氧水。 10【先前技術】 按，臭氧常應用於快速氧化以及分解化學物質，主要源於 其分子之不穩定特性及強氧化性。而臭氧對於人們日常生活來 說確實具有相當大的益處。其中之臭氧水，係為一種殺菌效率 較高的滅菌消毒劑，其能分解醫藥，具有除臭、除異味、除氣 15 和淨化水等諸多功能。已知機械式臭氧水之產生方法，與使用 化學性處理方法之氣消毒等處理方法相比較時，並不需具有使 殘留物質蒸發之待機時間，故對於水中不易分解之物質與重金 屬之氧化處理等而言；將可得到更優良之效果。大部份的臭氧水 產生裝置乃是利用水電解或氧氣電離生成臭氧，再經過臭氧水 20 混合裝置以便將臭氧混入水中，以取得臭氧水，因此臭氧水混 合裝置對臭氧水製造是一個相當重要的組件。 此外，目前臭氧水用於半導體矽基板，液晶玻璃基板，光 屏蔽用石英基板等的光電子材料表面消除異物，在確保產品的 品質和成品上極重要，為此目的被廣泛實施濕式洗滌。對於有 25 機物污染或金屬污染的消除，適用具有強氧化力的洗滌液有 效，以往，被採用以硫酸或雙氧水的混合液（SPM洗滌液），或 4 鹽酸和二氧化氫和超純水的混合液（SC2洗滌液）等的高溫洗 務。近年，逐漸要求洗滌過程的簡化，省資源化，室溫化。臭 氧溶解在水中可發揮極強氧化力 ，有效地消除電子材料表面的 有機污染或金屬污染，遂逐漸被用於濕式洗滌。 目前已知之臭氧製造方式，包括光化學法，此項技術多使 用於製造少量臭氧的應用。放電法，是一種類似自然界電擊現 象’因此對於空氣之濕度要求很高。以及所謂的電漿法，利用 含鈍氣之玻璃真空管，在高能量下產生電子衝擊而製造臭氧。 至於前述方式所製成的臭氧之用於殺菌及污水處理所能提供之 臭氧溶解量必須充足，方能應付較高之污染濃度及徹底殺菌。 而在晶圓或光電基材的清洗上，是必需將氣相臭氧溶解於純水 中形成潔淨溶液來進行清洗作業，且是不同於傳統工業所需的 低濃度臭氧（lppm以内至數個ppm)運用，半導體及光電清洗 製程需要長時間穩定供應的中高濃度臭氧水(數十ppm範圍）， 因此，氣相臭氧之水溶解度，對於製造含臭氧之超潔淨清洗溶 液是一環重要的瓶頸。且氣相臭氧之溶解度低，對環境變因極 敏感；而具體影響氣相臭氧水溶解度之主要因素，包括氣相臭 氧的濃度、溶液溫度及酸鹼度等。 現行之臭氧水溶解技術皆試圖單純以控制物理條件，使趨 近熱力學飽和濃度以提高臭氧溶解效率，由相關技術資料及專 利發表結果，在臭氧水產生系統方面，有US597n68 (臭氧 水產生系統設計，以pressurized vessel提高 刪7謂（臭氧水產生系統設計，以pipelinH= 行03溶解）。但料臭氧溶解之質傳行驗進，#遍均有設 計上之限制，亦即，無法快速達到熱力學上之平衡溶解濃度。 分析前述這些臭氧水溶解裝置相關研究的專利前案内容， 1326675 多以改良臭氧水氣液接觸系統及操作系統溫壓操作範圍控制， 達到提高臭氧水濃度及增進反應速率目的；但是在實際應用上 之效率仍未盡理想，緣因單以改變物理條件以趨近熱力學的臭 氧飽和濃度對增進臭氧水濃度的改進有限，且屆至目前為止， 5 對於臭氧水供應裝置研發也多集中於低濃度（數個ppm)或低 流量（數公升/小時）的應用，這是現階段臭氧水製造技術發展遭 遇的最大技術瓶頸，也是造成至今無法在工業製程與日常使用 上普及應用的原因之一。 另一重要的原因在於前述這些專利前案内容，應用於晶圓 10 清洗過程或污水與殺菌處理程序中，完全無法掌握臭氧濃度分 佈狀況或能自動進行調整；按，以往臭氧程序用在半導體製程 之晶圓清洗，主要藉由高濃度氣相臭氧，以分散攪拌或曝氣裝 置將臭氧氣體分散成細小氣泡，以增加氣液接觸表面積，進而 提高質傳效果，但氣泡仍受重力與浮力的限制，無法有效提供 15 快速之質傳效果與純水相溶解，形成高濃度液相臭氧水。當晶 圓浸入清洗槽時，會快速消耗清洗溶液中的臭氧，且在無法掌 握清洗槽體内臭氧濃度分佈狀況或能自動進行調整之狀況下， 往往導致反應過程中後期之溶液中臭氧濃度不足，無法有效將 晶圓表面之有機物（如光阻）或其他氧化層移除，必須延長晶圓 20的清洗時間，進而導致產量無法提升。更無法進行連續式之大 量清洗製程作業。雖目前已有部分改良程序，藉由照射UV光 加速臭氧的氧化能力，但其促進的程度仍主要取決於水溶液中 的臭氧濃度，並不僅只在這UV光之照射所能具體之提昇氧化 之能力；在目前已知的氣相臭氧與純水溶解技術上，仍無法獲 25 得有效的突破。另，有關殺菌及污水處理部分，因大量有機污 染物或微生物之存在於欲處理之水體中，往往快速消耗所產生 6 之臭氧水，導致液相臭氧》農度降低，進而降低處理效能，並導 致有害物質殘留或病g之滋生。該現象實為現存臭氧 使用上之一大瓶頸。 【發明内容】 本發明的主要目的之-，在提供—種高速離心式臭氧水 虞生方法，該紐主要在具有高速離心、力之—系統運作環 境中，進行高度質傳之氣相臭氧、液相水溶液溶解，以 生穩定之高濃度臭氧水。 ' 本發明的主要目的之-，在提供—種高速離心式臭氧水產生 系統，主要在則-可由動力單元驅動旋轉，產生高速離心力 場環境，形成-可將液相水溶液切碎成小液滴或霧狀 而與相對方向傳送之氣相臭氧，進行完全之溶解、_混合進 旅快速地溶解氣相臭氧之-質傳機制，獲得高濃度液相臭氧水 為違到上述目的，根據本發日㈣高速離以臭氧水產生 法，係在-由臭氧水產生機構、動力構件、水溶液 臭氧產生器、排放水控制器及—感測，、心早兀 欽釗饋控早組成的高速離, 式臭氧水產生系統中進行，該方法步驟包含： 啟動液相水溶液供應至離心式臭氧水產生機構· 啟動氣相臭氧供應至離心以氧水產生機構.’ 由動力構件_細式料水產生機構產生㈣高速離 力場環境， 在上述高速細力場環境中，崎軸水溶液 之相溶，反應，並_域測饋控單元進行純濃度監測與 控注入重， 、 排放完成高濃度錢水轉放水㈣㈣，並進行臭氧尾氣之 離心上:高速離心式臭氧水產生方法之高速 片 王糸统，該系統至少包含： 臭氧水產生機構，含有—主體外殼為反應槽，利用 在主體外殼内之離心今 > 氣相臭氧騎轉=父錄£ ’將注人的㈣水溶液與 動力構件’含有-動力構件驅動上述離心、式氣液交 置旋轉產生高速離心力場； 、t 10

一水溶液供鱗元’ _管料接上錢液交換裝 置提供水溶液； 一臭氧產生器，產生並供應上述離心式氣液交換裝置溶解 反應所需之氣相臭氧； 一排放水控制器，裝在上述主體外殼，控制產生之臭氧水 15排放輸出與反應後臭氧尾氣之排放；

一感測饋控單元，監測上述離心式氣液交換裝置溶解反應 之臭氧濃度，並自動饋控臭氧濃度調整。 本發明一較佳實施例中，前述之離心式氣液交換裝置是採 用一種高速離心旋轉式填充基材，利用此高效率之離心氣液交 20換裝置，由高離心力技術運作以強化氣相臭氧與進料水溶液之 質傳接觸與溶解效果，形成高液相溶解之高濃度臭氧水作為清 洗或殺菌及分解之應用。並可利用該裝置之離心力場調整，控 制臭氧與水溶劑間之強制溶解度，來維持所產生臭氧水溶液之 濃度或適用不同之清洗、殺菌或分解標的物使用。 25 本發明一較佳實施例中，該動力構件更包括一轉速控制 器’以控制驅動離心式氣液交換裝置轉速而為離心力場調整。 8 1326675 本發明一較佳實施例中，該系統更包括一過濾裝置，以過 濾排放水再注入離心式氣液交換裝置使用。 請參閱以下有關本發明一較佳實施例之詳細說明及其附 圖，將可進一步瞭解本發明之技術内容及其目的功效；有關該 5 實施例之附圖。 【實施方式】 本創作之較佳實施例，將前述目的之高速離心式臭氧水 產生方法與系統的主要技術内容，適當揭示於以下所列舉的 10 —較佳實施例中，並利用該較佳實施例裝置，將本創作之 主要技術内容予以適當實施。 第1〜4圖揭示本發明一較佳實施例高效能臭氧水產生系統 的架構方塊圖與系統具體結構圖。本案較佳實施例的高效能臭 氧水產生系統，該系統架構主要係由臭氧水產生機構1，提供 15 氣相臭氧與水溶液的溶解形成高濃度臭氧水的產生環境、動力 構件2，驅動前述臭氧水產生機構1產生高速離心力場、供應 水溶液材料之水溶液供應單元3、供應氣相臭氧材料之臭氧產 生器4、排放水控制器5，用以控制產生之臭氧水排放輸出、 一感測饋控單元6，隨時感測氣相臭氧濃度並自動饋控調整、 20 及一過滤裝置7，以過遽排放水再注入離心式氣液交換裝置使 用而組成，如第1、2圖所示。 上述所提之臭氧水產生機構1，主要在提供氣相臭氧與水 溶液的溶解形成高濃度臭氧水的反應槽，内部設置一高速旋轉 之離心式裝置，具有在該反應槽的氣密空間内中，產生一高速 25 旋轉下之離心式環境，形成一可將進料水切碎成小液滴或霧狀 條件離心向外甩出，進而與相對方向向離心式裝置傳送之氣相ΐ S] 9 1326675 臭氧，進行完全之溶解、授拌混合，並快速地溶解氣相臭氧之 一質傳機制，獲得高濃度液相臭氧水溶液。 前述該臭氧水產生機構1，在本發明一具體實施例組成結 構中，如第2〜4圖所示，具有一主體外殼11，形成為氣液相 5 溶解混合反應之反應槽，並暫時蒐集與儲放臭氧水與流出之裝 置，較佳係採用耐腐蝕材料製成之中空筒形結構體；一離心式 氣液交換裝置12，利用氣密單元18、19組裝在前述主體外殼 11内，並在一端設有進水口 13與排放臭氧尾氣之排氣口 14 ; 一噴灑器15，設置於前述離心式氣液交換裝置12之中央部， 10 含有一管體151與進水口 13相連結，並由管體151設置之多 數噴嘴152，作為用水的導入並於前述離心式氣液交換裝置12 内形成喷灑運作，如第3、4圖所示；至少一臭氧分散供應器 16，排列設置在主體外殼11内側壁面，含有一氣管161經進 氣口 160連接上述臭氧產生器4,以取得氣相臭氧氣並由氣管 15 161上的多數喷頭162，用以將高濃度氣相臭氧，均勻分散於 主體外殼11内，以提高離心式氣液交換裝置12在運轉時的臭 氧交換效率，如第2圖所示；一臭氧水出水口 17，用以收集經 由離心力甩出離心式氣液交換裝置12，含高濃度臭氧之水溶 液；此外，該臭氧水產生機構1之各進水口、出水口、進氣 20 口、排氣口，與其他需阻隔水、氣進出之管路或相關之細部氣 密性構造等，及一氣體壓力旁路，或透過管路連結一氣相臭氣 分析單元，在本專利裝置運作中隨時偵測分析所導入之臭氧氣 濃度參數等相關設施及配合儀器，因均直接採用常用之氣密構 件配置與商業級設備與零組件，故均予省略未示。 25 前述該離心式氣液交換裝置12，在本發明一具體實施例結 構中，如第3、4圖所示，具有一中空的圓桶環狀旋轉主體 10 1326675 121成型，該旋轉主體121，較佳係由多孔性惰性基材，如多 孔性金屬或非金屬材料成型之結構支撐内、外壁面122、123 圍構組成，以提供氣相臭氧相對方向進入離心式氣液交換裝置 12，以及所反應產生之臭氧水排出；在旋轉主體121内、外壁 5 面122、123間，則設置有氣液質傳交換介質124，該氣液質 傳交換介質124係為一多孔性惰性基材，如塑膠球、不鏽鋼金 屬網、玻璃球、陶瓷填充物、金屬氧化物錠材或其他可分散水 溶液與氣體之材料結構。 前述主體外殼11内，更包括設置一重力式傾斜流動擋板 10 11 〇，並呈相對臭氧水出水口 17方向傾斜成型，以便將由離心 式氣液交換裝置12離心甩出的臭氧水，集中導向臭氧水出水 口 17排出。 前述該氣密單元18、19，在本發明一具體實施例結構 中，係為一氣密軸封，在氣密軸封内則設置有培林，以相對離 15 心式氣液交換裝置12上、下端組裝，而具有支撐與氣密功 能，用以在臭氧水產生過程中隨時保持離心式氣液交換裝置12 之密閉，減少臭氧氣體逸散而降低質傳效率。 上述所提之動力構件2，係為一驅動馬達配置，可直接由 其轉軸21，如第2圖所示，或利用皮帶等間接傳動元件連結上 20 述離心式氣液交換裝置12，提供臭氧溶解過程中之離心式氣液 交換裝置12離心力動力；前述該動力構件2進一步包括一轉 速控制器22連結，接受感測饋控單元6之轉速控制信號，輸 出轉速調變控制信號驅動動力構件2改變轉速，如此，即可藉 由對動力構件的轉速調變控制，用以相對控制前述離心式氣液 25 交換裝置12的轉速與離心力場調整。 上述所提之水溶液供應單元3，透過管路連接上述離心式[S] 11 1326675 氣液交換裝置1之進水口 13，以提供產生臭氧水之液相水溶 液；前述該液相水溶液包括一般水質與R0過濾水及超純水之 其一。 上述所提之臭氧產生器4，一端連接氧氣進料口 41，以擷 5取氧氣進行臭氧的生成，另端連接上述離心式氣液交換裝置1 之進氣口 160，提供離心式氣液交換裝置1溶解反應產生臭氧 水之臭氧。 上述所提之感測饋控單元6，如第5圖所示’含有一氣相 臭氧濃度感測器61，如氣相臭氣分析儀，用以隨時監測氣相臭 1〇 氧的供應量；一臭氧水濃度感測器62，如液相臭氣分析儀，用 以隨時監測反應產生之液相臭氧濃度；以及一饋控單元63，根 據前述氣相臭氧濃度感測器61與臭氧水濃度感測器62之感測 結果，經與設定值比對判斷，進而控制臭氧產生器4與水溶液 供應單元3之供應量。 15 根據上述本發明前述一較佳實施例的高效能臭氧水產生系 統’在利用該系統產生高效能臭氧水產生方法，請參閱第6圖 之本發明之一較佳實施例的高效能臭氧水產生方法的運作流程 圖，配合第1圖之系統架構進行說明。 啟動臭氧水產生機構丨進水口 13連結之水溶液供應單元 2〇 3，以導入水溶液，如流程9〇〇，同時啟動臭氧水產生機構i 進氣口 160連結之氣相臭氧產生器4，以導入氣相臭氧如流 程902，使水溶液與氣相臭氧同時導入離心式氣液交換裝置 12，如流程9〇4 ’藉由離心式氣液交換裝置12内喷灑器15多 數噴嘴152向旋轉主|| 121嗔麗，透過旋轉主體121在動力構 25件2之驅動南速旋轉產生離心力場該離心力場不僅將水溶液 切碎成小液滴或霧狀條件，並利用離心力使其從多孔性内、外 12 1326675

壁122、123及氣液質傳交換介質124向臭氧水產生機構丄 主體外殼11甩出，另該由進氣口 160導入的氣相臭氧，p之 氧分散供應器16之多數喷嘴⑹均勻導人，並相對方向= 向離心式氣液交換裝置12内，如此，即可在該主體外殼丨丨适 反應槽中’配合離^式氣液交換裝置12之高速離心力旋= 作，進行氣液溶解反應，如流程9〇6，該高速離心力旋運 作，將增加氣、液接_停㈣間，並改變氣、液界面的^ 重力環境，同時透過離心式氣液交換裝置12大 八里靖加氣、液 ίο 15 接觸之質傳面積，可有效提升臭氧在水溶液中的溶解度，並降 低質傳臭氧至平衡液相臭氧濃度所需之時間；前述經離心式氣 液交換裝置12所產生之高濃度臭氧水溶液，將透過排放水控 制器5之控制，由臭氧水出水口 17連結管路輸送，如流程 908 ;至於供應至主體外殼11反應殘餘之氣相臭氧，則會從排 氣口 14排放，如流程910 ;另該經排放水控制的液體，可進 一步經本發明系統之過濾裝置7過濾後，饋送入臭氧水產生機 構1之離心式氣液交換裝置12再使用，如流程912。

在上述臭氧水產生機構1暨離心式氣液交換裝置12之高 速離心力場環境進行臭氧水產生過程中，上述臭氧水產生機構 1中氣相臭氧的供應量暨濃度，以及產生之液相臭氧水濃度， 20隨時由本發明系統之感測饋控單元ό進行監測，如流程914 , 並根據前述其氣相臭氧濃度感測器61與臭氧水濃度感測器62 之感測結果，經與設定值比對判斷，進而由感測饋控單元6之 饋控單元63，或透過手動控制，如流程916，驅動轉速控制器 22 ’由該轉速控制器22控制臭氧產生器4之供應量，如流程 25 9 1 8，或控制動力構件2轉速調整，而改變離心式氣液交換裝 置12内之離心力場運作，以產生需求濃度之液相臭氧水。 13 1326675 再請參閱第7圖所示，係根據本發明前述一較佳實施例的 高效能臭氧水產生方法，利用高效能臭氧水產生系統產生之臭 氧水，觸以清洗半導體晶圓或TFT清洗製程之臭氧水溶氧濃 度測試實驗結果。 5 首先，由第7圖之溶氧效率試驗可發現，在不同之氣相臭 氧進料濃度下及動力構件2旋轉逮度下，水溶液中的臭氧變化 情形以12()()啊及氣相臭氧濃度為2Qmg/L時有最快之液相臭 =度提升，且迅速達_和_溶解度，贿著氣相臭氧濃 10 ^間=職相臭氧飽和濃度也隨之降低，且制飽和濃度之 度並但動力構件2轉速維持不變，足見進料氣相臭氧濃 旋轉條^液相臭氧飽和之速度；此外，亦進行本發明系統不 2〇mg/L下之比較1結果發現，以進料臭氧漠度同為 時間非^條件進仃操作’發現欲相臭氧飽和溶解度所花之 15 可40分鐘的操作下亦僅達成魏之飽和度， 見本發明利用高速離 ^ 之提升有十分顯著之聲響與產生方法，對於溶解度 致率質傳之離心力場環琦，=|乃是本發明裝置能提供具高 ,境，有效將氣相臭氧溶入水中。 明，惟該係針對本發明之-可行實施例之具體說 20 離本發=枯蓺赭袖非用以限制本發明之專利範圍，凡未脫 之等效性“例，實施或變更，例如：等變化 综上所述，本案專利範圍中。 習用物品增進上述多箱：間型態上確屬創新’並能較 性之法定發明專利應已充分符合新11性及進步 准本件發明專利申技依法提出申請’懇請貴局核 案，以勵創作，至感德便。 25 1326675 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明之系統架構方塊圖； • 第2圖係本發明臭氧水產生機構之結構組成剖視圖； 第3圖係本發明離心式氣液交換裝置之水平斷面剖視圖； 5 第4圖係本發明離心式氣液交換裝置之垂直斷面剖視圖； 第5圖係本發明感測饋控單元之架構方塊圖； 第6圖係本發明運作流程架構圖； 第7圖係本發明產生之臭氧水溶氧濃度測試實驗結果。 10【主要元件符號說明】 1臭氧水產生機構；2動力構件；3水溶液供應單元； 4臭氧產生器；5排放水控制器；6感測饋控單元； 7過濾裝置；11主體外殼；12離心式氣液交換裝置； 13進水口 ： 14排氣口； 15喷灑器； 15 16臭氧分散供應器；17臭氧水出水口； 18、19氣密單元； 21轉軸；22轉速控制器；41氧氣進料口； • 61氣相臭氧濃度感測器；62臭氧水濃度感測器； 63饋控單元；110重力式傾斜流動擋板；121旋轉主體； 122内壁面；123外壁面；124氣液質傳交換介質； 20 151管體；152喷嘴；160進氣口； 161氣管；162喷頭 15

Claims (1)

1326675 _ R告本I 杈年(。月l3曰修正方 十、申請專利範圍： 1. 一種高速離心式臭氧水產生系統，該系統至少包含： 一臭氧水產生機構，該機構包括： 一主體外殼，提供一個中空的封閉空間為反應槽以進 5 行重力場環境之氣、液溶解運作； 一離心式氣液交換裝置，配置一圓桶環狀旋轉主體， 内設置有氣液質傳交換介質； 進行水溶液與氣相臭氧之高速離心力場高質傳接觸溶 解環境，以獲得高臭氧液相溶解之水溶液； 10 —動力構件，連結驅動上述臭氧水產生機構產生高速離心 力場環境； 一水溶液供應單元，由管路連接上述臭氧水產生機構提供 水溶液； 一臭氧產生器，產生並由管路連接上述臭氧水產生機構氣 15相臭氧； 一排放水控制器，裝在上述臭氧水產生機構，控制產生之 臭氧水排放輸出； 一感測饋控單元，監測上述臭氧水產生機構溶解反應之氣 相臭氧濃度與臭氧水之臭氧濃度，經比對判斷自動饋控臭氧濃 20 度與動力構件轉速調整。 2. 如申請專利範圍第1項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其中，該臭氧水產生機構進一步包括： 二氣密單元，用以軸組前述旋轉主體在前述主體外殼内； 一進水口，為上述水溶液供應單元之連結導入水溶液； 25 一連接前述進水口之喷灑器，設置在上述離心式氣液交換 裝置内，用以將導入之水喷灑運作在旋轉主體； 16 132.6675 一進氣口，管路連結上述臭氧產生器以取得氣相臭氧氣之 導入； • 一連結上述進氣口之臭氧分散供應器，裝在上述主體外殼 内，用以將導入之臭氧對旋轉主體均勻供應； 5 一臭氧水出水口，管路連結外部，以提供經液相化高度溶 解之高濃度臭氧水； 一排氣口，連結前述旋轉主體，提供運作而殘餘之臭氧氣 體之釋放。 ^ 3.如申請專利範圍第2項所述的高速離心式臭氧水產生 10 系統，其中，該旋轉主體係由支撐結構的多孔性内、外壁面圍 構組成；前述内、外壁面係由多孔性金屬、非金屬基材之其一 . 成型。 4.如申請專利範圍第1項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其中，該氣液質傳交換介質係為一多孔性惰性基材，如 15 塑膠球、不鏽鋼金屬網、玻璃球、陶瓷填充物、金屬氧化物錠 材或其他可分散水溶液與氣體之材料結構。 # 5.如申請專利範圍第2項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其中，該喷灑器包括一管體與上述進水口相連結，管體 設置有多數喷嘴。 20 6.如申請專利範圍第2項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其中，該臭氧分散供應器係採用一個、多數個之其一， 排列設置在上述主體外殼内側壁面。 7. 如申請專利範圍第2項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其中，該臭氧分散供應器具有一氣管經進氣口連接上述 25 臭氧產生器，氣管上設置有多數喷頭。 8. 如申請專利範圍第2項所述的高速離心式臭氧水產生[s] 17 系統，其中，該氣密單元係為一氣 置有培林，而具有域與氣密作；在㈣㈣内則設 9·如申請專利_第1項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其中，該動力構件係為-驅動馬達配置，直接由其轉 轴:利时帶等間接傳動元件連結之其—方式相對上述離心 式氣液父換裝置連結驅動旋轉。 10.如申請專利範圍第1項所述的高速離心式臭氧水產生 系統其中，該系統更包括—轉逮控㈣，連結上㈣㈣ 件1接受上述感測饋控單元之轉逮控制信號，輸出轉速調變控 10制仏號驅動動力構件轉速調變。 11·如申請專利範圍第i項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其巾，财溶祕應單^提供线相水減，包括一般 水質、RO過濾水 '超純水之其一。 12·如申請專利範圍第1項所述的高速離心式臭氧水產生 15系統’其中，該感測饋控單元含有一氣相臭氧濃度感測器，隨 時監測氣相臭氧的供應量；-臭氧水濃度感測器，隨時監測反 應產生之液相臭氧濃度；以及一饋控單元，根據前述氣相臭氧 濃度感測器與臭氧水濃度感測器之感測結果，經與設定值比對 判斷進而控制臭氧產生器、水溶液供應單元之供應量與轉速 20控制器以調變動力構件轉速，用以控制臭氧與水溶劑間^強制 溶解度。 13_如申請專利範圍第12項所述的高速離心式臭氧水產 生系統，其中，該氣相臭氧濃度感測器係為一氣相臭氣分析 儀，該臭氧水》農度感測器係為一液相臭氣分析儀。 14.如申請專利範圍第丨項所述的高速離心式臭氧水產生 系統，其中，該系統更包括一過濾裝置，以過濾排放水再注 18 1326675 入離心式氣液交換裝置使用。 和年(。月1¾修.正替换頁

19 1326675 五、 中文發明摘要： 一種高速離心式臭氧水產生方法與系統，該方法主要利用 水與氣相臭氧，在具有高速離心力之一系統環境中進行氣、液 溶解結合，期以獲得高濃度且穩定之臭氧水溶液。該系統包含 5 一臭氧水產生機構、動力構件、水溶液供應單元、臭氧產生 器、排放水控制器及一感測饋控單元。 六、 英文發明摘要： 七、 指定代表圖： 10 (一)本案指定代表圖為：第（1)圖。 (二)本代表圖之元件符號簡單說明： 1臭氧水產生機構；2動力構件；3水溶液供應單元； 4臭氧產生器；5排放水控制器：6感測饋控單元； 7過濾裝置；12離心式氣液交換裝置；22轉速控制器； 15 41氧氣進料口 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：