TWI300519B - Lithographic apparatus, device manufacturing method and method of manufacturing support structure - Google Patents

Description

1300519 f ( 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影設備及一種製造裝置之方法。 【先前技術】 微影設備係一種機器，其施加所要圖案於一基板上（通常 於该基板之一目標部份上）。微影設備可用於（例如）積體電 路（1C)的製造。在此情況下，可使用圖案化裝置（或稱為光 罩或主光罩（reticle))來產生一欲形成於IC之一個別層上的 電路圖案。此圖案可轉移至一基板（如矽晶圓）之目標部份 (如，包括部份、整個或若干晶粒）上。圖案通常係經由成像 轉移至被設置在該基板上之一層輻射敏感材料（光阻）上。一 般來說，單一基板將含有一被連續圖案化之由數個相鄰目 標部份所構成之網路。已知的微影設備包括所謂的步進 機，其中會藉由一次將整個圖案曝光於該目標部份上而照 射每一目標部份；以及所謂的掃描器，其中會藉由沿一既 定方向（「掃描」方向）透過輻射光束來掃描該圖案，同時與 此方向平行或反平行地掃描該基板來照射每一目標部份。 藉由將該圖案壓印至該基板上，也可以將圖案從該圖案化 裳置轉移至該基板上。 一習知的微影設備通常包括一支撐結構（亦稱為光罩 級），其係被設置且建構用於支撐該圖案化裝置。同樣地， 該設備包括一基板平台，其係用來固定該基板。習知技術 中，固疋在该光罩級上的光罩級夾頭會利用真空來夾鉗該 光罩。習知微影設備中該圖案化裝置或光罩的最大加速度 110342.doc 1300519 :文限於真空屋力、真空夾鉗面積、光罩與央頭之間的摩 :、：二及先罩質量’以便防止光軍產生微幅與巨幅滑動。 該支撐結構與基板平台可在掃描⑺方向中移動。明確地 說，於一掃描猶環開始與即將結束時，該支撐結構與基板 平台會受到加速作用力與減速作用力的作用而分別達到一 掃描速度及靜止不動。為提高機器的產量，也就是特定時 間中該微影設備能夠處理的基板數，本發明希望支撐結構 與基板平台能夠盡快抵達該掃描速度且盡快從該掃描速度 減速。為達此目的’必須提高支擇結構及/或基板平台的加 速與減速。不過’本發明發現’如此會提高光草及/或基板 勺f貝J·生作用力，且會提兩光罩及/或基板微幅與巨幅滑動的 風險如此便會導致成像誤差。明確地說，就光罩級而言， 本發明發現’當光罩級受到較大慣性作用力作用時，習知 的真空夾鉗便無法以足夠的力量來夾鉗該光罩。 【發明内容】 本發明希望提供一種支撐結構及/或基板平台，其可以較 快的速率來加速及減速，但卻不會提高光罩與基板滑動的 機率。本發明希望進一步改良光罩與基板分別和支撐結構 與基板平台的附著力。 根據本發明一項觀點，提供一種微影設備，其包括： 下面之中至少其中一者：一被建構用來支撐一圖案化裝 置的支撐結構，該圖案化裝置能夠於該輻射光束的剖面中 賦予一圖案以便形成一已圖案化輻射光束，以及一被建構 用來固定一基板的基板平台；以及 110342,d〇c 1300519 ' 2 °中秘動，於該支撐結構上提供一接觸表面用以接觸 - '物件’该接觸表面包括複數個子接觸表面，以便提高該 支樓結構與該物件之間的相互附著力，俾使當該支揮結構 於該預6 ΙΨΤ 疋°中移動時讓該物件可被固定於該支撐結構之 上。 柜據本I明一項觀點，提供一種製造方法，用於製造一 • 1揮結構來支撐—物件，該支撐結構包括—接觸表面，該 • 表面Ο括複數個子接觸區，以便提高該支撐結構與該 物件之間的附著力，其中係利用mems技術來製造該複數 個子接觸區。 【實施方式】 圖1為根據本發明一具體實施例之一微影設備的概略示 意圖。該設備包括： 一照明系統（照明器）IL，其係被配置用以調節一輻射光束 B(如UV輪射或EUV輕射）； ® 一支撐結構（如光罩平台，亦稱為主光罩級）MT，其係被 建構用來支撐一圖案化物件（如光罩，亦稱為主光罩）MA， 且會被連接至第一定位器PM，該第一定位器PM係被配置用 以依據特定參數來精確地定位該圖案化物件； 一基板平台（如晶圓平台）WT，其係被建構用來固定一基 板（如已塗佈光阻的晶圓）W，且會被連接至一第二定位器 PW，該第二定位器pw係被配置用以依據特定參數來精確 地定位該基板；以及 一投影系統（如折射式投影透鏡系統）PS，其係被配置用 110342.doc 1300519 以藉由圖案化物件ΜΑ將賦予於輻射光束b之一罔安 團累投影至 基板w的一目標部份c(如包括一或更多晶粒）上。 該照明系統可包含各種類型的光學組件，如折射、 磁性、電磁、靜電或其它類型的光學組件，或其任何=， 用於引導、成形或控制輻射。 、σ，

該：撐結構會支撐該圖案化物件，即承載該圖案化物件 的重量。其固定該圖案化物件的方式取決於圖案化物 方位、微影設備的設計以及其它條件，例如該圖案化物件 是否被固U真线境中。該支撑結構可❹機械、真空、 靜電或其它夾鉗技術來固定該圖案化物件 、: 為一框架或平台，例如，其可視需要而為固定式 式。遠支撐結構可確保該圖案化物件處於所希望的 處，例如相對於該投影系統的所希望的位置處 用的「主光罩戎「氺 +又所使 或先罩」4任何詞語皆可視為與更並 之詞語「圖案化物件」同義。 曰 本文中所使用的詞語「圖查 ΰ案化物件」應該廣泛地解 可用以賦Ρ輻射光束之剖面1案以便於該基板之一目、 ==造一圖案的任何物件。應該注意的係，被賦予 =射光束的㈣可能不會精確對應於基板之目標部份中 的所希望的圖案，例如，若 中 輔助特徵的話。一般而+二案包含相移特徵或所謂的 要被創造於該目標部份之中位於-裝置中的一特= 旎層，例如積體電路。 綠力 圖案化物件之範例 該圖案化物件可為透射式或反射式 JJ0342.doc 1300519 _ ^ 3光罩可程式面鏡陣列、以及可程式LCD面板。光罩 • 在U〜中已為眾人所熟知，並且包含各種光罩類型（例如二 進制 < 人替相移式、衰減相移式)以及各種混合光罩類 $。可程式面鏡陣狀-範例為採用由複數個小面鏡所組 成的矩陣配置，各面鏡可個別地傾斜，以便於不同的方向 中反射-進入輕射光束。該等傾斜面鏡會在一被該面鏡矩 _ 陣反射的輻射光束中賦予一圖案。 # 本文使用的同語「投影系統」應廣義地解釋為涵蓋任何 類型的投影系統，其包含折射、反射、折反射、磁性、電 磁性及靜電光學系統，或其任何組合，其適合於所使用的 曝光輻射，或其它使用浸液或使用真空等其它因素。本文 所使用的詞語「投影透鏡」可視為與更普遍詞語「投影系 統」同義。 如此處所述，該設備係一透射型（例如，使用一透射式光 罩）。或者，該設備亦可為反射型（例如採用上面提到之類型 • 的可程式面鏡陣列或採用一反射式光罩）。 該微影設備可為具有二（雙級）或更多基板平台（及/或二 或更多個光罩平台)之類型。在此等「多級」機器中，可平 行使用該等額外的平台，或可在一或多個平台上實施多個 預備步驟，同時在一或多個其它平台上進行曝光。 該微影設備的類型亦可為將該基板之至少一部份由具有 較高折射率的液體（如水）來覆蓋，以便填充該投影系統與該 基板間的空間。亦可將浸液填人該微影設備中的其它空 間例如，填入忒光罩與該投影系統之間。沉浸技術在用 110342.doc -10- 1300519 •於增加投影系統之數值孔徑的技術中已為人熟知。本文使 用之5司5吾「沉浸」並非指一種必須被浸入液體之中的結構 (如基板），而係僅指在曝光期間介於該投影系統和該基板之 間的液體。 蒼考圖1 ’照明器IL會接收來自輻射源s〇的輻射光束。該 輻射源與該微影設備可為分離實體，舉例來說，當該輕射 .源、係—準分子雷射時即為此情況。在此情況下，該輕射源 • $會被視為形成微影設備之一部份，且會藉助於-光束輸 达系、洗BD(舉例來說，其包括纟適的導引鏡面及/或光束擴 張為）將輻射光束從輻射源s〇傳遞到照明器化。在其它情況 下，該轄射源亦可為微影設備之一整合部份，舉例來說， 當該輻射源為水銀燈時即為此情況。該輕射源⑽與該照明 器IL，必要時，再連同光束傳送系統bd，可一起被稱為輕 射系統。 照明器IL可包括—用於調整輻射光束之角強度分佈的調 鲁整器AD。一般而言，至少可以調整該照明器之一光瞳平面 内的強度分佈的外握範圍及/或内徑範圍（通常分別稱為。 外與σ-内）。此外，該照明器比還可能包括各種其它組件， 例如-積分器IN及-聚光器⑶。該照明器可用以調節輻射 光束’以便在其剖面中具有所希望的之均句纟及強度分佈。 輻射光束B會入射至該圖案化物件（如光罩MA)上，並藉 由該圖案化物件來圖案化’其中該圖案化物件係固定於該 支撐結構（如光罩平台MT)上。在行經光罩^之後，輻射光 束B便會穿過投影系統ps，該投影系統以會將該光束聚焦 110342.doc 1300519 在基板w之-目標部份c上。藉助於第二定位器pw及位置 感測器1F (如’干涉裝置、線性編碼器或電容式感測器），便 可精確地移.動基板平台WT，舉例來說，用以在輻射光束b 之路徑中定位不同的目標部。同樣地，可利用第—定位 器PM及另一位置感測器（並纟明白顯示於圖】中）相對於幸古 射光束B之路徑來準確地定位光罩退，舉例來說，於以： 械方式自光罩庫中取出該光罩之後或在掃描該光罩期間。 -般而言，光罩平台MT的運動可藉由一長衝程模組(粗略 定位)及-短衝程模組(精細定位)來實現，該等模組構成第 -定位器PM的一部份。同樣地’基板平台wt的運動可藉 由一長衝程模組及-短衝程模組來實現，該等模組構成第曰 二定位器PW的一部份。在步進機的情況中(與掃描器相 反）’光罩平台MT可能僅連接至一短衝程致動器，或可能 係固定的。可使用光罩對準標記M1、M2與基板對準標^ P卜Μ來對準光罩MA與基板w。雖然圖中的基板對準標記 ㈣專用的目標部份’但它們亦可位於目標部份（該些部份 係已知的劃線對準標記）之間的空間中。同樣地，於在光罩 MA上提供—個以上晶粒的情況下’該等光罩對準標記亦可 位於該等晶粒之間。 本文所描述的設備可用於下列模式中至少一者之中： 1.在步進模式中’光罩平台财及基板平台资基本上係保 持靜止’同時會將被賦予該輻射光束的整個圖案以—次的 方式投影至-目標部份C上（即單一靜態曝光）。接著，咳基 板平台WT便會在X及/或¥方向上偏移，以便曝光—不同^ 110342.doc -12- 1300519 一 在步進模式t，曝光場之最大尺寸會限制在單 一靜態曝光中被成像的目標部份C的尺寸。 2.在掃描模式中，光罩平台mt與基板平台资會被同步掃 田’同。時會將被賦予該輻射光束的圖案投影至-目標部份c 上（即早—動態曝光）。基板平台WT相對於光罩平台财的速 f及=向可藉由投影系統PS之（縮小）放大及影像反轉特徵 “决疋°在掃描模式中’曝光場之最大尺寸會在單-動能 曝光中限制該目標部份之寬度（在非掃描方向上），而掃描ς 動之長度騎決定該目標部份之高度（在掃描方向上）。 一H另。-模式中，光罩平台财基本上係保持靜止用以固 _ " Α ®案化物件，而基板平台WT則會移動或掃描， 同時會將:被以該㈣光束之圖案投影到—目標部份c _ 模式中’通常會利用一脈衝輻射源，且必要時， 會在掃描期間該基板平台WT之每一次運動後或在連續輕 t脈衝間來更新該可程式圖案化裝置。此操作模式可輕易 Μ 可程式圖案化物件（例如如上述類型的可程 式面鏡陣列）的無光罩微影術中。 亦可運用上述使用模式的組合及/或變化或完全不同的 使用模式。 下文參考圖2至7所述的具體實施例中，雖然係將一光 罩附者至一井1 JJL A jb Λ+ 千口來特別說明本發明。不過，本發明並 其同樣可應用於一被固定在-基板平台上的基 另外本發明的應用領域包含微影術以外需要將一 M P# | JL另—物件的領域中。 110342.doc -13 · 1300519 • 圖2為根據本發明一具體實施例之一光罩平台的平面 圖。該光罩平台MT包括複數個真空夾鉗vc，其會在下方擺 放該光罩MA的區域中產生較低的壓力，用以讓光罩％八被 吸附至光罩平台MT。該等真空夾鉗VC包括一真空區VA， 其上實質上會提供該較低的壓力。該等真空夾鉗vc進一步 包括一吸附杯SC,其會界定該真空區VA的邊界。於圖中所 不的具體實施例中顯示出兩個真空夾鉗VC。一夾鉗vc係被 Φ "又置在要擺放光罩M A的位置L的任一端處。該等夾鉗vc會 . 於掃描方向Y中沿著該位置L的長度延伸。該等真空夾鉗vc mm ° 的位置並不會延伸進該投影光束通過的區域之中。因為該 等真空夾鉗VC不會延伸進該光罩旭八的透射區域之中，所 以該等夾鉗的尺寸係有限的，因此可被施加在該光罩ma上 用以將該光罩MA固定在正確位置中的真空作用力的大小 便係有限的。該等真空夾鉗VC係藉由一葉片彈簧2被安置 在該光罩平台MT之上。該光罩平台Μτ&含一光罩夾頭 修 MC。明確地說，該葉片彈簧2會將該真空夾鉗▽〇安置在該 光罩夾頭MC之上。該葉片彈簧2會於掃描方向中沿著該真 空夾鉗vc的長度延伸。真空夾鉗VC、CL具有一吸附杯cu、 SC，其具有一真空夾鉗區VA，亦可參見圖3。該吸附杯§〔 包括複數個節點（burl)，該等節點係用來支撐該光罩MA。 該吸附杯SC的尺寸會經過設計以便在掃描方向γ中沿著該 光罩ΜΑ的長度^供一真空夾钳效應。因此，吸附杯的尺 寸將會相依於該特殊光罩MA的大小。吸附杯8〇：的典型尺寸 為在掃描方向γ中為130 mm，在垂直的χ方向中為3〇 110342.doc -14· 1300519 • 吸附杯％進一步包括複數根毛體10，參見圖4a。於一具 體實施例中，該複數根毛體1〇係設置在真空夾钳區va之 中。該複數根毛體10係微機械裝置。介於光罩]^八與光罩平 台MT之間的接觸表面丨係由該等節點6與該毛體1〇的表面 所構成。該複數根毛體10會構成一已圖案化表面結構22, 用以介接光罩MA的表面。接觸力學的原理如下：藉由該接 觸表面分為複數個較細的子接觸表面2〇，以提高光罩MA與 φ 光罩平台MT之間的附著力。如下文特別參考圖3至7詳細說 • 明般，该已圖案化表面結構22包括複數根毛體！ 〇。於下面 的内文中，該複數根毛體亦稱為微終端元件或微結構。於 前述概略示意圖中，該等微終端元件1〇並未依比例繪製， 而係依照它們的實際尺寸成比例地放大。 該複數根毛體10可進一步被配置成複數個微葉片彈簧。 於此具體實施例中，該複數根毛體亦可稱為微葉片彈簧。 該等微葉片彈簧10於其中一端處被附著在該等真空夾鉗 瞻 VC，明確地說係該吸附杯sc，且於另一端處會接觸該基 板，從而達到某種附著程度。每個微葉片彈簣1〇均會抵^ #用於光罩MA之慣性作用力的—小部份。藉由提:光罩 MA與光罩平台MT之間的相互附著力，便可降低該光罩微 幅與巨幅滑動的風險。明確地說，光罩級财的加速或減速 的位準落在目前真空夾钳區的限制内。於圖中所示的具體 實施例中，該複數根毛體10係結合一真空失鉗¥〇來設置。 不過，該等真空夾钳VC並非係本發明的必要元件，^獨採 用該複數根毛體10便可達到足夠的附著力，而不需施加任 110342.doc -15- 1300519 何額外的真空作用力。於此等具體實施例中，吸附杯^提 供支撐與附著功能，並且簡稱為杯體cu。另外，夾鉗功能 係藉由該等子接觸表面20與光罩MA之間的附著作用力而 達成。因此，同樣地，於該些具體實施例中，真空夾鉗vc 簡稱為夾钳CL。光罩平台“丁進一步包含複數個z支撐體 ZS，用以於z方向中支撐杯體、sc以及夾甜CL、Vc。 該等Z支撐體ZS的更詳細構造如圖7中所示。 圖3為根據本發明一具體實施例用於支撐一光罩MA的光 罩平台的細部圖式。明確地說，圖3中顯示光罩MA如何支 撐於杯體CU、SC之上。杯體（：11的製造材料可能和光罩平 台MT的製造材料相同。舉例來說，杯體cu可能係由玻璃材 料所製成，如Zer〇dur(已註冊的商標），其具有非常低的熱 恥脹係數。或者，其亦可能係由金屬所製成。在圖3中可看 出杯體CU係藉由葉片彈簧2被安置在光罩夾頭Mc之上。 依此方式，便可將杯體（：1;彈性地安置在光罩夾頭MC之 上。該複數根毛體10包括一接觸光罩撾八的子接觸表面2〇。 該支撐結構MT係被配置成用以於掃描方向γ中移動。一馬 達MO會被連接至該支撐結構]^丁並且受控用以根據一所希 望的的掃描曲線來移動該支撐結構]^丁。馬達^^〇會在掃描 方向γ中移動該支撐結構Μτ與該基板平sWT中至少其中 一者，馬達MO會在掃描方向γ中對該支撐結構“丁與該基板 平台WT中至少其中一者施加加速及/或減速作用力，其中 當該支撑結構ΜΤ與該基板平台WT分別在掃描方肖中移動 時，該圖案化物件ΜΑ與該基板…中至少其中一者和該支撐 I10342.doc -16- 1300519 結構MT與該基板平台WT之間的相互附著力會將該圖案化 物件MA與基板W至少其中一者分別固定在該支撐結構汹丁 與基板平台WT之上。

該複數根毛體10係被建構成用以在掃描方向中提供剛 性。如此一來便可進一步降低微幅與巨幅滑動的風險。另 外’該複數根毛體！0係被建構用以在和分別設置該圖案化 物件與基板中至少其中一者的平面實質垂直的方向中提供 彈性。如此一來便可從夾鉗CL、VC中輕易地移除光罩ma; 明確地說，不需要施加任何進一步的移除作用力。明確地 說，該等子接觸區20提供一組合附著能量，足以將該圖案 化物件MA與基板W至少其中-者分別附著 MT與基板平台則外，該等子接觸區2〇與基板二 化物件MA之間的附著能量的大小分別為每平方公尺2〇毫 焦耳。 ^ 每單位面積中的毛體尺寸與數量特別相&於要被固定在 該支撐結構上的基板（如光罩、晶圓等）的質量。該等尺寸可 運用接觸力學的理論來衫。部份的接觸力學原理在八⑵ 等人於2003年9月16日的PNAS第刚冊，第咐，⑽们至 10606中所發表的 觸」作過說明。 於生物附著裝置中之微接觸至奈米接 現在將以被以在-支撐結構上的光罩為㈣㈣其強 度大小。於該計算中假設沒有任何的真空夾鉗。因此，所 有的光罩慣性作用力均會被該毛體補償，且整個夾钳區均 可供該毛體使用。 110342.doc 17 1300519 計算時可套用下面的數值： 質量光罩= 350 [gr] 附著月匕$，j=20[mJ/m2]—總可用夾鉗面積=3 ·2χΐ〇-3 [m2] k = 3·8χΐ〇6 [m'kg-m] 一根毛體的長度與寬度比， 其中k為一不受幾何影響的參數。

應"亥瞭解的係，前述數值均會隨著特殊應用而改變 計算： 2 毛體空中密度·· Na⑽:=4.k2_m3 = 2·869Ε+13 [m -2] n :一 4爪1冶.如(1111) 毛體數： 3π.】 =3.902E+8 [-] 1根毛體的面積：Asetae: η

Aclamp =8.174 [μιη2] lAsetae 1根毛體的寬度：.w 4 = 1.4 [μπι] 1根毛體的長度：4α=5·7[μπι] 因此，一般來說，希望創造出用於固定一質量大小為3〇〇 至400公克的物件之附著力的毛體必須具有微米尺寸且密 度大小為1000根毛體/100平方微米。上面的計算會決定用 於補償一光罩之質量的毛體所希望的的數量與所希望的的 尺寸。上面的計算雖然考量到重力加速度，但是並未考量 到其它的慣性作用力（也就是加速度）。 於上面提出的特殊具體實施例中可以看見，一根毛體的 子接觸面積約為8平方微米。另外，毛體密度約為2 8x1 [/m2]。進一步應該瞭解的係，前述數值以及上面山 丨出的 數值並非精確數值，可達成的附著力數值將會在前述梦6 110342.doc -18- 1300519 數值的特定誤差邊限内偏移。從強度大小的計算中可以發 現對質1約350公克的典型光罩以及每秒5〇公尺的典型 ^罩平台加速度來說’需要約2χΐ()9個微結構方能僅利用附 著作用力來將该光罩保持在正確的位置處。於約32G平方毫 米的典型夹甜表面内，該等微結構的近似尺寸約如下：長 度X寬度=2·5χ1微米。如下文所述，&等微結構可單獨使 用亦可δ真空夾鉗系統來使用。本發明已經發現對 組合使用微結構與真空夾钳的具體實施例來說，可以較大 的加速率來加速該光罩平台Μτ，舉例來說，其加速率高達 每秒50公尺，快過習知的光罩平台，也就是，知光罩 平台的兩倍快。換言之，組合真空夾鉗與微結構附著力可 改良視總體摩擦係數，使其提高兩倍。 圖4a為根據本發明一具體實施例之光罩夾鉗區與葉片彈 簧2的平面圖。明確地說，圖“所示的係圖2中所示之光罩 平台MT的細節。夾鉗vc、CL包括一杯體cu、sc，其會藉 由一葉片彈簧2被安置於光罩夾頭Mc。接觸表面丨包括複數 個子接觸表面20，該等子接觸表面係由複數根微尺寸的毛 體1 〇所製成，該等毛體會構成一已圖案化表面結構22。杯 體CU進一步包含複數個節點6，該等節點同樣會支撐該光 罩MA。該光罩MA(未顯示）係被設置在該複數根毛體1〇與節 點6之上。因接觸力學所導致的附著力（如上面的計算中所 闡述者）足以將該光罩ΜΑ附著至該光罩平。無需任何 真空夾鉗便可達成此附著力。 圖4b為圖4a中所示之夾鉗區與葉片彈簧一部份的詳細平 110342.doc -19- 1300519 面圖，其包含複數根毛體。明確地說，圖4b所示的係該已 圖案化表面結構22。如參考圖5的更詳細說明，該等微終端 元件10包括一第一部份8(圖4中未顯示）、一第二部份2〇、以

及一用於接合該等第一部份8與第二部份2〇的中間部份 12。泫第二部份20包括該子接觸區，而該中間部份丨2則係 有彈力的。該等毛體1 〇於掃描方向γ中的長度約為該等毛體 在實質垂直該掃描方向之方向X且實質上和該圖案化物件 MA及基板W同平面中的寬度的四倍。於圖中所示的具體實 施例中，每根毛體10均具有寬度a。每根毛體的長度則為 4a。寬度與長度比例將會隨著該附著力的必要力學特性（舉 例來說，特定尺寸中的剛性與彈力）而改變。 圖5為根據本發明 丹體貫施例用於支撐 尤皁MA的至 少-完整毛體的剖面圖。於圖中所示的具體實施例中，該 複數根毛體10的作用如同複數個葉片彈簧。該等葉片彈箬 係被建構且配置成用以於掃描^中提供相㈣性且於1 方向（也就是，纽置該光罩的平面之外的方向）中提供相對 彈力。藉由於掃描方向Y中提供相對剛性，便可抵消因該光 罩平台MT的加速與減速所造成的剪力。該複數個葉片彈菁 包括-第-部份8、一第二部份2〇以及一中間部㈣。該^ 間部份會接合該等第一部份8與第二部份2〇。第二部㈣ 包括該子接觸區’其會實際接觸該光罩。中間部份12且右 彈力。明確地說，中間部份〗？ ^ I知12於延伸出分別設置著該圖幸 化物件與該該基板中至少並中古从jh工 ，、中一者的平面以外的方向（圖 中所不的情形則係在Z方向中）中 门甲）中具有弹力。第一部份8會接 110342.doc -20- 1300519 觸杯體CU、sc的内部上方相向表面 ♦产、 及朱乃弹黃的長度盥 寬度比例會相依於中間部份12在2方向與γ方向中的必要 剛性比例。第一部份8會在掃描方向γ中相對於第二部份2〇 產生偏移。如此便可於掃描方向中達到相對的剛性。 圖6為根據本發明一具體實施例用於支擇—光罩以的光 罩平台Μτ的—端剖面圖。於圖中所示的具體實施例中，吸 :杯⑶、SC係設置在光罩平台Μτ之上。於一具體實施例 ，杯體CU會構成光罩平台町的一部份。吸附杯sc、CU 具備複數個節點6與複數個微終端元件1〇(如上述亦稱為毛 體)。忒等微終端元件10的寬度為a。該等微終端元件Μ具 有複數個子接觸表面2〇,其包括一凸曲線狀的接觸部： 14。如此便可進一步最佳化附著力。該等真空夾鉗VC進一 步包括一真空孔VH’其會穿過該光罩平台MT與吸附杯 SC、CU。該真空孔乂11會被連接至一真空供應器vs，用以 於該真空區VA之中產生一較低的壓力的區域。該真空供應 益VS包含一控制器，用以決定要供應的真空程度。該控制 器會被調適成用於考量由接觸該光罩MA的該複數根毛體 所產生的附著作用力。 圖7為根據本發明一具體實施例的光罩平台的細部剖面 圖。明確地說，圖7中顯示的係夾鉗VC、CL·，其包含透過 葉片彈簧2被安置在光罩夾頭Mc上且藉由z支撐體zs被支 樓在Z方向中的杯體CU、SC。Z方向係延伸在設置著光罩 Μ A或基板W的平面以外的方向。z方向通常實質上垂直設 置著光罩Μ A或基板w的平面。換言之，z方向實質上平行 110342.doc -21 - 1300519 該投影透鏡的光轴。 可利用微機電系統（MEMS)技術在杯體cu或是任何其它 -合宜結構之中製造該複數根毛體。該等毛體可能係12 的，也就是，該等毛體可能係由和光罩平台相同的材料所 製成。此外，它們還可能具備一被設置在該等毛體之接觸 區處的塗佈層。雖然本文參考製造IC時使用的微影設備， 不過，應瞭解的係，本文所述之微影設備亦可能具有其它 Φ 應用，例如製造整合型光學系統、用於磁域記憶體的導引 和偵測圖案、平面面板顯示器、液晶顯示器（LCD)、薄膜磁 頭等。熟習此項技術者將瞭解，就此等替代應用而言，本 文所使用的詞語「晶圓」或「晶粒」可被分別視為較普遍 詞語「基板」或「目標部份」的同義詞。本文所參考的基 板可在曝光之前或之後’在循軌工具（其係一種通常會將一 光阻層塗敷於一基板上並顯影經曝光的光阻的工具）、度量 衡工具及/或檢查工具中進行處理。在適用的情況下，本文 鲁的揭示内容可應用於此類及其它基板處理工具。此外，可 對該基板進行一次以上的處理，以便創造一多層IC，因此， 本文所使用的詞語基板還可指含有多個處理層的基板。 雖然上面已經在光微影術之背景中特別參考本發明之具 體實施例，但應明白，本發明亦可用在其它應用中，例如 壓印微影技術，且若情況允許，並不限定於光微影術。在 壓印微影術中，一圖案化物件中的佈局可定義一基板上所 創造的圖案。可將該圖案化物件之佈局壓印到被施加至該 基板之一層光阻中’於該基板上可藉由電磁輕射、熱、壓 110342.doc -22- 1300519 力或其組合來固化該朵阳。+ 1 "尤阻在光阻被固化後，便可從光阻 中移除該圖案化物件’從而在其中留下一個圖案。 本文所用的詞語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型的電 磁幸畐射，包含紫外線（uv)輕射（例如波長為或約為奶、 248 193、157或126奈米）與遠紫外線（EUV)輻射（例 如具有5至20奈米範圍内的波長），以及粒子束，例如離子 束或電子束。

透鏡」-詞在内文允許的情況下可指各種類型的光學 組件之任-者或組合’該等組件包含折射、反射、磁性、 電磁及靜電光學組件。 雖然上面已說明本發明之特^具體實施例，但應明白， 本發明可以上面未說明的其它方式來實施。例如，本發明 亦可採取以下形式：-電腦程式，其含有用於說明上揭方 法的機器可讀取指令中的—或多個序列；$—資料儲存媒 體（如半導體記憶體、磁碟或光碟），其中儲存著前述的電腦 程式。 以上說明的目的在說明而非限制。因此，熟習本技術的 人士將明白，可對本發明進行修改，而不會脫離下列申請 專利範圍之範蜂。 【圖式簡單說明】 上文藉由範例並參考附圖來說明本發明之具體實施例， 其中對應的參考符號指示對應的部件，且其中： 圖1為根據本發明一具體實施例之一微影設備； 圖2為根據本發明一具體實施例之光罩平台的平面圖，· 110342.doc -23 - 1300519 θ為根據本發明—具體實施例用於支撐一光罩的光罩 平台的細部圖式； 圖4a為根據本發明-具體實施例之光罩平台的平面圖； 圖扑為圖4a中所示之光罩平台—部份的詳細平面圖，盆 包含複數根毛體； 〃 圖5為根據本發明一具體實施例用於支撐一光罩的 根毛體的剖面圖； 圖6為根據本發明一具體實施例用於支撐一光 平台的-端剖面圖；以* 先罩 圖7為根據本發明一具體實施例的光罩平台的細部剖面 各圖中相同的元件符號代表相同的元件。 【主要元件符號說明】

110342.doc 1 接觸表面 2 葉片彈簧 6 節點 8 第一部份 10 毛體/微終端元件 12 中間部份 14 接觸部份 20 第二部份/子接觸表面 22 已圖案化表面結構 AD 調整器 B 輻射光束 24- 1300519

BD 光束輸送系統 C 目標部份 CL 夾钳 CO 聚光器 cu 吸附杯/杯體 IF 位置感測器 IL 照明器 IN 積分器 L 光罩MA的擺放位置 Ml 光罩對準標記 M2 光罩對準標記 MA 圖案化物件/光罩 MC 光罩夾頭 MO 馬達 MT 光罩平台 PI 基板對準標記 P2 基板對準標記 PM 第一定位器 PS 投影系統 PW 第二定位器 SC 吸附杯/杯體 SO 輻射源 VA 真空區 VC 真空夾鉗 110342.doc -25 - 1300519 VH 真空孔 VS 真空供應器 W 基板 WT 基板平台 ZS Z支撐體

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Claims (1)

1. 17 年片日 •鼻· 1| 1300多1汾120809號專利申請案 * 中文申請專利範圍替換本(97年1月） 十、申請專利範圍： 1 · 一種微影設備，其包括： 下面之中至少其中一者：一被建構用來支撐一圖案化 物件的支撐結構，該圖案化物件能夠於輻射光束的剖面 中賦予一圖案以便形成一已圖案化輻射光束，以及—被 建構用來固定一基板的基板平台；以及 /、中，5亥支撐結構與基板平台中至少其中一者包括一 接觸表面，其會分別接觸該圖案化物件與該基板，該接 觸表面包括複數個子接觸表面，以便提高該支撐結構與 名基板平台中至少其中一者分別和圖案化物件與基板之 間的一相互附著力。 2·如請求項丨之微影設備，其中該支撐結構與基板平台中至 少其中一者包括複數根毛體，其會構成該複數個子接觸 表面。 3 ·如請求項2之微影設備，其中該支撐結構與該基板平台中 φ 至少其中一者會分別被配置成用以於一掃描方向中移 動’且其中該複數根毛體會被建構用以於該掃描方向中 提供剛性。 4·如請求項2之微影設備，其中該複數根毛體係被建構用以 &禾7分別設置該圖案化物件與基板中至少其中一者的平 面實質垂直的方向中提供彈性。 5·如請求項2之微影設備，其中該複數根毛體係被配置成複 數個葉片彈簧。 6.如請求項3之微影設備，其中該複數根毛體係被配置成複 110342-970117.doc 1300519 £^補充 〜·· 一 _ 降正 數個葉片彈簧。 7 /員4之锨影設備，其中該複數根毛體係被配置成複 數個葉片彈簧。 如％求項5之微影設備，其中該複數個葉片彈簧包括一 一部份、_楚一 Α 、 一立 弟一邛份、以及一用於接合該第一部份與第 一錢的中間部份，其中該第二部份包括該子接觸區， 而邊中間部份於延伸出分別設置著該圖案化物件與該該 $基板中至少其中一者的平面以外的方向中具有彈力。 叫求項8之微影設備’其中該第一部份會在該掃描方向 中相對於該第二部份產生偏移。 1〇·:凊求項2之微影設備，其中該支撐結構進一步包括一真 工夾鉗’該真空夾鉗具有一具有一真空夾鉗區的吸附 杯，其中該複數根毛體係設置在該真空夾鉗區之中。 比如請求们之微影設備，其中該等子接觸區會構成一已圖 案化表面結構。 12.如請求m之微影設備，其中該等子接觸區會提供一組合 附著能量，足以將該圖案化物件與該基板中至少其中— 者分別附著至該支樓結構與該基板平台。 13·如請求項丨之微影設備，其進一步包括一馬達，用以在一 掃描方向中移動該支撐結構與該基板平台中至少其中一 者，該馬達會在該掃描方向中對該支揮結構與該基板平 台中至少其中一者施加一加速作用力，其中當該支撐社 構與該基板平台分別在該掃描方向中移動時，該圖案化 物件與該基板中至少其中-者分別和該支揮結構血节基 110342-970117.doc 1300519 板平 A a ^ __mKj Q Pb的相互附著力會將該圖案化物件與基板至少 者分別固定在該切結構與基板平台之上。 •項2之微影設備，其中該複數根毛體係微終端元 件0 求項2之微衫δ又備’其中該複數個子接觸表面包括一 凸曲線狀的接觸部份。 16, 2微影設備，其包括-被建構用來支樓-物件的支揮 〃中名支撐結構係被配置成用以於-預定方向中 動’其中該支撐結構包括一接觸表面，用以接觸該物 2料觸表面包括複數個子接觸表面，以便提高該支 仏構…亥物件之間的相互附著力，俾使當該支撐結構 於該預定方向中移動時，姑从μ X f 該物件會被固定在該支撐結構 上。 17·種裝置製造方法，其包括.於甘 匕枯·於一基板上投影一已圖案 化的輻射光束； 下面之中至少其中一 ^ ^ 者·於一支撐結構上支撐一圖案 化物件’該圖案化物株台匕 牛月b夠於輻射光束的剖面中賦予一 圖案以便形成一已圖案化鲈 u系化季田射先束，以及於一基板平台 上支撐一基板；以及 一於該支撐結構與基板平台中至少其中一者之上提供 :接觸表面’其會分別接觸該圖案化物件與該基板，該 接觸表面包括複數個子接 按觸表面，以便提高該支撐結構 與該基板平台中至少盆中一 ^ r 考分別和該圖案化物件與基 板之間的一相互附著力。 110342-970117.doc 1300519 •種裝置製造^法，其包括結4上支撐一物 件其中該支撐結構被配置成用以於一預定方向中移 動於忒支撐結構上提供一接觸表面用以接觸該物件， η亥接觸表面包括複數個子接觸表面，以便提高該支撑結 構與該物件之間的相互附著力，俾使當該支撐結構於該 預疋方向中移動時讓該物件可被固定於該支撐結構之 上0 19· 一種用於製造一支撐結構來支撐一物件之製造方法，該 支撐結構包括一接觸表面，該接觸表面包括複數個子接 觸區，以便提高該支撐結構與該物件之間的一相互附著 力，其中係利用MEMS技術來製造該複數個子接觸區。 20·如叫求項19之方法，其中該支撐結構係一用於支撐一圖 案化物件的支撐結構，該圖案化物件能夠於輻射光束的 剖面中賦予-圖案以便形成一已圖案化輻射光束。 110342-970117.doc 4-