TWI321581B - Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom - Google Patents
Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom Download PDFInfo
- Publication number
- TWI321581B TWI321581B TW092108242A TW92108242A TWI321581B TW I321581 B TWI321581 B TW I321581B TW 092108242 A TW092108242 A TW 092108242A TW 92108242 A TW92108242 A TW 92108242A TW I321581 B TWI321581 B TW I321581B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- vermiculite
- particle size
- colloidal
- colloidal vermiculite
- amine
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
- B41M5/5218—Macromolecular coatings characterised by inorganic additives, e.g. pigments, clays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
- C09D7/62—Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
- C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
- C09D7/68—Particle size between 100-1000 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Paper (AREA)
Description
1321581 玖、發明說明: (―)技術頜域 本發明係關於被覆之噴墨記錄片及用以製備其之塗料 組成物。特別地,本發明關於適合製備呈現良好可印刷性 特徵之光澤噴墨記錄片之塗料組成物。 (二)先前枝術 噴墨印刷法爲眾所周知的。此系統將墨滴以不同之密 度及速度投射至記錄片上,例如,紙。在使用多色噴墨系 統時,此方法非常緊接地投射許多個具有不同性質與吸收 速率之不同顏色墨水。事實上,這些多色系統設計爲提供 模擬照相攝影之影像,而且此影像需要高解析度與色域。 因此,噴墨記錄片必須可以使得沉積之顏色明亮之能力, 以進行快速乾燥且吸收墨水使得其不散開或污漬之速率, 及造成平滑影像之方式,以高密度吸收墨水。 爲了符合這些目標,已將高多孔性顏料,例如,多孔 性矽石,加入紙塗料中。矽石爲主塗料系統已成功地符合 可印刷性之目標。然而,難以得到在傳統照相系統一般見 到之性質及產生非消光或光澤修整。上述多孔性顔料一般 具有大於1 cc/克之多孔性,且具有大於1微米之平均粒 度。此粒度及多孔性增加改良塗層之表面粗度,因而使入 射光偏向使得其散射,因而使塗層消光。 爲了增強此塗層之光澤,在由上述多孔性顏料製備之 墨水容納層上方提供第二光澤層。這些上層係由固有地有 光澤之黏合劑系統,或由含有黏合劑及非常小型無機氧化 物顆粒(例如,習知膠狀矽石)製備之層。後者方法中之 1321581 膠狀矽石趨於增強上層塗層之墨水容納本性,但未大到足 以造成表面變形。然而,這些膠狀顆粒在高濃度有黏聚之 趨勢,因而在上層造成缺陷及表面粗度’及因而降低光澤。 因此,在使用此方法時’已使用較低之矽石濃度(即’較 低之膠狀固體對黏合劑固體比例)。 因此相當希望在這些上層中增加固態無機氧化物之量 以進一步改良可印刷性。事實上希望使用具有至少1:1膠 狀固體對黏合劑固體比例之塗料層,而且甚至更佳爲使用 具有高達4:1膠狀矽石固體對黏合劑比例之塗料,同時得 到可接受之光澤。 此外,噴墨記錄片用塗料系統經常設計成具有陽離子 性總電荷。許多種用於噴墨法之墨水呈負電荷;因此,希 望塗料成分具有相反之電荷以將墨水固定。膠狀氧化鋁呈 正電荷且已廣泛地作爲用於此目的之塗料顏料。亦使用陽 離子性定色成分及陽離子性黏合劑。事實上,後者陽離子 性帶電材料之存在’通常需要使塗料中之顏料成分爲陽離 子性或至少非離子性。否則塗料中之材料趨於凝集,因而 產生表面缺陷及降低光澤。 近來已發現’可將去離子之特定陽離子性膠狀矽石, 以高含量加入光澤塗料中。然而’雖然此塗料提供良好至 優良之光澤’其關於可印刷性有性能限制。特定之近來發 展之陽離子性膠狀砂石亦具有相當短之儲存壽命。其在數 曰後變成太黏’而無法加入塗料樹脂中,或在相當短之時 間後’例如,數週’其原因爲雖然膠狀砂石未膠化,但是 在加入塗料混合物後’其生成消光塗料而無法使用。因此, 1321581 這些近來發展之膠狀矽石,較適合作爲置於分離墨水容納 塗層上之光澤面漆,或者其須在製備溶膠後儘快使用。因 此,希望提供一種含有相當高含量之陽離子性矽石固體之 塗層,而且亦提供具有良好至優良之可印刷性之塗料,及 提供具有較長期之儲存安定性之陽離子性膠狀矽石,而且 爲本發明之目標。 f三)發明內容 本發明提供一種含有撐體及至少一個塗層於其上之噴 墨記錄片,其中塗層含至少1:1重量比之陽離子性膠狀矽 石固體與黏合劑固體比例,及至少一個塗層具有在6(Γ時 爲至少30之鏡面光澤。上述陽離子性矽石具有多分散粒度 分布,而且較佳爲具有約1至約3 00奈米範圍之平均粒度。 此陽離子性矽石之製備,係藉由,以含與矽醇基反應之官 能基及具有正電荷之官能基之有機化合物,例如,胺基矽 烷,去和多分散膠狀矽石而反應。此塗層亦含有一般用於 製備噴墨記錄片之黏合劑。 已發現以此方式製備之陽離子性膠狀矽石,不僅提供 在相當高固體含量之不凝集性膠狀矽石而降低變形,及造 成塗層表面之消光,亦提供具有良好至優良可印刷性之塗 料。 因此,本發明提供一種含有撐體及至少一個塗層於其 上之噴墨記錄片,該至少一個塗層,其(a)具有在60。時爲 至少30之鏡面表面光澤’(b)含有呈淨正電荷之多分散陽離 子性膠狀矽石,及(c)黏合劑,其中膠狀矽石固體與黏合劑 固體,以至少1:1重量比之比例存在。 -7- 1321581 適當之噴墨記錄片包括’其中膠狀矽石固體對黏合劑 固體比例爲約6:4至約4:1之範圍者。 另一種適當之噴墨記錄片包括,其中上述膠狀矽石具 有約1至約3 00奈米範圍之平均粒度者。 另一種適當之噴墨記錄片包括,其中膠狀矽石具有15 至100奈米範圍之中間粒度,及具有使得至少80%之顆粒 散佈於至少30奈米及至多約70奈米之粒度範圍之粒度分 布者。 上述噴墨記錄片之另一個適當具體實施例包括,其中 至少一種官能基側接至膠狀矽石表面者。 另一種適當之噴墨記錄片包括,其中上述至少一種官 能基選自一級胺、二級胺、三蜾胺、與四級胺者。本發明 之特佳具體實施例爲,其中官能基爲胺基,且胺基經烷鍵 聯側接至矽石之噴墨記錄片。 本發明亦提供一種塗料組成物,其含有 (a) 呈淨正電荷之多分散陽離子性膠狀矽石,及 (b) 黏合劑 其中(a)之矽石固體與(b)之黏合劑固體係以至少1:1重 量比之比例存在。 此塗料組成物之適當具體實施例包括其中(a)之矽石固 體與(b)之黏合劑固體爲6:4至約4:1之範圍之塗料。 另一種適當之塗料組成物包括,其中膠狀矽石具有約1 至約300奈米範圍之平均粒度者。 另一種適當之塗料組成物包括,其中膠狀矽石具有15 至100奈米範圍之中間粒度,及具有使得至少80%之顆粒 1321581 散佈於至少30奈米及至多約70奈米之粒度範圍之粒度分 布者。 另一個適當具體實施例包括,其中至少一種官能基側 接至膠狀矽石表面者。 另一種適當之塗料組成物包括,其中上述至少一種官 能基選自一級胺、二級胺、三級胺、與四級胺者》 另一種適當之塗料組成物包括,其中至少一種官能基 選自一級胺' 二級胺、三級胺、與四級胺者。 另一種適當之塗料組成物包括,其中官能基爲胺基且 胺基經烷基鍵聯側接至矽石者。 發明詳細說明 名詞「膠狀矽石」或「膠狀矽石溶膠」表示源自分散 液或溶膠之顆粒,其中顆粒經相當長之時間不從分散液中 沉降。此顆粒之大小一般小於1微米。具有約1至約300 奈米範圍之平均粒度之膠狀矽石及其製法,在此技藝中爲 已知的。參見美國專利 2,244,325; 2,574,902; 2,577,484; 2,577,485; 2,631,134; 2,750,345: 2,892,797; 3,012,972; 及3,440,174,其內容在此倂入作爲參考。具有5至100奈 米範圍之平均粒度之膠狀矽石對本發明更佳。膠狀矽石可 具有9至約2700平方米/克範圍之之表面積(以BET値測 量之)。 一般而言,膠狀矽石因損失存在於矽石表面上之矽醇 基質子而呈負電荷,因此爲陰離子性。爲了本發明之目的, 如果修改陰離子性膠狀矽石,例如,物理地塗覆或化學地 處理’使得膠狀矽石呈淨正電荷,則膠狀矽石視爲陽離子 -9- 1321581 性。陽離子性矽石因此包括’其中矽石表面含足量陽離子 性官能基,例如,以下討論之胺基,使得矽石表面上之淨 電荷爲正之膠狀矽石。 較佳爲,淨電荷係因側接至膠狀矽石表面之官能基上 之正電荷而發生。甚至更佳爲’官能基經氫或共價鍵鍵結 及/或側接至矽石表面。此官能基可直接鍵結至矽石,或者 其可經直接鍵結官能基之中間化學部份之鍵而連接矽石。 不受特定理論限制,據信此鍵結使得,官能基之溶解,或 由官能基或其影響所得塗料之光澤及可印刷性性能矽石任 何部份之溶解或解離,而達到最小。 「官能基」表示二或更多個元素之組合,其隨著在反 應中保持在一起,一般在化學上表現如同其爲個別之個體 時,例如,關於價數、游離化及相關性質。 「淨正電荷」表示矽石上之電荷價數爲正,因此如果 矽石呈負電荷與正電荷,只要矽石經處理或改質使得電荷 總和爲正,則矽石可具有淨正電荷,例如,使用得自Malvern 之Zetasizer™ 3 000HS呈+0.0 1毫伏或更大之正zeta電位 能。陽離子性膠狀矽石之較佳具體實施例具有+20毫伏或 更大之zeta電位能。 本發明之膠狀矽石亦爲已知爲多分散膠狀矽石者。「多 分散」在此定義爲表示具有其中中間粒度在丨-3 〇〇奈米, 較佳爲15-100奈米之範圍內及其具有相當大分布幅度之粒 度分布之顆粒分散。較佳分布爲使得8 〇 %之顆粒散佈於至 少約30奈米且可散佈至多7〇奈米大小之範圍。80%範圍係 藉由使用下述之TEM爲主粒度測量法,將d9()粒度減d10 1321581 粒度而測量。此範圔亦稱爲「80%幅度」。—個多分散顆粒 具體實施例具有偏向小於中間粒度之大小之粒度分布。結 果,此分布具有在此分布區域之峰及大於中間粒度之粒度 「尾」。參見第1圖。包括80%顆粒之幅度之下及上粒度 各可爲中間粒度之-11 %至-70%及110%至160%»特別適合 之多分散矽石具有20至30奈米範圍之中間粒度’及80% 之顆粒大小在1 0至5 0奈米之間’即’ 8 0 %分布具有4 0奈 米之幅度。 本發明之陽離子性多分散膠狀矽石較佳爲’其製備係 藉由以具有具正電荷之官能基’且亦具有至少—個與膠狀 矽石上矽醇基反應之基之有機化合物,處理陰離子性多分 散膠狀矽石之表面而得。較佳正官能基包括’但不限於胺 基或四級基。 特別適合之有機化合物爲胺基矽烷。本發明中之適當胺 基矽烷化合物具有下式
其中RhR2與R3獨立地選自具有1至8個碳原子之烷氧基、 具有1至8個碳原子之烷基、及具有6個碳原子之芳基’ 其條件爲R1、R2與R3至少之一爲烷氧基;R4選自具有1 至18個碳原子之伸烷基、及具有6至10個碳原子之伸芳 基與經烷基取代伸芳基:R5、R6與R7選自氫與具有1至15 個碳原子之院基;及η具有0或1之値》較佳爲η=Ό,各R 1 ' R2與R3爲具有1至3個碳原子之烷氧基,及R5與R6爲氫。 胺基矽烷化合物可包括符合以上式I之胺基矽烷化合物之 1321581 高純度產物或混合物。 代表性之胺基矽烷化合物包括,三甲氧基矽烷基乙 胺、三乙氧基矽烷基乙胺、三丙氧基矽烷基乙胺、三丁氧 基矽烷基乙胺、三甲氧基矽烷基丙胺、三乙氧基矽烷基丙 胺、三丙氧基矽烷基丙胺、三異丙氧基矽烷基丙胺、三丁 氧基矽烷基丙胺、三甲氧基矽烷基丁胺、三乙氧基矽烷基 丁胺、三丙氧基矽烷基丁胺、三丁氧基矽烷基丁胺、三甲 氧基矽烷基戊胺、三乙氧基矽烷基戊胺、三丙氧基矽烷基 戊胺、三丁氧基矽烷基戊胺、三甲氧基矽烷基己胺 '三丁 氧基矽烷基己胺' 三甲氧基矽烷基庚胺、三乙氧基矽烷基 庚胺、三丙氧基矽烷基庚胺、三丁氧基矽烷基庚胺、三甲 氧基矽烷基辛胺、三乙氧基矽烷基辛胺、三丙氧基矽烷基 辛胺、三丁氧基矽烷基辛胺等。較佳爲,胺基矽烷化合物 爲三乙氧基矽烷基丙胺。三乙氧基矽烷基丙胺係商業級, 得自 OSI Specialties Group 之 Witco 公司之代號 A-1100。 以有機成分(例如,胺基矽烷)處理膠狀矽石通常可 藉由,在適當液體介質中,使矽石與有機成分接觸而進行。 液體介質之實例包括,水、醇,如甲醇、乙醇或丙醇、及 水與這些醇之混合物。處理溫度通常爲室溫至介質之回流 溫度間。有機成分之使用量並未嚴格地限制。通常每1 〇〇 重量份之矽石使用至少0.5重量份之量爲有利的,較佳爲5 至20重量份》 以胺基矽烷處理膠狀矽石,在矽石之表面矽醇基與胺 基矽烷之至少一個烷氧基間發生縮合反應(偶合反應), 產生塗覆胺基矽烷之矽石。在胺基矽烷含二或更多個烷氧 -12- 1321581 基時,胺基矽烷分子隨以上之縮合反應同時彼此反應,因 而形成矽氧烷鍵聯,且在矽石上形成胺基矽烷之三維交聯 塗層。 經胺基矽烷處理之矽石具有下式表示之一般結構,其中 胺官能基經中間R4鍵聯側接且共價地鍵結至矽石。
R4、R5、R6 ' R7、與η如式I所定義。 大部份膠狀矽石溶膠亦含鹼。鹼通常爲得自週期表第 ΙΑ族之鹼金屬氫氧化物(鋰、鈉、鉀等之氫氧化物)。大 部份商業級可得膠狀矽石溶膠含氫氧化鈉,其至少部份地 源自用以製造膠狀矽石之矽酸鈉,雖然亦可加入氫氧化鈉 以針對膠化安定溶膠。 在特定情形中,將上述鹼降至低於商業級可得膠狀矽 石溶膠之含量爲有用的。適當之低鹼矽石具有依照以下方 程式之矽石固體對鈉重量比例: 方程式 1 · Si02/鹼金屬 2AW(-0.013*SSA + 9)
Si02/鹼金屬爲膠狀矽石溶膠中,矽石固體與鹼金屬含 量1之重量比例。AW爲鹼金屬原子量,例如,鋰爲6.9,鈉 爲23,及鉀爲39,及SSA爲膠狀矽石顆粒之表面積比,單 位爲每克之平方米(平方米/克)。在鹼金屬爲鈉時,Si〇2/ 鹼金屬比例爲至少- 0.013SSA + 207之和。 其中,鹼金屬(例如_,N__a )含量一以使用傳導偶合電 漿-原子發射(ICP-AES)光譜術技術測量之鹼金屬離子含 -13- 1321581 量計之重量百分比。在應用此技術前,首先在周圍條件, 例如,25七及75 %相對濕度,將樣品溶於氫氟酸與硝酸 (3 0/7 0重量比例)》在進行測量前使樣品溶解1 6小時。 低鹼陽離子性膠狀矽石,其製備可藉由將其去離子至 使得膠狀矽石具有方程式1所示之矽石固體對鹼金屬比例 之程度而得。「去離子」表示已自膠狀矽石溶液中去除任 何金屬離子,例如,如鈉之鹼金屬離子。去除鹼金屬離子 之方法爲已知的,而且包括使用適當離子交換樹脂之離子 交換(美國專利2,577,484及2,577,485)、滲析(美國專 利2,77 3,028 )、及電滲析(美國專利3,969,266 )等方法。 然後進一步處理或修改去離子陽離子性矽石以呈淨 正電荷。 如下所示,可將習知塗料黏合劑加入膠狀矽石中。黏 合劑不僅黏合膠狀矽石形成膜,其亦提供對光澤提供層與 基板、或任何在光澤層與基板間之中間墨水容納層間界面 之黏著性。 在本發明中,陽離子性與陰離子性黏合劑特別適合。 適當之黏合劑包括,但不限於具有官能性陽離子基之苯乙 烯-丁二烯或苯乙烯-丙烯酸酯共聚物,及/或陽離子性聚 乙酸乙烯酯、陽離子性聚乙烯醇或其共聚物。 此外,黏合劑可選自以陽離子性形式存在之分解及原 生糖、澱粉、甲基纖維素、羥甲基纖維素、羧甲基纖維素、 海藻酸酯、蛋白質 '與聚乙烯醇。蛋白質亦爲適合的,因 舄其爲兩性物。 陽離子性水溶性黏合劑之指定實例包括,例如,二乙 -14- 1321581 胺基乙基化澱粉' 經氯化三甲基乙銨改質澱粉、及經甲基 氯化二乙胺基乙銨改質澱粉;及經陽離子性丙烯酸酯共聚 物。 適當之非離子性、水溶性黏合劑包括,但不限於聚乙 烯醇、羥乙基纖維素、甲基纖維素、糊精、pi ur an、澱粉、 阿拉伯膠、聚葡萄糖、聚乙二醇、聚乙烯基吡咯啶酮、聚 丙烯醯胺、與聚丙二醇。 水性乳液形式之不溶於水或水溶性不良之陽離子或非 離子性黏合劑包括’但不限於丙烯酸與甲基丙烯酸共聚物 樹脂,例如,甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸丁酯共聚物樹脂、 甲基丙烯酸甲酯一丙烯酸乙酯共聚物樹脂、甲基丙烧酸甲 醋一丙條酸2 -乙基己醋共聚物樹脂、甲基丙嫌酸甲醋一丙 稀酸甲酯共聚物樹脂 '苯乙烯-丙烯酸丁酯共聚物樹脂、 苯乙烯-丙烯酸2 -乙基己酯共聚物樹脂、苯乙烯—丙烯酸 乙酯共聚物樹脂、苯乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物樹脂、甲 基丙烯酸甲酯-苯乙烯-丙烯酸丁酯共聚物樹脂、甲基丙 烯酸甲酯一苯乙烯一丙烯酸2 -乙基己酯共聚物樹脂、甲基 丙烯酸甲酯一苯乙烯一丙烯酸乙酯共聚物樹脂、甲基丙烯 酸甲酯-苯乙烯一丙烯酸乙酯共聚物樹脂、甲基丙烯酸甲 酯一苯乙烯丙烯酸甲酯共聚物樹脂、苯乙烯一丙烯酸丁 酯一丙烯膪共聚物樹脂、與苯乙烯—丙烯酸乙酯一丙烯腈 共聚物樹脂。 其他之適當黏合劑包括,酪蛋白 '明膠、丨瞑丁烯二酸 酐樹脂’共軛二烯型共聚物乳膠,如乙烯基型聚合物乳膠, 如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物;合成樹脂型黏合劑,如聚胺 -15- 1321581 甲酸乙酯樹脂、不飽和聚酯樹脂、氯乙烯—乙酸乙烯酯共 聚物、聚乙烯基丁醛、或醇酸樹脂》 可使用習知摻合器及混合器組合黏合劑與膠狀矽石。 可在周圍條件將成分組合及混合。 希望膠狀矽石固體與黏合劑固體以相當高之比例存在 於塗料中。已發現’在特定具體實施例中,較高之矽石對 黏合劑比例提供良好之可印刷性,及對改良之墨水容納塗 片提供有利之機械性質。特別希望膠狀矽石與黏合劑固體 以至少1 :1 ’而且更佳爲6 :4至4 :1重量比例存在。此比例 可高達9.9:1。膠狀矽石對黏合劑固體比例在此亦稱爲顏料 對黏合劑比例。 亦希望在本發明之塗料組成物中包括額外成分。本發 明之塗料可含以下之一或更多種:分散劑、增稠劑、流動 性改良劑、消泡劑、泡沬抑制劑、釋放劑、起泡劑、滲透 劑、著色染料、螢光亮光劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、 防腐劑、除灰劑、防水劑、及濕強度劑。 陽離子性染料媒染劑爲較佳之添加劑。適當媒染劑之 實例包括’但不限於聚四級銨化合物,或鹼性聚合物,如 聚(二甲胺基乙基)甲基丙烯酸酯、聚伸烷基聚胺,及其 與一氰基二醯胺之縮合產物:胺一表氯醇多縮合物;卵碟 脂與磷脂化合物。此媒染劑之指定實例包括以下:氯化乙 醯基苄基三甲銨/乙二醇二甲基丙烯酸酯;聚(氯化二烯丙 基二甲銨);聚(2-N,N,N-三甲銨)乙基甲基丙嫌酸酯甲硫 酸酯;聚(3-N,N,N-三甲銨)乙基甲基丙烯酸氯;乙烯基吡 咯啶酮與氯化乙烯基(N -甲基咪唑)之共聚物;及以(3_ -16- 1321581 N,N,N-三甲銨)丙基氯衍生之羥乙基纖維素。在較佳具體 實施例中,陽離子性媒染劑爲四級銨化合物。 可用於本發明之媒染劑可以任何有效用於意圖目的之 量使用。通常在媒染劑以全部塗料組成物之約0.1 -1 0重量 %之量存在時得到良好之結果。在黏合劑爲非離子性時,這 些媒染劑特佳^ 本發明之一部份陽離子性膠狀矽石,可以一或更多種 其他之膠狀材料取代,例如,單分散陽離子性膠狀矽石, 其條件爲此膠狀材料之量不減損改良之塗層所需之總陽離 子性本性、光澤或可印刷性。這些其他之膠狀材料可爲矽 石’及矽石以外之無機氧化物,例如,氧化鋁、氧化鈦、 氧化鍩等。此額外之無機氧化物膠狀顆粒可作爲塡料及/或 額外顔料而加入。 依照BYK Gardner測量儀器,本發明之塗料具有在60° 時爲至少三十(30)之光澤。依照本發明之較佳塗料,在6:4 膠狀矽石對黏合劑比例,具有至少80之光澤,及在4:1膠 狀矽石對黏合劑比例較佳爲至少70。甚至更佳爲,此塗料 在4 :1膠狀矽石對黏合劑比例具有至少90之光澤》 用以製備本發明之墨水記錄片之適當撐體可爲一般用 於此技藝者。適當之撐體包括具有約40至約300克/平方 米範圍之重量者。此撐體可爲由各種方法及機器(如 Four dr inier製紙機、滾筒製紙機 '或雙線製紙機)製造之 原紙。此撐體係藉由混合其主要成分,即,習知顏料與木 漿(例如,包括化學漿、機械漿、及廢紙漿),與至少一 種各種添加劑(包括黏合劑 '上漿劑、固定劑、產率改良 -17- 1321581 劑、陽離子劑、及紙強度增加劑)而 括透明基板、織品等。 此外’撐體亦可爲使用澱粉或聚 壓紙片。撐體亦可爲其上具有固定塗 預備塗層提供於原紙上之紙。原紙亦 明之塗料前,塗佈之墨水容納層。 含有膠狀矽石、黏合劑與選用添 撐體時於線上塗佈,或在已完成撐體 使用習知塗覆技術塗佈,如空氣刀塗 棒塗、簾塗、模塗,及使用計量大小 層可藉周圍室溫、熱風乾燥法、加熱 射乾燥而乾燥之。一般而言,本發明 選用中間層,係以1至50克/平方米 常爲2至20克/平方米之範圍。 (四)實施方式 以下之實例顯示,由撐體及一層 備之具有良好可印刷性之光澤噴墨記 之情況·希望在本發明之光澤提供層與 可容納墨水之層,以增強最終片之可 適當之墨水容納層爲如美國專利 內容在此倂作爲參考。簡言之,適當 合劑(如上列之水溶性黏合劑)及墨 包括白色無機顏料,如輕碳酸鈣、重 嶺土、滑石、硫酸鈣、硫酸鋇、二氧 鋅、碳酸鋅、緞白、矽酸鋁、矽藻土 製備。其他之撐體包 乙烯醇製備之大小沖 料層者,例如,已有 可具有,在塗佈本發 加劑之塗料可在製備 後離線塗佈。塗料可 、輥塗、刮刀塗覆、 壓機之方法。所得塗 表面接觸乾燥、或輻 之塗料組成物及任何 之範圍塗佈,但是更 由本發明本質上可製 錄片。然而,在特定 撐體間,安置另一層 印刷性。 5,576,〇88所示者,其 之墨水容納層含有黏 水谷納顔料。此顔料 碳酸鈣、碳酸鎂、高 化鈦、氧化鋅、硫化 、矽酸鈣、矽酸鎂、 1321581 合成非晶矽石、膠狀矽石、氧化鋁、膠狀氧化鋁、假伯姆 石'氮氧化銘、鋅鋇白、沸石、水解高嶺土、或氫氧化鎂, 或有機顔料’如苹乙烯型塑膠顔料 '丙烯酸塑膠顏料、聚 乙烯、微囊、尿素樹脂 '或三聚氰胺樹脂。適合用於墨水 容納層之顏料具有0.5至3.0微米範圍之平均粒度(以光散 射測量)’及範圍爲0.5至3.0 cc/克之孔體積而且較佳爲 1.0至2.0 cc/克之孔體積’如氮孔度測定法所測量。爲了得 到具有高墨水吸收力之噴墨記錄片,較佳爲墨水容納層之 顏料含至少30體積%之具有至少1.0微米粒度之塑膠。 本發明之較佳具體實施例及操作模式已敘述於以上之 說明書中。然而,意圖在此保護之本發明,不視爲限於所 揭不之特定具體實施例’因爲其視爲描述性而非限制性。 因此,熟悉此技藝者可進行變化及改變,而不背離本發明 之精神。 此外,說明書或申請專利範圍中所列之任何數字範 圍’如表示特定組之性質、條件 '物理狀態、或百分比者, 意圖在此明確地按字面加入任何在此範圍內之數字,包括 在所列任何範圍內之任何次組數字範圍。 描咏例 下列及/或前示參數,係如下測量: 平均粒度—除非另有指不,爲以方程式SSA = 3100/dn 測定之數量平均粒度,其中dn爲平均粒度及SSA爲下述之 表面積比。 中間粒度-爲以電子顯微鏡(TEM)測量之數量加權中 間粒度。 光澤—使用BYKG.ai.dner微- TRI -光澤儀器測量’其已 對透明膜校正。光澤値係使用60°時之幾何測量。 矽石固體含量-在205 °C於Ohaus爐中測量’固體測量 終點爲在六十(60)秒內樣品重量變化小於〇.〇1克時。 表面積比-如 G. W. Sears,Jr.之 Analytical Chemistry ’ 第28卷,第1981頁(1956)所示,氮吸收關連表面積之滴定 法。 可印刷性(或印刷品質)—係藉由觀察以E Ps 0 n s t y I u s 9 00彩色印表機製備之印刷影像中,使用37 °C之溫氣流將 塗層乾燥後之綠、藍與紅色區塊外觀而評估。進行這些觀 察之方法如下: 評估各顏色之顏色均勻性及流失。兩種評估之組合評 比如下: 優良=所有之顏色似乎均勻且無印刷外之流失。 良好=顏色並非完全均勻且在至少一個顏色區塊中發 生流失。 不良=顏色似乎不均勻且至少一種顏色發生墨水糊 化;亦有嚴重之流失。 眚例1 ·(比較) 將得自 Martinwerks 之 Martoxin® GL3 ( SSA = 332 平方米 /克)氧化鋁依照製造者之步驟膠溶。將Martoxin® GL3粉 末以15%固體含量加入去離子(DI)水且攪拌5分鐘。然後以 乙酸將pH調整至4.5且將漿液攪拌又10分鐘。在結束時, 再度以乙酸將pH調整至4_5。21.015克(15重量%)以上 製備之膠狀氧化鋁漿液置於燒杯中。加入4.85克Airvol® 1321581 5 23 ( 15.5重量%溶液)聚乙烯醇。然後將以0.768克去離 子水稀釋之0.19克Agefloc® B50染料染媒劑(50重量% ) 加入混合物。使用得自TestingMachinelnc.(TMI)之K控制 塗覆器以8號棒在得自E. I. DuPont de Nemours & Co.之 MelinexTM-534聚酯不透明白色膜上,將所得調'配物塗覆成 100微米濕膜。得到之塗層具有在60度時爲93 %之光澤。 可印刷性不良。 實例2.(比較) 將10.01克得自康乃狄克州W. R. Grace & Co.之Ludox® CL-P(40固體%; 140SSA;平均粒度22奈米;%(重量比)
Na = 0.250; SiO2/Na=160)陽離子性膠狀矽石置於燒杯中且 以10.31克去離水稀釋。加入5.81克Airvol® 523 ( 15·5重 量%溶液)聚乙烯醇繼而爲0.22克Agefloc® Β50 ( 50重量 % )。如實例1所述將所得調配物塗覆於聚酯膜上。得到之 塗層具有在60度爲4 %之光澤。 實例3..(比較) 將84克去離子水加入329克Ludox® HS-40 (W. R. Grace) 膠狀矽石,其含40.0%具平均粒度=12奈米且具有表面積比 = 220平方米/克之Si02。將混合物加熱至40-50°C且以少量 攪拌加入氫形式之Amberlite® IR-120 Plus離子交換樹脂, 直到pH降至2.5。攪拌且將溫度維持1小時,此時加入少 量樹脂以將pH維持在2.5-3.0之範圍。混合物經粗濾紙過 濾以自樹脂分離去離子膠狀矽石溶膠。將1 %氫氧化銨溶液 逐滴攪拌加入去離子膠狀矽石溶膠,直到溶膠達到pH 7.2-7.55之範圍》 1321581 將所得膠狀矽石溶膠以快速攪拌逐滴加入含8 7.2克 45%水合氯化鋁(20.7%之八12〇3及2:1之八1:(:1原子比)之 燒杯中。在加成完成後,使混合物平衡約1 2小時,然後經 細濾紙過濾。所得溶膠含30%之固體,呈現3.5之pH。 將14.51克以上產物(30重量% )置於燒杯中且以7.52 克去離子水稀釋。加入6.27克Airvol® 523 ( 1 5.5重量%溶 液)聚乙烯醇,繼而爲0.22克Agefloc®B50( 50重量%)。 在實例1所述之條件下將所得調配物塗覆於聚酯膜上。得 到之塗層具有在60度爲93 %之光澤。可印刷性不良。 實例4. 多分散膠狀矽石用於此實例。溶膠具有5 0重量%之固 體,22奈米之中間粒度,約40奈米之80%顆粒散佈,70 平方米/克之表面積比,+61毫伏之zeta電位能(在pH4), 及179之矽石固體對鈉比例。將5070克以上之多分散膠狀 矽石以6N氯化氫酸化至pH = 4。 在分離容器中,將317克DI水混合250克1NHC1。逐 滴加入63.5克3-胺基丙基三乙氧基矽烷。在加入所有之矽 烷後’以1NHC1將pH調整至ph = 4。然後將此溶液加入酸 化膠狀矽石中,及加入DI水而將最終%膠狀矽石調整至 40%。此材料具有0.239之鈉含量及167之Si02/N a含量。 將7.51克以上製備之材料(40重量% )置於燒杯中且 以10.08克去離子水稀釋。加入4.36克Airvol® 523 ( 15.5 重量%溶液),繼而爲0.18克Agefloc®B50( 50重量%)。 將所得調配物塗覆於聚酯膜上。得到之塗層具有在60度時 爲8 5 %之光澤。印刷品質優良。 -22- 1321581 實例5.(比較) 將具有500克得自康乃狄克州w. R. Grace & Co.之 1^11(1〇乂1'1^(50%之砂石)以61^氫氯酸酸化至口11 = 4。在含 31.2克DI水之分離容器中混合30克lNHCL·逐滴加入6.25 克3-胺基丙基三乙氧基矽烷。在加入所有之矽烷後,以1N HC〗將pH調整至pH = 4。然後將此溶液加入酸化膠狀矽石 中,及加入DI水而將最終%膠狀矽石調整至4 5 %。 將6.63克以上製備之材料(45重量% )置於燒杯中且 以10.89克去離子水稀釋。加入4.35克Airvol® 523 ( 15.5 重量%溶液),繼而爲0_15克AgefIoc®B50( 50重量%)。 將所得調配物塗覆於聚酯膜上。得到之塗層具有在60度時 爲81%之光澤。印刷品質(Epson- 870)優良。 實例6.(儲存安定性) 將得自以上各實例之膠狀矽石儲存在25 °C密閉塑膠瓶 中,以評估其儲存安定性。結果如下: •實例1 Martoxin GL3:膠溶後之最終漿液(15固體 % )維持爲流體約4日。然後分散液變黏。 •實例2 Ludox CL-P ( 40固體% ):在儲存1年後未 發現變化。 •實例3 去離子HS-40/經水合氯化鋁(30固體% )處 理:材料對粒度增加安定至少7個月。以 8 0/18/2 (顏料/PV0H/陽離子性)調配物得到之 光澤値視材料年紀而定。新鮮材料產生93 %之 光澤値,而14日樣品提供僅28%之光澤。 •實例4 本發明之矽烷化多分散矽石(以固體計爲 -23-
Claims (1)
1321581 __ Pl ^ f年ί月乂曰修(恭)正替換頁 第92108242號「含有膠狀矽石之塗料組成物及由此製造 之光澤噴墨記錄片」專利案 | (2009年8月修正) 拾、申請專利範圍: 1. 一種噴墨記錄片,含有撐體且於其上至少有一塗層, 該至少有一塗層爲(a)具有在60°時,係至少30之鏡面 表面光澤,(b)含有呈淨.正電荷之多分散陽離子性膠狀 矽石,及(c)黏合劑,其中膠狀矽石固體與黏合劑固體 係以至少1:1重量比之比例存在,且該膠狀矽石具有1 5 至100奈米範圍之中間粒度分布,及具有使得至少80% 之顆粒散佈於至少30奈米及至多約70奈米之粒度範 ' 圍之粒度分布。 2. 如申請專利範圍第1項之噴墨記錄片,其中膠狀矽石 固體對黏合劑固體比例爲約6:4至約4:1之範圍。 3. 如申請專利範圍第1項之噴墨記錄片,其中膠狀矽石 具有約1至約3 00奈米範圍之平均粒度。 4. 如申請專利範圍第1項之噴墨記錄片,其中該膠狀矽 石包括至少一種官能基選自一級胺、二級胺、三級胺、 與四級胺。 5. 如申請專利範圍第1項之噴墨記錄片,其中該膠狀矽 石包括胺基及此胺基經烷基鍵聯連接矽石。 6. —種塗料組成物,其含有 (a>呈正電荷之多分散碭離子性膠狀矽石,及 (b)黏合劑, 其中(a)之矽石固體與(b)之黏合劑固體係以至少1:1重 1321581 令年次月4日修(史)正梅拳 量之比例存在,且該膠狀矽石具有15至100奈米範 圍之中間粒度分布,及具有使得至少80 %之顆粒散佈 於至少30奈米及至多約70奈米之粒度範圍之粒度分 布。 7. 如申請專利範圍第 6項之塗料組成物,其中(a)之矽石 固體對(b)之黏合劑固體爲約6:4至約4:1之範圍。 8. 如申請專利範圍第+ 6項之塗料組成物,其中膠狀矽石 具有約1至約300奈米範圍之平均粒度。
9 .如申請專利範圍第 6項之塗料組成物,其中該膠狀矽 石包括至少一種選自一級胺、二級胺、三級胺、與四 級胺的官能基。 10.如申請專利範圍第 6項之塗料組成物’其中該膠狀矽 石包括胺基及此胺基經烷基鍵聯連接矽石。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US37316602P | 2002-04-17 | 2002-04-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200306337A TW200306337A (en) | 2003-11-16 |
TWI321581B true TWI321581B (en) | 2010-03-11 |
Family
ID=29250981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092108242A TWI321581B (en) | 2002-04-17 | 2003-04-10 | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6896942B2 (zh) |
EP (1) | EP1497137B1 (zh) |
JP (1) | JP2005523183A (zh) |
KR (1) | KR101039565B1 (zh) |
CN (1) | CN100351100C (zh) |
AR (1) | AR039022A1 (zh) |
AT (1) | ATE354477T1 (zh) |
AU (1) | AU2003218245A1 (zh) |
BR (1) | BR0308561A (zh) |
DE (1) | DE60311975T2 (zh) |
DK (1) | DK1497137T3 (zh) |
ES (1) | ES2282610T3 (zh) |
IL (1) | IL164140A0 (zh) |
NO (1) | NO20044984L (zh) |
PL (1) | PL205931B1 (zh) |
PT (1) | PT1497137E (zh) |
RU (1) | RU2004133559A (zh) |
TW (1) | TWI321581B (zh) |
WO (1) | WO2003089248A1 (zh) |
ZA (1) | ZA200408094B (zh) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030041001A1 (en) * | 2001-03-23 | 2003-02-27 | Restaurant Services Inc. ("RSI") | System, method and computer program product for an auction function in a supply chain management framework |
TW200307022A (en) * | 2002-03-19 | 2003-12-01 | W R Grance & Co Conn | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
TWI339643B (en) * | 2002-03-19 | 2011-04-01 | Grace W R & Co | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
TWI349024B (en) * | 2002-03-19 | 2011-09-21 | Grace W R & Co | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
GB0207179D0 (en) * | 2002-03-27 | 2002-05-08 | Ibm | A numeric processor, a numeric processing method, and a data processing apparatus or computer program incorporating a numeric processing mechanism |
US6896942B2 (en) * | 2002-04-17 | 2005-05-24 | W. R. Grace & Co. -Conn. | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
MXPA06000251A (es) * | 2003-07-11 | 2006-03-30 | Grace W R & Co | Particulas abrasivas para pulido quimico mecanico. |
JP2005088337A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Konica Minolta Holdings Inc | インクジェット記録媒体、その製造方法及びインクジェット画像形成方法 |
US20050142305A1 (en) * | 2003-11-06 | 2005-06-30 | Mitsuru Kobayashi | Ink jet recording sheet and method for producing thereof |
US7906188B2 (en) * | 2004-01-30 | 2011-03-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Porous silica coated inkjet recording material |
US7435450B2 (en) * | 2004-01-30 | 2008-10-14 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Surface modification of silica in an aqueous environment |
US7112629B2 (en) * | 2004-02-09 | 2006-09-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Print media products for generating high quality images and methods for making the same |
US20130000214A1 (en) * | 2006-01-11 | 2013-01-03 | Jia-Ni Chu | Abrasive Particles for Chemical Mechanical Polishing |
CL2007000734A1 (es) * | 2006-03-22 | 2008-05-02 | Grace W R & Co | Revestimiento de oxido inorganico transparente producido al preparar composicion de revestimiento que comprende particulas de oxido inorganico y polimero, aplicar composicion sobre sustrato, formar revestimiento y calentar el revestimiento para elimi |
WO2008041342A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-10 | Oji Paper Co., Ltd. | Recording sheet for ink jet printing |
JP2010519380A (ja) * | 2007-02-26 | 2010-06-03 | アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ | 顔料組成物 |
WO2009042073A2 (en) | 2007-09-21 | 2009-04-02 | Cabot Microelectronics Corporation | Polishing composition and method utilizing abrasive particles treated with an aminosilane |
PT2242740E (pt) | 2008-02-05 | 2013-02-06 | Sanofi Sa | Derivados de sf5 como inibidores do par1, sua preparação e utilização como produtos farmacêuticos |
EP2308098B1 (en) * | 2008-07-15 | 2012-02-01 | Dow Global Technologies LLC | Method of making a laminated glass/polyolefin film structure |
US9308761B2 (en) * | 2010-08-11 | 2016-04-12 | Seiko Epson Corporation | Ink jet printing method, ink set, and printed matter |
CN102423573B (zh) * | 2011-09-07 | 2013-11-27 | 蚌埠市华顺电动机械厂 | 一种汽车滤清器滤芯及其制备方法 |
EP2812487B1 (en) * | 2012-02-10 | 2017-12-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Composition and method for treating media |
US20150114928A1 (en) * | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Jia-Ni Chu | Abrasive Particles for Chemical Mechanical Polishing |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2244325A (en) * | 1940-04-15 | 1941-06-03 | Paul G Bird | Colloidal solutions of inorganic oxides |
US2574902A (en) * | 1948-12-15 | 1951-11-13 | Du Pont | Chemical processes and composition |
US2577484A (en) * | 1950-09-08 | 1951-12-04 | Du Pont | Process for producing stable silica sols |
US2577485A (en) * | 1950-09-08 | 1951-12-04 | Du Pont | Process of making stable silica sols and resulting composition |
US2631134A (en) * | 1951-11-07 | 1953-03-10 | Du Pont | Silica sol process |
US2773028A (en) * | 1952-04-29 | 1956-12-04 | Du Pont | Dialysis process |
US2750345A (en) * | 1954-02-25 | 1956-06-12 | Du Pont | Process for producing sols of 5-8 millimicron silica particles, and product |
US2892797A (en) * | 1956-02-17 | 1959-06-30 | Du Pont | Process for modifying the properties of a silica sol and product thereof |
US3012972A (en) * | 1959-02-20 | 1961-12-12 | Du Pont | Aqueous silica dispersions and their production |
US3440174A (en) * | 1965-04-26 | 1969-04-22 | Nalco Chemical Co | Method of making silica sols containing large particle size silica |
US3969266A (en) * | 1971-06-23 | 1976-07-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Microporous membrane process for making concentrated silica sols |
JP3198164B2 (ja) | 1992-09-09 | 2001-08-13 | 三菱製紙株式会社 | インクジェット記録用シート |
US5576088A (en) * | 1994-05-19 | 1996-11-19 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Ink jet recording sheet and process for its production |
CA2183723C (en) * | 1995-08-21 | 2006-11-21 | Bo Liu | Ink jet recording material and producing process thereof |
US5756226A (en) * | 1996-09-05 | 1998-05-26 | Sterling Diagnostic Imaging, Inc. | Transparent media for phase change ink printing |
US6086700A (en) * | 1996-09-05 | 2000-07-11 | Agfa-Gevaert N.V. | Transparent media for phase change ink printing |
US5966150A (en) * | 1996-11-27 | 1999-10-12 | Tektronix, Inc. | Method to improve solid ink output resolution |
JP4704564B2 (ja) | 1998-10-02 | 2011-06-15 | キャボット コーポレイション | シリカ分散体、コーティング組成物、及び記録媒体 |
EP1008457B1 (en) | 1998-12-02 | 2003-07-30 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Ink-jet recording sheet with image-protecting layer |
EP1016546B1 (en) | 1998-12-28 | 2004-05-19 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Ink-jet recording paper containing silica layers and method for its' manufacture |
TWI339643B (en) * | 2002-03-19 | 2011-04-01 | Grace W R & Co | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
TWI349024B (en) * | 2002-03-19 | 2011-09-21 | Grace W R & Co | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
TW200307022A (en) * | 2002-03-19 | 2003-12-01 | W R Grance & Co Conn | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
US6896942B2 (en) * | 2002-04-17 | 2005-05-24 | W. R. Grace & Co. -Conn. | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
-
2003
- 2003-03-18 US US10/391,270 patent/US6896942B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-19 IL IL16414003A patent/IL164140A0/xx unknown
- 2003-03-19 DK DK03714239T patent/DK1497137T3/da active
- 2003-03-19 PT PT03714239T patent/PT1497137E/pt unknown
- 2003-03-19 RU RU2004133559/12A patent/RU2004133559A/ru not_active Application Discontinuation
- 2003-03-19 PL PL372416A patent/PL205931B1/pl unknown
- 2003-03-19 AU AU2003218245A patent/AU2003218245A1/en not_active Abandoned
- 2003-03-19 JP JP2003585981A patent/JP2005523183A/ja active Pending
- 2003-03-19 AR ARP030100963A patent/AR039022A1/es unknown
- 2003-03-19 KR KR1020047014821A patent/KR101039565B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-03-19 EP EP03714239A patent/EP1497137B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-19 ES ES03714239T patent/ES2282610T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-19 WO PCT/US2003/008359 patent/WO2003089248A1/en active Search and Examination
- 2003-03-19 DE DE60311975T patent/DE60311975T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-19 CN CNB038114380A patent/CN100351100C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-19 BR BR0308561-9A patent/BR0308561A/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-03-19 AT AT03714239T patent/ATE354477T1/de active
- 2003-04-10 TW TW092108242A patent/TWI321581B/zh not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-10-07 ZA ZA200408094A patent/ZA200408094B/en unknown
- 2004-11-17 NO NO20044984A patent/NO20044984L/no not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL205931B1 (pl) | 2010-06-30 |
PT1497137E (pt) | 2007-05-31 |
CN1655946A (zh) | 2005-08-17 |
DE60311975T2 (de) | 2007-10-25 |
ATE354477T1 (de) | 2007-03-15 |
EP1497137A1 (en) | 2005-01-19 |
IL164140A0 (en) | 2005-12-18 |
US6896942B2 (en) | 2005-05-24 |
KR101039565B1 (ko) | 2011-06-09 |
DE60311975D1 (de) | 2007-04-05 |
CN100351100C (zh) | 2007-11-28 |
WO2003089248A1 (en) | 2003-10-30 |
RU2004133559A (ru) | 2005-05-27 |
NO20044984L (no) | 2004-12-17 |
AU2003218245A1 (en) | 2003-11-03 |
ES2282610T3 (es) | 2007-10-16 |
DK1497137T3 (da) | 2007-06-04 |
PL372416A1 (en) | 2005-07-25 |
BR0308561A (pt) | 2005-02-22 |
JP2005523183A (ja) | 2005-08-04 |
ZA200408094B (en) | 2005-05-27 |
TW200306337A (en) | 2003-11-16 |
EP1497137B1 (en) | 2007-02-21 |
AR039022A1 (es) | 2005-02-02 |
KR20040102046A (ko) | 2004-12-03 |
US20030198759A1 (en) | 2003-10-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI321581B (en) | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom | |
JP4328935B2 (ja) | 数珠状のシリカゾル、その製法及びインクジェット記録媒体 | |
JP4141386B2 (ja) | 酸化アルミニウムの分散液 | |
JP4305627B2 (ja) | 複合ゾル、その製造法及びインクジェット記録媒体 | |
JP2003238826A (ja) | 酸化アルミニウムまたは酸化チタンを有する炎内加水分解により得られた二酸化珪素−混合酸化物粒子を含有する安定な水性分散液、その製造法、インキ吸収層を形成させるための刷毛塗り用塗料、その製造法、インキ吸収性媒体およびその製造法 | |
JP2010501651A (ja) | アルミニウム酸化物の分散液、被覆組成物およびインク吸収媒体 | |
CN100343074C (zh) | 包含胶态二氧化硅的涂料组合物和由它制备的有光喷墨记录片材 | |
EP1464511A2 (en) | Ink jet recording sheet | |
JP2005280341A (ja) | インクジェット記録用シート | |
TW200307022A (en) | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom | |
JPWO2007007751A1 (ja) | 表面処理シリカゾル、その製造方法及びインクジェット記録媒体 | |
TW200307023A (en) | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom | |
JP2009241290A (ja) | インクジェット記録用シート | |
JP3847073B2 (ja) | 水性インク用染料定着剤、インクジェット記録媒体および多孔質ハイドロタルサイト化合物 | |
JP3513454B2 (ja) | インクジェット用記録媒体の製造方法 | |
JP2001179086A (ja) | インク吸収剤及びそれを用いた記録シート | |
JP2005178189A (ja) | インクジェット記録用シートの製造方法 | |
JP2007008131A (ja) | インクジェット記録シート |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |