TWI302574B - Convertible maintenance valve - Google Patents

Description

1302574 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 1項之前言所 本發明係有關於一種如申誇直 !如τ明專利範圍第 述之真空處理設備。 【先前技術】 特別如本例中之玻璃塗 之處理室或處理區域（隔

真空處理設備係被廣泛使用， 佈線’其中玻璃基板係於數個相鄰 間）中連續塗佈，並接受不同處理 為了避免於不同處理區域(隔間）中製程相互干擾，該 隔間或區域係通常相互真空密合分離於不同隔間且分別抽 運，而僅有所謂^縫閘門安置於各隔間之間，料，處理 室之間’以運送待塗佈基材於各隔間中。由於該些狹縫閘 門係大體上於各隔μ ’即處理室，之間形成狹縫狀開口，

因此其於-侧上可以連續運送窗格狀之該玻璃基板於相應 之輸送單元上’例如滾柱式輸送機，而不需額外啟動閥門 或閘門，於另一側則可以避免發生於相鄰隔間間之氣體交 換0 然而，通常於某些隔間或處理室間配置有額外之閥門 以為維修或饋電陰極交換之用，其使得該隔間或處理室可 能完全氣密或真空分離，整個塗佈單元並不需完全暴露於 氣體之中’而僅有需維修或交換之部分。 取決於該分離閥門之真空密合配置以及製程或量測工 具所需之調整而包含於該隔間之中，分離閥門之空間與配 3055-6909-PF；Ahddub 5 1302574 置係於玻璃塗佈單元涂 ^ 建構時即設定或固定，由於其已精確 疋義’區域將因分離關叫 刀雕阀門而彼此固定。 本發明之目 處理玻璃塗佈單 有有效及不同之 的係提供一真空塗佈單元以及特別一連續 疋’其可使得該玻璃塗佈單元及其生產具 應用。 【發明内容】

„本課題係使用申請專利範圍帛1項之特色之真空處理 早π而解決，且較佳實施例係為附屬項之目的。 發明人認為玻璃塗佈單亓，甘 ^ 卻早疋其於建構時即確定並配置 元成之分離閥門，當塗佈製装戀 仰表％變化時，對應用之變化與效 果有不良之影響，例如當階厣，値e j 、 田1白潛順序調整時，必須取代具有 不同塗佈或治具之隔間，因此分獻 凡刀離閥門之預設配置對於相 應於塗佈製程改變之維修工作脾 竹不再適當。 根據本發明，此問題可以將兮八 竹孩分離閥門分別配置於不 同之處理室或處理區域内以獲得鉉4 , 又评解決，如此當需要時，該 分離閥門可以於任何時刻替換或改 …4 4 、 X叹變其配置以創造其他分 離區域於玻璃塗佈單元或真空處理單元内。 該分離閥門，亦即閥門單元，甘尤不热命知抑老^田# 座不需要與相鄰處理室 間之分離箱體整合，如此將需要額外之大量空間，但是該 閥門單元較佳地係設置於該處理室牆及/或分隔牆之内 側，如此可以有效避免因於相鄰處理室間設置分離閥門而 增加設置距離。 好處之一，閥門單元以及處理室之接合併不需實質上 3055-6909-PF;Ahddub 6 1302574 改變其所被設置之處理室牆及/或分 凡刀^牆，且閥門單元可以 固定於該部分或自該部分移除。 另一好處，該閥門單元係設置於—侧，内置有治且與 基材運輸單元之該處理室係設置於另—側，係交互調整使 該閥體單元可以獨立於處理室内 Λ </σ具與運輸單元而裝設 於該處理室牆或分隔牆上。當分離 y 田刀雕阀門，亦即該閥門單元 係為小尺寸且設置於一特別平面上時 苛將可以避免治具及/ 或運輸單元之震動。 由於間門單元（分離間門）係可移動式I設於處理室 内，因此組裝或移除該分離閥門表示不以㈣心μ ^㈣治具及«輸單元之配置’至少於組裝或移除後， 以及處理室之相互位置，此點通常無法同時完成。此外亦 不需於處理室間設置額外之獨立分離閥門箱體。

較佳地，該閥門單元具有一箱體，閥門單元與其組合 於處理室内成一真空，亦即氣密狀態。於本例中，真空密 合裝置係特別於放射性方向，起源於基材之運輸開口上， 於連接處所設置之封口以確保閥門蓋真空密合，亦即隔 間’亦即處理室區域，之氣密，亦確保沿著閥門箱體之分 隔牆或處理室牆之密合。 較佳地，該閥門單元，亦即箱之分離閥門，係藉由一 固定支架設置於處理室内之該狹縫閘門之區域，亦即分隔 牆’該固定支價，較佳地為一夾鉗，包圍運輸開口周圍之 該相鄰之處理室牆或分隔牆。如此可以達到不需改變處理 室或隔間之簡單連接。 3055-6909-PF;Ahddub 7

1302574 較佳地，該固定支架與分隔牆，亦即 相互契合之台階，以達到特殊之緊密連接。闻 較佳地，該分離閥門係^Γ ^ 為一滑閥或瓣閥，瓣 閉步驟中具有旋轉或翻轉運私 ^ 胃 捋運動，滑閥於雙向封閉該 如此閥門單元可以於真空或大 人八軋壓下固定於單側 相應的，於傳輸方向上，間門s 一 句門早兀亦可固定於處理 分隔牆之前或之後。 本發明之進一步細節與優 一慢點將以實施例之圖式 之描述闡述。 【實施方式】 第1圖係顯示一具有二相鄰處理室20、30,且 不同之隔間21、22、31、32與33之玻璃塗佈單元 圖。 於基材之前進方向上’處理室30係為處理室權 • 35，係成為處理室之凸緣，所限制，而相鄰於處理 之處理室20係以處理室牆23作為處理室凸緣。 隔間21、22、31、32與33係彼此真空密合分 理室20、30内，藉由分隔牆24、36與37，一: ，、 且復 開口 4 ’並作為基材運輸之狹縫閘門。 泵浦單元40係設置於處理室2〇與3〇之上部， 以抽運隔間21、22、與31至33，以調整塗佈程序 空狀態。 於隔間，亦即，處理室結構係大體上相同之隔 ’具有 閥於關 開〇， 兩側。 至牆或 與下列 分隔為 之剖面 • 34與 t牆34 隔於處 盍至該 設計用 中之真 間内， 3055-6909-PF/Ahddub 8 1302574 八 同之I程或工作步驟，例如，塗佈製程、量測或相 似者，或他們可用為不同塗佈工具之隔間之間之氣體分隔 v驟例如，隔間22係作為量測隔間，且隔間31與33係 作為具有可旋轉之雙塗佈隔間之磁控管陰極50,而隔間3〇 係例示作為—泵浦隔間。 基材係沿著虛、線60 #動於輸送單元上，較㈣係具有 不同之輸送滾輪61貫穿不同之隔間，自一隔間移動之另一 隔間，亦即於處理室之間具有開σ 4, 縫閥門之形式。 特別於作為塗佈隔間之隔間31與32中，於分隔牆36、 37及/或處理室牆34、35上設置隔板（diaphragm)裝置8〇。 為了可以將部分之玻璃塗佈單元於維修狀態下通入氣 體，不同之處理室區域（隔間）或處理室係藉由可變配置之 分隔閥5維持於真空密合狀態。例如，隔間31可以於一侧 上以分隔牆36上之分隔閥5’與另—側上之處理室牆Μ 與24閉鎖於真空狀態，例如，為了内部陰極5〇的交換， 而不需要通入氣體至單元中之其他區段。 根據本發明之内容，由於分隔閥(5)係分別連接於分隔 踏24、36、37或處理室牆23、34、35,因此當塗佈製程改 變而需要將整體單元重新分㈣利維修時，他們可以自分 隔牆或處理室牆移除，並連接至其他之分隔牆或處理室 牆。基本上分隔閥5可以設置於各個處理室牆及/或分隔 牆，如此塗佈單元之各個隔間皆可以隨意閉鎖於真空密合 狀態。 依據下述之較佳分隔閥 之配置，分隔閥可以設置之 3055-6909-PF;Ahddub 9 1302574 基材運輪方向上，於處理室牆，亦即㈣牆， LL膝AW +, 七或之後’ 此將使侍封口方向更增彈性，於分隔 皆可以達到大氣或真空狀態。 之冑及另-側 第2圖係顯示於運輪開口 4中自隔間22移動至隔間Η 之面圖，即垂直於圖紙方向交大 j你為清晰之故， 貝際上應為狹縫，而為最小之自由剖面。 义孕乂佳實施例中， 必須足夠大以允許寬度3m以上之玻璃面板通過。

、兩處理室於開口 4之區域係緊密接合，為了避免任何 形式的併生流動(C〇llateral current) ’當開口 4係以滑 閥封閉時，於隔間31内將成真空，而隔間22則將注入氣 體。 首先，滑閥5包含具有箱體區段61肖6 2之箱體6。 箱體6係被完善密封而包含不同之元件。例如，一密封環 6D位於箱體區段6.丨與6 2之狹縫中，而並一密封環79 位於箱體區段6.2與擂土牆7〇間之狹、縫中，如此箱體6於 開口區域係完全連接。 箱體6係為開口 4所貫穿而形成一通道，形成一具有 自由且連續截面之延伸開口 4。 滑閥並不一定需要組裝於隔間22與31之間，箱體6 可以僅單向設置於隔間22之内側。 箱體區段6· 1與6.2皆形成一導引狹縫6S，於導引狹 縫6S中設置一滑辦7以消除振動（pendul〇us)狀態，亦即 垂直於其主要方向上，之橫向間隙。其係懸垂於一傳輸致 動器7A上，未顯示。其控制元件，未顯示，係與該滑辦7 3055-6909-PF;Ahddub 10 1302574 相連接，以消除可能之橫向 之連接係貫穿箱體6。 ①。傳輸致動器7A與滑辦7 導引狹縫6S如同滑辦_ 4,於虛線60平面之兩側 ’松向延伸（水平）至開口 線6。之平面上方，然而小部分::二:長度區段係位於虛 於導引狹縫6S内，滑辨7 向驅動於-失效位置(見第3 以藉由傳輸致動器7A反 開且基材可以通過，且滑辦二其中…係完全敞 /月辦7元全覆蓋狹縫開口 4。 於失效位置，滑辦7係完 F # 谷置於導引狹縫6S之上部 Τ -P F ^ i , , 係如劍身插入導引狹縫6S之 t π , £奴。滑辦7係大體上涵 盍開口 4之周圍之各處。 :由傳輸致動器7A造成之滑辦7之反向移動於起始時 :自，生:導引狹縫6S並無十分緊密的導引動作亦即， ，、摩擦力可以忽略。因此，致動琴 動态7A不需施加過大之控制 力量。例如，氣壓或液壓紅、齒條齒輪傳動 (rack-and-pinion)或電動線性馬達。其不需要長沖程（數 公分）而僅需要將密封板置放於相對充足之工作位置。 致動器與滑辦之連接需要一定程度之彈性或欽接

Urticulateness)’由於滑辦7亦必須於垂直朝向線性驅 動7A之調整方向上移動，即使僅為數個沖程。為達此目的， 例如，於致動器7A之調整元件之端部設置一又桿（f〇rk)， 其二個凸緣係藉由一個或二個軸相互連接，滑辦7以其所 需之方式懸垂其上。 3055-6909-PF;Ahddub 1302574 致動器7A係表示數個相似之同步致動器，當滑辦7係 垂直圖面延伸數公尺時則須視情況使用。 於箱體6. 1之左半部係設置第一封閉機構8。較佳地其 形成一膨脹之密封，充塞於箱體牆之環狀狹縫内，包圍開 3 4之整個周緣。與封閉機構8之功能相應，需一密封環卜 相體6. 2之另一半部之牆亦塞入一密封環，且亦完全包 開口 4 〇 正相對（相對於導引狹縫6S與閥瓣7之中心面）封閉機 冓8於相體區段6 · 2之相對牆，插入一與第一封閉機構§ 相同之第二封閉機構丨〇。其係位於以密封環圍繞之區域。 ,相應於封閉機構1 〇之一密封環11係插入箱體6·丨之 牆内，包圍密封機構8。

封閉機構8 # 10係設置於密封環9及u所環繞區域 之内側或外側係取決於實際狀況。於後案中，#閉機構係 ^蓋於影響真空之密封侧，&第__案中’密封機構可避免 %狀噴灑，其係位於同一侧以避免真空處理室所產生之塗 佈顆粒之沉積到達開口及閥門。 ' 如則所述，密封機構 · v 一 ^、而戈如處理室 均勻環繞，而相似於内胎。其可視為僅於開口 4之兩側 供欲封機構二個平行且延伸之區段 、 T且、1甲之^ +又，而非整個周緣。此 以確保密封環的噴灑。 密封表面之周緣 露於壓力之下。 個方向上設置滑 此外，數個獨立之處理室係平均沿著 为布，顯然，其將允許流體流過而同時暴 於本發明中，若僅於密封位置之一 3055-6909-PF;Ahddub 12 1302574 辦，則僅需要一個密封裝置。 …密封4置8與1 〇之週遭配置已在此描述，提供此外部 £:之充足配置之優點，其可以於滑辦7之平滑表面上作 為-第二密封，而強化環狀密封9、u之密封效果 内部區域受壓。 傳輸面6 〇之τ d 箱體内活μ置^ 與導引狹縫6S之區域，於

動凌置一條水久彈性體材料12。其封閉位於傳 面下之導引狹縫' 之下部區段。日 又，且避免顆粒穿透導引狹縫6S 一位於刼作狀態，其將區分為一蓋體密封 並允許滑辦7自由穿透。 :各個箱體牆面上設置密封環Μ"’以及密封裝置 …。，亦即暴露於大氣之裝置，將可以避免於失效與操 作為間反向運動時之損傷或與滑瓣之摩擦。 此外，藉由適當之保護手段，可以避免密封裝置8及 之一之一文壓時致動器7A之致動。於密封裝置8及10中 係不3i動狀g下以手動啟動滑瓣7由於強大的壓力應 係不可能。 2箱體區段6」肖6.2之厚度相較，滑瓣7係較薄且 輕。右使來自於密封裝f 辮7脸-Γ 封裝置8、10之密封力量均勻分布，滑 L!:自我調整分別至密封環9、u之位置，即使其 ^ :之在封面有微小之長波變異。 ;個相互刀離之隔間之壓力相等時，滑瓣7將為 致動器7A所致動，亦即，於兩侧同時施加大氣壓或真空。 一到達刼作位置（其下端沒入導引狹縫6S之下端 3055-6909-PF;Ahddub 13 1302574 口P )，依照壓力差之方向（ 发两4上 間31於真空，而隔間22於大 告以—㈣裝置8或10中之-將承受内部壓力’ 田車乂佳之岔封裝置尚未 J低壓辄圍，而被驅動。 例如，於滑閥5之密封仿署[„ Q 在封位置，隔間31將為真空，（左） 飨封裝置8將為较翻 , ”、。由於膨脹之橫向管道區段，滑閥7 將被強迫迫抵密封環9。 另一方面，於滑閥5之率 I於眨„ QQ 在封位置，若隔間22之壓力將 小於隔間33之壓力，則（右） 門7、6把〇、^ 在封裝置1 〇將致動以迫使滑 閥7迫抵（左）岔封環11。 藉由這些手段’可以避免密封裝置 差(内部壓力對抗真空)所導致之彈性凸狀表面。 顯然地，密封裝置8與1 〇之 夕厭兰二μ 之&力隨著隔間22與31間 之Μ差而增加，因此於滑閥7 胃 側上壓力越大將對密封 ^ 9與11造成更大之壓力。 再者，密封裝置8與10係有对*日日 被仅〜政之閥門驅動器，其將可 確保猎封功能。致動器7Α可以於％ 於所有操作狀態下替換滑 辦不順壓差之方向。因此，滑關 Βρ ^ „ $ 5之有效密封功能，亦 P /月瓣7之接合，在此可以藉由 選擇地驅動密封裝置8或 10而用於雙向。 ^ 滑閥5所具有密封功能之元件 甘7 7 > 1千係裱狀對稱分布，因此， ，、可承受滑瓣7之平面上雙向之 .,^ 巧壓差。然而，當刪除密 封裝置8及密封環1〇,或密封裝 脾盔„人 衣置9及密封環11其中之一 时马早向密封。 當壓力差下降藉由滑閥5消降銘 ^ 巧除後’且先前致動之密封 3〇55-69〇9-PF;Ahddub 14 裝置8或Π)回縮，致動 位置。自密封環0 $ ^ / 再次將滑瓣7移動至失效 4 11鬆弛之漘蝓 簣，未顯示，強化，1 y 月辦7可藉由片狀或杯狀彈 ✓、回復力必 <百 第2圖之剖面圖亦表干机置為密封裝置克服。 撞土牆7〇,以及相鄰隔間二=分隔閥，亦即滑閱5之 箱體6。 一 01之處理室牆23與34之 擋土牆 /

72，具有不同之二於7】基材運輪方向上之第-台階板η、 u < (he 域 71 與 72 此第一台階板71、 不同之長度與寬度，因 , 72可以插入開 梯狀凹口。於此步 4 /、處理室牆23之階 少鄉之下，封口 7ίί及m 以放射狀密封面對處理室牆㈡係、圍繞狹縫開口 4設置， 所示，第-台階板71、7二以=:台階板71、72。如圖 藉由螺旋連接震置75,盆了—纟形’或獨立。 第-台階板7卜72係與分心包含環繞開口 4之螺絲， 第一台階板71、72與相冑6， ’亦即滑閥5相固合。於

乒同停止φ i ” 特別係為相體區段6. 2，之 、τ止面上，封口 7 9環繞於pg ^ < Α Ρ皆板7Ί 79 μ 、汗 ，因此於相體θ與第— 口ρ白板71、72間達到放射狀真空密合。 接著第-台階板7卜72係為第-” 對於第—台階板71、72亦具有階板73、74’其相 穿處理至牆34之相應階梯狀凹口。 、 灼，笛一命哲 於知止表面或密封表面 第-與第二台階板相互接觸’封口 78亦環繞開口 4， 因此，第-台階板71、72與第二台階板73、7" 放射狀真空密封。第二台階板73、74亦可氣 與 刀了為二個區域73 74’透過螺旋連接裝置，較佳地亦為環繞開口之螺絲， 3055-6909-PF;Ahddub 15 1302574 固接至第一台階板71、72，並藉由螺# $从 系疑連接裝置77，亦可 為環繞開口之螺絲，固接至處理室捭Q, 至腸34，因此，透過螺旋 連接裝置76,開口 4上之擋土牆7〇包 巴圍夾鉗狀之處理室牆 2 3與3 4之邊緣’以達到真空密合配窨 G置擋土牆與分隔閥5 於處理室踏23與34上。 於密封閥門位置，亦即，於如第9 矛z圖所示之滑辦7之 位置，可以與隔間22與31間建立教衆，R〜 咬礼在，且密封方向可以 任意選擇，如此，於分隔閥5之一铜另η y t u ^ 1則及另一側皆可以達到 大氣或真空狀態。 由於分關5之平面配置，閥門可以配置於處理室牆 23或34,不論運送單元60、6卜亦即不需隨運送單元而改 變。 此外’若需要’將螺旋接裝置77、76、75卸下即可以 簡單地將分隔闕5移除或重新安裝。此將使得分隔閥可以 適用於單元中之所有區域。 【圖式簡單說明】 與隔間之玻璃塗佈線 第1圖係顯示一具有不同處理室 之橫向剖面圖； 之剖面 第2圖係顯示本發日月之滑間於滑辦操作位置 圖；及 第3圖係顯示於滑辦失效位置之比較剖面圖。 主要元件符號說明 3055-6909-PF；Ahddub 16 1302574

4〜開口； 6〜箱體； 6. 2〜箱體區段； 6S〜導引狹縫； 7A〜傳輸致動器； 9〜密封環； 11〜密封環； 2 0〜處理室； 2 2〜隔間； 24〜分隔牆； 31〜隔間； 3 3〜隔間； 3 5〜處理室壁； 37〜分隔牆； 50〜磁控管陰極； 6 1〜輸送滾輪； 71〜第一台階板； 7 3〜第二台階板； 75〜螺旋連接裝置； 77〜螺旋連接裝置； 79〜封口； 5〜分隔閥； 6. 1〜箱體區段； 6D〜密封環； 7〜閥瓣； 8〜第一封閉機構； 1 〇〜第二封閉機構； 12〜彈性體； 2 1〜隔間； 2 3〜處理室壁； 3 0〜處理室； 3 2〜隔間； 3 4〜處理室壁； 3 6〜分隔牆； 40〜泵浦單元； 60〜虛線（運輸平面）； 7 0〜擔土牆； 72〜第一台階板； 74〜第二台階板； 7 6〜螺絲； 7 8〜封口； 81〜密封表面。 3 055 -6909-PF;Ahddub 17

Claims (1)

13〇^74〇6416號中文申請專利範圍修正本 修正日期：97.7.29 申請專利範圍：月4日修(ιό正本 i告本 1· 一種真空處理單元，特別係用以連續塗裝基材，較 佳地係為一種玻璃塗裝單元，具有至少二個，較佳係為複 數個連續配置且連接之處理室（20、3〇)或隔間（21、22、 3 )係藉由一個或複數個處理室膽（2 3、3 4、3 5 ) 或刀Ik >1回（24 36、37)相分隔，且藉由處理室牆及/或分隔 牆中之開口（4)，較佳係為狹缝閘門而使基材通過，且至少 一開口可以藉由1 Η單元使處理室及/或P鬲間真空密封 刀離’其特徵在於：該閥門單元係於該處理室内可分離， 特別係位於處理室壁及/或分隔牆内，因此當裝設或移除該 閥門單元％’不需要改變該等處理室相互之間的位置。 2·如申請專利範圍第1項所述之真空處理單元，其中 將°亥閥門單几（5)連接及/或移除該處理室牆或該分隔牆， 大體上不需改變處理室牆或分隔牆。 '， 3·如申請專利範圍第1或2項所述之真空處理單元， 其中忒閥門單兀(5)係設置於-側，内置有治具與基材運輪 單7G之忒處理至係設置於另一側，係交互調整使得該處理 室牆或該分隔牆之該閥門單元之設置及/或移除不需改變 該處理室及/或改變該治具之配置及/或該處理室内之運輸 單元，至少於再激活/失激狀態下及/或不需改變該處理室 之相對位置。 4 Λ-ΠΟ ί 利 專 , 5 請 C 申元 口 ί aj p 閥 亥 含口 第 圍 體口 箱開 \ 該 含合 包密 5)空 、真 以 用 係 中蓋箱 其門該 ， 閥 ， 元之蓋 單動門 理滑閥 處内該 空其合 真於密 之可由 述一藉 所與 ， ^ ) ) H It 3065-6909X1-PF1 18 1302574 體可真空密合並單獨連接該處 5.如申請專利範圍第1項所述之或 於該開口⑷上之該閥門單元（5)^=處理單元，其中 将別地該擋土牆係如一夹鉗，产 咬丧 或一獨立之分P _ 衣、、凡相鄰之該處理室牆：， 獨立之刀牆，沿著該開口 態。 < 周緣部分於真空密合狀 6·如申請專利範圍第5項所述之直* 該閥門單元（5)係真空密合連 二二處理早凡，其中 土牆（70)。 、別係獨立連接，至該擋 7·如申請專利範圍帛5項所述之 該擔土牆⑽包圍位於二個區段…二處理…其中 以及一莖-a购七苐一台階板（71、72、 弟一口 板（73、74)，特別於、室认 、 錄綠卩目 於運輸方向上，夏女 狹縫開口’於運輸方向上具有二 〃、有- 域，其包含一台階，以及兮 σ 、又及/或寬度之區 口 |自 以及该閱Η置士，π：、 該第一台階板，以乃目士士 （5)之具有箱體（6)之 板 、、， ，、有处理室牆或分隔牆之該第二A t 、別為相鄰處理室之處理室牆( 。 除，且該些台階板係獨立連接，停自/間門早元移 气隻》 伶止面係位於閥門箱驊Λ 忒弟一台階板之間，及第二Α 相體與 η 、 弟一 σ ^板與處理室牆或分隔膦 間，以及該些台階板之間，並結合密封裝置。㈣之 &如申料利範㈣7項所述之真空處理單元 s亥處理室牆（23、 其申 料於-" 具有一台階狀凹口，或該分ρ_ 側具有台階狀開口，穿透該些台階板。 隔 ★ h專利乾圍第1項所述之真空處.理單元 该可力離式連接裝置係為螺焚連接裝置（75、76、77)。。中 3065~6909X1-pfi 19 1302574 “ •如申請專利範圍第1項所述之真空處理單元，其中 °亥閥門單70係為一滑閥（5)或瓣閥。 11 ·如申請專利範圍第1項所述之真空處理單元，其中 /閥門單7G (5)係用於封閉於雨密封方向上之該開口（4)， 不論為大氣或真空側。 1 2·如申請專利範圍第1項所述之真空處理單元，其中 4閥門單元（5)具有位於二個區段上之箱體（6)，以

較佳係為二個具有對 區段（6 · 1、 其中形成一 可動式閥瓣 於運輪方 '向上可至少迫抵一個 裝置（9、11)，且該致 一彈性可動元件上。 開口之位置間切換，並藉由 導引狹缝之致動器（8、10)， 較佳為二個密封面，較佳地具有密封 動器可藉由液壓驅動，特別係作用 3065-6909X1-PF1 20