JP2001179086A - インク吸収剤及びそれを用いた記録シート - Google Patents
インク吸収剤及びそれを用いた記録シートInfo
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- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
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- Ink Jet (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 インクの吸収性、光学濃度が高く、耐水性、
耐光性に優れたインク吸収剤およびそれを用いた記録用
シートを提供する。 【解決手段】 平均細孔径が10nmより大きく35n
mより小さいメソポーラスシリカを含有することを特徴
とするインク吸収剤および、上記のインク吸収剤を含有
することを特徴とする記録用シート。
耐光性に優れたインク吸収剤およびそれを用いた記録用
シートを提供する。 【解決手段】 平均細孔径が10nmより大きく35n
mより小さいメソポーラスシリカを含有することを特徴
とするインク吸収剤および、上記のインク吸収剤を含有
することを特徴とする記録用シート。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット用
記録シート等に用いられるインク吸収剤、およびそれを
用いた記録シートに関する。
記録シート等に用いられるインク吸収剤、およびそれを
用いた記録シートに関する。
【0002】
【従来の技術】インターネットやデジタルカメラの普及
により、高品位なフルカラー画像を紙等に出力する機会
が増えてきた。一方、インクジェット方式によるプリン
ターは、フルカラー化が容易であり、低コストで騒音が
少ないなどの特長を持つことから、これらの画像の出力
機器として、急速に普及しつつある。このインクジェッ
ト方式は、ノズルからインク液滴を高速で射出し、被記
録材に付着させて記録する方式であるが、インク中に多
量の溶媒を含み、インク液滴が連続的に射出されるた
め、記録シート上でインク液滴同士が互いに融合し、ド
ットが広がったり、色が混ざるなどという不具合が生じ
やすい。このため、インクジェット記録シートには、速
やかにインクを吸収し、ドットが重なってもインクが混
ざらず、しかもドット滲みがなく、高い光学濃度を有す
ることが要求されている。
により、高品位なフルカラー画像を紙等に出力する機会
が増えてきた。一方、インクジェット方式によるプリン
ターは、フルカラー化が容易であり、低コストで騒音が
少ないなどの特長を持つことから、これらの画像の出力
機器として、急速に普及しつつある。このインクジェッ
ト方式は、ノズルからインク液滴を高速で射出し、被記
録材に付着させて記録する方式であるが、インク中に多
量の溶媒を含み、インク液滴が連続的に射出されるた
め、記録シート上でインク液滴同士が互いに融合し、ド
ットが広がったり、色が混ざるなどという不具合が生じ
やすい。このため、インクジェット記録シートには、速
やかにインクを吸収し、ドットが重なってもインクが混
ざらず、しかもドット滲みがなく、高い光学濃度を有す
ることが要求されている。
【0003】そこで、インクジェットの記録シートとし
て、種々の有機物や無機物を、必要に応じバインダとと
もに基材に塗布あるいは内填することが提案されてい
る。例えば、紙、プラスチックフィルムなどの上に、ポ
リビニルアルコールなどの水溶性樹脂からなるインク受
容層を設けた記録シートや、シリカゲル等の充填材を含
有したインク受容層を設けた記録シートが知られている
(例えば、特開昭55−146786号公報、特開昭5
6−99692号公報、特開昭59−174381号公
報、特開平2−276670号公報など)。しかし、そ
れらはいずれもインクの吸収性、光学濃度、耐水性、耐
光性といった要求特性の点で十分満足できるものではな
かった。
て、種々の有機物や無機物を、必要に応じバインダとと
もに基材に塗布あるいは内填することが提案されてい
る。例えば、紙、プラスチックフィルムなどの上に、ポ
リビニルアルコールなどの水溶性樹脂からなるインク受
容層を設けた記録シートや、シリカゲル等の充填材を含
有したインク受容層を設けた記録シートが知られている
(例えば、特開昭55−146786号公報、特開昭5
6−99692号公報、特開昭59−174381号公
報、特開平2−276670号公報など)。しかし、そ
れらはいずれもインクの吸収性、光学濃度、耐水性、耐
光性といった要求特性の点で十分満足できるものではな
かった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術で
は得られていなかったインクの吸収性・光学濃度が高
く、耐水性、耐光性に優れたインク吸収剤、及びインク
吸収剤スラリー並びにそれらを用いた記録シートを提供
することを目的とする。
は得られていなかったインクの吸収性・光学濃度が高
く、耐水性、耐光性に優れたインク吸収剤、及びインク
吸収剤スラリー並びにそれらを用いた記録シートを提供
することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、以
下の1〜7のインク吸収剤、及びインク吸収剤スラリー
並びにそれらを用いた記録シートを提供するものであ
る。 1.平均細孔径が10nmより大きく35nmより小さ
いメソポーラスシリカを含有することを特徴とするイン
ク吸収剤。 2.メソポーラスシリカがアルカリ土類金属原子と亜鉛
原子から選ばれた一種以上の金属原子を含むことを特徴
とする上記1記載のインク吸収剤。
下の1〜7のインク吸収剤、及びインク吸収剤スラリー
並びにそれらを用いた記録シートを提供するものであ
る。 1.平均細孔径が10nmより大きく35nmより小さ
いメソポーラスシリカを含有することを特徴とするイン
ク吸収剤。 2.メソポーラスシリカがアルカリ土類金属原子と亜鉛
原子から選ばれた一種以上の金属原子を含むことを特徴
とする上記1記載のインク吸収剤。
【0006】3.メソポーラスシリカがシランカップリ
ング剤で表面処理されていることを特徴とする上記1又
は2記載のインク吸収剤。 4.紫外線吸収剤、ラジカル禁止剤、及び一重項酸素消
光剤の少なくとも1種以上を含有することを特徴とする
上記1〜3のいずれかに記載のインク吸収剤。 5.ポリビニルアルコール系のバインダを含有すること
を特徴とする上記1〜4のいずれかに記載のインク吸収
剤。 6.上記1〜5のいずれかに記載のインク吸収剤と溶剤
とからなるインク吸収剤スラリー。 7.上記1〜6のいずれかに記載のインク吸収剤を含有
することを特徴とする記録シート。
ング剤で表面処理されていることを特徴とする上記1又
は2記載のインク吸収剤。 4.紫外線吸収剤、ラジカル禁止剤、及び一重項酸素消
光剤の少なくとも1種以上を含有することを特徴とする
上記1〜3のいずれかに記載のインク吸収剤。 5.ポリビニルアルコール系のバインダを含有すること
を特徴とする上記1〜4のいずれかに記載のインク吸収
剤。 6.上記1〜5のいずれかに記載のインク吸収剤と溶剤
とからなるインク吸収剤スラリー。 7.上記1〜6のいずれかに記載のインク吸収剤を含有
することを特徴とする記録シート。
【0007】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
インク吸収剤は、平均細孔径が10nmより大きく35
nmより小さいメソポーラスシリカを含有することを特
徴とするものである。本発明のインク吸収剤に用いるメ
ソポーラスシリカは、10nmより大きく35nmより
小さいメソポア領域に平均細孔径を有するシリカ多孔体
で、粉末X線回折で明らかに結晶性が認められ、均一な
細孔を持つものである。シリカ含有量としては90重量
%以上が好ましく、原料に由来するナトリウムやテンプ
レート残さなどの不純物、アルミ、チタンなどのシリカ
骨格を置換している元素は10重量%未満が好ましい。
インク吸収剤は、平均細孔径が10nmより大きく35
nmより小さいメソポーラスシリカを含有することを特
徴とするものである。本発明のインク吸収剤に用いるメ
ソポーラスシリカは、10nmより大きく35nmより
小さいメソポア領域に平均細孔径を有するシリカ多孔体
で、粉末X線回折で明らかに結晶性が認められ、均一な
細孔を持つものである。シリカ含有量としては90重量
%以上が好ましく、原料に由来するナトリウムやテンプ
レート残さなどの不純物、アルミ、チタンなどのシリカ
骨格を置換している元素は10重量%未満が好ましい。
【0008】さらに、本発明に用いるメソポーラスシリ
カは、BET比表面積(窒素吸着比表面積)が好ましく
は400〜1400m2/g、より好ましくは500〜
1000m2/g、細孔容積が好ましくは1〜4cc/
gの多孔構造を持つものである。比表面積が400m2
/g未満もしくは細孔容積が1cc/g未満の場合、イ
ンク吸収性が不十分となる恐れがある。平均粒子径は、
0.02〜20μmであることが好ましく、より好まし
くは0.02〜10μmである。平均粒子径が20μm
よりも大きい場合、記録シートの平滑性が失われること
があるので好ましくない。
カは、BET比表面積(窒素吸着比表面積)が好ましく
は400〜1400m2/g、より好ましくは500〜
1000m2/g、細孔容積が好ましくは1〜4cc/
gの多孔構造を持つものである。比表面積が400m2
/g未満もしくは細孔容積が1cc/g未満の場合、イ
ンク吸収性が不十分となる恐れがある。平均粒子径は、
0.02〜20μmであることが好ましく、より好まし
くは0.02〜10μmである。平均粒子径が20μm
よりも大きい場合、記録シートの平滑性が失われること
があるので好ましくない。
【0009】上記特性を満たし、アルカリ土類金属原子
と亜鉛原子から選ばれた一種以上の金属原子を含むメソ
ポーラスシリカを含有すると、耐水性、耐光性がさらに
向上する。また、上記特性を満たし、シランカップリン
グ剤により表面処理をしたメソポーラスシリカを含有す
ると、耐光性が向上する。
と亜鉛原子から選ばれた一種以上の金属原子を含むメソ
ポーラスシリカを含有すると、耐水性、耐光性がさらに
向上する。また、上記特性を満たし、シランカップリン
グ剤により表面処理をしたメソポーラスシリカを含有す
ると、耐光性が向上する。
【0010】本発明に用いるメソポーラスシリカの合成
方法は、平均細孔径が10nmより大きく35nmより
小さいメソポーラスシリカが得られれば、特に限定され
るものではない。例えば、米国特許第3556725号
明細書に記載されている、シリカのアルコキシドをシリ
カ源とし、長鎖のアルキルを含む4級アンモニウム塩を
テンプレートとした合成法を用いることができる。ま
た、特表平5−503499号公報等に合成法が記載さ
れているアモルファスシリカ粉末やアルカリシリケート
水溶液をシリカ源とし、長鎖のアルキル基を有する4級
アンモニウム塩、あるいはホスホニウム塩をテンプレー
トとする水熱合成法により合成する方法を用いることも
できる。
方法は、平均細孔径が10nmより大きく35nmより
小さいメソポーラスシリカが得られれば、特に限定され
るものではない。例えば、米国特許第3556725号
明細書に記載されている、シリカのアルコキシドをシリ
カ源とし、長鎖のアルキルを含む4級アンモニウム塩を
テンプレートとした合成法を用いることができる。ま
た、特表平5−503499号公報等に合成法が記載さ
れているアモルファスシリカ粉末やアルカリシリケート
水溶液をシリカ源とし、長鎖のアルキル基を有する4級
アンモニウム塩、あるいはホスホニウム塩をテンプレー
トとする水熱合成法により合成する方法を用いることも
できる。
【0011】さらに、特開平4−238810号公報等
に記載されている、シリカ源としてカネマイト等の層状
珪酸塩を、長鎖のアルキルアンモニウムカチオン等をテ
ンプレートとして、イオン交換法により合成する方法を
用いることができる。その他にドデシルアミンやヘキサ
デシルアミン等のアミンをテンプレートとして、活性シ
リカをシリカ源として合成する方法、あるいは、D.Z
haoらの報文〔J.Am.Chem.Soc.,Vo
l.120,P6024−6036(1998)〕に記
載されているように、高分子量の非イオン性界面活性剤
であるトリブロックコポリマーなどをテンプレートと
し、シリカのアルコキシドをシリカ源として,酸性領域
で合成する方法をとることもできる。
に記載されている、シリカ源としてカネマイト等の層状
珪酸塩を、長鎖のアルキルアンモニウムカチオン等をテ
ンプレートとして、イオン交換法により合成する方法を
用いることができる。その他にドデシルアミンやヘキサ
デシルアミン等のアミンをテンプレートとして、活性シ
リカをシリカ源として合成する方法、あるいは、D.Z
haoらの報文〔J.Am.Chem.Soc.,Vo
l.120,P6024−6036(1998)〕に記
載されているように、高分子量の非イオン性界面活性剤
であるトリブロックコポリマーなどをテンプレートと
し、シリカのアルコキシドをシリカ源として,酸性領域
で合成する方法をとることもできる。
【0012】アルカリ土類金属原子と亜鉛原子から選ば
れた一種以上の金属原子を含むメソポーラスシリカの合
成方法は、特に限定されるものではない。例えば、上述
した合成方法で合成したメソポーラスシリカのスラリー
と金属原子を含む溶液あるいはスラリーを混合し、沈着
あるいは反応させる方法によって得ることができる。ま
た、メソポーラスシリカのスラリーに金属塩等を直接添
加し、沈着あるいは反応させる方法をとることもでき
る。
れた一種以上の金属原子を含むメソポーラスシリカの合
成方法は、特に限定されるものではない。例えば、上述
した合成方法で合成したメソポーラスシリカのスラリー
と金属原子を含む溶液あるいはスラリーを混合し、沈着
あるいは反応させる方法によって得ることができる。ま
た、メソポーラスシリカのスラリーに金属塩等を直接添
加し、沈着あるいは反応させる方法をとることもでき
る。
【0013】あるいは、メソポーラスシリカを合成する
際に、金属塩等を添加して含有させる方法をとることも
できる。金属原子としては、カルシウム、マグネシウ
ム、亜鉛が好ましい。金属原子の含有量は、酸化物基準
でメソポーラスシリカ100重量部に対し、0.5〜2
0重量部含有することが好ましく、より好ましくは1〜
10重量部である。
際に、金属塩等を添加して含有させる方法をとることも
できる。金属原子としては、カルシウム、マグネシウ
ム、亜鉛が好ましい。金属原子の含有量は、酸化物基準
でメソポーラスシリカ100重量部に対し、0.5〜2
0重量部含有することが好ましく、より好ましくは1〜
10重量部である。
【0014】メソポーラスシリカのシランカップリング
剤による表面処理の方法は、乾式法や湿式法などの公知
のシランカップリング処理方法を用いることができる。
たとえば、メソポーラスシリカを撹拌混合しながらシラ
ンカップリング剤の溶液あるいはスラリーを噴霧し、付
着あるいは反応させる方法を用いることができる。ま
た、メソポーラスシリカのスラリーに、シランカップリ
ング剤あるいはその溶液、スラリーを混合し付着あるい
は反応させる方法を用いることもできる。
剤による表面処理の方法は、乾式法や湿式法などの公知
のシランカップリング処理方法を用いることができる。
たとえば、メソポーラスシリカを撹拌混合しながらシラ
ンカップリング剤の溶液あるいはスラリーを噴霧し、付
着あるいは反応させる方法を用いることができる。ま
た、メソポーラスシリカのスラリーに、シランカップリ
ング剤あるいはその溶液、スラリーを混合し付着あるい
は反応させる方法を用いることもできる。
【0015】メソポーラスシリカを合成する際に、シラ
ンカップリング剤を添加し表面処理することもできる。
例えば、合成時にシリカ源として用いられているシリカ
のアルコキシドであるテトラエトキシシランの一部を3
−アミノプロピルトリエトキシシランやメチルトリエト
キシシランなどで代替することにより合成することがで
きる。
ンカップリング剤を添加し表面処理することもできる。
例えば、合成時にシリカ源として用いられているシリカ
のアルコキシドであるテトラエトキシシランの一部を3
−アミノプロピルトリエトキシシランやメチルトリエト
キシシランなどで代替することにより合成することがで
きる。
【0016】本発明に用いるシランカップリング剤は、
従来公知のいずれのシランカップリング剤でもよいが、
疎水性のあまり高くない官能基を有するシランカップリ
ング剤が好ましい。具体的な官能基としては、アミノ
基、エポキシ基、4級化アンモニウム塩基、メルカプト
基、グリシドキシ基またはメタクリル基が好ましい。特
に、アミノ基、4級化アンモニウム塩基がより好まし
い。本発明において用いられるシランカップリング剤
は、単独でも2種以上を組み合わせてもよく、メソポー
ラスシリカ100重量部に対し、0.2〜20重量部、
より好ましくは1〜15重量部の割合で用いることが好
ましい。
従来公知のいずれのシランカップリング剤でもよいが、
疎水性のあまり高くない官能基を有するシランカップリ
ング剤が好ましい。具体的な官能基としては、アミノ
基、エポキシ基、4級化アンモニウム塩基、メルカプト
基、グリシドキシ基またはメタクリル基が好ましい。特
に、アミノ基、4級化アンモニウム塩基がより好まし
い。本発明において用いられるシランカップリング剤
は、単独でも2種以上を組み合わせてもよく、メソポー
ラスシリカ100重量部に対し、0.2〜20重量部、
より好ましくは1〜15重量部の割合で用いることが好
ましい。
【0017】本発明のインク吸収剤のメソポーラスシリ
カの含有量は、使用形態によって特に限定されるもので
はないが、10重量%以上の含有量が好ましい。より好
ましくは、30重量%以上含有することである。その他
の成分としては特に限定されるものではないが、使用目
的、形態に応じて、バインダ、顔料などを用いることが
できる。バインダとしては、でんぷんやその変性物、ポ
リビニルアルコール(以下PVAと称す)およびその変
性物などの水溶性樹脂やラテックス、エマルジョンなど
の従来公知の有機物を用いることができる。
カの含有量は、使用形態によって特に限定されるもので
はないが、10重量%以上の含有量が好ましい。より好
ましくは、30重量%以上含有することである。その他
の成分としては特に限定されるものではないが、使用目
的、形態に応じて、バインダ、顔料などを用いることが
できる。バインダとしては、でんぷんやその変性物、ポ
リビニルアルコール(以下PVAと称す)およびその変
性物などの水溶性樹脂やラテックス、エマルジョンなど
の従来公知の有機物を用いることができる。
【0018】特に、PVA系バインダを用いるのが好ま
しい。PVA系バインダとしては、通常のPVAのほ
か、カチオン変性PVAやシラノール変性PVAを用い
てもよい。バインダは、インク吸収剤中のメソポーラス
シリカ100重量部に対し、通常5〜300重量部の範
囲で用いられる。前記顔料としては、シリカゲル、炭酸
カルシウム、カオリン、ゼオライト、アルミナ等があげ
られる。
しい。PVA系バインダとしては、通常のPVAのほ
か、カチオン変性PVAやシラノール変性PVAを用い
てもよい。バインダは、インク吸収剤中のメソポーラス
シリカ100重量部に対し、通常5〜300重量部の範
囲で用いられる。前記顔料としては、シリカゲル、炭酸
カルシウム、カオリン、ゼオライト、アルミナ等があげ
られる。
【0019】また、上記のバインダ、顔料の他にインク
吸収剤中に含有される成分には使用目的に応じて、紫外
線吸収剤、ラジカル禁止剤、一重項酸素消光剤、退色防
止剤、耐水化剤,分散剤、増粘剤、消泡剤等の公知の添
加剤を用いることができる。
吸収剤中に含有される成分には使用目的に応じて、紫外
線吸収剤、ラジカル禁止剤、一重項酸素消光剤、退色防
止剤、耐水化剤,分散剤、増粘剤、消泡剤等の公知の添
加剤を用いることができる。
【0020】耐水化剤としては、例えばポリエチレンイ
ミン、ポリアミド尿素樹脂,ポリアミド樹脂などのカチ
オン性樹脂、具体的にはスミレーズレジン1001(住
友化学工業商品名)、KSR−100K(三洋化成工業
商品名)などを用いることができる。
ミン、ポリアミド尿素樹脂,ポリアミド樹脂などのカチ
オン性樹脂、具体的にはスミレーズレジン1001(住
友化学工業商品名)、KSR−100K(三洋化成工業
商品名)などを用いることができる。
【0021】特に、紫外線吸収剤、ラジカル禁止剤、及
び一重項酸素消光剤(以下、これらを安定化剤と称す
る。)のうち少なくとも1種以上を含むと耐光性が向上
するため好ましい。
び一重項酸素消光剤(以下、これらを安定化剤と称す
る。)のうち少なくとも1種以上を含むと耐光性が向上
するため好ましい。
【0022】本発明に用いられる安定化剤は、印刷され
インク吸収剤に吸収されたインクの退色などの劣化を防
止するために耐光性が向上する効果があり、且つ劣化防
止の効果があれば、その種類は特に限定されるものでは
ない。また、印刷に使用されたインクやその劣化機構に
より最適なものは当然異なるが、ポリマーやカラー写真
などの劣化防止剤に使用されるものの多くが使用でき
る。これらの安定化剤は、単独で添加してもそれぞれを
組合わせて使用してもよい。また、同一の化合物の中に
紫外線吸収、ラジカル禁止、一重項酸素消光の効果を示
す構造を有するものであってもよい。
インク吸収剤に吸収されたインクの退色などの劣化を防
止するために耐光性が向上する効果があり、且つ劣化防
止の効果があれば、その種類は特に限定されるものでは
ない。また、印刷に使用されたインクやその劣化機構に
より最適なものは当然異なるが、ポリマーやカラー写真
などの劣化防止剤に使用されるものの多くが使用でき
る。これらの安定化剤は、単独で添加してもそれぞれを
組合わせて使用してもよい。また、同一の化合物の中に
紫外線吸収、ラジカル禁止、一重項酸素消光の効果を示
す構造を有するものであってもよい。
【0023】紫外線吸収の効果のあるものとしては、特
に限定されるものではないが、有機物系としてはサリチ
ル酸系、ベンゾフェノン系、ベンズトリアゾール系、シ
アノアクリレート系、ベンゾエート系、ヒンダードアミ
ン系などが挙げられ、無機物系としては酸化チタン、酸
化セリウム、酸化亜鉛等の金属酸化物の微粒子が挙げら
れる。化合物自身が無色で白地を汚さず、しかもこれ自
身の光安定性が優れているものが好ましく、ベンゾトリ
アゾール系がもっとも好ましい。
に限定されるものではないが、有機物系としてはサリチ
ル酸系、ベンゾフェノン系、ベンズトリアゾール系、シ
アノアクリレート系、ベンゾエート系、ヒンダードアミ
ン系などが挙げられ、無機物系としては酸化チタン、酸
化セリウム、酸化亜鉛等の金属酸化物の微粒子が挙げら
れる。化合物自身が無色で白地を汚さず、しかもこれ自
身の光安定性が優れているものが好ましく、ベンゾトリ
アゾール系がもっとも好ましい。
【0024】ラジカル禁止の効果のあるものとしては、
モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノ
ール系などのフェノール系、ヒドロキノン系、有機イオ
ウ系、ホスファイト系、アミン系が挙げられるが、ヒド
ロキノン系がもっとも好ましい。一重項酸素消光の効果
のあるものとしては、アニリン誘導体、有機ニッケル
系、スピロクロマン系、スピロインダン系などが挙げら
れるが、アニリン誘導体がもっとも好ましい。
モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノ
ール系などのフェノール系、ヒドロキノン系、有機イオ
ウ系、ホスファイト系、アミン系が挙げられるが、ヒド
ロキノン系がもっとも好ましい。一重項酸素消光の効果
のあるものとしては、アニリン誘導体、有機ニッケル
系、スピロクロマン系、スピロインダン系などが挙げら
れるが、アニリン誘導体がもっとも好ましい。
【0025】安定化剤としては具体的に、スミライザ
ー、スミソーブ(住友化学商品名)、アデカスタブ(旭
電化商品名)、IRGANOX、TINUVIN(チバ
・スペシャリティ・ケミカルス商品名)、OHM−S
P、88HQ、TSB(富士写真フィルム商品名)、ニ
ードラール(多木化学商品名)、酸化亜鉛超微粒子Zn
O−305(住友大阪セメント商品名)などを使用する
ことができる。
ー、スミソーブ(住友化学商品名)、アデカスタブ(旭
電化商品名)、IRGANOX、TINUVIN(チバ
・スペシャリティ・ケミカルス商品名)、OHM−S
P、88HQ、TSB(富士写真フィルム商品名)、ニ
ードラール(多木化学商品名)、酸化亜鉛超微粒子Zn
O−305(住友大阪セメント商品名)などを使用する
ことができる。
【0026】本発明における安定化剤の添加量は特に限
定されるものではないが、少なすぎるとインクの劣化を
防止する効果が少なく、多すぎるとインク吸収剤として
の解像度や耐水性などの性能を劣化する恐れがある。よ
って、その添加量はメソポーラスシリカ100重量部に
対して0.01重量部〜10重量部が好ましく、より好
ましくは0.1重量部〜5重量部である。
定されるものではないが、少なすぎるとインクの劣化を
防止する効果が少なく、多すぎるとインク吸収剤として
の解像度や耐水性などの性能を劣化する恐れがある。よ
って、その添加量はメソポーラスシリカ100重量部に
対して0.01重量部〜10重量部が好ましく、より好
ましくは0.1重量部〜5重量部である。
【0027】安定化剤を添加する方法としては、インク
吸収剤に均一に分散させる方法と、インク吸収剤に不均
一に分散させる方法がある。均一に分散させる方法とし
ては、インク吸収スラリーの段階で添加する方法などが
ある。不均一に分散させるのは、インク吸収剤に吸収さ
れたインクの退色などの劣化をより効果的に防止する目
的で、インク吸収剤や記録シートの必要な部位に、高濃
度で分散させるため行うものである。
吸収剤に均一に分散させる方法と、インク吸収剤に不均
一に分散させる方法がある。均一に分散させる方法とし
ては、インク吸収スラリーの段階で添加する方法などが
ある。不均一に分散させるのは、インク吸収剤に吸収さ
れたインクの退色などの劣化をより効果的に防止する目
的で、インク吸収剤や記録シートの必要な部位に、高濃
度で分散させるため行うものである。
【0028】不均一に分散させる方法としては、特に限
定するものではないが、以下のような方法が挙げられ
る。インク吸収剤中のメソポーラスシリカに選択的に高
濃度に添加する方法として、メソポーラスシリカをアル
コールなどの溶媒に分散した液に、安定化剤を添加し
て、メソポーラスシリカに吸着させた後、溶媒を除去す
るか、あるいはそのままの状態で、バインダーなどと混
合する方法。一方、バインダーに選択的に高濃度に添加
する方法として、バインダーを溶媒に分散または溶解し
た液に、安定化剤を添加して、バインダーに吸着させた
後、溶媒を除去またはそのままの状態で、メソポーラス
シリカなどと混合する方法があげられる。
定するものではないが、以下のような方法が挙げられ
る。インク吸収剤中のメソポーラスシリカに選択的に高
濃度に添加する方法として、メソポーラスシリカをアル
コールなどの溶媒に分散した液に、安定化剤を添加し
て、メソポーラスシリカに吸着させた後、溶媒を除去す
るか、あるいはそのままの状態で、バインダーなどと混
合する方法。一方、バインダーに選択的に高濃度に添加
する方法として、バインダーを溶媒に分散または溶解し
た液に、安定化剤を添加して、バインダーに吸着させた
後、溶媒を除去またはそのままの状態で、メソポーラス
シリカなどと混合する方法があげられる。
【0029】また、記録シートの表面に近い側に高濃度
に添加する方法としては、安定化剤を高濃度と低濃度に
含むインク吸収剤剤スラリーを用意し、まず基材に安定
化剤を低濃度に含むインク吸収剤スラリーを塗布し、そ
の後その上に安定化剤を高濃度に含むインク吸収剤スラ
リーを塗布する方法があげられる。その他、基材に、安
定化剤を全く含まないまたは低濃度に含むインク吸収剤
スラリーを塗布したのち、安定化剤を含む溶媒を塗布す
るか、または含浸させる方法も可能である。
に添加する方法としては、安定化剤を高濃度と低濃度に
含むインク吸収剤剤スラリーを用意し、まず基材に安定
化剤を低濃度に含むインク吸収剤スラリーを塗布し、そ
の後その上に安定化剤を高濃度に含むインク吸収剤スラ
リーを塗布する方法があげられる。その他、基材に、安
定化剤を全く含まないまたは低濃度に含むインク吸収剤
スラリーを塗布したのち、安定化剤を含む溶媒を塗布す
るか、または含浸させる方法も可能である。
【0030】本発明のインク吸収剤の形状は、粉体であ
っても、塊状物であっても、練り状物であっても良く、
合成樹脂フィルムや紙等の基材の表面にコーティングす
るか、あるいは内填してインク吸収要素とすることがで
きるものであれば形状は限定されない。
っても、塊状物であっても、練り状物であっても良く、
合成樹脂フィルムや紙等の基材の表面にコーティングす
るか、あるいは内填してインク吸収要素とすることがで
きるものであれば形状は限定されない。
【0031】本発明の記録シートでは、上述したインク
吸収剤を、合成樹脂フィルムや紙等の基材の表面にコー
ティングするか、あるいは内填してインク吸収要素とす
る。使用する基材としては、合成樹脂フィルムまたは紙
などがあげられる。合成樹脂フィルムとしては、例え
ば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ
エステルアミド、ポリ塩化ビニルなどを使用することが
できる。さらにこれらの共重合体やブレンド物や架橋し
たもの、あるいは顔料を練りこんで不透明化したフィル
ム、発泡フィルム、光沢フィルムなどを用いることもで
きる。
吸収剤を、合成樹脂フィルムや紙等の基材の表面にコー
ティングするか、あるいは内填してインク吸収要素とす
る。使用する基材としては、合成樹脂フィルムまたは紙
などがあげられる。合成樹脂フィルムとしては、例え
ば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ
エステルアミド、ポリ塩化ビニルなどを使用することが
できる。さらにこれらの共重合体やブレンド物や架橋し
たもの、あるいは顔料を練りこんで不透明化したフィル
ム、発泡フィルム、光沢フィルムなどを用いることもで
きる。
【0032】上記基材の中でもポリエステル、好ましく
はポリエチレンテレフタレートが機械的特性、作業性な
どの点から好ましい。また、紙としては、例えば、上質
紙、中質紙、アート紙、キャストコート紙、塗工紙、合
成紙、樹脂被覆紙などが使用できる。合成樹脂フィル
ム、紙以外にも木綿、レーヨン、アクリルなどの布、ガ
ラス板、金属なども用途に応じて使用できる。基材の厚
みもとくに制限はないが、通常10〜200μmのもの
が多く使用される。
はポリエチレンテレフタレートが機械的特性、作業性な
どの点から好ましい。また、紙としては、例えば、上質
紙、中質紙、アート紙、キャストコート紙、塗工紙、合
成紙、樹脂被覆紙などが使用できる。合成樹脂フィル
ム、紙以外にも木綿、レーヨン、アクリルなどの布、ガ
ラス板、金属なども用途に応じて使用できる。基材の厚
みもとくに制限はないが、通常10〜200μmのもの
が多く使用される。
【0033】インク吸収剤を基材表面にコーティングす
る手段は、例えば、インク吸収剤をダイコーター、ロー
ルコーター、ロッドコーター、ブレードコーター、エア
ナイフコーター等の各種公知の方法を用いて塗布し、乾
燥する方法を用いることができる。また、基材をインク
吸収剤に浸漬するディップコート法やインク吸収剤を基
材に吹きつけるスプレイ法、成形面にインク吸収剤をコ
ーティングし、基材に転写する方法などを用いることも
できる。
る手段は、例えば、インク吸収剤をダイコーター、ロー
ルコーター、ロッドコーター、ブレードコーター、エア
ナイフコーター等の各種公知の方法を用いて塗布し、乾
燥する方法を用いることができる。また、基材をインク
吸収剤に浸漬するディップコート法やインク吸収剤を基
材に吹きつけるスプレイ法、成形面にインク吸収剤をコ
ーティングし、基材に転写する方法などを用いることも
できる。
【0034】コーティングする際は、インク吸収剤と溶
剤を混合したスラリーを用いることができる。インク吸
収剤と溶剤を混合したスラリーは、インク吸収剤の構成
成分と溶剤を同時に混合しても構わないが、インク吸収
剤の構成成分であるメソポーラスシリカの分散液とそれ
以外の構成成分であるバインダ等を分散した液を別々に
調製した後、両者を合わせてスラリーとし、コーティン
グに用いることもできる。
剤を混合したスラリーを用いることができる。インク吸
収剤と溶剤を混合したスラリーは、インク吸収剤の構成
成分と溶剤を同時に混合しても構わないが、インク吸収
剤の構成成分であるメソポーラスシリカの分散液とそれ
以外の構成成分であるバインダ等を分散した液を別々に
調製した後、両者を合わせてスラリーとし、コーティン
グに用いることもできる。
【0035】インク吸収剤スラリーに用いる溶剤は、コ
ーティング方法や用いるバインダ等により特に限定され
るものではないが、エタノール、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等
の公知の各種有機溶剤や水が使用できる。インク吸収剤
スラリー中のインク吸収剤の含有量は、コーティング方
法や使用形態によって変動し、特に限定されるものでは
ないが、5重量%以上の含有量が好ましく、より好まし
くは10重量%以上を含有することが好ましい。
ーティング方法や用いるバインダ等により特に限定され
るものではないが、エタノール、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等
の公知の各種有機溶剤や水が使用できる。インク吸収剤
スラリー中のインク吸収剤の含有量は、コーティング方
法や使用形態によって変動し、特に限定されるものでは
ないが、5重量%以上の含有量が好ましく、より好まし
くは10重量%以上を含有することが好ましい。
【0036】基材は、必要に応じて、コーティング前に
空気中あるいはその他の雰囲気中でコロナ放電処理やプ
ライマー処理などの公知の表面処理をすることで、イン
ク吸収剤のコーティング性や接着性などを改善すること
ができる。また、多層にコーティングする、基材の両面
にコーティングする、あるいは保護層や光沢層、接着層
など物性の異なる層を積層するなどしてもよい。
空気中あるいはその他の雰囲気中でコロナ放電処理やプ
ライマー処理などの公知の表面処理をすることで、イン
ク吸収剤のコーティング性や接着性などを改善すること
ができる。また、多層にコーティングする、基材の両面
にコーティングする、あるいは保護層や光沢層、接着層
など物性の異なる層を積層するなどしてもよい。
【0037】コーティングの厚みは、1〜100μm、
好ましくは5〜50μm、より好ましくは5〜30μm
が適当である。コーティング層中のメソポーラスシリカ
の含有量は0.5〜30g/m2が好ましく、より好ま
しくは0.5〜15g/m2である。メソポーラスシリ
カの含有量が0.5g/m2未満になるとインクの吸収
性が不足する可能性がある。
好ましくは5〜50μm、より好ましくは5〜30μm
が適当である。コーティング層中のメソポーラスシリカ
の含有量は0.5〜30g/m2が好ましく、より好ま
しくは0.5〜15g/m2である。メソポーラスシリ
カの含有量が0.5g/m2未満になるとインクの吸収
性が不足する可能性がある。
【0038】インク吸収剤は基材に内填することが可能
であり、その手段は、例えば、紙の場合は、抄紙用スラ
リーに前記インク吸収剤またはインク吸収剤を含有した
スラリーを添加して抄紙する方法を用いることができ
る。また、インク吸収剤を合成樹脂等と混ぜ、キャステ
ィング法、押出法、カレンダー法などによりフィルム状
あるいはシート状に成形する方法も用いることができ
る。合成樹脂としては、特に制限はないが、ビニルアル
コール系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミ
ノ酸系樹脂等で、透水性の高いものが好ましい。シート
全体を基準としたメソポーラスシリカの含有量は、0.
5〜30重量%が好ましい。
であり、その手段は、例えば、紙の場合は、抄紙用スラ
リーに前記インク吸収剤またはインク吸収剤を含有した
スラリーを添加して抄紙する方法を用いることができ
る。また、インク吸収剤を合成樹脂等と混ぜ、キャステ
ィング法、押出法、カレンダー法などによりフィルム状
あるいはシート状に成形する方法も用いることができ
る。合成樹脂としては、特に制限はないが、ビニルアル
コール系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミ
ノ酸系樹脂等で、透水性の高いものが好ましい。シート
全体を基準としたメソポーラスシリカの含有量は、0.
5〜30重量%が好ましい。
【0039】
【発明の実施の形態】以下実施例をあげて本発明の実施
の形態を具体的に説明するが、本発明はこの実施例によ
り何ら制限されるものではない。なお、実施例におい
て、平均細孔径、細孔容積、及び比表面積は、カンタク
ロム社製オートソーブ−1を用い、窒素により測定し
た。比表面積はBET法により求めた。平均粒子径は、
(株)島津製作所製レーザー回折式粒度分布計SALD
−1100により測定した。メソポーラスシリカ中のシ
リカ含有量は、550℃焼成後の試料のシリカ含有量が
100%として、550℃焼成前後の重量差から求め
た。インク吸収剤層中のメソポーラスシリカの含有量
は、コーティングしたインク吸収剤層の乾燥後の重量
と、スラリー中に仕込んだメソポーラスシリカとバイン
ダの重量比から求めた。
の形態を具体的に説明するが、本発明はこの実施例によ
り何ら制限されるものではない。なお、実施例におい
て、平均細孔径、細孔容積、及び比表面積は、カンタク
ロム社製オートソーブ−1を用い、窒素により測定し
た。比表面積はBET法により求めた。平均粒子径は、
(株)島津製作所製レーザー回折式粒度分布計SALD
−1100により測定した。メソポーラスシリカ中のシ
リカ含有量は、550℃焼成後の試料のシリカ含有量が
100%として、550℃焼成前後の重量差から求め
た。インク吸収剤層中のメソポーラスシリカの含有量
は、コーティングしたインク吸収剤層の乾燥後の重量
と、スラリー中に仕込んだメソポーラスシリカとバイン
ダの重量比から求めた。
【0040】また、本実施例では以下の方法で印字特性
の評価を行った。作成した記録シートに市販インクジェ
ットプリンター(セイコー・エプソン製、PM−750
C)で、イエロー、マゼンダ、シアン、ブラック、グリ
ーン、レッド、ブルーのベタ印字をおこなったものを用
いた。
の評価を行った。作成した記録シートに市販インクジェ
ットプリンター(セイコー・エプソン製、PM−750
C)で、イエロー、マゼンダ、シアン、ブラック、グリ
ーン、レッド、ブルーのベタ印字をおこなったものを用
いた。
【0041】評価項目は以下に示したものである。 1)印字性:印字部のインクのはじき、境目の滲みの程
度を目視判定した。 ○:滲みなし △:やや滲む ×:かなり滲む 2)インク乾燥性:印字直後に印字部を白紙で押さえ、
インクが転写の程度を判定した。 ○:60秒後に転写なし △:90秒後に転写なし
×:90秒後に転写 3)耐水性:印字した記録シートを水中に2分間浸積し
たのち、室温で乾燥し、インクの滲み、流失の程度を目
視判定した。 ◎:インク流れ極小 ○:インク流れ小 △:インク流れ中 ×:インク流れ大
度を目視判定した。 ○:滲みなし △:やや滲む ×:かなり滲む 2)インク乾燥性:印字直後に印字部を白紙で押さえ、
インクが転写の程度を判定した。 ○:60秒後に転写なし △:90秒後に転写なし
×:90秒後に転写 3)耐水性:印字した記録シートを水中に2分間浸積し
たのち、室温で乾燥し、インクの滲み、流失の程度を目
視判定した。 ◎:インク流れ極小 ○:インク流れ小 △:インク流れ中 ×:インク流れ大
【0042】4)耐光性:印字した記録シートに、卓上
型促進耐候暴露装置サンテストCPS+(東洋精機製)
を用い、ブラックパネル温度60℃、ウインドガラスフ
ィルター使用、放射照度765W/m2の条件で照射し
た。60時間照射前後のブラックの光学濃度を測定し、
濃度の変化率を求めた。光学濃度の測定は、反射濃度計
(グレタグマクベス製、RD−918)を用いておこな
った。 ◎:退色度小 ○:退色度中 ×:退色度大 5)印字濃度:ブラックの印字部の光学濃度をグレタグ
マクベス社製反射濃度計RD−918で測定した。
型促進耐候暴露装置サンテストCPS+(東洋精機製)
を用い、ブラックパネル温度60℃、ウインドガラスフ
ィルター使用、放射照度765W/m2の条件で照射し
た。60時間照射前後のブラックの光学濃度を測定し、
濃度の変化率を求めた。光学濃度の測定は、反射濃度計
(グレタグマクベス製、RD−918)を用いておこな
った。 ◎:退色度小 ○:退色度中 ×:退色度大 5)印字濃度:ブラックの印字部の光学濃度をグレタグ
マクベス社製反射濃度計RD−918で測定した。
【0043】
【実施例】実施例1 水662gにテンプレートとしエチレンオキシドとプロ
ピレンオキシドのトリブロックコポリマーであるPlu
ronic P123(BASF社製)を25gと塩酸
125mlを加え35℃で撹拌溶解させた。これに3
7.5gの1,3,5トリメチルベンゼンを撹拌しなが
ら加えた。さらにテトラエトキシシラン52gを撹拌し
ながら添加し、35℃で20時間撹拌し、80℃で48
時間静置した。得られた複合体を濾過し、水洗後48時
間風乾し、シリカとテンプレートの複合体粉末を得た。
この粉末をエタノールに分散し、60℃で処理し、濾過
した。この操作を5回くり返した。次いで、室温で風乾
後、70℃で乾燥し、メソポーラスシリカを得た。
ピレンオキシドのトリブロックコポリマーであるPlu
ronic P123(BASF社製)を25gと塩酸
125mlを加え35℃で撹拌溶解させた。これに3
7.5gの1,3,5トリメチルベンゼンを撹拌しなが
ら加えた。さらにテトラエトキシシラン52gを撹拌し
ながら添加し、35℃で20時間撹拌し、80℃で48
時間静置した。得られた複合体を濾過し、水洗後48時
間風乾し、シリカとテンプレートの複合体粉末を得た。
この粉末をエタノールに分散し、60℃で処理し、濾過
した。この操作を5回くり返した。次いで、室温で風乾
後、70℃で乾燥し、メソポーラスシリカを得た。
【0044】この試料のX線回折図には、d値=14.
7nmにピークが見られた(以下、試料Aと称する)。
試料Aをセイシン企業製ジェットミルで粉砕し、平均粒
子径6.7μmの試料を得た(以下、試料A1と称す
る)。試料A1の比表面積は530m2/g、細孔容積
は1.13cc/g、メソポア領域の平均細孔径は1
5.0nmであった。
7nmにピークが見られた(以下、試料Aと称する)。
試料Aをセイシン企業製ジェットミルで粉砕し、平均粒
子径6.7μmの試料を得た(以下、試料A1と称す
る)。試料A1の比表面積は530m2/g、細孔容積
は1.13cc/g、メソポア領域の平均細孔径は1
5.0nmであった。
【0045】試料A1と水を混合し、メソポーラスシリ
カ濃度16.7重量%の分散液を作成した。これと、カ
チオンPVAの10重量%水溶液とシラノール変性PV
Aの10重量%水溶液を混合し、メソポーラスシリカと
カチオンPVA、シラノール変性PVAの重量比が1
0:3:3で固形分13.3重量%のインク吸収剤スラ
リーを調製した。ポリエチレンテレフタレート製シート
(厚さ100μm)にバーコーターで、前記スラリーを
塗布乾燥し、厚さ約40μmのインク吸収剤層を設けた
記録用シートを得、印字特性の評価を行った。評価結果
は表2に示した。メソポーラスシリカの含有量は、約1
3g/m2であった。
カ濃度16.7重量%の分散液を作成した。これと、カ
チオンPVAの10重量%水溶液とシラノール変性PV
Aの10重量%水溶液を混合し、メソポーラスシリカと
カチオンPVA、シラノール変性PVAの重量比が1
0:3:3で固形分13.3重量%のインク吸収剤スラ
リーを調製した。ポリエチレンテレフタレート製シート
(厚さ100μm)にバーコーターで、前記スラリーを
塗布乾燥し、厚さ約40μmのインク吸収剤層を設けた
記録用シートを得、印字特性の評価を行った。評価結果
は表2に示した。メソポーラスシリカの含有量は、約1
3g/m2であった。
【0046】実施例2 実施例1において、1,3,5トリメチルベンゼンの量
を50gに変えた以外は同様にしてメソポーラスシリカ
を得た。この試料のX線回折図には、d値=21.6n
mにピークが見られた(以下、試料Bと称する)。試料
Bをセイシン企業製ジェットミルで粉砕し、平均粒子径
6.2μmの試料を得た(以下、試料B1と称する)。
試料B1の比表面積は520m2/g、細孔容積は1.
23cc/g、メソポア領域の平均細孔径は23.0n
mであった。この試料B1を試料A1のかわりに用いた
外は実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評
価を行った。評価結果は表2に示した。
を50gに変えた以外は同様にしてメソポーラスシリカ
を得た。この試料のX線回折図には、d値=21.6n
mにピークが見られた(以下、試料Bと称する)。試料
Bをセイシン企業製ジェットミルで粉砕し、平均粒子径
6.2μmの試料を得た(以下、試料B1と称する)。
試料B1の比表面積は520m2/g、細孔容積は1.
23cc/g、メソポア領域の平均細孔径は23.0n
mであった。この試料B1を試料A1のかわりに用いた
外は実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評
価を行った。評価結果は表2に示した。
【0047】実施例3 実施例1において、静置温度を80℃から95℃に変え
た以外は同様にしてメソポーラスシリカを得た。この試
料のX線回折図には、d値=29.4nmにピークが見
られた(以下、試料Cと称する)。試料Cをセイシン企
業製ジェットミルで粉砕し、平均粒子径5.2μmの試
料を得た(以下、試料C1と称する)。試料C1の比表
面積は510m2/g、細孔容積は1.82cc/g、
メソポア領域の平均細孔径は32.0nmであった。こ
の試料C1を試料A1のかわりに用いた外は実施例1と
同様にして記録シートを得、印字特性評価を行った。評
価結果は表2に示した。
た以外は同様にしてメソポーラスシリカを得た。この試
料のX線回折図には、d値=29.4nmにピークが見
られた(以下、試料Cと称する)。試料Cをセイシン企
業製ジェットミルで粉砕し、平均粒子径5.2μmの試
料を得た(以下、試料C1と称する)。試料C1の比表
面積は510m2/g、細孔容積は1.82cc/g、
メソポア領域の平均細孔径は32.0nmであった。こ
の試料C1を試料A1のかわりに用いた外は実施例1と
同様にして記録シートを得、印字特性評価を行った。評
価結果は表2に示した。
【0048】実施例4 試料B1と水で固形分10重量%スラリーを作り、その
中に酸化物基準で試料B1の100重量部に対し酸化マ
グネシウム換算で5重量部の塩化マグネシウム・6水和
物を加え、30分撹拌処理したのち70℃で乾燥し乳鉢
で粉砕した。この試料を試料A1のかわりに用いた外は
実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
中に酸化物基準で試料B1の100重量部に対し酸化マ
グネシウム換算で5重量部の塩化マグネシウム・6水和
物を加え、30分撹拌処理したのち70℃で乾燥し乳鉢
で粉砕した。この試料を試料A1のかわりに用いた外は
実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
【0049】実施例5 試料B1と水で固形分10重量%スラリーを作り、その
中に試料B1の100重量部に対し5重量部の3−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン(東京化成製)を加え、
1時間撹拌処理したのち、70℃で乾燥し表面処理した
試料を得た。この試料を試料A1のかわりに用いた外は
実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
中に試料B1の100重量部に対し5重量部の3−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン(東京化成製)を加え、
1時間撹拌処理したのち、70℃で乾燥し表面処理した
試料を得た。この試料を試料A1のかわりに用いた外は
実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
【0050】実施例6 試料B1とエタノールで固形分20重量%スラリーを作
り、その中に試料B1の100重量部に対しオクタデシ
ルジメチル〔3−(トリメトキシシリル)プロピル〕ア
ンモニウムクロライド(トーレ・シリコーン製)が10
重量部になるように1.5重量%メチルセルロルブ溶液
を加え混合した。これを110℃で乾燥し表面処理した
試料を得た。この試料を試料A1のかわりに用いた外は
実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
り、その中に試料B1の100重量部に対しオクタデシ
ルジメチル〔3−(トリメトキシシリル)プロピル〕ア
ンモニウムクロライド(トーレ・シリコーン製)が10
重量部になるように1.5重量%メチルセルロルブ溶液
を加え混合した。これを110℃で乾燥し表面処理した
試料を得た。この試料を試料A1のかわりに用いた外は
実施例1と同様にして記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
【0051】実施例7〜9 試料A1のかわりに試料B1を用い,表1に示す安定化
剤を加えた外は実施例1と同様にして記録用シートを
得、印字特性評価を行った。評価結果は表2に示した。
尚、表1において、添加量は試料B1の100重量部に
対する重量部で示した。
剤を加えた外は実施例1と同様にして記録用シートを
得、印字特性評価を行った。評価結果は表2に示した。
尚、表1において、添加量は試料B1の100重量部に
対する重量部で示した。
【0052】比較例1 3号水ガラス(SiO2=29重量%、Na2O=9.5
重量%)172.5gを水327.5gで希釈し、あら
かじめH+型にしておいたカチオン交換樹脂(アンバー
ライト、IR−120B)を充填したカラムに通過さ
せ、活性シリカ水溶液350gを得た。この活性シリカ
水溶液のSiO2は8.3重量%であった。エタノール
76.8gにヘキサデシルアミン10.9gと1,3,
5トリイソプロピルベンゼン28.2gを溶解させ、つ
いで撹拌しながら上記の活性シリカ水溶液100gを添
加した。この混合物の(以下、試料Dと称する)。
重量%)172.5gを水327.5gで希釈し、あら
かじめH+型にしておいたカチオン交換樹脂(アンバー
ライト、IR−120B)を充填したカラムに通過さ
せ、活性シリカ水溶液350gを得た。この活性シリカ
水溶液のSiO2は8.3重量%であった。エタノール
76.8gにヘキサデシルアミン10.9gと1,3,
5トリイソプロピルベンゼン28.2gを溶解させ、つ
いで撹拌しながら上記の活性シリカ水溶液100gを添
加した。この混合物の(以下、試料Dと称する)。
【0053】試料DのX線回折図には、d値=7.8n
mにピークが見られた。試料Dを湿式ボールミルで粉砕
し平均粒子径9μmの試料を得た(以下、試料D1と称
する)。試料D1の比表面積は690m2/g、平均細
孔径は7.0nmであった。試料A1のかわりにD1を
用いた外は実施例1と同様にして記録用シートを得、印
字特性の評価を行った。評価結果は表2に示した。
mにピークが見られた。試料Dを湿式ボールミルで粉砕
し平均粒子径9μmの試料を得た(以下、試料D1と称
する)。試料D1の比表面積は690m2/g、平均細
孔径は7.0nmであった。試料A1のかわりにD1を
用いた外は実施例1と同様にして記録用シートを得、印
字特性の評価を行った。評価結果は表2に示した。
【0054】比較例2 実施例1の試料A1の代わりに、シリカゲル(富士シリ
シア化学(株)製、商品名サイシリア350、平均細孔
径21nm)を用い、他は同様にして厚さ約30μmの
インク吸収剤層を設けた記録シートを得、印字特性評価
を行った。評価結果は表2に示した。
シア化学(株)製、商品名サイシリア350、平均細孔
径21nm)を用い、他は同様にして厚さ約30μmの
インク吸収剤層を設けた記録シートを得、印字特性評価
を行った。評価結果は表2に示した。
【0055】比較例3 実施例1の試料A1の代わりに、シリカゲル(富士シリ
シア化学(株)製、商品名サイシリア550、平均細孔
径7nm)を用い、他は同様にして厚さ約30μmのイ
ンク吸収剤層を設けた記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
シア化学(株)製、商品名サイシリア550、平均細孔
径7nm)を用い、他は同様にして厚さ約30μmのイ
ンク吸収剤層を設けた記録シートを得、印字特性評価を
行った。評価結果は表2に示した。
【0056】
【表1】
【0057】
【表2】
【0058】
【発明の効果】本発明のインク吸収剤及びそれを含有し
た記録シートには、インクの吸収性・光学濃度が高く、
耐水性、耐光性が優れているという効果がある。
た記録シートには、インクの吸収性・光学濃度が高く、
耐水性、耐光性が優れているという効果がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C056 EA04 EA13 FC06 4G066 AA16B AA18B AA22B AA36B AB18A AB18D AC12D AC22A AC23C BA03 BA09 BA20 BA23 BA26 DA07 EA20 FA21
Claims (7)
- 【請求項1】 平均細孔径が10nmより大きく35n
mより小さいメソポーラスシリカを含有することを特徴
とするインク吸収剤。 - 【請求項2】 メソポーラスシリカがアルカリ土類金属
原子と亜鉛原子から選ばれた一種以上の金属原子を含む
ことを特徴とする請求項1記載のインク吸収剤。 - 【請求項3】 メソポーラスシリカがシランカップリン
グ剤で表面処理されていることを特徴とする請求項1又
は2記載のインク吸収剤。 - 【請求項4】 紫外線吸収剤、ラジカル禁止剤、及び一
重項酸素消光剤の少なくとも1種以上を含有することを
特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のインク吸収
剤。 - 【請求項5】 ポリビニルアルコール系のバインダを含
有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載
のインク吸収剤。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載のインク
吸収剤と溶剤とからなるインク吸収剤スラリー。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載のインク
吸収剤を含有することを特徴とする記録シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36916099A JP2001179086A (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | インク吸収剤及びそれを用いた記録シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36916099A JP2001179086A (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | インク吸収剤及びそれを用いた記録シート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001179086A true JP2001179086A (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=18493721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36916099A Pending JP2001179086A (ja) | 1999-12-27 | 1999-12-27 | インク吸収剤及びそれを用いた記録シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001179086A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005075068A1 (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Taiyo Kagaku Co., Ltd. | 多孔質シリカを含有する吸着能付与剤 |
JP2006519287A (ja) * | 2003-01-23 | 2006-08-24 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 無機メソポーラス相および有機相を含む有機−無機ハイブリッド材料、膜および燃料電池 |
JP2017048180A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | メソポーラスシリカ粒子 |
-
1999
- 1999-12-27 JP JP36916099A patent/JP2001179086A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006519287A (ja) * | 2003-01-23 | 2006-08-24 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 無機メソポーラス相および有機相を含む有機−無機ハイブリッド材料、膜および燃料電池 |
WO2005075068A1 (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Taiyo Kagaku Co., Ltd. | 多孔質シリカを含有する吸着能付与剤 |
JPWO2005075068A1 (ja) * | 2004-02-05 | 2008-01-10 | 太陽化学株式会社 | 多孔質シリカを含有する吸着能付与剤 |
US8034740B2 (en) | 2004-02-05 | 2011-10-11 | Taiyo Kagaku Co., Ltd. | Adsorptivity imparting agent containing porous silica |
JP5054921B2 (ja) * | 2004-02-05 | 2012-10-24 | 太陽化学株式会社 | 多孔質シリカを含有する吸着能付与剤 |
JP2017048180A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | メソポーラスシリカ粒子 |
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