TWI309312B - - Google Patents

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TWI309312B
TWI309312B TW095133235A TW95133235A TWI309312B TW I309312 B TWI309312 B TW I309312B TW 095133235 A TW095133235 A TW 095133235A TW 95133235 A TW95133235 A TW 95133235A TW I309312 B TWI309312 B TW I309312B
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optical compensation
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compensation layer
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TW095133235A
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Yuuki Nakano
Naoki Tsujiuchi
Mie Nakata
Shunsuke Shutou
Nobuyuki Kozonoi
Akimitsu Tsukuda
Hideki Moriyama
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Toray Industries
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Description

1309312 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種附有光學補償層之偏光板、使用其之 液晶面板、液晶顯示裝置以及影像顯示裝置。更詳細而 言’本發明係關於一種有助於薄型化、耐久性高、色偏小、 '色不均少、並可良好地防止黑色顯示時之漏光而提高對比 的附有光學補償層之偏光板,以及使用此種附有光學補償 層之偏光板的液晶面板’及影像顯示裝置。 鲁【先前技術】 作為VA模式之液錢示裝置,除了透射型液晶顯示袭 置以及反射型液晶顯示裝置以外,已提案有半透射反射型 液晶顯示裝置(例如,參照專利文獻丨、2)。半透射反射 型液晶顯示裝置係於明亮場所為與反射型液晶顯示裝置 相同地利用外部光,而於黑暗場所可利”光等内部光源
而使顯示得以辨識。換古之,主,泰& e A +透射反射型液晶顯示震置 ,採用兼具反射型及透射型之顯示方式,根據周圍之明亮 度切換為反射模式、透射模式之任—顯示模式。盆 :於SI型反射型液晶顯示装置由於可降低耗電::即 ,於周圍為較暗之場所亦可進行清晰顯示,故可較適合地 使用於例如行動設備之顯示部。 可= : = Γ型反射型液晶顯示褒置之具體例,例如 二使該反射膜發揮半透射反射板之功 液日日顯示裝置。於此種液晶顯示裝置中,於反射模式 312XP/^|g0g^:(^y95_I2/95i33235 ^ 1309312
之情況時’自上基板側射人之外部光於通過液晶層後,被 下基板_之反射膜反射,再:欠料液晶層並自上基板側 射出,而有助於顯示。另一方面,於透射模式之情況時, 來自下基板側射人之背光的光通過反射膜之窗部,通過液 晶層後’自上基板侧射出’而有助於顯示。因此,反射膜 形成區域中,形成有窗部之區域成為透射顯示區域,而1 他區域成為反射顯示區域。然而,於習知之反射型或者; 透射反射型之VA模式的液日日日顯示裝置中,存有發生色偏 色不句之問,或者於黑色顯示時產生漏光而使對比下 降之問題’且至今長久未得到解決^ χ,於實現薄型化之 情況’其於耐久性方面並不充分。 專利文獻1:曰本專利特開平u_ 242226號公報 專利文獻2:日本專利特開2〇〇1_2〇9〇65號公報 【發明内容】 * (發明所欲解決之問題) _ 、本,明係為了解決上述習知課題而形成者,其目的在 ,,提供一種有助於薄型化、耐久性高、色偏小,色不均 J、可良好防止黑色顯示時之漏光而提高對比的附有光學 補償層之偏光板,以及使用該種附有光學補償層之偏光板 的液晶面板及影像顯示裝置。 (解決問題之手段) 本發明之附有光學補償層之偏光板係依序具有偏光 f、第1光學補償層及第2光學補償層;該偏光板係於由 聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光片之至少一面,具有包含含 312XP/§^ift0g^(^f4:)/95-i 2/95133235 6 1309312 表示d通式(1)所表示之構造單位及以下述通式(2)所 [化1]構&單位而成之丙烯酸系樹脂的偏光片保護薄膜,
〇=〇 ⑴ ! 〇 R2 U,(i)中’ Rl表示氫原子或者碳數1〜5之烧基,^ 「丁炭數1〜5之脂肪族或者脂環式烴基;)
⑵ R4表示相同或者不同之氫原子或者碳 I通式(2)中 數1〜5之烷基;y 該第1光學補償層係具有nx > ny=nz之折射率分佈, 表現出屬於異常光與平常光之光程差的相位差值越靠近 ,波長侧關小之波長分散特性,且其面内相位差r 90〜160 nm ; 及第2光學補償層係具有ηχ=ηγ>ηζ之折射率分佈, 其面内相位差Re2 4 〇〜2〇 nm,且其厚度方向之相位差
Rth〗為 30〜300 run。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 7 1309312 於較佳實施形態中’上述偏光片保護薄膜係對於波長 590 nm之光的面内相位差And為1〇 nm以下,對於波長 590 nm之光的厚度方向相位差]為1〇 nm以下,對於 波長550 nm之光的光彈性係數為—2χΐ〇-12〜2xi〇-i2 Pal。 於較佳實施形態中,上述通式(2)中之R3為曱基,y為 曱基。 於較佳實施形態中,上述偏光片保護薄膜之玻璃轉移溫 度為110°C以上。 於杈佳實施形態中’上述偏光片保護薄膜之透濕度為3 〜100 g/m2.24hr。 於較佳實施形態中,上述偏光片保護薄膜之厚度為5〜 1〇〇 舡 m 。 於較佳實施形態中,上述偏光板之於6〇口9遞下保 持492小時後之以下述式(A)所定義之偏 -0.5〜0.0%; 偏光度變化率(%)=丨(p D . _ 1 HFt-p0)/p〇}xl〇〇 (A) P〇 :初始偏光度
Pt : 1:小時後之偏光度。 於較佳實施形態中,上 持桃小時後之以下述t 於6『C/95%RH下保 0.0〜25% ; 乩式(B)所定義之透射率變化率為 透射率變化率(%)== ίΓγ V . . ^ , Υ〇)/Υ〇}χ1〇〇 (Β) Υ 〇 .初始透射率
Yt : t小時後之透射率。 312XP/^^*(ffim/95-12/95133235 1309312 於較佳實施形態中’上述偏光板之於8(rc下保持48小 時後之以下述式(C)所定義之Rth變化率為_2· 〇〜〇. 〇% ;
Rth 變化率(%) = ((Rtht—RthD)/Rth〇}xlOO (C)
Rth“初始 Rth
Rtht : t小時後之Rth。 於較佳實施形態中’上述偏光板之於6〇〇C/9〇%RH下保 '持48小時後之以下述式(D)所定義之Rth變化率為-2.5 〜0.0%; ® Rth 變化率(%)= {(Rtht-Rth〇)/Rth〇}xl〇() (D) ·’ 初始 Rth
Rtht : t小時後之Rth。 於較佳實施形態中,於上述偏光片之一面上具有上述偏 光片保護薄膜,於另一面上具有纖維素系樹脂薄膜。 於較佳實施形態中,於上述偏光片之兩面上具有上述偏 '光片保護薄膜。 • 於較佳實施形態中,於上述偏光片保護薄膜及上述偏光 片之間具有易接著層以及接著劑層。 於較佳實施形態中,上述接著劑層係由聚乙烯醇系接著 劑所形成之層。 於較佳實施形態中,進一步具有黏著劑層作為最外層之 至少一層。
於較佳實施形態中,於最外層之一層上進一步具有亮度 提高薄膜。 ϋ X 根據本發明之其他態樣,可提供一種液晶面板。本發明 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 9 1309312 具有本發明之附 之液晶面板係於液晶單元之至少一面上 有光學補償層之偏光板。 於較佳實施形態中,於上述液晶單元之一面上具 附有光學補償層之偏光板,於另一面 I " m上具有附有光學補償 層之偏光板(B); 該附有光學補償層之偏光板(B)係依序具有··於由聚乙 烯醇系樹脂所形成之偏光片之兩面上 T , w丄〃、有纖維素糸樹脂
相的偏光板,·第丨光學補償層;及第2光學補償層· 該第1光學補償層係具有nx>ny = nz之折射率分曰佈, 表現出屬於異常光與平常光之絲差的相位差值越靠近 短波長侧則越小之波長分散特性’且其面内相位差Κ 9〇〜160 nm, 該第2光學補償層係具有 其面内相位差Re2為〇〜2〇 Rth2 為 30〜300 ηπι。 nx=ny>nz之折射率分佈, nm ’且其厚度方向之相位差 籲^於較佳實施形態中,上述附有光學補償層之偏光板(B) 係於最外層之一層上進一步具有硬塗層。 於較佳實施形態中,於上述液晶單元之兩面上具有上述 附有光學補償層之偏光板。 於較佳實施形態中 型之VA模式。 上述液晶單元為反射型或者半透射 根據本發明之其他態樣,可提供一種影像顯示裝置。本 發明之影像顯示裝置係含有本發明之液晶面板。 (發明效果) 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 10 1309312 根據本發明’可提供一種有助於薄型化、耐久性高、色 偏小、色不均少、可良好地防止黑色顯示時之漏光而提高 對比的附有光學補償層之偏光板,使用該種附有光學補償 層之偏光板的液晶面板,液晶顯示裝置以及影像顯示裝 置。 ‘ * 此種效果可依如下方式呈現:作為附有光學補償層之偏 光板,係依序具有偏光板、第丨光學補償層及第2光學補 償層;作為偏光板,係採用於由聚乙烯醇系樹脂所形成之 偏光片之至少一面上,具有包含含有特定之構造單位而成 之丙烯酸系樹脂的偏光片保護薄膜者;該第i光學補償層 係具有nx > ny == nz之折射率分佈,表現出屬於異常光與 平常光之光程差的相位差值越靠近短波長側則越小之波 長分散特性’且其面内相位差Rei歸於特定之範圍内;該 第2光學補償層係屬於薄膜層,具有nx=ny>nz之折射 -率分佈,其面内相位差Rez以及厚度方向之相位差Rth2歸 φ於特定之範圍内。 【實施方式】 以下,就本發明之較佳實施形態加以說明,但本發明並 不限定於該等實施形態。 (術語及符號之定義) 本說明書中之術語及符號之定義係如下所述: (l)「nx」係面内之折射率呈最大的方向(即,慢軸方向) 之折射率,「ny」係於面内之與慢軸垂直之方向(即,快 軸方向)的折射率,rnz」係厚度方向之折射率。又’例 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95·ΐ2/95ΐ33235 11 1309312 如Lnx=Tj不僅包括似與即嚴格相等之情況,亦包括 nx々、ny只質上相等之情況。於本說明書中所謂「實質上 ::二t指亦包括於對附有光學補償層之偏光板的整體 ^特性不造成實用上之影響的範圍内,狀 之情況。 =面内相位差或者「面内相位差〜」係指於 C下以波長590 nm之光所測定的薄膜(層)面内之相位 值或者Re係於將波長590 nm之薄臈(層)之俨 軸=向、快轴方向之折射率分別設為ηχ、ny,並將心又) 設為薄臈(層)之厚度時,可藉由式:ΛγκΙ或者Re=(nx —ny)xd而求得。 (3)厚度方向之相位差Rth係指於饥下以波長59〇⑽ 之光所測定的厚度方向之相位差值。Rth係於將波長59〇 ㈣之薄膜(層)之慢軸方向、厚度方向之折射率分別設為 nx、nz,並將d(nm)設為薄膜(層)之厚度時,可藉由式: Rth= (nx — nz)xd 而求得。 「(4)附加於本說明書中所揭示之術語及符號上之數字 「1」係表示第1光學補償層,數字「2」係表 補償層。 子 ⑸所謂「λ/2板」’係指具有如下功能者:將具有某 特定振動方向之直線偏光,轉換為具有與該直線偏^之振 動方向正交之振動方向的直線偏光’或者將右旋圓偏振光 轉換為左旋圓偏振光(或者,將左旋圓偏振光轉換為右旋 圓偏振光)。又/2板係對於特定之光波長(通常為可見光 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 12 1309312 區域),薄膜(層)之面内相位差值為約1/2。 、(6)作為Γ λ /4板」,係指具有將某特定波長之直線偏 :$轉換為圓偏振光(或將圓偏振光轉換為直線偏光)之功 μ者。;I /4板係對於特定之光波長(通常於可見光區域), 溥膜(層)之面内相位差值為約1 /4。 • Α.附有光學補償層之偏光板 A 1.附有光學補償層之偏光板的整體構成 圖1係本發明之較佳實施形態之附有光學補償層之偏 光板的概略剖面圖。如圖丨所示,該附有光學補償層之偏 光板3GG係依序具有偏光板3G、f 1光學補償層12及第 2光學補償層13。 +附有光學補償層之偏《板之各層係經由任f適當之黏 著劑層或者接著劑層(未圖示)而積層著。 本發明《附有《學補償層之偏光板的整體厚度較 -50〜300 ”’更佳10〇〜25〇㈣,再更佳1〇〇〜2 二 籲因此’本發明對於影像顯示裝置(例如液晶顯示裝 型化有較大貢獻。 得 A — 2.偏光板 本發明之偏光板係於由聚乙稀醇系樹脂所形成之 片之至少4上,具有包含含有以下料式⑴ 構造單位及以下述通式⑵所表示之構造單位 = 酸系樹脂的偏光片保護薄臈。 鬥碑 [化3] 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 (1) 1309312
5之烷基,R2表 _ (山通式⑴中’ Rl表示氫原?或碳數1 「石反數1〜5之脂肪族或脂環式烴基。) [化4]
⑵ (通式(2)中’ R3 ' R4表示相同或不同之氫原子或者碳數 1〜5之烷基。) 本發明之偏光板係於由聚乙稀醇系樹脂所形成之偏光 片之至少-面上具有本發明之偏光片保護薄膜,於啊 /95%RH下保持492小時後之以下、+、# ^佼之以下述式(A)所定義之偏光度 變化率為-〇. 5〜〇. 〇%, 偏光度變化率(%)=KPt—Ρβ)/ΙΜχ1〇〇 (A) P〇 :初始偏光度
Pt : t小時後之偏光度。 上述偏光度變化率較佳為_〇 45〜〇 〇〇%,更佳_〇 4〇〜 0. 00% ’ 再更佳一〇. 35〜0. 00% ’ 特佳一〇. 3〇〜〇. 〇〇%。 藉由上述偏光度變化率為-0.5〜〇〇%,則可製作加熱· 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 14 1309312 加濕耐久性優異之偏光板。加熱•加濕耐久性如此優 偏光板將可藉由使用本發明之偏光片保護薄膜而提供: 本發明之偏練,於由聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光片 之至少-面上具有本發明之偏光片保護薄膜,於 /95_下保# 492小時後之以下述式⑻所 變化率為〇ϋδ%, 我之透射率 透射率變化率 «)=KYt—Υ〇/Υΰ}χ1〇〇 (β) Υ 〇 .初始透射率
Yt · t小時後之透射率。 上述透射率變化率較佳為0.0〜2 3%, 2.1%,再更佳〇.〇〜2.0%。 更佳〇.〇〜 、因上述透射率變化率為〇.〇〜25%,故可製作加熱•加 濕耐久性優異之偏光板。加熱•加濕耐久性如此優異之偏 光板可藉由使用本發明之偏光片保護薄膜而提供。 本發明之偏光板,於由聚乙烯醇系樹脂形成之偏光片之 至少一面上具有本發明之偏光片保護薄膜,於8〇。〇下保 持48小時保持後之以下述式(c)所定義之Rth變化率為 -2. 0〜〇. 〇%,
Rth 變化率(%)= {(Rtht—RthO/RthoIxlOO (C)
Rth。.初始 Rth
Rtht : t小時後之Rth。 上述Rth變化率較佳為_;[. 5〜〇. 〇%,更佳_丨.2〜〇.⑽, 再更佳-1. 0〜〇. 〇%。 因上述Rth變化率為-2.0〜〇.〇%,故可製作加熱•加濕 31 UP/胃明說明書(補件)/95· 12/95133235 15 1309312 耐久性優異之偏光板。加熱耐久性如此優異之偏光板可藉 由使用本發明之偏光片保護薄臈而提供。 本發明之偏光板,於由聚乙烯醇系樹脂形成之偏光片之
至少一面上具有本發明之偏光片保護薄膜,於6(rc/9〇%RH 下保持48小時後之以下述式(D)所定義之Rth變化率為 ' -2. 5〜〇. 〇%, ' Rth 變化率 Rtha)/Rthfl}xl00 (D)
RthD :初始 Rth 鲁Rtht : t小時後之Rth。 上述1^让變化率較佳為-2.3〜0.0%,更佳-2.2〜0.0%, 再更佳-2. 1〜〇. 〇%。 因上述Rth變化率為-2. 5〜〇.〇%,故可製作加熱•加濕 耐久性優異之偏光板。加熱•加濕耐久性優異之偏光板可 '藉由使用本發明之偏光片保護薄膜而提供。 - 較佳之一實施形態係於上述偏光片之一面上具有上述 籲偏光片保護薄膜,於另一面上具有纖維素系樹脂薄膜。較 佳之一實施形態係於上述偏光片之兩面上具有上述偏光 片保護薄膜。 本發明之偏光板之一較佳實施形態,係如圖2所示,偏 光片31之一面經由接著劑層32以及易接著層33而接著 於上述偏光片保護薄膜34,偏光片31之另一面經由接著 劑層35接著於偏光片保護薄膜36而成之形態。偏光片保 護薄膜36可與上述偏光片保護薄膜34同種,亦可為其他 任意適當之偏光片保護薄膜。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 16 1309312 [偏光片保護薄膜] 勹2:之3有上述丙烯酸系樹脂之偏光片保護薄膜係 述通式⑴所表*之構造單位及以下述通式 不之構造單位而成之丙烯酸系樹脂。
(1) (_通式(1)中,R表不氫原子或者碳數卜5之烧基,尺2 表不碳數1 2 3 4〜5之脂肪族或者脂環式烴基。) [化6]
1 (5通中U表示相同或不同之氫原子或者碳數 2 1〜5之烷基。) 3 作為以通式⑴所表^之構造單位之較 相對應之單體,可列塞广田甘、 J作馬 4 π )㈣酸fs旨、 曰、㈧基)丙婦酸正丙醋、(f基)丙婦酸正丁醋、(f 5 312XP/發明說明書(補件)/95·12/95133235 1309312 基)丙烯酸第二丁酯、(曱基)丙烯酸正己酯、(曱基)丙烯 酸環己酯、(曱基)丙烯酸氣甲酯、(曱基)丙烯酸氯曱 :酯、(曱基)丙烯酸2~羥乙酯、(曱基)丙烯酸3_羥丙酯、(甲 ,基)丙烯酸2, 3, 4, 5, 6-五羥己酯、(曱基)丙烯酸2, 3,4,5一 四羥戊酯等。該等可僅使用丨種,亦可並用2種以上。該 等之中,就熱穩定性優異之方面而言,更佳為(曱基)丙烯 酸甲酯,特佳為甲基丙烯酸甲酯。即,特佳係於通式⑴ 中’R1為甲基、R2為甲基。 •时上述丙烯酸系_之構造巾之以通式⑴所表示之構造 單位的含有比例較佳為5〇〜95莫耳%,更佳55〜9〇莫耳 % ’再更佳60〜85莫耳%,特佳65〜8〇莫耳%,最佳的〜 75莫耳%。若上述含有比例低於5〇莫耳%,則有無法充分 發揮源自以通式⑴所表示之構造單位所表現之效果、例 如高耐熱性、高透明性之虞。若上述含有比例高於%莫 _耳%,則有樹脂變脆而易斷裂、無法充分發揮高機械強 •生產性差之虞。 0上述丙稀酸系樹脂之構造中之以通式⑵所表示之構造 單位的含有比例較佳為5〜5〇莫耳%,更佳1〇〜45莫耳%, 再更佳15〜40莫耳%,特佳2〇〜35莫耳%,最佳25〜35 莫耳%。若上述含有比例低於5莫耳%,則有無法充分發揮 源自以通式(2)所表示之構造單位所表現之效果、例如高 光學特性、高機械強度、與偏光片之優異接著性、及薄型 化之虞。若上述含㈣例高於5G莫耳%’則有無法充分發 揮例如高耐熱性、高透明性之虞。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 18 1309312
R4
-CH
(3)
(通式(3)中,R3 1〜5之烷基。) 表示相同或不同之氫原子或者碳數 通式(2)以及(3)中,較佳係R3、R4為氫原子或甲基, 佳係兩者皆為甲基。 於^述丙烯酸系樹脂中,亦可含有以通式⑴所表示之 構造早位以及以通式(2)所表示之構造單位以外的其他構 •造單位。作為其他構造單位,可列舉將不飽和羧酸酯單體 _聚合所形成之構造單位,即,以通式(1)所表示之構造單 位以外之構造單位(A)、及將其他乙烯系單體聚合所形成 之構造單位(B)等。 作為形成上述構造單位(A)之不飽和羧酸酯單體,例如 可列舉丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正 丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲 基)丙烯酸正己酯、(f基)丙婦酸環己酯、(甲基)丙埽酸 氯甲酯、(甲基)丙稀酸2-氯甲酯、(甲基)丙稀酸2-經乙 酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2, 3, 4, 5, 6- 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 19 1309312 五I己酯、(甲基)丙烯酸2,3, 4,5_四羥戊酯等。該等可 僅使用1種’亦可並用2種以上。 作為形成上述構造單位(B)之其他乙烯系單體,例如可 列牛丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙浠腈、烯丙基環氧丙基 鱗、順丁烯二酸針、衣康酸酐、^甲基順丁稀二醯亞胺、 N乙基順丁烯二醯亞胺、N'環己基順丁烯二醯亞胺、丙烯 $胺、曱基丙烯醯胺、N—甲基丙烯醯胺、丁氧甲基丙烯醯 丙基甲基丙婦醯胺、丙烯酸胺乙醋、丙婦酸丙基胺 $酯、甲基丙烯酸二甲基胺乙酯、甲基丙烯酸乙胺基丙 酯、曱基丙烯酸環己基胺乙酯、N_乙烯基二乙基胺、N一 ^醯基乙_、稀丙基胺、甲基烯丙基胺、N_甲基烯丙基 fe 2異丙烯基-吟唑啉、2-乙烯基_β号唑琳、2—丙烯醯基 咢1淋Ν笨基順丁烯二醯亞胺、if基丙烯酸苯基胺基 ^酯三苯乙稀、甲基苯乙稀、對環氧丙基苯乙婦、對 胺基苯乙烯、2-苯乙烯基-哼唑啉等。該等可僅使用1種, 亦可並用2種以上。 /上述構造單位⑻中,苯乙烯、a_f基苯乙烯等苯乙婦 系構造單位之含有濃度較佳係設為〇〜丨重量%,更佳〇〜 〇.1重量%。藉由將苯乙烯系構造單位之含有濃度設為〇 〜1重量%,可防止相位差惡化以及透明性降低。 於上述丙烯酸系樹脂中,較佳係含有〇〜1〇重量%之源 自不飽和羧酸之構造單位,更佳係含有〇〜5重量%,再更 佳係含有0〜1重量%。藉由將上述丙稀酸系樹脂中之源自 不飽和羧酸之構造單位設為1〇重量%以下,可維持無色透 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 1309312 明性、滯留穩定性、耐濕性。 上述丙烯酸系樹脂之重量平均分子量較佳為丨〇〇〇〜 2000000,更佳 5000 〜loooooo,再更佳 ι〇〇〇〇 〜5〇〇〇〇〇, 特佳50000〜500000’最佳60000〜15〇〇〇〇。若重量平均 分子量偏離上述範圍,則有本發明之效果無法充分發揮之 虞。 上述丙烯酸系樹脂之Tg (玻璃轉移溫度)較佳為11〇〇c 以上,更佳115°C以上,再更佳120X:以上,特佳125<t, 最佳13CTC以上。因為以為11〇它以上’故例如於最終組 裝入偏光板時,易於成為耐久性優異者。上述丙烯酸系樹 脂之Tg的上限值並無特別限定,但由成形性等方面而 言,較佳為300°C以下,更佳29〇t以下,再更 以下,特佳纖以下,最佳職以下。 上述丙烯酸系樹脂中’藉由射出成形而獲得之成形品之 ,根據ASTM-D-1GG3之方法所敎之全光線透射率越 尚越佳,較佳為85%以上,更佳m以上,再更佳9〇%以 上。右全光線透射率未滿85%,則有透明性降低、盔法 用於本來目的之用途之虞。 … 較佳係上述丙稀酸系樹脂為高光透射率、面内相位差△ nd及厚度方向相位差Rth為較低者。 本發明之偏光片保護薄膜中之上述丙烯酸系樹脂的含 量較佳為50〜100重量%,更佳6〇〜1〇〇重量%,再更佳 7〇〜1〇0重量% ’特佳8〇〜⑽請。當本發明之偏光片 保護薄膜中的上述丙稀酸系樹脂之含量未滿5〇偏重先量片% 312XP/發明說明書(補件)/95·! 2/95133235 21 1309312 時 性 將有無法充分反映 高透明性之虞。 丙烯酸系樹脂本身所具有之高耐熱 本發明之偏光片保護薄膜 内再含有:聚乙烯、聚丙婦、聚= _、聚醋、聚颯、聚苯_、二胺2本硫醚、聚㈣ 聚縮酪、聚醯亞胺、聚醚醯亞 月女專其他熱可塑性樹脂;紛系樹脂、 酯系樹脂、肀石夕《糸抖卞亂胺糸树月曰、聚 ί月曰t矽氧糸树月曰、環氧系樹脂等熱硬化性樹脂。 〇,亦可含有如下添加劑:受阻盼系 二酮=酸i系、氛基丙稀酸醋系等紫外、二 匕劑、級脂肪酸、酸醋系、酸醯胺系、高級醇等 U劑或者可塑劑’褐煤酸、其鹽、其醋、並半醋、十八 2、十八蕴胺以及乙稀壤等離型劑;亞鱗酸鹽、次亞鱗 =防著色劑;齒素系或者磷系和聚石夕氧系之非函素系 :,,、刈’成核劑;胺系、石黃酸系、聚醚系等抗靜電劑;顏 枓等著色劑等。其中,較佳係按照應用之用途所要求之特 性’於本發明之偏光片保護薄膜之透明性不降低的範圍内 進行添加。具體而言,較佳係相對於本發明之偏光片保護 薄膜,將丙烯酸系樹脂以及丙烯酸彈性體粒子以外之樹脂 或添加劑之總含量設為1 0重量%以下。 特佳係於本發明之偏光片保護薄膜中,為了賦予耐候性 而含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑之熔點較佳為丨10艽 以上,更佳120 C以上。若紫外線吸收劑之熔點為13〇。〇 以上,則加熱熔融加工時之揮發少,膜製造時之難以產生 輥污染。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 22 1309312 、紫外線吸收劑之種類並無特別限定,特佳為分子量4〇〇 以上之笨幷三唑系紫外線吸收劑、分子量400以上之三畊 :系紫外線吸收劑。作為市售品,例如可列舉「Tinuvin 1577」(Clba Specialty Chemicals 公司製造)、「Adeka Stab LA—31」(旭電化工業公司製造)等。 作為本發明之上述偏光片保護薄膜之光學特性,正面以 及厚度方向之相位差之大小將成為問題。因此,於本發明 之偏光片保護薄膜中亦可含有相位差降低劑。作為相位差 降低劑,較佳係例如,丙烯腈—苯乙稀嵌段共聚物、丙稀 腈-苯乙烯嵌段共聚物共聚物等含有苯乙烯之聚合物。作 為相位差降低劑之添加量,係相對於上述聚甲基丙婦酸甲 酯系樹脂,較佳為30重量%以下,更佳25重量%以下,再 更^ 20重量i以下。當超過該範圍而添加時,將有因使可 見光散射、或損害透明性而導致缺乏作為偏光片保護薄膜 之特性之虞。 # 、於本發明之偏光片保護薄膜中,除了上述丙烯酸系樹脂 以外,亦可含有丙烯酸彈性體粒子。可藉由使丙烯酸彈性 體粒子分散於偏光片保護薄膜中’而獲得作為偏光片保護 薄膜之優異韌性。 較佳係丙烯酸彈性體粒子含有橡膠質聚合物。橡膠質聚 口物中,作為原料單體,係將丙烯酸乙酯或丙烯酸丁酯等 丙烯酸成分作為必需成分,作為除此以外之其他較佳適合 含有的成分,可列舉二甲基矽氧烷及苯基甲基矽氧烷等聚 石夕氧成分、苯乙烯及甲基苯乙稀等苯乙烯成分、丙稀 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 23 1309312 腈及曱基丙烯腈等腈成分、丁二烯及異戊二烯等共軛二稀 成刀、胺基曱酸乙醋成分、乙烯成分、丙烯成分、異丁烯 成分等。較佳係該等之中含有選自丙烯酸成分、聚矽氧成 刀、苯乙烯成分、腈成分、共軛二烯成分中之至少1種。 橡膠質聚合物亦可含有原料單體(較佳為上述各成分)之 均聚物,亦可含有2種以上之原料單體之共聚物,亦可含 有該等之兩者。更佳係組合了 2種以上之上述成分之橡膠 質聚合物,例如可列舉含有丙烯酸成分以及聚矽氧成分之 橡膠質聚合物,含有丙烯酸成分以及苯乙烯成分之橡膠質 聚合物,含有丙烯酸成分以及共軛二烯成分之橡膠質聚合 物,含有丙烯酸成分、聚矽氧成分以及笨乙烯成分之橡膠 質聚合物等。 ' 亦較佳係於橡膠質聚合物中,除了上述成分以外,含有 二乙烯基苯、丙烯酸烯丙酯、丁二醇二丙烯酸酯等交聯性 成分者。 • 作為橡膠質聚合物,較佳係含有具有丙烯酸烷酯單位與 芳香族乙烯系單位之組合的聚合物。丙烯酸烷酯單位中, 丙烯酸丁酯可極有效地提高韌性,藉由使芳香族乙烯系單 位(例如苯乙烯)共聚合於其上,則可調節丙烯酸彈性體粒 子之折射率。 較佳係丙烯酸彈性體粒子與丙烯酸系樹脂之折射率差 為0.01以下。其原因在於,本發明之偏光片保護薄臈可 獲知尚透明性。如此,作為用以使丙烯酸彈性體粒子與丙 烯酸系樹脂之折射率差成為0 01以下之方法,可採用任 ΜΖΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 24 1309312 思之適畲方法。例如可列舉將構成丙烯酸系樹脂之各單體 單位的組成比進行調整之方法、將於丙烯酸彈性體粒子中 所含之橡膠質聚合物及各單體之組成比進行調整之方法 等。特別係藉由將苯乙烯等芳香族乙烯系單位共聚合於丙 烯酸丁酯等丙烯酸烷基酯上,調整其共聚合比,則可獲得 與丙烯酸系樹脂之折射率差較小之丙烯酸彈性體粒子。 作為丙烯酸彈性體粒子之平均粒徑,較佳為7〇〜3〇〇 ⑽,更佳1〇〇〜200 nm。當未滿7〇 nm時將有韌性之改 良效果不充分之虞;當大於3〇〇 nm時,將有導致耐熱性 降低之虞。 作為本發明之偏光片保護薄膜中的丙烯酸彈性體粒子 之含置,較佳為7〜40重量%,更佳12重量%〜2〇重量%。 當未達7重量%時’有勃性之改良效果不充分之虞;當於 超過40重量%時,有耐熱性降低之虞。 田、 本發明之偏光片保護薄膜亦可藉由縱延伸及/或橫延 而進行延伸。 而,較佳係縱延伸倍率為1. 1〜3. 0倍、 〜3. 0倍之依序延伸或者同時雙軸延伸 伸(自由端單軸延伸)及僅藉橫延伸之灸 伸)係有如下之虞:僅於延伸方向勝 上述延伸可為僅藉由縱延伸之延伸(自由端單軸延 伸),亦可為僅藉由橫延伸之延伸(固定端單軸延伸),缺 橫延伸倍率為J . i 。僅藉縱延伸之延
上述縱延伸倍率更佳為i 而膜整體無法 為i· 2〜2. 5 312XP/發明說明書(補件)/95·12/95133235 25 倍’再更佳1. 3〜2. 0倍。上诚从 2 5 ^ t , 上述杈延伸倍率更佳為1.2〜 i 5倍,再更佳丨.4〜2. 〇 率夫、黑彳!拉眭收士 田縱延伸倍率、橫延伸倍 ί未f1.1倍時’將有延伸倍率過低而幾乎無延伸效果之 *。若縱延伸倍率、橫延伸倍率# ' 面之甲乜羊超過3.0倍,則因薄膜端 之千4性問碭,而易於產生延伸斷裂。 較佳係上述延伸溫度為所延伸 。 "、呷之胰的Tg〜(Tg+30 :。若上述延伸溫度低於Tg ’則有膜斷裂之虞。若上述 申溫度超過(Tg+3(TC),則有膜開始熔融而通紙變得困 難之虞。 · 本發明之偏光片保護薄膜係藉由利用縱延伸及/或橫延 伸進行延伸而成,不僅具有優異之光學特性,且機械強度 亦優異,生產性及二次加工性提高。 較佳係本發明之偏光片保護薄膜之面内相位差為 3· 0 nm以下,厚度方向相位差Rth為1〇· 〇⑽以下,拉 裂強度為2.0 N/mm以上。藉由面内相位差△“、厚度方 鲁向相位差Rth、拉裂強度於該等範圍内,將可兼具優異之 光學特性與優異之機械強度。 於本發明之偏光片保護薄膜中,面内相位差△ nd越小 越佳’較佳為2.0 nm以下,更佳1.5 nm以下,再更佳 1. 0 rim以下。若上述面内相位差And超過3. 〇 nm,則有 無法發揮本發明之效果’特別是優異之光學特性之虞。厚 度方向相位差Rth越小越佳’較佳為7. 〇 nm以下,更佳 5. 0 nm以下,再更佳3. 0 nm以下。若上述厚度方向相位 差Rth超過1 〇. 〇 nm ’則有無法發揮本發明之效果,特別 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 26 1309312 是優異之光學特性之虞。 本發明之偏光片保護薄膜中,對於波長550 nm之光之 光彈性係數較佳為-2χ1(Γ12〜2xl0-12 Pa1,更佳-ΙχΙίΓ12〜 1x10 Pa 1。藉由使對於波長550 nm之光之光彈性係數 存在於上述範圍内’將可發揮本發明之效果,特別是優異 之光學特性。再者,對於波長5 5 〇 nm之光之光彈性係數, 係例如可使用分光橢圓儀(Spectr〇sc〇pic ellipsometer)(日本分光(股)製造,產品名「M—22〇」), 一面夾持住樣品(尺寸2 cmxl〇 cm)之兩端並施加應力(5 〜15 N),一面測定樣品中央之相位差值(23〇c /波長55〇 nm),自應力與相位差值之函數的傾斜度予以算出。 本發明之偏光片保護薄膜較佳係亦具有優異之機械強 度。拉伸強度於MD方向上,較佳為65 N/mm2以上,更佳 70 N/mm2以上,再更佳75 N/mm2以上,特佳8〇 n/削^以 上;於TD方向上’較佳為45 N/mm2以上,更佳5〇 N/mm2 以上,再更佳55 N/mm2以上,特佳6〇 N/mm2以上。拉伸 伸長率於MD方向上,較佳為6·5%以上,更佳7〇%以上, 再更佳7. 5%以上,特佳8.0%以上;於TD方向上,較佳為 5.0%以上,更佳5· 5%以上,再更佳6.0%以上,特佳g w 以上《當拉伸強度或者拉伸伸長率偏離上述範圍時,則有 無法發揮優異機械強度之虞。再者,拉伸強度或者拉伸伸 長率可根據例如JIS K 7113而測定。 於本發明之偏光片保護薄臈中,透濕度較佳^ 3〜⑽ g/”r*’更佳5〜6Gg/m2,hr·。若上述透濕度超過1〇〇 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 21 1309312 g/m2.24hr ’則有耐濕性差劣之虞。於上 W.24hr時,則有接著性差劣之虞。透/愚度未滿3 本發明之上述偏光片保護薄膜中, 度係越低越佳,較佳A 5„/以下 先予透明性之濁 权佳為W以下,更佳3%以下, 以下,又更佳1. 5%以下,特佳1%以下。 ° 目丨I π认、日祖, 「右,蜀度為5%以下, 、门於視覺上料膜良好之清晰感,若進 以下,則即使於使用作為窗等採光部件時,亦可°為= ^視:生及採光性…即使於使用作為顯示裝置之= τ亦可良好地辨視顯示内容,故工業利用價值高 如此降低濁度,有效者係例如減小丙烯酸系樹脂稀 旦彈十生體粒子之折射率差。又,表面粗度亦作為表面濁度而 衫響及濁度,故控制丙烯酸彈性體粒子之粒徑及添加量亦 屬有效,或者減小製膜時之冷卻親、石牙光親、滚筒、帶及 溶液製膜之塗佈基材的表面粗度。 本發明之偏光片保護薄膜之厚度較佳為丨〜1〇() #m, 更佳5〜1〇〇 ,再更佳1〇〜4〇 若偏光片保護薄 膜之厚度為1 ”以上,則具有適度之強度及剛性,且於 層合及印刷等二次加工時操作性良好。又,由於提取時之 應力所產生之相位差亦易於控制,故可穩定且容易地製造 薄膜。若偏光片保護薄膜之厚度為丨〇〇 以下,則除了 捲取薄膜變得容易以外,線速度、生產性、及控制性亦變 得容易。 較佳係本發明之偏光片保護薄膜於高張力下1%變形溫 度為loot:以上。更佳為1 lot:以上。此處所謂高張力下 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 28 1309312 1 %麦形溫度,係對於在 u _、寬度4 mm j 向上所取樣之初始長度 X度之樣品,於張力1>5Mp
2〇C/nun進行升溫時乍 C U 溫度較低意味著有耐熱性溫度而測定。該 形溫度未滿l〇〇〇c時,將有產田阿張力下1%變 Ύ 一 將有產生如下問題之虞:於進行塗 “步驟、和蒸鍍加工、濺鍍加工時,膜之平面 性惡化。作為高張力下1 %變 、 裂伸县座h。/、 伸率之上限,由獲得斷 .、、,❶以上之薄膜而言,較佳係設為140°c以下。 二、了使於本發明之偏光片保護薄膜滿足上述較佳斷裂 伸長率及高張力下1%變形溫度,可適當調整丙烯酸系樹 脂之分子量、戊二酸酐單位之含量、丙烯酸彈性體粒子之 玻璃轉移溫度和粒徑、添加量、及薄膜中之分散狀 膜特性。 本發明之偏光片保護薄膜之薄膜長度方向之夏比衝擊 .強度較佳為60 kJ、2以上,更佳90 kJ/m2以上。藉由將 籲夏比衝擊強度设為6〇 kJ/m2以上,可製作亦能耐受高速切 割的薄膜。為了獲得夏比衝擊強度較大之偏光片保護薄 膜,於不使光學特性惡化之範圍内增大丙烯酸彈性體粒子 之平均粒徑係屬有效。 本發明之偏光片保護薄膜之全光線透射率較佳為91%以 上,更佳93%以上。又’作為實際上限為99%。為了達到 以全光線透射率所表示之優異透明性,以不導入吸收可見 光之添加劑及共聚合成分之方式進行製作,或減小丙烯酸 系樹脂之折射率係屬有效。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 29 1309312 本發明之偏光片保護薄膜亦可於至少一面上具有硬塗 層。硬塗層係用於防止刮傷而設置。作為形成硬塗層之硬 :=劑Μ列如可列舉以有機石夕系化合物、環氧樹脂、三聚氛 胺樹脂等為主成分之熱硬化性交聯樹脂,和於】分子中具 有2㈤以上(曱基)丙稀醯氧基之活性能量射線硬化性之 交聯性樹脂等。 ,^發明之偏光片保護薄膜亦可於至少一面上具有防反 射膜。防反射膜係用於提高全光線透射 •反射膜雖有多種,但較佳為至少含有光吸收層 如才木用含有低折射率層、高折射率層及光吸收層之構成。 作為低折射率層之材料,可列舉训2、邮等。作為高折 射率層之材料,可列舉Ti〇2、Zr〇2、IT〇、Sn〇2、γ2〇3、⑽ 等。作為光吸收層,可列舉於作為構成複合膜時之構成要 素而介隔插入TiNx、Au、Ag、NiOx等之膜者等。 本發明之上述偏光片保護薄膜係可依任意方法製造,但 籲較佳係將用以形成上述丙烯酸系樹脂之原料(例如,形成 =通式(1)所表示之構造單位的單體(曱基丙烯酸曱酯 等)、形成以通式(2)所表示之構造單位的單體(曱基丙烯 酸曱醋及曱基丙烯酸等)、形成上述構造單位(A)的不飽和 羧酸酯單體、形成上述構造單位(B)之其他乙烯系單體 等)、上述丙烯酸彈性體粒子、及上述添加劑(紫外線吸收 劑等)等進行混合,視需要添加任意適當之溶劑(例如,甲 基乙f酮等),進行加熱並進行分子内環化反應。作為分 子内環化反應,可較佳地列舉利用脫醇反應及/或脫水之 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 3〇 1309312 分子内環化反應。作生 法,並無特職〜t 進行分子内㈣反應之方 疋…丨而,較佳係利用通過經加熱之1 # 機而進行製造之方法、或者在可於氮氣= 者下進仃加熱脫氣之裝置内進行製造之方法。再 Ϊ脫:=述方,進行加熱脫氣之溫度為產生脫醇及/ 定,作梦社Γ之刀子内環化反應之溫度,則並無特別限 圍較么為180〜3〇代之範圍,更佳200〜28(TC之範 之^人此時之加熱脫氣時間並無特別限^,可根據所需 成而設定任意適當時間,但通f較佳為U 熱並進行分子内環化反應後,藉由擠出 融产料I具法及膨服法等之炼融擠出法)、洗鑄成形(熔 / #)、及壓光成形而進行薄膜化處理即可。 料二^上述通式(3)所表示之戊二酸酐單位的丙烯酸系 3曰土本上可藉由以下所示之方法進行製造。 一吏乂通式(4)所表示之不飽和羧酸單體、以通式(5)所表 不之不飽㈣酸烧㈣旨單體、及#含有其他乙料、單體單 位時賦予該單位之乙烯系單體進行聚合,製成共聚物⑷。 L化8] R, CH2=r (4) CDOff (通式(4)中’ R5表示氫或碳數1〜5之烷基。 312:5〇>_^_書(補件)/95-12/95133235 31 1309312 [化9] CH气 ⑸ COOK? (通式(5)中’ r6表示氫或碳數1〜5之脂肪族或脂環式 經基’ R7表示碳數1〜5之脂肪族烴基。) 作為單體之調配比例,係將所調配之單體之總和設為 10〇重量% ’則不飽和羧酸單體較佳為15〜45重量%,更 佳20〜40重量份。又,不飽和羧酸烷基酯單體較佳為π 〜85重量%,更佳6〇〜8〇重量%。 由於使不飽和羧酸單體之含量為15〜45重量%,故於加 ,’、、/、I物(a)時’以上述通式(3)所表示之戊二酸軒單位之 含量成為20〜40重量%之較佳範圍,而可獲得耐熱性、無 '色透明性、滞留穩定性優異之丙烯酸系樹脂。 ’ 鲁 作為生成共聚物(a)之聚合方法,基本而言,可使用自 由基聚合之塊狀聚合、溶液聚合、懸濁聚合、乳化聚合等 公知之聚合方法。由雜質更少之方面而言,特佳為溶二聚 合、塊狀聚合、懸濁聚合。 由製成防止對樹脂著色且色相良好者之觀點而言,作為 生成共聚物(a)之聚合溫度,較佳係設為95°c以下,更佳 85°C以下,再更佳75°C以下。又,作為聚合溫度之下限, 由考慮到聚合速度之生產性方面而言’較佳為5 〇。〇以上, 更佳60°C以上。由提高聚合產率或者聚合速度為目的而 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 32 1309312 吕,可隨聚合進行而升高聚合溫度,然而,此時最好藉由 該步驟而將上限溫度控制於95t以下,較佳係亦於聚合 :起始溫度為751:以下之相對較低溫度下進行。 :士由生產效率方面而言,作為用以生成共聚物(a)之聚合 時間,較佳為60〜360分鐘,更佳90〜18〇分鐘。 ' ^丙烯酸系樹脂之分子量係由共聚物(a)之分子量所決 疋,故由如上所述將丙烯酸系樹脂設為其較佳之聚合平均 分子1之範圍内(較佳為1〇〇〇〜2〇〇〇〇〇〇,特佳8〇〇〇〇〜 ^⑽〇〇)方面而言,共聚物(a)之分子量亦以重量平均分子 1計,較佳為 1000 〜2000000,特佳 8〇〇〇〇〜15〇〇〇〇。 共聚物(a)之分子量係例如可藉由調節偶氮化合物、過 氧化物等自由基聚合起始劑或者烧基硫醇、四氯化碳、四 /臭化!—甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、三乙胺等鏈轉移 劑之添加量而加以控制。特別於聚合穩定性、及操作容易 度等方面,可適合採用調節屬於鏈轉移劑之烧基硫醇之添 φ加量的方法。 。作為上述烧基硫醇’例如可列舉正辛硫醇、叔十二硫 醇正十一硫醇、正十四硫醇、正十八硫醇等,其中較佳 為使用叔十二硫醇、正十二硫醇。 、主:為上述烧基硫醇之添加量,係相對於共聚物⑷之製 ^、所使用之所有單體100重量份,較佳為Q. 2〜5. 〇重 里^ ’更佳0.3〜4.0重量份,再更佳〇4〜3〇重量份。 右於適田之觸媒存在下或者非存在下加熱共聚物⑷, 則可自於共聚物⑷内鄰接之2單位之不飽和叛酸單位間 312XP/發明說明書(補件)/95· 12/95133235 33 1309312 酸炫基醋單位上脫醇单位及不飽和幾 作為加執丑聚物(上早位之上述戊二酸酐單位。 子内環化反:之方=之脫氫及/或脫醇’亦即進行分 應之方法,由生產性之觀點而言,以例如使用 ,、通風口之經加熱之擠出機的方法 體環境下或者真空下加熱脫揮之裝置的方法為較Γ 使i乍:二進行上述分子内環化反應之具體裝置,例如可 :吏用八備unimelt」型螺桿之單軸擠出機、雙轴擠出機、 擠出機、連續式或者分批式捏合機型混練機等。該等 二:用1軸擠出機者係於連續生產性、易於控制反應時 之>皿度' w、剪斷速度、品f敎性方面屬較佳。 作為擠出機之螺桿的長度/直徑比α/D),較佳為40以 上藉由將L/D設為40以上,可確保用以進行充分之八 子内環化反應的加熱時間。藉由使用[/1}為4〇以上之: 出機’可減少未反應之不飽和致酸單位之殘存獲得因 加熱成形加工時之反應再進行所造成之成形品内氣^產 生較少之聚合物,並可抑制成形滯留時之色相惡化。 作為用以進行上述分子内環化反應之具體裝置,更佳係 具有可導入氮氣等惰性氣體之構造的裝置。其原因在於, 右藉由於氧氣存在下加熱而進行分子内環化反應,則因有 黃色增加之趨勢,故最好充分地將系内以氮氣等惰性氣體 進行置換。作為將氮氣等惰性氣體導入例如雙軸擠出機之 方法,可列舉於漏斗上部及/或下部連接配管,並以1〇〜 100 L/min左右通入惰性氣體的方法等。 312Xp/發明說明書(補件)/95-12/95133235 34 1309312 進分子㈣化反應之加熱溫度,由使該反應順利 ::方面而言,較佳為副〜斷,更佳2〇〇〜職。 聚人^於分子内環化反應之加熱時間,若根據所需之共 二=進行適當設定即可’但較佳為卜6〇分鐘,更佳 30刀鐘,再更佳3〜2〇分鐘。 性It 了進行分子㈣化反應而進行加熱時,最好添加酸 媒::性觸媒、鹽系觸媒中之1種以上。作為酸性觸 、可列舉鹽酸、硫酸、對甲苯續酸、鱗酸、亞鱗酸、苯 脖魅“ 觸媒,可列舉金屬氫氧化物、 :類;=類、驗金屬衍生物、燒醇鹽類等。作為鹽系觸 氧化銨㈣。使… 鹽、碳酸金屬鹽、氫 觸 ’、 於含有鹼金屬之鹼性觸媒或者鹽系 量之添加量即顯示出優異之反應促進效 適口使用。具體而言,可列舉氫氧化鐘、氣氧化 甲=等驗金屬氫氧化物,甲醇納、乙醇鈉、紛納、 甲:鉀、乙醇鉀、盼卸等燒醇鹽化合物,乙酸鐘、乙酸鈉、 乙I鉀、硬脂⑽等有機_鹽#,料 使用氫氧仙1軸、乙軸、乙_ y 亦有藉由製成水溶液而顯示酸性或者驗性者,^觸等媒視中為 以與酸性觸媒、驗性觸媒有所區別。該等觸媒 可僅使用1種,亦可並用2種以上。 料上述觸媒之添加量,係相對於_重量份共聚物 ⑷,較佳為0.01〜1重量份。藉由設為0.01重量份以上, 可獲得作為該觸媒之實效;藉由設為!重量份以下,可防 312ΧΡ/^0^^*(^)/95-12/95133235 1309312 止其觸媒所保持之色對熱可塑性聚合物之著色產生不良 影響或使透明性降低。 < 於使丙烯酸彈性體粒子分散於丙烯酸系樹脂或者其前 驅物中時,丙烯酸彈性體粒子較佳係以其表層具有6〇艺 以上之玻璃轉移溫度的丙烯酸系樹脂進行積層之狀態,或 者使乙烯系單體進行接枝共聚合之狀態。以如此之方式, .可防止丙烯酸彈性體粒子彼此的接著/凝集,提高其操作 性’亦提兩丙烯酸系樹脂中之分散性。 ' 於表層積層了具有之玻璃轉移溫度的丙稀酸 系樹脂之態樣(以下有時稱作「核-殼型」)的丙烯酸彈性 體粒子中,作為構成殼部分之「具有6(rc以上之玻璃轉 移溫度的丙烯酸系樹脂」,較佳為含有不飽和叛酸烧基醋 系單位或不飽和羧酸系單位者。於殼部分含有該等之核一 殼型丙烯酸彈性體粒子,係於添加上述共聚物(a)並進行 加熱時,與基質樹脂之親和性良好,且分散性提高。又, 鲁藉由加熱,而於殼部分亦進行分子内環化反應,使殼部分 與基質樹脂進行同化,故藉由殼部分可防止本發明之 片保護薄膜之透明性受損。又,於基質樹脂内,丙稀酸彈 性體粒子被堅固地保持,故耐衝擊性等機械特性亦提高。 作為成為不飽和羧酸烷酯系單位之原料的單體,較佳係 使用(甲基)丙烯酸烷基醋,更佳係使用(曱基)丙稀酸 酯。 作為成為不飽和羧酸系單位之原料的單體,較佳係使用 (曱基)丙烯酸,更佳係使用曱基丙烯酸。 312xp/發明說明書(補件)/95-12/95133235 36 1309312 於核-殼型之丙烯酸彈性體粒子中,核與殼之重量比係 相對於兩者之總和,較佳係核為5〇〜9〇重量%,更佳6〇 . 〜80重量%。 : 作為核-殼型之丙烯酸彈性體粒子之市售品,例如可列 舉三菱hyon公司製造之「Me tab 1 en」、Kaneka公司製造 之「Kanes」、吳羽化學工業製造之「Paral〇id」、R〇hmand H「aas公司製造之「Acryl〇id」、Ganz化成工業公司製造之 「StaPhyl〇id」、KUraray 公司製造之 rparapetSA」等, 該等可單獨使用,亦可並用2種以上。 於使乙烯系單體進行接枝共聚合之態樣(以下稱作「接 枝共聚合型」)的丙烯酸彈性體粒子中,作為乙烯系單體, 可採用具有乙烯基之不飽和羧酸酯系單體、具有乙烯基之 不飽和羧酸系單體、及芳香族乙烯系單體等。又,亦可與 丙烯酸彈性體粒子中所含之橡膠質聚合物或基質樹脂之 相容性相配合,使其他乙烯系單體進行共聚合。 • 作為賦予丙烯酸彈性體粒子的乙烯系單體之量,以橡膠 質聚合物:乙烯系單體之重量比計,較佳為(10〜80广(2〇 〜9〇),更佳(20 〜70) : (30 〜8〇),再更佳(3〇〜6〇) : (4〇 〜7〇) °藉由將乙烯系單體設為20重量%以上,可獲得本 態樣之實效。另一方面,藉由將乙烯系單體設為90重量% 以下’則可抑制衝擊強度下降。 於接枝共聚合型之丙烯酸彈性體粒子中,可含有源自未 進行接枝共聚合之乙烯系單體的成分,但由衝擊強度之觀 點而言,接枝率較佳為10〜100%。此處,所謂接枝率係 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 37 1309312 才曰賦予至橡膠質聚合物之乙烯系單體中經接枝共聚合者 的重里比例。又’未進行接枝之共聚物的曱基乙基酮溶 劑’於3(TC下測定之極限黏度並無特別限定,但由衝擊 強度與成形加工性之平衡的觀點而言,可適合使用〇1〜 〇.6 dl/g 者。 、作為將丙稀酸彈性體粒子製成為接枝共聚合型之方 法,可採用塊狀聚合、溶液聚合、懸濁聚合以及乳化 等聚合法。 尸核-设型或者接枝共聚合型之丙烯酸彈性體粒子之粒 徑、含量以及折射率’可將殼部分及接枝共聚物部分以外 之橡膠貝聚合物作為對象而進行評價。對於粒徑,例如, 可由利用穿透式電子顯微鏡之剖面觀察等,殼部分及接 枝共聚合部分以外之部分進行評價。又,含量可由於 :稀酸系樹脂之丙_等溶劑中溶解後的不溶成分進行評 : 乍為於丙烯酸系樹脂或者其前驅物中添加丙稀酸彈性 -粒子或其他添加劑之方法,可採用例如如下方法 =酸系樹脂與其他添加成分預先摻合後,通常於⑽ C下’藉由單減者雙軸擠出機進行料混練 又’於屬於丙稀酸系樹脂之前驅物之共聚物中° 丙烯酸彈性體粒子或其他添加劑,並則雙轴擠 = 仃上述分子内環化反應之同時,可進行利用等進 配丙烯酸彈性體粒子⑻或其他添加劑。 -練而調 於熔融混練中’亦可同時進行賦予至丙婦酸彈性體粒子 312XP/發明說明書(補件y95_ 12/95133235 38 1309312 之殼部分等之不飽和 單體單位的環化反應。 I位或残和㈣燒基醋 酸可使用於將丙烯酸系樹腊與丙埽 除;=:成分溶解或者分散之溶劑中混合後,將溶劑 =係於溶液製膜中,將構成本發明之偏光 之樹脂以除去異物爲曰μ二1得膜 —、"的而進行過濾。藉由除去異物,可 ^之著色’而可有詩光學料㈣。可將溶解於 ,^ 甲基6基酮、二甲基甲酿胺、二甲亞砜、 。"基岭定酮等溶劑中之樹脂,較佳於饥以上、1〇〇 ==下,以燒結金屬、多孔性陶竟、砂、金屬絲 網等過遽器進行過遽。 膜SC片保護薄膜可藉由熔融製膜或者溶液製 =進订氣膜々。作為炫融製膜’有充氣法、T模具法t壓延 /切削法等’特佳為採用τ模具法。作為溶液製膜,有 :聚合物薄膜上洗鑄法、洗鑄滾筒法、於金屬帶上洗鑄法 等’特別可適合採用於聚合物膜上料法。 明各製造方法。 ”說 於熔融製膜中,可使用安裝了單轴或者雙軸擠出螺桿之 擠壓機型熔融擠出裝置等。作為其螺桿之L/D,設為25 ^120者可防止著色’故較佳。作為用以製造本發明之偏 光片保護薄膜的炼融擠出溫度,較佳A 150〜35(rc,更 佳200 了 3GG°C。作為熔融剪斷速度,較佳為誦y以上、 5000 s-1以下。又,當使用㈣擠以置進行溶融混練時, 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 39 1309312 ,,著色之觀點而言,較佳係使用通風口於減愿下或者 虱氣流下進行熔融混練。 後具法’則可利用齒輪泵計量所熔融之樹脂 法’厂“::嘴吐出,依施加靜電法、空氣室法、氣刀 1輥法使其密接於滾筒等冷卻媒體上而進行冷卻 Μ 獲得Μ °為了獲得厚度不均較少、濁度較小之 /專膜’特佳為麗親法。 溶液製膜較佳係以溶解基f樹脂。作為溶劑,可使 用四氫呋喃、丙酮、甲基乙基_、二甲基甲醯胺、二甲亞 颯L嘻咬酮等’特佳係採用丙網或甲基乙基酮。 於聚u #/ m上洗鑄法’係使用棒式塗佈機加 :㈣、擠壓式塗佈機(diecoater)等,將溶解有屬於 原枓之樹餘成物的溶液,_於料苯二f酸乙二醋等 =耐熱薄膜上’並蒸發除去溶劑(乾式法)或者以凝固液使 溶液固化(濕式法)之方法。 構成防反㈣之低折射率層、高折射率層、光吸收層 專’可❹蒸鍍或_等之真空薄膜形成技術而形成。 本發明之上述偏光片保護薄膜可積層於其他基材而使 用。例如’對於玻璃、聚稀烴樹脂、成為高遮斷性層之乙 稀亞乙稀基共聚物、聚8旨等基材,藉由含有接著性樹脂層 之多層擠出成形或多層膨脹成型而可積層成形。當熱融著 性較高時,有時亦省略接著層。 [偏光片] 上述由聚乙烯醇㈣脂所形成之偏光片,可使用將聚乙 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 40 1309312 烯醇系樹脂薄膜以二色性物質(代表性者為碘、二色性染 料)進行染色,並加以單軸延伸者。構成聚乙稀醇系樹脂 薄臈之聚乙烯醇系樹脂的聚合度較佳為1〇〇〜5〇〇〇,更佳 14 =〜4刚。構成偏光片之聚乙埽醇系樹脂薄膜可依任意 ,當之方法(例如’將樹脂溶解於水或者有機溶劑中而^ :之溶液進行流延成膜之流延法、洗鑄法、擠出法)進行 偏光片之厚度可根據❹偏光板之⑽的目的及用 k適當設定,代表性者為5〜8〇 Am。 作為偏光片之製造方法’可根 ^採用任意適當之方法。代表性者為可採吏== ,糸樹脂薄腹供給至包括膨潤、染色、交聯、延伸、水 m餘步驟之―系列的製造步 步驟以外之各處理步驟中,係法除了乾餘 浸潰於含有於^4由將聚乙_系樹脂薄膜 潤、染色、交聯、延伸、水吟… 中而進仃處理。膨 ±μαλ B ^ ^ a ' 1及乾燥之各處理的順序、 _人數以及疋否實施’係可根據目 广序 進行適當設定。例如灸用材枓以及條件等 行,亦可省略特定處理。更*細理以一個步驟同時進 染色處理後進行’亦可於染色處理:前:如延:處理可於 處理'染色處理以及交聯處理 :進仃’亦可與膨潤 採用於延伸處理前後進行交聯處理。二’例如可適當 可於全部處理後進行,亦可僅於特定之處=’水洗處理 膨濁步驟代表性者為 處理谖進行。 膜浸潰於充滿水之處理丨n迦聚乙婦醇系樹脂薄 处里办(膨潤洛)中而進行。藉由該處 312XP/發明說明書(補件)/95姻5133235 1309312 =可將聚乙婦醇系樹腊薄膜表面之污垢及抗結塊劑進行 /月:先’並防止因聚乙烯醇系樹脂薄膜膨潤所導致之染色不 •句等不均勻!生於膨潤浴中’可適當添加丙三醇及碘化鉀 等。膨潤浴之溫度代表性者為20〜6(TC左右,浸潰於膨 潤浴中之時間代表性者為0.1〜1〇分鐘左右。 /卞色步驟之代表性者為,可藉由將上述聚乙烯醇系樹脂 、薄膜反潰於含有蛾等二色性物質之處理浴(染色浴)中而 進仃1染色a之溶液中所使用之溶劑,通常係使用水, 亦可適量添加與水具有相溶性之有機溶劑。2色性物質可 依相對於1 00重量份溶劑,代表性者為〇· i〜i. 〇重量份 之比例而使用。當使用蛾作為二色性物質時,較佳係染色 浴之命液進一步含有碘化物等助劑。其原因在於可改善染 色效率助劑係以相對於100重量份溶劑,較佳為〇. 〇2 〜20重1份、更佳2〜1〇重量份之比例使用。作為蛾化 物之具體例,可列舉破化卸、埃化鐘、埃化納、埃化鋅、 •峨化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘 化欽。染色浴之溫度代表性者為20〜7GX:左右,浸漬於 染^浴中之時間代表性者為i — 分鐘左右。 、 父聯步驟之代表性者為,可藉由將經上述染色處理之聚 乙烯醇系樹脂薄膜浸潰於含有交聯劑之處理浴(交聯浴) 中而進行。作為交聯劑,可採用任意適當之交聯劑。作為 父聯劑,具體例,可列舉硼酸及硼砂等硼化物、乙二醛、 戊一醛等。該等可單獨或者組合使用。於交聯浴之溶液中 所使用之溶劑,通常係使用水,但亦可適量添加與水具有 312XP/g_0月書(補件)/95·12/95133235 1309312 相溶性之有機溶劑。交聯劑係以相對於丨〇〇重量份溶劑, 代表性者為1〜1 0重量份之比例而使用。當交聯劑之濃度 未滿1重量份時,大多有無法獲得充分之光學特性的情 況。當交聯劑之濃度超過1 〇重量份時,則有於延伸時在 膜上所產生之延伸力變大,而導致所獲得之偏光板收縮之 情況。交聯浴之溶液最好進一步含有碘化物等助劑。其原 因在於在面内易於獲得均勻之特性。助劑之濃度較佳為 0.05〜15重量%,更佳〇.5〜8重量%。碘化物之具體例與 染色步驟之情況相同。交聯浴之溫度代表性者為2〇〜7〇 C左右,較佳40〜6(TC。浸潰於交聯浴中之時間代表性 者為1秒鐘〜15分鐘左右,較佳5秒鐘〜1〇分鐘。 延伸步驟係如上所述,可於任一階段進行。具體而言, 可於染色處理後進行,亦可於染色處理前進行,亦可與〇膨 潤處理、染色處理以及交聯處理同時進行,亦可於交聯處 理後進行。聚乙稀醇系樹脂薄膜之累積延伸倍率必須 5倍以上,較佳5〜7倍,更佳5〜65倍。當累積延伸信 率未滿5倍時,將有難以獲得高偏光度之偏光板的情況。 於累積延伸倍率超過7倍時,將㈣乙_系樹脂薄膜 (偏立光月)易於斷裂的情形。作為延伸之具體方法,可採用 任意適當之方法。例如’ t採用濕式延伸法時,係 婦醇系樹脂薄膜於處理浴(延伸浴)中延伸至特定倍率嗜 為延伸浴之溶液,係適合使用於水或者有機溶劑(例如乙 醇)等溶劑中添加了各種金屬鹽、 的溶液。 ^碘、硼或者鋅的化合物 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 43 1309312 水洗步驟之代表性者為,可藉由將經實施上述各種處理 之聚乙烯醇系樹脂薄膜浸潰於處理浴(水洗浴)中而進 行。藉由水洗步驟’可將聚乙烯醇系樹脂薄膜之不需要的 殘存物清洗掉。水洗浴可為純水,亦可為磁化物(例如, π、碘化鈉)之水溶液。碘化物水溶液之濃度較佳為 /〜10質量%。於蛾化物水溶液中,亦可添加硫酸鋅、 風化鋅等助劑。水洗浴之溫度較佳為10〜6(rc,更佳扣 〜4G°C。浸潰時間之代表性者為i秒鐘〜i分鐘。水 驟可,進行1次,亦可視需要進行多次。當多次實施時, 可適當調整於各處理所使用之水洗浴中所含之添加劑的 種類及濃度。例如,水洗步驟係包括將聚合物薄膜於埃化 鉀水溶液(0.1〜1〇質量%、1〇〜6〇。〇中浸潰1秒鐘〜!分 益里之步驟及以純水沖洗之步驟。 作為乾燥步驟’可採用任意適#之乾燥方法(例如,自 然乾燥、鼓風乾燥、加熱乾燥)。例如,當進行加執乾燥 時,乾燥溫度之代表性者為2G〜8代,乾燥時間之代表 性者為1〜10分鐘。以如上之方式可獲得偏光片。 [其他層等] "於本發明之偏光板中,係含有上述偏光片及本發明之偏 光片保護薄膜,但最好於偏光片保護薄膜與偏光片之間具 有易接著層以及接著劑層。 、 上述接著劑層較佳係由聚乙烯醇系接著劑所形成之 層。聚乙烯醇系接著劑為含有聚乙稀㈣樹脂及交㈣。 上述聚乙烯醇系樹脂並無特別限定,例如可列舉與聚乙 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 “ 1309312 酸乙烯酯進行皂化而獲得之聚乙烯醇,其衍生物;進一步 具有與乙酸乙烯酯之共聚合性之單體之共聚物的皂化 物;將聚乙烯醇進行縮醛化、胺酯化、醚化、接枝化、磷 酸酯化等之改質聚乙烯醇等。作為上述單體,可列舉順丁 烯二酸(酐)、反丁烯二酸、丁烯酸、依康酸、(甲基)丙烯 酸等不飽和羧酸以及其酯類;乙烯、丙烯等α _稀烴,(甲 基)烯丙基磺酸(鈉)、磺酸鈉(順丁烯二酸單烷酯)、二碏 酸鈉順丁烯二酸烷基酯、Ν-羥曱基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷 •基磺酸鹼鹽、Ν-乙烯基吡咯啶酮、Ν-乙烯基吡咯啶酮衍生 物等。該等聚乙烯醇系樹脂可僅使用丨種,亦可並用2種 以上。 上述t乙稀醇系樹脂係由接者性方面而言,其平均聚人 -度較佳為100〜3000,更佳500〜3000,平均皂化度較^ 為85〜100莫耳%,更佳90〜100莫耳%。 • 作為上述聚乙烯醇系樹脂,可使用具有乙醯乙醯基之聚 鲁乙烯醇系樹脂。具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂係具有 高反應性之官能基的聚乙烯醇系接著劑,由偏光板之^久 性提高之方面而言屬較佳。 含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂係可將聚乙稀醇系 樹脂與二乙烯酮以公知之方法進行反應而獲得。例如可列 舉預先將聚乙烯醇系樹脂分散於乙酸等溶劑中,於其中添 加二乙烯酮之方法;預先將聚乙烯醇系樹脂溶解於^甲基 曱醯胺或者二噚烷等溶劑中,於其中添加二乙烯綱之方^ 等。又,可列舉將二乙烯酮氣體或者液狀二乙稀酮直接接 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 45 1309312 觸至聚乙烯醇之方法。 I具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的乙醯乙醯基改 質度為〇. 1莫耳%以上,則並無特別限定。當未滿丨莫 耳%時,接著劑層之耐水性不充分,故不適當。乙醯乙醯 基改質度較佳為0.1〜40莫耳%,更佳1〜2〇莫耳若乙 醯乙醯基改質度超過40莫耳%,則與交聯劑之反應點變 J,耐水性之提高效果較小。乙醯乙醯基改質度係藉由 NMR而測定之值。 作為上述交聯劑,可無特別限制地使用聚乙烯醇系接著 劑中所使用者。交聯劑係可使用至少具有2個與聚乙烯醇 系樹脂具有反應性之官能基的化合物。例如可列舉:乙二 胺、二乙烯胺、己二胺等具有2個伸烷基與胺基之伸烷基 二胺類(其中較佳為己二胺);甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯 二異氰酸酯、三亞曱基丙烷甲苯二異氰酸酯加合物、三笨 基曱烷二異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷)三異氰酸酯、 異佛爾酮二異氰酸酯以及該等之酮肟嵌段物或者苯酚嵌 段物等之異氰酸酯類;乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二 環氧丙基醚、丙三醇二或三環氧丙基醚、丨,6—己二醇二環 氧丙基醚、三羥曱基丙烷三環氧丙基醚、二環氧丙基苯 胺、二環氧丙基胺等環氧基類;甲醛、乙醛、丙醛、盤 等單醛類;乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二 駿、鄰笨二甲醛等二醛類;羥曱基脲、羥甲基三聚氛胺、 燒基化經甲基脲、烧基化羥曱基化三聚氰胺、乙胍胺、苯 胍胺與甲醛之縮合物等之胺基-曱醛樹脂;再者,鈉、鉀、 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 46 1309312 =、=鐵、錦等二價金屬或者三價金屬之鹽及其氧 經甲基三聚氰胺。 為-“胺系父聯劑’特佳為 ^述交聯劑之調配量係相對於丨⑽重量 樹^,較佳為〇.卜35重量份,更佳1G〜25重量份^ :面,4 了使耐久性進一步提高,可於相對於1〇〇重量 ?聚乙烯醇系樹脂’依超過3〇重量份、46重量份以下之 範圍内調配交聯劑。特別係當使用含有乙醯乙醯基之 烯醇系樹脂時,最好使交聯劑之使用量超過3q^量份而 使用。藉由依超過30重量份、46重量份以下之範圍内調 配交聯劑,可提高耐水性。 再者’於上述聚乙料系接著劑中,亦可進—步調配石夕 烷偶合劑及鈦偶合劑等偶合劑、各種黏著賦予劑、紫外線 吸收劑、抗氧化K熱穩定劑及耐水解穩定财穩定劑 等。 • 本發明之偏光片保護薄膜可於與偏光片接觸之面上,實 施用於提高接著性之易接著處理。作為易接著處理,可列 舉電暈處理、電漿處理、低壓uv處理、皂化處理等之表 面處理,較佳係於進行易接著處理後,形成易接著層(固 定(anchor)層)。 作為上述易接著層,例如可列舉具有反應性官能基之聚 矽氧層。具有反應性官能基之聚矽氧層的材料並無特別限 定,例如可列舉含有異氰酸酯基之烷氧基矽烷醇類、含有 胺基之烷氧基矽烷醇類、含有毓基之烷氧基矽烷醇類、含 312XP/^M說明書(補件)/95-12/95133235 47 1309312 有羧基之烷氧基矽烷醇類、含有環氧基之烷氧基矽烷醇 類、含有乙烯型不飽和基之烷氧基矽烷醇類、含有鹵素基 •之烷氧基矽烷醇類、含有異氰酸酯基之烷氧基矽烷醇類, 較,為胺基系石夕炫醇。進一步可藉由添加用以使上述石夕燒 醇高效率地進行反應之鈦系觸媒或錫系觸媒,而使接著力 '變得牢固。又,亦可於上述具有反應性官能基之聚矽氧中 _添加其他添加劑。具體而言,亦可進一步使用結烯樹脂、 、㈣’樹脂、松香樹脂、二甲苯樹脂等黏著賦 予劑i外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等。 具有上述反應性官能基之聚矽氧層係可藉由公知之技 術進行塗佈、乾燥而形成。聚石夕氧層之厚度於乾燥後,較 佳為1〜300 nm,更佳卜刚nm,再更佳卜⑽nm,特 ,5〜70 nm。於塗佈時,亦可以溶劑稀釋具有反應性官 施f之聚矽氧。稀釋溶劑並無特別限定,可列舉醇類。稀 釋濃度並無特別限定,較佳為i〜5重量%,更佳 鲁量%。 更 上述接著劑層之形成係可藉由將上述接著劑塗佈於 光片保護薄膜之任-侧或者兩側、偏光片之任一侧或者兩 側,進行。於將偏光片保護薄膜與偏光片貼合之後,實施 —乾,步驟’形成包括塗佈乾燥層之接著劑層。亦可於形 接耆劑層之後將其貼合。偏光片與偏光片保護薄膜之貼 合,係可藉由輥層合機等而進行。加熱乾燥溫度及乾 間係根據接著劑之種類適當決定。 ’、、 若接著劑層之厚度於乾燥後之厚度過厚,則由偏光片保 312XP/#B|^i(M#)/95.12/95133235 a〇 1309312 護薄膜之接著性方面而言屬不佳’故較佳為0.1〜50 nm, 更佳1〜50 nm ’再更佳5〜40 nm。 偏光片保護薄膜對偏光片之貼合,可以上述偏光片保護 厚膜之一側接著至偏光片之兩面。 ,三偏光片保護薄膜對偏光片之貼合,可以上述偏光片 保護薄膜之-侧接著至偏光片之-面,而於另一面貼合纖 維素系樹脂薄膜。 纖 上述纖維素系樹脂薄膜並無特別限定,然而,由透明 =:及接著性方面,較佳為三乙醯基纖維素。纖維素系樹 脂薄膜之厚度較佳為30〜100 ,更佳40〜80 /zm。若 厚度薄於30 ,則膜強度降低且作業性差劣;若厚於 則於耐久性方面,光透射率之下降變得明顯。 A—3.第1光學補償層 第1光學補償層係具有nx > ny = nz之折射率分佈之正 A板,其用以消除於VA模式(垂直配向模式)之液晶顯示 裝置中,於斜向觀察時,因正交尼科爾(Nicol)狀態之偏 光板失去外觀上之正交狀態而使視角特性惡化之原因。 第1光學補償層係具有nx > ny = nz之折射率分佈,減 輕自斜向觀察時的色偏。 第1光學補償層係表現出屬於異常光與平常光之光程 差的相位差值越靠近短波長側則越小之波長分散特性。 弟1光學補償層係例如可較佳地列舉如下者:係屬於延 伸薄膜層,含有液晶,且含有具有第骨架之聚碳酸酯者(例 如記載於日本專利特開2〇〇2一 48919號公報中);係屬於 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 49 1309312 r =1層、且含有醋酸纖維素者(例如記載於曰本專利 有幵2種X卜U6號公報中);闕於延㈣膜層,且含 :者有不同波長分散特性之芳香族聚酯聚合 (二如,己載於曰本專利㈣讀—14234號公報 =,係屬於延伸薄膜層,且含有具有2種以上源自形成 …有不同波長分散特性之聚合物之單體的單體單位之丑 聚物者(記載於_0/267〇5號公報中);將2種以上具^ 不同波長分散特性之延伸薄膜層進行積層之複合薄膜層 G己载於曰本專利特開平2—12〇8〇4號公報中)等。 作為第1光學補償層之形成材料,例如可為均聚物 (—_lymer),亦可為共聚物(卿咐町),亦可為多個 聚合物之摻合物。於摻合物的情況,由於必須為光學性透 明,故相溶摻合和各聚合物之折射率大致相等。 、,作為上述摻合物之具體組合’例如可列舉:作為具有負 光學異向性之聚合物的聚(甲基丙烯酸曱酯),與作為具有 正光學異向性之聚合物的聚(偏二氟乙烯)、聚(環氧乙 烷)、偏二氟乙烯/三氟乙烯共聚物等之組合;作為具有負 光學異向性之聚合物的聚苯乙烯、苯乙烯/十二醯基順丁 烯二醯亞胺共聚物、苯乙烯/環己基順丁烯二醯亞胺共聚 物、苯乙烯/苯基順丁烯二醯亞胺共聚物等,與作為具有 正光學異向性之聚合物的聚(苯醚)之組合;作為具有負光 學異向性之聚合物的笨乙烯/順丁烯二酸酐共聚物,與作 為具有正光學異向性之聚合物的聚碳酸酯之組合;作為具 有負光學異向性之聚合物的丙烯腈/苯乙烯共聚物,與作 312XP/發明說明書(補件)/% 12/95133235 50 1309312 為具有正光學異向性之聚合物的丙烯腈/丁二烯共聚物之 組合等。該等之中,由透明性之觀點而言,較佳係作為具 有負光學異向性之聚合物的聚苯乙烯,與作為具有正光學 異向性之聚合物的聚(苯醚)之組合。作為聚(苯醚),例如 可列舉聚(2, 6-二曱基-i,4-笨醚)等。 作為上述共聚物,例如可列舉丁二烯/苯乙烯共聚物、 乙烯/苯乙烯共聚物、丙烯腈/丁二烯共聚物、丙烯腈/丁 I二烯/苯乙烯共聚物、聚碳酸酯系共聚物、聚酯系共聚物、 1聚酯碳酸酯系共聚物、聚芳醋系共聚物等。特別是因為具 有»骨架之片段可成為負光學異向性,故最好為具有第骨 架之聚碳酸酯、具有苐骨架之聚碳酸酯系共聚物、具有苐 骨架之聚酯、具有第骨架之聚酯系共聚物、具有薷骨架之 聚酯碳酸酯、具有苐骨架之聚酯碳酸酯系共聚物、具㈣ 骨架之聚芳酯、具有苐骨架之聚芳酯系共聚物等。 第1光學補償層係可作為λ/4板而發揮功能。第2光 學補償層之面内相位差Rel為9G〜⑽nm,較佳刚〜150 nm ’ 更佳 11〇〜150 nm。 第!光學補償層係以可以作為又/4板適當發揮功能之 方式而蚊其厚度。其厚度可収為可獲得所需之面内相 位差化。具㈣言’第i光學補償層之厚度較佳為4〇〜 200 "m,更佳50〜180 “,再更佳6〇〜15〇 “。 第1光學補償層之面内相位差Rei係藉由將表現出如上 述之波長分散特性(逆波長分散特性)之樹㈣膜的延伸 倍率及延伸溫度加以變化而可予以控制。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 1309312 差物中所需之面内相位 改變。且延伸溫度等,而進行適當 體而§,延伸倍率較佳為丨.〜 L 22〜1.42倍,再更佳127〜由口,更佳 相位差I:具有有能充分發揮㈣^ 補償層。具有ηΧ>—之折射率分佈的第!光學 位^溫度係可根據於第1光學補償層令所需之面内相 脂ί種類、t 學補償層中所需之厚度、所使用之樹 薄膜的厚度、延伸倍率等而進行適當 〜=ΓΛ,延伸溫度較佳為13G〜靴,更佳135 137〜143<:。藉由以此種延伸溫度進行 旱具有可能充分發揮本發明效果的面内相:; 第1tlnx>ny=nz之折射率分佈的第1光學補償層。 ,予補償層之形成方法並無特別限定,可採用任意 t之方法。例如可列舉如下方法:製備將上述形成材料 各解於溶劑而獲得之溶液’將其於表面平滑之基材膜上及 金屬製環形皮帶(endlessbelt)上塗佈成薄膜狀,其後蒸 發除去溶劑,形成第1光學補償層。 於上述塗佈中可使用之溶劑並無特別限定,可採用任意 適當之方法,例如可列舉氯仿、二氯甲垸、四氯化碳、二 :乙烷、四氣乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、鄰二氯 苯等鹵化烴類;苯酚、對氯酚等酚類;苯、甲苯、二甲苯、 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 52 1309312
曱乳基本、1,2-二甲氧基苯等芳香族烴類;丙酮、曱基乙 基酮、曱基異丁基酮、環己酮、環戊_、2-吼略咬酮、N-甲基-2-吡咯啶嗣等酮系溶劑;乙酸乙酯、乙酸丁醋等醋 系溶劑;第三丁醇、丙三醇、乙二醇、三乙二醇、乙二醇 單甲趟、二乙二醇二甲鍵、丙二醇、二丙二醇、2-甲基-2,4-戍一醇等㈣溶劑;二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醜胺 系溶劑;乙腈、丁腈等腈系溶劑;二乙驗、二丁鍵、四氣 咬喃等醚系溶劑;二硫化碳;乙基赛路蘇、丁基赛路蘇等 赛路蘇類等。該等溶劑可僅使用!種,亦可並用2種以上。 作為上述塗佈之方法’並無特別限定,可採躲意適當 之方法。例如可列舉旋塗法(spin c〇at)、輥塗法(r〇u
coat)、流塗法(flow coat)、印刷法(print c〇at)、浸塗 法(dip coat)、流延成臈法、棒式塗佈法(bar c〇at)、凹 版印刷法(gravure print coat)等。又,於塗佈時,視需 要亦可採用聚合物層之重疊方式。 上述基材薄膜之形成材料並無特別限定,可採用任意之 適當方法。例如,較佳可列舉透明性優異之聚合物,又, 由適於延伸處理及收縮處理方面而言,較佳為熱可塑性樹 脂。具體而言’例如可列舉··三乙醯基纖維素(TAC)等醋 酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚颯樹脂、聚砜樹脂 '聚碳酸酯 樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸 系樹脂、聚降葙烯樹脂(例如商品名「ARTON」(JSR(股) 製造)、商品名「ZE0N0R」、商品名ΖΕ0ΝΕΧ)(日本Zeon公 司製造)等)、纖維素樹脂、聚芳醋樹脂、聚苯乙烯樹脂、 312XP/發明說明書(補件)/95·12/95133235 53 1309312 聚乙烯醇系樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏氯乙烯樹脂、聚丙 烯酸系樹脂、及該等之混合物等。又,亦可使用液晶性聚 合物等。再者,亦可使用例如日本專利特開2〇〇1 — 343529 號公報(W001/37007號)中所記載之、於側鏈具有取代醯 亞胺基或者非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂、與於側鏈具 有取代苯基或者非取代苯基及腈基之熱可塑性樹脂的混 合物等。作為具體例,例如具有由異丁烷及N_亞曱基順 丁烯二醯亞胺所組成之交替共聚物、與丙烯腈/苯乙烯共 _聚物之樹脂組成物等。該等形成材料之中,例如,較佳係 可將形成透明膜時之雙折射率設定為相對更低之材料,具 體而言,較佳係上述之於側鏈具有取代醯亞胺基或者非取 代醯亞胺基之熱可塑性樹脂、與於侧鏈具有取代苯基或者 非取代苯基及腈基之熱可塑性樹脂的混合物。於上述樹脂 之中,作為代表性者可列舉三乙醯纖維素(TAC)等纖維素 系聚合物薄膜、降稻烯系聚合物薄膜(商品名「ART〇N」 # (JSR(股)製造)、商品名「ZE〇N〇R」、商品名「ΖΕ〇ΝΕχ」(日 本Zeon公司製造)等)。 上述基材薄膜之厚度較佳為10〜1000 #m,更佳20〜 500 /zm,再更佳 30〜1〇〇 。 再者,作為將第1光學補償層形成作為偏光板之透明保 護層的方法,例如可將上述塗佈溶液塗佈於偏光片,並將 上述溶劑蒸發除去形成第1光學補償層。 A—4.第2光學補償層 第2光學補償層係具有nx=ny>nz之折射率分佈,可 312XP/_^_ (補件)/9M2/95133235 54 1309312 作為所謂負c板而發揮功能。因第2光學補償層具有此種 折射率分佈’故特別可良好地補償VA模式之液晶單元液 晶層之雙折射性。即’第2光學補償層係用以除去於va f式(垂直配向模幻之液晶顯示裝置令,於自斜向觀察 4 ’由於液晶分子之等向性崩解而使視角特性惡化之原因 者。其結果為’可獲得視角特性顯著提高之液晶顯示裝置。 由於在本說明書中「,…不僅包括nx^y嚴格相 _ 4之情況,亦包括狀與ny實質上相等之情況,故第2光 學補償層可具有面内相位差Re2,並可具有慢軸。作為負 C板實用上可容許之面内相位差Re2為G〜2G⑽,較佳〇 〜10 nm,更佳0〜5 nm。 第2光學補償層之厚度方向之相位差以^為3〇〜3〇〇 ⑽,較佳6〇〜18〇⑽,更佳8〇〜15〇⑽再更佳〜 ^ 〇 nm 了獲仔此種厚度方向之相位差的第2光學補 仂層之厚度,可根據所使用之材料等而變化。 _第2光子補乜層之厚度較佳為1〜1〇〇 ,更佳1〜 ’再更佳1〜1〇 。 作為形成上述第2光學補償層之材料,可列舉任意之適 當尚分子薄膜、將表現膽固醇狀液晶相之液晶性材料進行 硬化之薄膜、硬化為盤形液晶性化合物之薄膜以及無機屛 狀化合物等。 θ 作為形成上述第2光學補償層之高分子薄膜的具體 例^例如可列舉二乙醯基纖維素及三乙醯基纖維素等纖維 素系樹脂、聚曱基丙烯酸曱酯等丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 55 1309312 系樹脂等。又,可列舉環烯烴樹脂,降稻烯系樹脂,聚乙 烯、聚丙烯、乙烯•丙烯共聚物等聚烯烴系樹脂,氯乙烯 系樹脂,尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂,芳香族聚醯 亞胺及聚醯亞胺醯胺等醯亞胺系樹脂,砜系樹脂,聚醚砜 系樹脂,聚醚醚酮系樹脂,聚苯硫醚系樹脂,乙烯醇系樹 脂,偏氯乙烯系樹脂,乙烯丁醛系樹脂,芳酯系 甲搭系樹脂’環氧系樹脂。x,亦可列舉含有上述樹脂之 摻合物等的高分子薄膜等。
使用作為上述第2光學補償層之高分子薄膜,除了可藉 由洗鑄法而進行製膜獲得以外,可藉由利用任意適當之^ 伸法進行k伸而獲得。作為上述延伸法,例如可列舉縱單 軸延伸法、橫單軸延伸法、縱橫同時雙轴延伸法、縱橫逐 次雙軸延#法等。上述延伸處理法例如可使用輥延伸機、 拉幅機或❹延伸機#適#延伸機而進行。又,上述 亦可分為2次或者3次以上之步驟而進行。將上述高分子 溥膜進行延伸之方向可為薄膜長度方向⑽方 為寬度方向(TD方向)。 ::形成上述第2光學補償層之材料’較佳可列舉:於 亞ίίΓ開2GG3— 287750公報[咖]中所記載之聚醯 St之^本專利特開287623號公報[_] 中斤5己载之將3有向列型液晶單體及聚合性手性劑 =膽固醇狀液晶相之液晶性材料進行硬化之薄膜·於日 列舉·於日本專利特開平卜281G28號公報[嶋]中所 312XP/^*^*«)/95-12/95133235 « 56 1309312 圯載之盤形液晶無配向層;及於日本專利特開平9 — 犯 號公報[0034]中所記載之將水膨潤性無機層狀化合物塗 佈於基材上後進行乾燥而獲得之薄膜。 ' A 5.附有光學補償層之偏光板 本發明之附有光學補償層之偏光板係依序具有偏光 板、第1光學補償層、及第2光學補償層,然而,偏光板 與第1光學補償層、第i光學補償層與第2光學補償層係 分別根據目的而利用任意適當之方法進行積層。代表性者 為將偏光板與第1光學補償層之間、第i光學補償層與第 2光學補償層之間,藉由黏著劑層或接著劑層進行接^。 藉由以黏著劑層或接著劑層如此填滿各層(亦含有偏光 板)之間隙,而於組裝入影像顯示裝置時,可防止各層之 光學軸位置偏離’或防止各層之間擦傷。又,亦可減少層 間之界面反射’或於用於影像顯示裝置時提高對比。 適可根據使用目的或接著力等進行 田《又疋具體而5,黏著劑層之厚度較佳為ι以爪〜丨⑽ 更佳5 "m〜50 ",最佳10 “〜30㈣。 作為形成上述黏著劑層之黏著劑,可採用任 著劑。作為具體例,可列舉溶 斑苫鈿U合沁型黏奢劑、非水系乳膠型 黏者劑、水系黏著劑、熱熔黏著劑等。該等之 ^用,丙婦酸系聚合物作為基質聚合物之溶劑型黏著
1光學録現出對於偏光片、第 1先學補彳員層、以及第2光學補償眉嘀A 濕性、凝集性以及接著性),且1學透 =#黏者特性(潤 立先學透明性、耐候性以及 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 57 1309312 耐熱性優異。 作為形成上述接著劑層之接著劑,代表性者可列舉硬化 :型接著齊Η乍為硬化型接著劑之代表<列,可列舉紫外線硬 化型等光硬化型接著劑、濕氣硬化型接著劑、熱硬化型接 著劑。 作為熱硬化型接著劑之具體例,例如可列舉環氧樹脂、 異氰酸酯樹脂、以及聚醯亞胺樹脂等熱硬化性樹脂系接著 劑。作為濕氣硬化型接著劑之具體例,例如可列舉異氰酸 酯樹脂系濕氣硬化型接著劑。較佳係濕氣硬化型接著劑 (尤其是異氰酸酯樹脂系之濕氣硬化型接著劑)。由於濕氣 硬化型接著劑與空氣中之水分及黏附體表面之吸附水、羥 基和羧基等活性氫基等反應而進行硬化,故藉由塗佈接著 -劑後放置而可使之自然硬化,且操作性優異。再者,因硬 化不必加熱,故於層間接著時不進行加熱。因此,可抑制 由於加熱所導致之各層劣化。再者,所謂異氰酸酯樹脂系 _接著劑,係指聚異氰酸酯系接著劑、聚胺基曱酸酯樹脂接 著劑等之總稱。 上述硬化型接著劑亦可使用例如市售之接著劑,亦可將 上述各種硬化型樹脂溶解或分散於溶劑中而調製成硬化 型樹脂接著劑溶液(或者分散液> 於調製硬化型樹脂接著 劑溶液(或者分散液)時’溶液(或者分散液)中之硬化型樹 脂之含有比例’較佳係固形分重量為1 〇〜8〇重量%,更佳 20〜65重量% ’再更佳30〜50重量%。作為所使用之溶劑, 可根據硬化型樹脂之種類而採用任意之適當溶劑。具體而 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 58 1309312 言二例如可列舉乙酸乙酯、曱基乙基酮、曱基異丁基酮、 曱苯、二曱苯等。該等可僅使用丨種,亦可並用2種以上。 對各層(亦包含偏光板)間之接著劑的塗佈量係可根據 目的進行適當設定。例如,塗佈量係相對於各層之主面, 每單位面積(cm2)較佳為0·3〜3 ml,更佳〇5〜2 ml,再 更佳1〜2 m 1。 —於塗佈後,視需要,可藉由自然乾燥或加熱乾燥而使接 著劑中所含之溶劑揮發。以如此方式所獲得之接著劑層的 厚度較佳為0. 1〜20以m,更佳0.5〜15 ,再更佳J 〜1 〇 # m。 接著劑層之微硬度(Microhardness)較佳為〇· 1〜〇. 5 • GPa,更佳〇. 2〜0. 5 GPa,再更佳〇· 3〜〇. 4 GPa。再者, 由於微硬度(Microhardness)與韋克斯硬度(Vicker,s hardness)之相關性為公知,故亦可換算為韋克斯硬度。 微硬度(Microhardness)例如可使用日本電氣股份有限公 鲁司(NEC)製造之薄膜硬度計(例如商品名:MH4〇〇〇或商品 名·· MHA — 400等),自按壓深度與按壓荷重計而算出。 A_6.附有光學補償層之偏光板的其他構成要素 本發明之附有光學補償層之偏光板亦可進一步具備其 他光學層。作為此種其他光學層,可根據目的或影像顯示 裝置之種類而採用任意適當之光學層。作為具體例,可列 舉液晶薄膜、光散射薄膜、繞射薄膜,再者如其他光學補 償層(相位差薄膜)等。 本發明之偏光板亦可具有黏著劑層作為最外層之至少 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 59 1309312 j (有時將此種偏光板稱作黏著型偏光板)。作為特佳之 形可於上述偏光片保護薄膜之未接著偏光片側上,設 .置^以將其他光學薄膜和液晶單元等與其他部件接著之 ;黏者劑層。如此,藉由具有黏著劑層作為最外層,例如可 使與其他部件(例如液晶單元)之積層變得容易,並防止本 發明之附有光學補償層之偏光板自其他部件剝離。作為上 述黏著劑層之材料,可採用任意之適當材料。較佳係使用 •吸濕性及耐熱性優異之材料。其原因在於,可防止由吸濕 所造成之,泡和剝離、由熱膨脹差等所造成之光學特性降 低、液晶單元之翹曲等。就實用方面而言,上述黏著劑層 之表面係於至實際上使用本發明之附有光學補償層之偏 •光板為止之間,可藉由任意適當之間隔件進行覆蓋,防止 -汚染。作為間隔件,例如可藉由如下方法等形成:於任意 之適,之薄膜上,視需要設置藉由聚⑦氧系、長鍵烧^ 系、氟系、硫化鉬等剝離劑之剝離塗層。 • 形成上述黏著劑層之黏著劑並無特別限定,例如可適當 選擇使用將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、^ 胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等聚合物作為 基質聚合物者。特佳係可使用如丙烯酸系黏著劑之光學透 明性優異,且表現出適度潤濕性、凝集性及接著性之黏著 特性,耐候性及耐熱性等優異者。特佳係含有碳數為4〜 12之丙烯酸系聚合物的丙烯酸系黏著劑。 又,除上述以外,就防止由吸濕造成之發泡現象或剝落 現象,防止由熱膨脹差等造成之光學特性下降及液晶單元 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 60 1309312 趣曲,進而古σ 等方 _ 吳且财久性優異之液晶顯示裝置的形成性 而》,較佳為吸濕率低且耐熱性優異之黏著劑層。 類,劑層亦可含有例如天然物或合成物之樹脂 珠、金”=賦予黏著性之樹脂,或者包含玻璃纖維、玻璃 、屬粕、其他無機粉末等之填充劑和顏料、著色劑、 几:化劑?之添加於黏著劑層之添加劑。 等^,亦可為含有微粒子並表現出光擴散性之黏著劑層 2黏著劑層可依適當方式進行附設。作為其例,例如 制I如下方式等:製備於含有甲苯或乙酸乙醋等適當溶 物—物或者混合物之溶劑中溶解或分散有基質聚合 1其組成物之1〇〜40重量%左右之黏著劑溶液,將其 方式或塗佈方式等適#的擴散方式直接附設於附 Γ⑽#之方式;或者根據上述於間隔件上形成黏著劑層, 、’將,、轉移接著至附設面上之方式。 黏著劑層亦可作為不同組成或者種 ,於附有光學補償層之偏光板的單面或者兩面上:層又而: ;兩面時,亦可於附有光學補償層之偏光板正反面製 成組成、種類及厚度等相異之黏著劑層。 〜黏著劑層之厚度可根據使用目的及接著力等而適當決 二t佳〗為1〜4〇”,更佳5〜3〇”,特佳10〜25"。 'Am ’則耐久性變差;又,若厚於40㈣,則易 於產生由發泡等所造成之浮動或剝落,而導致外觀變差。 為了提高上述附有光學補償層之偏光板與上述黏著劑 312XP/^i^Wffifr)/95.12/95133235 61 1309312 層之間的密接性,亦可於其層間設置固定(aneh〇r)層。 匕作為上述固定層,較佳係使用選自聚胺基甲酸酯、聚 二tt子中含有胺基之聚合物類的固定層,特佳係使用
Li: 基之聚合物類。於分子中含有胺基之聚合 臂::!子中之胺基表現出與黏著劑中之羧基和導電性 =合物中之極性基進行反應或離子性相互作用等相互作 用’故可確保良好之密接性。 作為於分子中含有胺基之聚合物類,例如可列 =胺、聚烯丙基胺、聚乙烯基胺、聚乙烯基吡啶、聚乙; 基吼嘻咬、由上述丙烯酸系黏著劑之共聚合單 丙^酸二甲基胺基以旨等含有胺基之單體的聚合物等 作==賦予抗靜電性,亦可添加抗靜電劑。 =Γ:Γ:靜電性之抗靜電劑’可列舉:離子性界面 合物李:、氧胺葡聚嗟吩、聚。比略、聚㈣咐等導電聚 nil録、氧化銦等金屬氧化物系等,- !:Γ:Γ、加濕時之穩定性,可適合使用導= 〇物系。其,,特佳係 电性& 性聚合物、或者水分散性導電性聚合導電 =電T生導電性聚合物或水分散性導電性聚合物作: 劑所造成之光學薄膜基材的變質。 有機洛 側光學補償層之偏光板亦可於最外層之一 步具有免度提高薄膜。作為上述亮度提高薄膜,可 312ΧΡ/__ 書(補件)/95-12/95133235 62 1309312 採用從自然光或者偏光中分離出直線偏光的任意適當薄 膜。作為此種亮度提高薄膜之代表例,可列舉:將由格拇 •型偏光片、具有折射率差之2種以上之材料所製成的2層 ,以上之多層膜積層體,於光束分光器等所使用之折射率不 同的蒸鍍多層薄膜、具有折射率之2種以上材料所製成之 2層以上之複折射層多層薄膜積層體、使用了具有折射率 之2種以上樹月曰之2層以上之樹脂積層體進行延伸者;將 馨直線偏光於呈正交之軸方向上以反射/透射而分離者等: 例如,可使用將藉由延伸而表現相位差之材料(例如聚萘 二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯)、或: 丙烯酸系樹脂(例如聚曱基丙烯酸甲酯)與相位差表現量 .少之樹脂(例如,如JSR公司製造之ART〇N般之降稍烯系 樹脂)>予以交替積層之多層積層體進行單軸延伸而獲得 者。凴度提高薄膜例如市售有3M公司製造之商品名 DBEF。本發明之亮度提高薄膜之厚度代表性者為5〇〜2〇〇 φ # m左右。 本發明之附有光學補償層之偏光板的各層亦可為藉由 例如利用鄰經苯甲酸醋系化合物、二苯甲酮系化合物、苯 幷三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合 物等紫外線吸收劑之處理等,而賦予紫外線吸收能力者。 [附有光學補償層之偏光板之製造方法] 本發明之附有光學補償層之偏光板可藉由將各層經由 上述黏著劑層或接著劑層進行積層而製作。作為積層方 法’可採用任意適當之方法。例如,可將偏光月、第1光 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 63 1309312 學補償層、以及第2光學補償層衝壓為特定尺寸,以各 之光軸所呈之角度成為所需之範圍的方式予以對齊方 向,經由黏著劑或黏著劑而將該等積層。 [附有光學補償層之偏光板之用途] 本發明之附有光學補償層之偏光板可適合用於各種影 像顯不裝置(例如液晶顯示裝置、自發光型顯示裝置作 為可應用之影像顯示裝置的具體例,可列舉液晶顯示裝 置、EL顯示器、電漿式顯示器(pD)、場發射顯示器(f肋: Field Emission Display)。於將本發明之附有光學補償 層之偏光板用於液晶顯示裝置時,例如可用於黑色顯示之 防漏光以及視角補償。本發明之附有光學補償層之偏光板 可適合用於VA模式之液晶顯示裝置,特別適合用於反射 型以及半透射型VA模式之液晶顯示裝置。又,於將本發 明之附有光學補償層之偏光板使用於EL顯示裴置時,例 如可用於防止電極反射。 鲁B.附有光學補償層之偏光板 B — 1.附有光學補償層之偏光板(B)之整體構成 圖3係本發明之較佳實施形態的附有光學補償層之偏 光板(B)之概略剖面圖。如圖3所示,該附有光學補償層 之偏光板(B)300依序具有偏光板3〇’、第1光學補償層 12’及第2光學補償層13,。 附有光學補償層之偏光板(B)之各層係經由任意之適當 黏者劑層或者接著劑層(未圖示)進行積層。 B — 2.偏光板 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 1309312 於附有光學補償層之偏光板⑻中所包含之偏光板,係 於由I乙烯醇系樹脂所形成之偏光片之兩面上具有 素系樹脂薄膜。 ^ 2附有光學補償層之偏光板⑻中所包含之偏光板的較 佳實施形態之一,係如圖4所示,偏光片31,之一面經由 接著劑層32,而接著於纖維素系樹脂薄膜36,、偏光片31, 之另一面經由接著劑層35’而接著於纖維素系 36”之形態。 寻膜 •[纖維素系樹脂薄膜] #上述纖維素系樹脂薄膜並無特別限定,但由透明性、接 著性方面而言,較佳為三乙醢基纖維素。纖維素系樹脂薄 膜之厚度較佳為30〜1〇〇 /zm,更佳4〇〜8〇 。若厚产 -薄於30 ,則薄膜強度降低且操作性劣化;若厚度^ 於1〇〇 Am,則於耐久性方面光透射率之降低變得明顯。 [偏光片、其他層等] • 可採用與以上述Α— 2項所說明者相同者。 B—3.第1光學補償層 可採用與以上述A—3項所說明者相同者。 B—4.第2光學補償層 可採用與以上述A— 4項所說明者相同者。 B—5.附有光學補償層之偏光板(B) 附有光學補償層之偏光板(B)係依序具 …先學補償層及第2光學補償層,然而,偏光=板第、! 光學補償層、第i光學補償層與第2光學補償層係分別根 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 65 1309312 據目的藉由任意之適當方 盥第i方法而積層。代表性者為將偏光板 ,、弟1无予補j貞層之間、第 興 ® 弟1先予補償層與苐2光學補償 層之間湘黏者劑層或接著劑層進行接著。 板Γ之由門如:以:著劑層或接著刪 =1:1 至影像顯示裝置時,可防止各層之 間:==離’或防止各層彼此擦傷。又,亦可減少層 #,,於用於影像顯示裝置時可提高對比度。 ,、尚者劑層之^度可根據使用目的或接著力等進行 、田s又疋。具體而言’黏著劑層之厚度較佳為…〜1〇〇 更佳5 Am〜5〇心,最佳1〇㈣〜3〇 j為形成上述黏著劑層之黏著劑’可採用任意適當之黏 為具體例’可列舉溶劑型黏著劑、非水系乳膠型 漆者β、水系黏著劑、熱熔黏著劑等。該等之中,較佳係 使用將丙烯酸系聚合物作為基質聚合物之溶劑型黏著 劑。其原因在於’該溶劑型黏著劑係對於偏光片 學補償層以及帛2光學補償層,表現出適當之黏著特性 (潤濕性、凝集性以及接著性),且光學透明性 及耐熱性優異。 、1 乂 作為形成上述接著劑層之接著劑,代表性者可列舉硬化 型接著劑。作為硬化型黏著劑之代表例,可列舉紫外線硬 化型等光硬化型黏著劑、濕氣硬化型黏著劑、熱硬化型黏 著劑。 作為熱硬化型接著劑之具體例’例如可列舉環氧樹脂、 異氰酸酯樹脂以及聚醯亞胺樹脂等熱硬化性樹脂系接著 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 66 1309312 劑。作為濕氣硬化型接著劑之具體例,例如可列舉異氰酸 酯樹脂系之濕氣硬化型接著劑。較佳為濕氣硬化型接著劑 (尤其是異氰酸酯樹脂系濕氣硬化型接著劑由於濕氣硬 化型接著劑與空氣中之水分或黏附體表面之吸附水、羥基 或羧基等活性氫基等反應且進行硬化,故可藉由塗佈接著 劑後予以放置而使之自然硬化,操作性優異。進而,因無 須為硬化而進行加熱,故於層間接著時並不進行加熱。因 馨此,可抑制由於加熱所導致之各層劣化。再者,作為異氰 酸自曰樹脂系接著劑,係指聚異氰酸酯系黏著劑、聚胺基甲 酸酯樹脂黏著劑等之總稱。 上述硬化型黏著劑例如亦可使用市售之接著劑,亦可將 上述各種硬化型樹脂溶解或者分散於溶劑中製備作為硬 ,型樹脂接著劑溶液(或者分散液)。於製備硬化型樹脂接 著劑溶液(或者分散液)時,溶液(或者分散液)中之硬化型 樹脂的含有比例係固形分重量較佳為1〇〜8〇重量%,更佳 鲁20 65重量%’再更佳30〜50重量%。作為所使用之溶劑, 可根據硬化型樹脂之種類而採用任意之適當溶劑。具體而 言:例如可列舉乙酸乙酯、曱基乙基酮、甲基異丁基酮、 甲苯、一甲苯等。該等可僅使用丨種,亦可並用2種以上。 至各層(亦包含偏光板)間之接著劑的塗佈量可根據目 的進行適當設定。例如,塗佈量係相對於各層之主面,每 單位面積(cm2)較佳為0.3〜3 ml,更佳0·5〜2 ml,再更 佳1〜2 m 1。 塗佈後,視需要’可藉由自然乾燥或加熱乾燥而使黏著 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 67 1309312 劑中所含之溶劑揮發。以如此方式所獲得之接著劑層的厚 度較佳為0.1〜20 #m,更佳0.5〜15 /zm,再更佳1〜 1 〇 β m。 接著劑層之微硬度(Microhardness)較佳為〇. 1〜〇. 5 GPa ’更佳〇·2〜0.5 GPa,再更佳0.3〜0.4 GPa。再者, 微硬度(Microhardness)因與韋克斯硬度之相關性已為公 知’故亦可換算為韋克斯硬度。微硬度(Micr〇ha;rdness) 例如可使用曰本電氣股份有限公司(NEC)製造之薄膜硬度 計(例如商品名:MH4000或商品名:MHA— 400等),自按 壓深度與按壓荷重而計算出。 6·附有光學補償層之偏光板(B)之其他構成要素 附有光學補償層之偏光板(B)亦可再具備其他光學層。 作為此種其他光學層,可根據目的或影像顯示裝置之種類 才木用任意適當之光學層。作為具體例,可列舉液晶薄膜、 光散射薄膜、繞射薄膜、進而其他光學補償層(相位 鲁膜)等。 附有光學補償層之偏光板(B)亦可具有黏著劑層作為 外層之至少一層(有時將此種偏光板稱作黏著型偏 板)。作為特佳之形態,可設置用以與其他光學薄膜和 f單元等其他部件進行接著之黏著劑層。藉由如此具有. 考劑層作為最外層,例如’可使與其他部件(例如液晶 疋)之積錢得容|,並防止时料 自其他部件㈣。作為上述黏著㈣之材料,可偏採先用= 之適當材料。較佳係使用吸濕性或耐熱性優異之材料… 312XP/_說明書(補件)/95·12/95133235 68 1309312 防止由吸濕造成之發泡或剝離、由熱膨脹差 等以成之先學特性之降低、液晶單元之麵曲等上, 土述:著劑層之表面係於至實際上使用本發明之附有光 予補償層之偏光板為止之間,利 i :二而可防止汚染。間隔件例如可利用如下方法等而形 成·於任意適當之薄膜上,視需要設置利用聚石夕氧系、長 、元基系氟系、硫化鉬等剥離劑之剝離塗層。 形成上述黏著劑層之黏著劑並無特別限定f例如可適當 選擇使用將丙烯酸系聚合物、聚梦氧系聚合物、聚醋、二 胺,甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系及橡膠系等聚合物作為 基邊聚合物者。特佳係使用如丙職系黏著驗光學透明 性優異,且表現出適度之潤濕性、凝集性及接著性之黏著 特性,耐候性及耐熱性等優異者。特佳係含有碳數為4〜 12之丙烯酸系聚合物的丙烯酸系黏著劑。 又,除上述以外,由防止由吸濕造成之發泡現象及剝落 φ見象防止由熱膨脹差等造成之光學特性降低及液晶單元 之翹曲、再者,高品質且耐久性優異之液晶顯示裝置的形 成性等方面而言,較佳為吸濕率低且耐熱性優異之黏著劑 層。 上述黏著劑層例如亦可含有天然物,合成物之樹脂類, 尤其疋黏著性賦予樹脂,由玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、 其他無機粉末等所組成之填充劑和顏料、著色劑、抗氧化 劑等添加於黏著劑層之添加劑。 又’亦可為含有微粒子並表現出光擴散性之黏著劑層 312XP/發明說明書(補件)/95·12/95133235 69 1309312 等。 上述黏著劑層之附設可依適當 如可列舉如下方戎 進仃。作為其例,例 溶劑之單一物戋入備於含有甲笨或乙酸乙酯等適當 合物或者其細成物的1()〜4〇重=^^2有基質聚 其以流延方十七务^ 、董里%左右之黏著劑溶液,將 附設面上·彳式等適當的擴散方式直接附設於 將:轉移接ΐ據上述於間隔件上形成黏著劑層後,並 將八轉移接者於附設面上。 4 =亦可作為不同組成或者種類等者之重疊層而 又、、、有光學補償層之偏光板(Β)的單面或者兩面》 —設置於兩面時,亦可於时絲補償層之偏光板⑻ 之兩,中作成不同組成、種類及厚度等之黏著劑層。 一黏著州層之厚度可根據使用目的或接著力等而適當決 定’較佳為1〜4〇 _,更佳5〜3〇 _,特佳1〇〜25 若薄於1 “則耐久性惡化,又,若厚於4〇 "則易於 φ產生由發泡等所造成之浮動或剝落,且外觀不良。 為了提高附有光學補償層之偏光板〇)與上述接著劑層 之間的密接性,亦可於該層間設置固定(anch〇r)層。 作為上述固定層,較佳係使用選自聚胺基曱酸酯、聚 醋、於分子中含有胺基之聚合物類的固定層,特佳係使用 於分子中含有胺基之聚合物類。於分子中含有胺基之聚合 物係因分子中之胺基表現出與黏著劑中之羧基和導電性 聚合物中之極性基進行反應或離子性相互作用等相互作 用,故可確保良好之密接性。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 1309312 含有胺基之聚合物類,例如可列舉聚伸乙 基亞胺、聚烯丙基胺、聚乙烯亞胺、聚乙彰比啶、聚乙烯 吡咯啶、以上述丙烯酸系黏著劑之共聚合單體所表示之二 甲基胺基丙烯酸乙g旨等包含含有胺基之單體的聚合物等。 :了於上述固定層賦予抗靜電性’亦可添加抗靜電劑。 、、為用以賦予抗靜電性之抗靜㈣,可列舉:離子性界面 :性劑系’聚苯胺、聚㈣、聚t各、聚料琳等導電聚 合物系’氧化錫、氧化銻、氧化銦等金屬氧化物系等,然 而,尤其是由光學特性、外觀、抗靜電效果、以及抗靜電 效果於加熱時、加濕時之穩練之觀點而t,可適合使用 導電性聚合物系。其中’特佳係使用聚苯胺、聚噻吩等水 溶性導電性聚合物、或者水分散性導電性聚合物。其原因 在於’於使用水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合 物作為抗靜電層之形成材料時,冑可抑制於塗佈步驟時由 有機溶劑造成之光學薄膜基材的變質。 • 附有光學補償層之偏光板(B)亦可於最外層之一侧再具 有硬塗層。作為硬塗層,例如可採用於曰本專利特開平8 ~ 338912號公報中所揭示之硬塗層、或於日本專利特開 平9 — 1 13728號公報中所揭示之硬塗層。 再者,於本發明中,於形成上述偏光板之偏光片或偏光 片保護薄膜等、或黏著劑層等各層時,例如亦可為藉由利 用以鄰羥苯甲酸酯系化合物或二苯甲酮系化合物、苯幷三 坐系化合物或氰丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等紫 外線吸收劑進行處理之方式等的方式,而使其具有紫外線 312XP/發明說明書(補件)/95_12/95133235 71 1309312 吸收能力者等。 C·液晶面板 本發明之液晶面板係於液晶單元之至少一面上,具有本 發明之附有光學補償層之偏光板。較佳實施形態之一係於 上述液晶單元之一面上具有本發明之附有光學補償層之 偏光板,於另一面上具有附有光學補償層之偏光板0)。 本發明之附有光學補償層之偏光板或者附有光學補償 籲層之偏光板(B)對於液晶單元之接著,較佳為經由於該本 發明之附有光學補償層之偏光板或者附有光學補償層之 偏光板(B)之最外層所設置之黏著劑層而進行接著。較佳 之實施形態之一係於上述液晶單元之兩面上具有本發明 之附有光學補償層之偏光板。較佳係於本發明中,上述液 晶單元為反射型或者半透射型VA模式。 圖5係本發明之較佳實施形態之液晶面板的概略剖面 圖。此處,說明反射型之液晶顯示裝置用液晶面板。液晶 鲁面板100具備液晶單元20、於液晶單元2〇之下侧所配置 的本發明之附有光學補償層之偏光板3〇〇、於液晶單元2〇 之上側所配置的附有光學補償層之偏光板(B)300,。附有 光學補償層之偏光板300係自液晶單元2〇侧依序具備黏 著劑層38、第2光學補償層13、第1光學補償層12、黏 著劑層37、包含含有特定構造單位而成之聚甲基丙烯酸 曱酯系樹脂的偏光片保護薄膜34、易接著層33、接著劑 層32、偏光片31、接著劑層35、偏光片保護薄膜36、亮 度提高薄膜39。附有光學補償層之偏光板(B)300,係自液 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 72 1309312 晶單元* 20側依序具備黏著劑層%,、第2光學補償層 w、第1光學補償層12,、黏著劑層37,、纖維素系樹脂 '薄膜%’、接著劑層32,、偏光片31,、接著劑層犯,、纖 '維素系樹脂薄膜36"、硬塗層39,。液晶單元20係具有一 對玻璃基板21及21,、於該基板間所配置之作為顯示媒 體的液晶層22。於下基板21,之液晶層22側上,設有反 射電極23。於上基板21上,設有彩色濾光片(未圖示)。 基板21、21,之間隔(單元間隙)可藉由間隔件24而控制。 D.影像顯示裝置 繼而,就本發明之影像顯示裝置加以說明。本發明之影 像顯示裝置係包含本發明之液晶面板。此處雖作為一例針 對就液晶顯示裝置加以說明,但當然,本發明可適用於需 要偏光板或液晶面板之所有顯示裝置。作為本發明之偏光 板可應用之影像顯示裝置的具體例,可列舉如電激發光 (EL)顯示器、電漿式顯示器(pD)、場發射顯示器(FED ·· φ Field Emission Display)般之自發光型顯示裝置。圖6 係本發明之較佳實施形態之液晶顯示裝置的概略剖面 圖。於圖示<列中雖針對透射型液晶顯示裝置加以說明,但 本發明當然亦適用於反射型液晶顯示裝置等。 液晶顯示裝置20D係具備液晶單元20、夾持液晶單元 ^而配置之附有光學補償層之偏光板300及附有光學補 償層之偏光板(B)3〇〇,、導光板4〇、光源5〇、反射器6〇。 附有光學補償層之偏光板3〇〇及附有光學補償層之偏光 板(B)300’係以其偏光軸相互正交之方式進行配置。液晶 312XP/發明說明書(補件2/95133235 73 1309312 單元20係具有一對玻璃基板21及21,、於該基板間所配 置之作為顯示媒體的液晶層22。於一側之基板21上,設 •有控制液晶之電光學特性的開關元件(代表性者為τρτ)、 對該開關元件提供閘信號之掃描線以及提供源信號之信 號線(均未圖示)。於另一層之玻璃基板21,上,設有構成 彩色濾光片之彩色層與遮光層(黑色矩陣層)(均未圖 示)。基板21、21,之間隔(單元間隙)可藉由間隔片24而 控制。 •[實施例] 以下,根據實施例具體說明本發明,但本發明並不限定 於該等實施例。再者,在無特別表示之前提下,實施例中 之份及百分比為重量基準。評價依如下方式進行。 〈偏光片保護薄膜與偏光片之接著性〉 根據以下基準,對以手擰轉偏光板(100 mmxioo fflm)後 扭斷時之狀態進行評價。 •〇:偏光片與偏光片保護薄膜成為一體,且不產生剥落。 △.於偏光片、偏光片保護薄膜及端部可見到剝落。 X.於偏光片與偏光片保護薄膜之間可見到剝落。 〈偏光板外觀〉 •對所獲得之偏光板外觀進行評價。以下述基準對於50 mnix50 mm之偏光板藉由目視進行評價。 〇:無一處有浮動或條紋等。 X .未見浮動或條紋。 所謂浮動係指偏光片-偏光片保護薄膜間未密接之狀 312XP/發明說明書(補件)/95.12/95133扭 74 1309312 態;所謂條紋係指偏光片保護薄膜、或者偏光片以極少量 面積而自身接著之狀態。 〈周邊不均〉 對所獲得之偏光板之周邊不均進行評價。評價係對所獲 得之偏光板,進行加熱試驗(80°c、24〇小時),將偏光板 以成為上板〇。、下板90。之方式貼附於玻璃,自下板側照 射背光,以下述基準評價周邊不均。周邊不均之評價係使 籲用於偏光板之背光之相反側(距離上板50cm之位置)所設 置的測定機(二維色分佈測定裝置,KonicaMinolta公司 氣造’商品名:CA_ 1500w)而進行。 〈相位差之測定〉 ,利用自動雙折射測定裝置(王子測量儀器股份有限公司 製造,自動雙折射儀KOBRA—WPR)計測試料薄膜之折射率 nx、ny以及nz,算出面内相位差(或Re)以及厚度方 向相位差Rth。測定溫度為23¾,測定波長為590⑽。 φ〈偏光度變化率、透射率變化率〉 將黏著型偏光板以偏光板吸收軸相對於長邊呈45。之方 式,衝壓成25 mmx50 mm,將該黏著型偏光板之黏著劑層 貼附於玻璃板,而製作測定樣品。於6(rc/95%RH之恆溫 恆濕器中投入測定樣品,以特定之時間取出,取出後铿過 30分鐘後’利用DOT—3(村上色彩技術研究所製造)測定 偏光度變化率、透射率變化率。 〈厚度之測定〉 當厚度未滿10 /zm時,使用薄膜用分光光度計(大塚電 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 75 1309312 子(股)製造,產品名「瞬時多通道光檢測系統mcpd—2〇〇〇」) 進行測疋。當厚度為1 〇 V m以上時,使用Anr i t su製造 之數位式測微計「KC 一 3 51C型」進行測定。 〈加熱下Rth變化率〉 將黏著型偏光板,以夾持玻璃板、且偏光板吸收軸相對 於長邊成為上板45。、下板135。之方式進行貼附,而製作 測定樣品。於8(TC之恆溫器中投入測定樣品’以特定之 時間取出,測定Rth。 擊〈加熱•加濕下Rth變化率〉 將黏著型偏光板以夾持玻璃板、且偏光板吸收軸相對於 長邊成為上板45 °、下板135。之方式進行貼附,而製作測 定樣品。於60 C /90%RH之恆溫恆濕器中投入測定樣品, 以特定之時間取出,測定Rth。 〈液晶面板之評價〉 測定所獲得之液晶面板之於黑色顯示狀態下的對比以 籲及色偏。測定係使用ELDIM公司製造之rEZ—c〇ntrast 160D」測定至全方位/極角〇〜8〇。為止之亮度及色。 [製造例1 :偏光片之製造] 將厚度為80 //m之聚乙烯醇膜,於5重量%(重量比: .碘/碘化鉀= 1/10)之碘水溶液中進行染色。繼而,浸潰於 含有3重量%之硼酸以及2重量%之碘化鉀的水溶液中,進 而於含有4重量%之刪酸以及3重量%之碘化鉀的水溶液中 延伸至5.5倍後,浸潰於5重量%之碘化鉀水溶液中。其 後’於40 C之烘箱中乾燥3分鐘’獲得厚度為3〇 之 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 76 1309312 偏光片。 [製造例2 :含有具有環構造之丙烯酸系樹脂之偏光片保 護薄膜的製造] 將20重量份之曱基丙烯酸曱酯、80重量份之丙烯醢 胺、0.3重量份之過硫酸卸、以及1500重量份之離子交 換水裝入反應器中,將反應器一面以氮氣置換,一面保持 於70°C。連續反應至單體完全轉化為聚合物為止,獲得 曱基丙烯酸曱酯/丙烯醯胺共聚物之水溶液。將所獲得之 水溶液用作懸濁劑。於容量為5公升、並具備擋板以及費 德拉(Faudra)型攪拌翼之不銹鋼製高壓釜中,供給將〇 〇5 重量份之上述曱基丙烯酸曱酯/丙烯醯胺共聚物懸濁劑溶 解於165重量份離子交換水而獲得之溶液,以4〇〇rpm進 行授拌’以氮氣置換系内。繼而,—面授拌反應系,一面 添加下述混合物質(A ),升溫至7 〇 。 混合物質(A): 甲基丙烯 曱基丙烯酸甲醋 73重量份 正十二硫肖 〇·4重量份 2,2’-偶氮二異丁腈 0.2重量份 將内溫達到7〇ΐ之時刻作為聚合起始時刻,保持18〇 分鐘後,停止聚合。之後,根據 了:保:持18° 並將聚合物分離、洗淨、乾焊,使反應系冷卻、 s乾各,獲得珠粒狀共聚物(a—1}。 萬㈣物(㈠)之聚合率為咖,重量平均分子量為13 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 77 1309312 ^所獲件之共聚物(卜1)供給於38 ππηφ之雙軸/單轴 口型連續混練擠出機(CTE公司製造、_38、l/d = —面藉由漏斗部以1〇L/min之量將氮氣進行沖洗 § 面以螺桿旋轉數7 5 rpm、原料供給量1 〇 kg/hr、圓筒溫度29代之條件下進行分子内環化反應, 獲得顆粒狀熱可塑性聚合物(Α—υ。熱可㈣聚合物(a —L)之戊二酸酐構造單位為28重量%,甲基丙烯酸甲醋構 φ造單位為68重量%,甲基丙烯酸曱醋構造單位為4重量%。 有別於熱可塑性聚合物(Α—υ,合成丙烯酸彈性體粒 子。、於附有冷卻器之玻璃容器(容量5公升)内,添加下述 組成物(Β)作為初始調整溶液。 組成物(Β): f 去離子水 120重量份 碳酸鉀 〇. 5重量份 磺基琥珀酸二辛酯 0.5重量份 φ 過硫酸鉀 0. 005重量份 一面於氮氣環境下攪拌上述初始調整溶液(組成物 (B)),一面添加下述組成物(〇 ’於7〇°c下反應3〇分鐘, 獲得橡膠質聚合物。 組成物(C): 丙烯酸丁酯 53重量份 苯乙烯 17重量份 曱基丙烯酸烯丙酯(交聯劑) 1重量份 繼續一面攪拌’ 一面於70°C下,經90分鐘連續添加下 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 78 1309312 述組成物⑻,添加結束後,進而保持9 組成物(D): 刀鐘形成忒層。 甲基丙烯酸曱酯 21重量份 甲基丙烯酸 9重量份习 過硫酸鉀 0.005重量份 以得t聚合物乳膠以硫酸進行凝固’以氨氧化納予 橡膠皙耳订洗淨、過濾、乾燥,獲得核-殼型之含有 ,質之聚合物的丙婦酸彈性體粒子(Β—ι)β以電子顯微 ^所測定的㈣_性隸子(Β—丨) 物 分之平均粒徑為170 nme :買聚 -f ^ 所^仵之丙烯酸彈性體粒 目對Π 性聚合物(A—D之折射率差為請2。 子於80重量份之熱可塑性聚合物(㈠),調配別重 雔酸彈性體粒子(β—D,使用日本製鋼所製造之 =量將氮> rx3(KL/D=44·5),一面自漏斗部以io L/min 二二 =進广:洗’一面以螺桿旋轉數刚,原料 狀丙^嫌酿 、圓筒溫度28rC進行混練,獲得顆粒 狀丙埽酸系樹脂(C_ 1)。 於具備攪拌機之300 ml之可分 翼授拌24小時。將所獲得之溶液以1㈣切割^ 之玻璃進行賴,㈣丙_系樹絲1 對ί ㈣酸系_溶液之—部份’取至固定有聚 棱::! 醋薄膜(厚度io“m)之玻璃板上,使用 ;、、機形成均勻之膜。將其於5(rc下加熱1〇分鐘, 3_____/95•丨胸細 ^ 1309312 獲得自我支持性薄膜 將所獲得之薄膜自聚對苯二甲酸乙
鐘、於170t下加熱4〇分鐘, 鐘、於140°C下加熱20分 獲得含有具有環構造之丙 烯酸系樹脂的偏光片保護薄膜(D—i)。 [實施例1] (易接著層之形成) •將藉由相對於100份之錢系偶合劑Apz—66()1(東麗 道康㈣利康公司製造)加人66 7份之異丙醇而調製之 溶液,於上述中所獲得之含有聚曱基丙烯酸甲醋系樹脂之 偏光片保護薄膜的單面(與偏光片接著之面)上以線棒# 5(Wirebar #5)進行塗佈,並使揮發分蒸發。蒸發後之易 接著層的厚度為50 nm。 (接著劑水溶液之製備) 將相對於100重量份之經乙醯乙醯基改質的聚乙烯醇 鲁樹脂(乙醯化度為13%)而含有20重量份之羥曱基三聚氰 胺之水溶液,以成為濃度〇·5重量%之方式進行調整,製 備聚乙烯醇系接著劑水溶液。 (偏光板之製作) 使用上述所製備之聚乙烯醇系接著劑水溶液,於偏光片 之一面上以接觸上述偏光片保護薄膜(D—D之易接著層 面的方式進行貼合,於另一面上以接觸經皂化處理之厚度 40 A m之三乙醯基纖維素薄膜(K〇nica Minolta 〇pt公司 製造,商品名:KC4UYW)之皂化處理面的方式進行貼合。 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 80 1309312 聚乙烯醇系接著劑水溶液係一面分別流入偏光片保護薄 膜(D—1)之易接著層面侧與偏光片之間、以及三乙醯基纖 維素侧與偏光片之間,-面予以壓接,於赃下乾燥i 〇 分鐘,獲得偏光板。 (黏著劑層之形成) 作為基質聚合物,係使用包含含有丙烯酸丁酯:丙烯 酸:丙烯酸2-羥乙酯=100: 5: 〇.1(重量比)之共聚物之 鲁重$平均分子量為200萬的丙烯酸系聚合物的溶液(固形 分30%)。於上述丙烯酸系聚合物溶液中,相對於1〇〇份 之聚合物固形分,添加4份屬於異氰酸酯系多官能性化合 物之日本聚胺酯公司製造之c〇r〇nate L、以及〇· 5份之 添加劑(KBM403、信越矽利康製造)、用以調整黏度之溶劑 (乙酸乙酯),製備黏著劑溶液(固形分12%)。將該黏著劑 溶液以乾燥後厚度成為25 /zm之方式塗佈於離型薄膜(聚 對笨二甲酸乙二酯基材:Diafoi 1 MRF38、三菱化學聚酯 籲製造)上後,以熱風循環烘箱進行乾燥,形成黏著劑層。 (黏著型偏光板之製作) 於上述偏光板之上述偏光片保護薄膜(D_ υ面上,以放 電量133 winin/m2實施電暈處理後,將形成上述黏著劑層 之離型薄膜進行貼合,製作黏著劑型偏光板。 曰 (偏光板之評價) 將對於所獲得之偏光板中之偏光片保護薄膜及偏光片 的接著性、外觀、以及周邊不均進行評價之結果示於表ι。 又’將所獲得之偏光板中之偏光度變化率、透射率變化 312XP/發明說明書(補件)/9542/95133235 81 1309312 率、加熱下Rth變化率、及加熱/加濕下Rth變化率示於 表2。 (第1光學補償層以及第2光學補償層與偏光板之積層: 下板側之附有光學補償層之偏光板的製作) 將90重量份之向列型液晶性化合物、重量份之手性 劑、5重量份之光聚合起始劑(商品名:iRGACURE 907,
Ciba Specialty Chemicals公司製造)、以及300重量份 之曱基乙基酮進行混合,塗佈於雙軸延伸pET薄膜上,於 80 C下熱處理3分鐘後,照射紫外線以進行交聯處理。所 獲得之第2光學補償層之厚度為3 ym、Re2為〇nm,Rth2 為110 ηιη。第1光學補償層係使用逆分散薄膜(商品名: PURE-ACE WR,帝人公司製造)。第i光學補償層之厚度為 100 " m,Rei為147 nm。以相對於偏光板之吸收轴而第工 光學樣償層之慢軸成為75。、第2光學補償層之慢轴成為 15之方式,將偏光板、第1光學補償層、及第2光學補 #償層進行積層。第1光學補償層係積層於偏光板之偏光片 保護薄膜(D— 1)面侧。偏光板與第丨光學補償層之間係使 用丙烯酸系黏著劑(厚度12 # m),第1光學補償層與第2 光學補償層之間使用異氰酸酯系黏著劑(厚度5以m)。其 .後,剝離雙軸延伸PET薄膜,於剝離面以2〇 之厚度 塗佈用以貼合液晶單元之丙烯酸系黏著劑。於偏光板之三 乙醯基纖維素薄臈面側上,經由丙烯酸系黏著劑而積層亮 度提咼薄膜。對所獲得的下板側之附有光學補償層之偏光 板的周邊不均進行評價,結果為遍及偏光板整體皆未可確 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 82 1309312 認到周邊不均。 (上板側之附有光學補償層之偏光板(B)的製作) 除了將於上述偏光板中所使用之偏光片保護薄膜(偏光 片之兩側均)取代為三乙醯基纖維素薄膜(富士軟片公司 製k厚度80 //m),進而於未設有第1以及第2光學補 償層之側的最外層上設置硬塗層(厚度5以…之外,其他 〃上述同樣進行,製作上板側之附有光學補償層之偏光板 ⑻。 參(液晶面板之製作) 將上述所獲得之下板側之附有光學補償層之偏光板以 及上板侧之附有光學補償層之偏光板〇),以圖5所示之 -配置,貼附於VA方式之液晶單元,製作液晶面板。 (液晶面板之評價) 所獲得之液晶面板係對比度優異,亦可有效抑制色偏。 [比較例1] •於實施例1中’使用上述所製備之聚乙烯醇系接著劑水 溶液,於下板側之附有光學補償層之偏光板中之偏光片的 兩面上以接觸經皂化處理之厚度40心之三乙酿基纖維 素薄膜(KonicaMinoltaOpt公司製造,商品名:K4UYw) 之皂化處理面的方式進行貼合,除此以外與實施例工同樣 地進行,製作偏光板、及液晶面板。對所獲得之下板侧之 附有光學補償層之偏光板的周邊不均進行評價,結果為於 偏光板之邊緣部確認到不均。 σ (偏光板之評價) 312ΧΡ/發明說明書(補件)/95-12/95133235 83 1309312 f對所獲得之偏光板中的偏光片保護薄膜與偏光片之 接著性、外觀、以及周邊不均進行評價的結果示於表1。 又將所獲付之偏光板的偏光度變化率、透射率變化率、 加熱下Rth變化率、及加熱/加濕下Rth變化率示於表2。 (液晶面板之評價) 所獲得之液晶面板係對比度、色偏較實施例1之液晶面 板均為較差。 [表1] 接著性 偏光板外觀 周邊不均 試驗前 加熱試驗後 加濕試驗後 實施例1 〇 〇 〇 〇 〇 比較例1 〇 〇 〇 Δ 〇 參照表1可知,實施例1相較於比較例1,加熱試驗後 之周邊不均優異(無漏光)。
312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 84 1309312 [表2]
夢照表2可知,實施例1相較於比較例i 化率、透射率變化率、加熱下Rth變化率、 Rth變化率之任一方面皆可獲得優異之結果 (產業上之可利用性) •於偏光度變 加熱/加濕下 本發明之附有光學補償層 佳地使用於各種影像顯示裝 示裝置、PDP等)。 之偏光板以及液晶面板可較 置(液晶顯示裝置、有機EL顯 【圖式簡單說明】 圖1係本發明之較佳實施形態之附有光學補償層之 光板的概略剖面圖。 圖2係本發明之較佳實施形態之偏光板的概略剖面圖。 圖3係本發明之較佳實施形態之附有光學補償岸 光板(B)的概略剖面圖。 9 圖4係於本發明之較佳實施形態之附有光學補償層 偏光板(B)中所含有之偏光板的概略剖面圖。 曰 圖 之 圖 係本發明之較佳實施形態之液晶面板的概略剖 面 圖6 剖面圖 係本發明之較佳實施形態之液晶顯示裴置的概略 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 85 1309312 【主要元件符號說明】 10、20 12、12, 13、13, 20 21 ' 2Γ 22 23 春24 30、30’ 31 > 3Γ 32、32,、35、35, -33 34、36 36,、36', φ 37、37,、38、38, 39 39, 40 50 液晶早元 第1光學補償層 第2光學補償層 液晶早元 玻璃基板 液晶層 反射電極 間隔件 偏光板 偏光片 接著劑層 易接著層 偏光片保護薄膜 纖維素系樹脂薄膜 黏著劑層 亮度提高薄膜 硬塗層 導光板 光源 60 反射器 100 液晶面板 200 液晶顯示裝置 300 附有光學補償層之偏光板 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 86 1309312 300,
附有光學補償層之偏光板(B) 312XP/發明說明書(補件)/95-12/95133235 87

Claims (1)

  1. 7勹手"月3 .:丨 1309312 ’正本丨NOV 1 4厕 mJ>m w k 1------ ------------...----,··_ j 申清專利範圍·· 替换本 第^井2Ϊ光學補償層之偏光板,係依序具有偏光板、 先子補相層與第2光學補償層; 少該:,板係於由聚乙稀醇系樹脂所形成之偏光片之至 ,具有偏光片保護薄膜’該偏光 [化u筹每早位而成之丙烯酸系樹脂’·
    0 k (通式(1)中,R丨表示氫 ^ 1-5 ; ^ R2* R3 R4
    (通式(2)中 ’ R3、R4 /5之烷基;) Μ 1同或不同之氫原子或者碳數 95133235 88 1309312 °亥第1光學補償層係具有nx〉ny = nz之折射率分佈, 表現出屬於異常光與平常光之光程差的相位差值越靠近 短波長側則越小之波長分散特性,且其面内相位差Rel為 9〇〜160 nm ; °亥第2光學補償層係具有nx = ny > nz之折射率分佈, 其面内相位差Re2為〇〜2〇⑽’且其厚度方向之相位差 Rthh 為 30〜300 nm ; _上述偏光片保護薄膜係相對於波長590 nm之光的面内 相位差And為1〇 nm以下,相對於波長59〇⑽之光的厚 度方向相位差Rth為1〇 nm以下,相對於波長55〇 nm之 光的光彈性係數為jxio-u〜2χ1〇-12 。 2.如申請專利範圍第1項之附有光學補償層之偏光 板,其中,上述通式(2)中之R3為甲基,R4為甲基。 3·如申請專利範圍第丨項之附有光學補償層之偏光 板,其中,上述偏光片保護薄膜之玻璃轉移溫度為11 〇它 φ以上。 4·如申請專利範圍第1項之附有光學補償層之偏光 -板其中,上述偏光片保護薄膜之透濕度為3〜100 g/m .24hr 。 5·如申請專利範圍第1項之附有光學補償4之偏光 板’其中,上述偏光片保護薄膜之厚度為5〜_ “。 “:申請專利範圍第!項之附有光學補償層之偏光 板’,、中’上述偏光板之於6(rc/95%RH下保持撤小時 後之以下述式⑷所定義之偏光度變化率為-0.5〜〇.〇%; 95133235 89 1309312 偏光度變化率(«= KPt—P〇/Pfl}xl00 (a) P〇:初始偏光度 ^ : t小時後之偏光度。 7. 如申請專利範圍第1項之附有光學補償層之偏光 板,其中,上述偏光板之於6(rc/95%RH下保持492小時 後之以下述式(B)所定義之透射率變化率為0.0〜2.5% ; 透射率變化率(%)= KYt— Ya)/Y(»}xl〇〇 (B) Υ 〇 :初始透射率 Yt : t小時後之透射率。 8. 如申請專利範圍第1項之附有光學補償層之偏光 板其中’上述偏光板之於8 0 °C下保持4 8小時保持後之 以下述式(C)所定義之Rth變化率為-2.0〜0.0%; 尺让憂化率(%) = {(Rtht — Rth〇)/Rth〇}xlOO (C) Rth〇 :初始 Rtht : t小時後之Rth。 9. 如申請專利範圍第1項之附有光學補償層之偏光 板’其中’上述偏光板之於6(rc/9〇%RH下保持48小時後 之以下述式(D)所定義之Rth變化率為-2. 5〜0. 〇% ; Rth 變化率(%) = {(R让t—Rth〇/Rth〇}xlO〇 (D) Rth〇 :初始 Rtht : t小時後之Rth。 10. 如申請專利範圍第1項之附有光學補償層之偏光 板’其中’於上述偏光片之單面上具有上述偏光片保護薄 膜’於另一面上具有纖維素系樹脂薄膜。 95133235 1309312 梭中請專利範圍第1項之附有光學補償層之偏光 膜/、,於上述偏光片之兩面上具有上述偏光片保護薄 板=申明專利1&圍第1項之附有光學補償層之偏光 易接著Γ於上述偏光片保護薄膜與上述偏光片之間具有 匆接者層以及接著劑層。 板,3盆如中申^專利乾圍第12項之附有光學補償層之偏光 層,、中’上述接著劑層係由聚乙烯醇系接著劑所形成之 板^如/’㈣圍第1項之附有光學補償層之偏光 /、中,再具有黏著劑層作為最外層之至少一層。 •板15二申二:第1項之附有光學刪之偏光 —層上再具有亮度提高薄膜。 償声之德亦叔在』 員中任一項之附有光學補 偏 晶單元之至少單面上,而用於液 |曰曰曲板。 π.如申請專利範圍第16項之 板,其中,於上述液晶單元 T貝層之偏先 償声之偏弁拓,热s 早面上具有上述附有光學補 ⑻曰; 、一面上具有附有光學補償層之偏光板 該附有光學補償層之偏光板⑻係依序具有 其於由聚乙婦醇系樹脂所形成之偏光片的兩面上且有纖 維素系樹脂薄膜,·第1光學補償層,·與第2光=^纖 該第1光學補償層係具“—之折射率分佈曰, 95133235 91 1309312 表現出屬於異常光與平常光之光程差的相位差值越靠近 ^波長侧則越小之波長分散特性,且其面内相位差Rei為 90〜160 nm ; 亥第2光學補償層係具有ηχ = 之折射率分佈, ”面内相位差Re2為〇〜2〇 nm ’且其厚度方向之相位差 Rth2 為 30〜300 nm。 18. 如申請專利範圍第17項之附有光學補償層之偏光 _板,其中,上述附有光學補償層之偏光板(B)係於最外層 之一側上再具有硬塗層。 19. 如申請專利範圍第16項之附有光學補償層之偏光 板其中,於上述液晶單元之兩面上具有上述附有光學補 -償層之偏光板。 20. 如申請專利範圍第16項之附有光學補償層之偏光 板其中’上述液晶單元為反射型或者半透射型之va模 式。 ' 鲁、21.如申請專利範圍第17至19項中任一項之附有光學 補偵層之偏光板,其中,上述液晶單元為反射型或者半透 ,射型之VA模式。 22.如申請專利範圍第16項之附有光學補償層之偏光 板’係用於含有上述液晶面板之影像顯示裝置。 、23.如申請專利範圍第17至20項中任一項之附有光學 補偵層之偏光板,係用於含有上述液晶面板之影像顯示 置。 24.如申請專利範圍第21項之附有光學補償層之偏光 95133235 92 1309312 板,係用於含有上述液晶面板之影像顯示裝置。
    95133235 93
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