TWI294431B - A polymer and method of manufacturing the same - Google Patents

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TWI294431B TW093140504A TW93140504A TWI294431B TW I294431 B TWI294431 B TW I294431B TW 093140504 A TW093140504 A TW 093140504A TW 93140504 A TW93140504 A TW 93140504A TW I294431 B TWI294431 B TW I294431B
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Description

1294431 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】
本發明係關於-種含有突起部之聚合物(也包含所謂 聚合物),以及使用超臨界流體或亞臨界流體而製造含有突起部L 部之聚合物的構造物。 二,ί,本發明也關於一種於基材上具備含有i起 【先前技術】 近年來’由於梳狀聚合物之特異型態而備受矚目。所謂 ^物係指末端已©定化(化學鍵結或_)於隨表面的高分 ^,其採取朝向㈣表面之垂直方向伸張的構造。高分 拉伸程度與接枝密度有著極為密切的關係。 鏈之 ,常,雛,合物係藉由表面接枝聚合,尤其表面起始 自由基聚合而使高分子鏈接枝於固體表面所得到的。 聚合^妝專利第2〇〇M31208號公報中,揭示一種 -個以二:基生;部2自=始 生成部位之自由基聚合反“條 驟。/、、 、、、α、土材/、單體接觸而形成聚合性梳狀物的步 藉由號公報中,揭示一種 面起始活性自由絲合,物时法。所謂表 藉由由Γϋ法而將聚合起始劑固定化於固體表面,接著, 可能以習知從所示糟由表面起始活性自由基聚合,便 分布均受到限Sis表面密度_:於基體表面成長長度與長度 其膨濁,得到㈣=f鏈’㈣高的接枝密度,藉由溶劑而使 于_雜已完全拉伸之鏈長的膜厚,首次實現了真實 1294431 4 知大態。另外,於此公報中,揭示從表面起 可逆終了為止,依序生成接枝#,進^成長至不 = 其附近之接枝化,本系統之聚合係活性 卓-桩ΐ二2所有的接枝鏈幾乎均等地進行成長,認為減 ^ _域_,也為可崎觸紐紐的主 而且,於該日本公開專利第2002-145971號公報中,揭示一 =米,造機能物’其特徵為:齡_如此之表面起始自由基 ,s所得刺紐聚合而構絲置於基體表面之紐聚合物声^ 紐聚合物鏈與難單體或絲物之絲合,化學組成於= Ξ形ϋίί造化。再者,於此公報巾也揭示—種奈米構造機能 =面方向,⑽定之_抑稀性化之後,^^起=)之 ίί ίΐΐΐ聚合’再以蚊之圖案配置紐聚合物層。 料ί 3暮2^旦所著之”梳狀聚合物的新展開,,,「未來材 弟f气.mp.48—55中,也針對藉由表面起始活性自 由基聚^所制的高密度(濃密)梳狀聚合物作_詳細之 關於梳狀聚合物’如下之所示,已探討應用於各種用^。 於該日本公開專利第2001_131208號公報中到 狀聚合物躲肽、聚核_或錢低分子_之_=^= 的 於該日本公開專利第2002-145971號公報中,揭示一籍 的奈米構造機能物,作為外部織應答性之複合 艾: 件、多機能感測器等為有用的。 卞及禝δτ〇 另外,於曰本公開專利第2〇〇Μ58813號公報中 狀聚合物之接觸式透鏡、隱形眼鏡、人工角膜等表面改質的應用瓜 再者,於此公報中,也揭示針對梳狀聚合物之腎臟透、^ ° 儲藏袋、心房脈衝產生器之導線、血管移植片、療傷之端帶之 1294431 \ < 罩、藥劑傳送貼布、心臟活門、移植用血管、導營、 胰島的應用。 吕人g、 2ίΚ)2_5ί)4842號公報中,揭示針對梳狀聚合 物之血官内支架的應用。 於日本公開專利第2002_535450號公報+,揭示針對梳合 2應用?酸分子之檢測方法(DNA感測器等)或者為了由試料 ίίϊti * f、(聚)狀或此等之複合體、抗體等之化合物 。ΐ者,於該公報中,也揭示用以作為梳狀聚合物的 物形成之使用、較宜用以核酸或肽合成之起始分子_定化^使 ^用或是用以作為電場中之分子、較宜為生體分子分離的凝膠之 另外,雖然不同於梳狀聚合物,於Α κ证侃过认, lcroabricated adhesive mimicking gecko f〇〇t-hair” Nature V〇1. 2, July 2003, p.46M63 中,揭示針對經二次;^斤e 幵^的角錐狀(毛狀)之聚醯亞胺的高密度陣列。具體而言,於 ^基板上形成厚度5叫之聚醯亞麵,藉由_轉罩之^雷喂 將銘圖案轉印至聚醯亞胺膜,例如,形成直徑Q 6卿、高 醯亞胺陣列。於此文獻中,也揭示此聚酿亞 枝鏈?此等習用之梳狀聚合物之高分子鏈(接 分子伸的構造’於乾燥狀態或不良溶劑中,高 刀子^(接枝鏈)則形成倒塌的構造或是折疊的構造。 近臨ίίΐ為—種密度接近液體,黏度與擴散係數接 的机體,由於兼具氣體之擴散性與液體之物質溶解性,且 有作為反應溶劑之各種效果。 /、 =知之超臨界流體係·其溶解力,應驗精油或香料 成分中^加啡因等,有效成分之萃取分離、不要 午取紊除4。例如,從1970年代後半段起,工業上已進行 1294431 利用超臨界二氧化碳之無咖啡因咖啡的製造。. 另外,近年來,超臨界流體也應用於從聚合物中之未反應 體的去除、醇之濃縮與脫水等、化學原料或製品等之不純物去除、 濃縮。再者「也可以利用於陶瓷之脫黏結劑、半導體或機械愛、件 之洗淨與乾燥等。例如,於日本公開專利第平7-149721號公報中, 揭示一種雙馬來酸酐亞縮胺化合物的精製方法,其特徵為··使含 有用於製造時之芳香族烴溶劑等不純物的醚醯亞胺系雙馬來酸 亞縮胺化合物,進行與壓力60氣壓以上且溫度2〇t以上之超臨界 狀態或近似超臨界狀態的二氧化碳相接觸之不純物萃取去除 理0 ^除此之外,超臨界流體也應用於二氧化矽等鬚狀微粒之 等,因急遽膨脹(RESS法)*造成的微粒化、薄膜化、微 化,另外,也應用於二氧化矽氣凝膠之強度賦與(表面塗 ’, 因不良溶劑化(GAS法)而造成的微粒化、薄膜化。例如,= 專利第平請侧號公報中,使為了製造塗料用高分子固 ΐΐί合步驟的南分子聚合反應麵,溶於氧化碳與 極性有機溶劑之超臨界相中而使其急遽膨脹。 /、 然而,基於聚合反應速度之控制或聚合生成物 塗Γ/Γ聚合物係藉由使用大量有機 4容液ϊ態下所生成的’於聚合後,從所得到的聚 課ί外,於脫溶劑步驟中,具揮發性之有
此,近年來溶射試使用超臨界流體,尤_ 开1rU以製造聚合物。將超臨界二氧化碳作為溶劑使用二〆 t 溶劑之去除與乾燥,能夠簡化步驟而降低I 且,相較於有機溶劑,二氧化碳能夠易於二者亚 1294431 大多數之情形,聚合物與單體氧 ϋ將體含超臨界二氧化碳之溶射的步驟;盥於該 =敦==合梅之樹,進行^之仏 之製麵_26509號公報中’揭示一魏聚合物 咖,於超 Α ΐΐί公開專利* 2002-327003號公報中,揭示一種含氟化炫 單體成分的熱聚合。 (甲基)丙細酸酯可自由基聚合 =====錢和賴0触成辨_自ΐ基聚 於日本公開專利第2002-179707號公報中,揭示一種古 粒之製造方法,於超臨界二氧化碳中,藉/實 ^ —-:-- 合物 =Si的 ==反下應進行‘ 二,色範材等」所=^ 1294431 揭示將藉由以超臨界二氧化碳為溶劑之聚合反應所得到的聚 (1,1,2,2_四氫十七氟癸基丙烯酸醋)與聚(1,1,2,2-四氫十七氟癸 基丙烯酸甲酯)作為界面活性劑使用,進行以超臨界二氧化碳為 >谷劑之各種丙細基系单體的分散聚合。 ' 如上所述,於超臨界二氧化碳等之超臨界流體中,業已針對 進行單體之熱聚合的聚合物製造方法進行探討,但是,於超臨界 流體中,進行單體之光聚合反應的聚合物製造方法則尚未明瞭。 【發明内容】 解決問題之技術手段 本發明之目的在於提供一種含有高度與直徑之比值為大的, 並且,南度為南的突起部之聚合物。再者,本發明之目的友於摇 種含有狄部之聚合物,_狄部含有為了追加聚合物^ 能之添加成分。再者,本發明之目的在於提供一種能夠簡易地 造含有如此突起部之聚合物的方法。 、 二 行流: ======蝴蝴合先駆物 鍵之 應, 亞臨發日ft二種聚合物的製造方法,於超臨界流體中或 製造含聚合反 了追加合物,喊起部含有為 此處,「含有麵部之聚合物」健突域之聚合物, 1294431 ^是具有一個以上突起之聚合物。突起狀聚合物的情形,稱此聚 二勿部」’具有—個以上突^之聚合物的情形,則稱 f,」。「含有突起部之聚合物」巾也包含所謂之梳狀 ^° ^旦疋並不限於此梳狀聚合物。例如,由聚合物而成的薄 、,平板,且其表面上具有數個突起或是由聚合物而成的突起物 本身也包含於本發明。 卜,大起部之直徑(相對於基材表面成平行方向之突起部 並非固定的情形,將狄部底面之最長直徑(長徑或長 遭)稱為直捏。 根據令發明士方法,能夠簡易地製造含有高度與直徑之比值 大的,並且,咼度為高的突起部之聚合物。含有所得到的突起 邓之聚合物,例如,突起部高度為直徑之〇1倍以上,甚至直徑之 1倍以上,並且,突起部高度為10nm以上,甚至1μιη以上二如 ^方式,含有高度與餘之比值為大的,並且,高度為高的突起, j之聚合物係習用技術所無法得到的。另外,為了追加聚合物機 倉ϋ添加成分的存在下而進行本發明方法的情形,能夠簡易地製 迈3有具備添加成分之突起部的聚合物。 本發明之方法中,進行聚合的光聚合性聚合先驅物(以下, 也稱為「?6合先驅物」)以及必要時所_添加成分_ ,擇。另外’因為藉由改魏合反應時之壓力與/或溫度,能夠^ 、交對聚合先驅物與添加成分之溶劑(超臨界流體或亞臨界流體 的溶解度,並藉由控制聚合壓力與聚合溫度,能夠控制 =的突起部之聚合物組成。因此,依本發明製造方法的話, 得到含有具備各種物性或機能之突起部的聚合物。 進一步,藉由於聚合時改變進行聚合之聚合先驅物以及所含 之添加成分的組成,或是藉由改變聚合時之壓力與溫度之中的至 少-個,便可能使含有所得到的突起部之聚合物組成,例 膜厚方向(相對於基材表面之垂直方向)進行改變。 含有本發’起部之聚合物係與其特異鶴姆合,期待以 1294431 習用之梳狀聚合物為主而應用於各種用途,另外,也期待新型機 能構造物之實現。 ^例如,突起部高度為突起部直徑之〇1倍以上,並且,突起部 ,度為10nm以上之本發明的聚合物,無關於聚合物之組成,具有 同,斥水性。因而,能夠賦與相等於泛用於斥水化處理之pTFE(聚 四氟乙烯)等氟系樹脂的斥水性。 另外,依本發明之方法,使曝露於超臨界流體中或亞臨界流 ^中所配置之活性能量線透射基材上,能夠形成含有突起部之聚 合物。尤其,藉由透射活性能量線之射入面不曝露於超臨界流體 中或,臨界流體中,且活性能量線之射出面曝露於超臨界流體中 或亞臨界流體中而配置之活性能量線透射基材,而照射活性能量 線的方式,進行聚合先驅物的光聚合反應,於活性能量線透射基 材之活性能,線射出面上,能夠簡易地形成含有突起部之聚合 物、。再者,藉由使活性能量線將經由光罩圖案照射於基材,而可 =活性能量線所透射的部分上,選擇性簡易地形成含有突起部的 ♦ &物亦即,例如,咸夠於基材上形成一種含有突起部之聚合 物,而此突,部含有具備基材上所要之微細圖案的添加成分。 再者,藉由煅燒含有添加成分為一種以上有機金屬配位化合 物之本發明突起部的聚合物,幾乎維持锻燒前之含有突起部的聚 合,形狀,也能夠簡易地形成以具有特異微細構造之金屬與/或金 屬氧化物為主成分的薄膜(以下,也稱為「金屬膜」)。 „入ί者,藉由還原處理含有添加成分為一種以上有機金屬配位 ίίΪ之本發明突起部的聚合物,也能有機金屬配位化合物 於金屬上形成依金屬種_形成金屬氧化物,簡易地 備金屬與/或金屬氧化物之突起部的聚合物。 八 【實施方式】 用。本發明之方法係將超臨界雜或碰界趙作為聚合溶劑使 11 1294431 所明超臨界流體係指溫度、壓力均超過臨界點之狀態,, 處於=溫度以上、臨界壓力社之狀訂的流體。臨界溫度與 ,界,力係物質的本性值。例如,二氧化碳之臨界溫度為3〇处: 臨界壓力為7.38MPa。甲醇之臨界溫度為m4t:、臨界壓 8.09MPa。水之臨界溫度為374 rc、臨界壓力為22·ΐ2Μρ&。所謂 亞時界流體係指可以得勒同於超臨界趙之作舰果的流體, 通常’以飢氏為單位之下,溫度為臨界溫度之〇·65倍以上,並且, 壓力為臨界壓力之〇·65倍以上的流體。 超臨界流體或亞臨界流體可以因應聚合先驅物之溶解度等而 ^以適當選擇。例如,超臨界流體或亞臨界流體可列舉:二氧化 石厌、水:甲烷、乙烷、乙烯、丙烷、丙烯、甲醇等之醇、氨、呋 ^一氧化碳等。再者,也可以列舉··氮、氦、氬等之無機氣體。 此專之超臨界流體或亞臨界紐也可以作成二種以上之混合物。 其中L基於較低溫、較低壓下成為超臨界狀態或亞臨界狀態的觀 點,較宜為超臨界二氧化碳或亞臨界二氧化碳。 超臨界流體或亞臨界流體之用量可以因應聚合先驅物或反應 條件而予以適當決定。例如,聚合先驅物之進料濃度可以 1〜70質量%。 一還有,於本發明,雖然將超臨界流體或亞臨界流體設為反應 之環境,也可以存在其他之液體或氣體。 人於本發明,為了提高超臨界流體相中或亞臨界流體相中之聚 δ先駆物,或任意成分之添加成分或光聚合起始劑的濃度之目的 下,也可以使用有助於溶質之聚合先驅物、添加成分或光聚合起 始劑之溶解的助溶劑。 h助溶劑能夠因應所用之超臨界流體、亞臨界流體或聚合先驅 物等而予以適當選擇。使用超臨界二氧化碳或亞臨界二氧化碳之 情形,例如,助溶劑可列舉:曱醇、乙醇、丙烷、丁烷、己烷、 ,烷、醋酸、醋酸乙酯、丙酮、水、乙腈、二氯甲烷等。助溶劑 可以使用一種,也可以合併二種以上而使用。助溶劑之用量能夠 12 1294431 予以適當決定。 流體聚iSJSi弋2合·力)可以因應聚合溶劑之超臨界 、高杏玉—丨=·體承σ先驅物或標的物之聚合物特性等而予以 4合壓力較宜為流體臨界壓力的α65倍以上 臨=力以上。使用超臨界二氧化碳或亞臨界二氧化碳之以為 聚合勤較絲5MPa以上,更佳為7顺以上,臨频t以 =以上制理想。聚合壓力於此範圍的話,更適合於進行聚 ^反應’可以制更高品質之聚合物。雖歸合勤之上限= itli限定’但是基於裝置耐壓性等的觀點,通常能夠設定^ 50=以下之^圍。鄕合開始起至結束為止,聚合壓力較= 可i使壓力i變_聚合之進行而施予升壓或降壓等,聚合時也 、聚合反應時之溫度(聚合溫度)能夠因應聚合溶劑之超臨 流體、亞臨界越、聚合先驅物或標的物之聚合物特性等而以 適當決^。聚合溫度較宜為流齡界溫度的_倍社 臨界溫度以上。使用超臨界二氧化碳或亞臨界二氧化碳 。聚合溫度較宜為20°c以上,更佳為30°C以上,臨界溫度尤以乂31 C以上更為理想。若聚合溫度於此範圍的話,更適合於進行人 反應,可以得到更高品質之聚合物。雖然聚合溫度之上限並益二 別之蚊,通常能夠設定於25(TC以下之細。從聚合開始起結 束為止,聚合溫度較宜保持定溫,另外,聚合時也可以使溫度改 變〇 具體而言’較宜於壓力5MPa以上、溫度2(rc以上之二氧化 碳中’進行聚合先驅物之光聚合,再者,更佳於壓力7MPa以上、 溫度30°C以上之二氧化碳中,進行翠合先驅物之光聚合。 超臨界流體或亞臨界流體能夠藉由壓力與溫度而改變密度戋 極性。藉此,能夠改變相對於聚合先驅物與任意成分之添加^分 溶劑(超臨界流體或亞臨界流體)的溶解度。因而,例如,使用 添加成为之情形或疋使用^一種以上聚合先驅物之情形,能夠藉由 13 1294431
Si㈡所得到的聚合物之組成。另外, ία 力一,覆度之中的至少一個,例如,也可能使 于:、水&物組成’相對於基材表面之垂直方向而進行變化。 J;i 之方法,於該超臨界流體中或於亞臨界流體中,一種 先驅物(單體等),以及因應必要之—種以上添加成分或 起始劑的存在下,藉由活性能量線照射而進狀聚合。於 H堇進彳Τ具有-個以上不飽和鍵之聚合先驅物㈣合,無法形 士網狀構造,因科能硬化。為了硬化,必躺具有二個以上不 ^和鍵之聚合先驅物。因而,於本發明之進行聚合的聚合先驅物 性化2含有一種以上具備二個以上不飽和鍵之化合物的光硬化 尺進行照^之活性能量線能夠因應聚合先驅物或光聚合起始劑 等而予以適當決定。例如,活性能量線可列舉:波長1〇〜38〇nm之 紫外線、波長380〜780nm之可見光、波長780ηιη(0·78μιη)〜2.5μιη 之紅外線等。大多之情形,活性能量線使用波長5〇〇nm以下之紫 外線或可見光,甚至波長420nm以下之紫外線或可見光,尤以使 用波長3 80nm以下之紫外線,甚至使用波長3 3 〇 nm以下之紫外線 更為理想。 即使活性能量線非單一波長、或是於分光分布(發光分布) 上可以並非單一波峰,只要含有該波長之光的話,也可以具有任 意之分光分布。 用於活性能量線照射之燈泡類(光源)能夠使用一般所用之 燈泡,例如,超高壓水銀燈、高壓水銀燈、中壓水銀燈、低壓水 銀燈、化學燈、金屬_素燈、碳弧燈、氙燈、水銀_氙燈、鎢燈、 氫燈、重氫燈、準分子燈、短弧燈、於UV雷射(波長:351〜364nm) 具放射線之雷射、氦_鎘雷射、氬雷射、準分子雷射等。 活性能量線之照射量(積分式光量)能夠因應所要聚合物之 聚合度、含有突起部之聚合物的突起部高度等而予以適當決定。 例如,活性能量線之照射量可以設為0.5 mJ/cm2〜100J/cm2,更佳
ί·請案文說明書修正頁及申請專利範圍修正本 月9曰修(更)正本J 2008年1月9臼修訂 .佳為10 J/cm2以下。 活性能量線之照射量係定義為: 活性能量線之照射量(j/cm2)=活性能量線之強度(w/cm: X照射時間(sec)。 / 活性能量線之照射量的調節能夠藉由照射時間、燈泡輸出功 率等而進行。 活性能量線之強度能夠予以適當決定,例如,能夠設為 a〇|mW/cm2〜lxl(y2 w/em2 (T w/cm2)e活性能量線之照射時間係 配a其強度,只要能夠得到所要之照射量,而予以定出即可。
口本發明於超臨界流體中或亞臨界流體中,較宜均勻地使聚合 先驅物,、必要的話,與添加成分或奈米粒子(例如,平均粒徑為 l〇ynm以下之超微粒)予以溶解、分散之後,照射活性能量線而 ,行光聚合。例如,奈米粒子可列舉:奈米碳、CdSe等。藉此, 月b夠生成含有添加成分或奈米粒子均勻分散之突起部的聚合物。 另外,必要的話,也可以摻合其他之添加劑。
只要聚合先驅物溶於溶劑之超臨界流體中或亞臨界流體中而 具^光聚合性的話即可,並無特別之限制。聚合先驅物之一部分 也月b夠於溶於超臨界流體或亞臨界流體之狀態下進行聚合。另 外,聚合先驅物也可以為單體、寡聚物或聚合物。還有,如上所 本發明使用具有二個以上不飽和鍵之化合物的光硬化性化合 ,作為聚合先驅物。聚合先驅物也可㈣時使用光硬化性化合物 與具有一個不飽和鍵之聚合先驅物。 …例如,聚合先驅物可列舉:由可具有取代基之馬來酸酐縮亞 可具有取代基之(甲基)丙烯醯基、可具有取代基之環狀 二冓&、可f有取代基之烯基、可具有取代基之亞乙烯基、可具 有取代基之苯乙烯基與醯胺基而成的群中所選出的一種以上之化 ^物。於此’所謂(甲基)丙烯醯基意指丙烯醯基與甲基丙烯醯 :1具u有一個以上此等官能基之情形,可以僅具有相同的官能基, 或疋也可以具有不_官能基。只要取代基不妨礙聚合反應即 15 :叫’「. I ,】f '祕、::、〔成 以下之烴基、 可,k無W财乏限制,例如,取代基可列舉:碳數12 鹵素原子、胺基、羧基、經基、氰基等。 聚合先驅物較宜為進行光聚合 於不存在光聚合起始劑之下, 之化合物的自發光聚合性化合物。 例如,自發光聚合性化合物之聚合先驅物較宜為具 個馬來酸酐縮亞胺系化合物。具體而言,可列舉:該通式二 示之馬來酸酐縮亞胺系化合物。 【化學式1】 A+B 一 R,Np、 (1) (式中,A表示可具有取代基之羥基;或是,可具有取代基 之羥基與由醚鍵、酯鍵、胺曱酸酯鍵與碳酸酯鍵而成的群中選出 至少一個鍵所鍵結的分子量4〇〜looooo之(聚)醚連結鏈或(聚) 醚殘基、(聚)S旨連結鏈或(聚)g旨絲、(幻胺情_連結鍵 或(聚)胺—甲酸自旨殘基或是(聚)碳酸醋連結鏈或(聚)碳酸醋 殘基。B表不_鍵、酯鍵、胺甲酸酯鍵或碳酸酯鍵。R表示可具有 取代基之羥基。m表示2〜6之整數。但是,B與R不必完全相^, 也可以混合二種以上。) 基於單獨形成硬化膜的觀點,通式(1)中之m較宜為2〜6 之整數。 —通式(1)中之R較宜為亞烷基、亞環烷基、芳基亞烷基、環 烧基^烧基。其巾,亞絲可以為直鏈狀,也可以為分歧狀。另 外’芳,亞烧基或環烧基亞烧基可以於主鏈上具有芳基或環烷 基’或可=於分歧鏈上具有芳基或環烷基。基於硬化性的觀 點’ R較宜為碳數1〜5之直鏈亞烷基或碳數1〜5的分歧亞烷基。 一例如’通式(1)中之R的具體例可列舉:亞甲基、伸乙基、 二亞甲基、四亞甲基、五亞甲基、六亞曱基、七亞曱基、八亞曱 129443^ ( ? :::^ 基、九亞甲基、十亞甲基、十一亞甲基、十二亞 ^烧基:1·甲基伸乙基、1·甲基三亞甲基、2_甲基三亞甲基、卜甲 基四亞甲基、2_甲基四亞甲基、ι_曱基五亞甲基、2_甲美五 ίΐΐίΐ工伸新ϊί基等之分歧亞燒基;伸環ί基,ί己 基荨之伸亞壤烧基;亞苯基、2,2_二苯基_三亞甲基、 Γ /甲基、1_環己基伸乙基、丨·環己基四伸乙基、 基^己基四伸乙基等於主鏈上或侧鏈上具有環絲之環烧基亞烧 ^式(1)中之A係由可具有取代基之烴基;或是可且右敌讲 鍵、®旨鍵、胺甲酸酯鍵與碳酸_而成^群中選 _iTrr)所二的上,士量40〜100000之(聚)醚連結鏈或(聚) 甲i酯連鍵或(聚)酯殘基(a-2)、(聚)胺 ΐ ()胺甲酸酯殘基(Α_3)或是(聚)碳酸酉旨連 形成單位之寡聚物或聚合物所構成的連結^ 且中之八可以為具有取代基之祕的情形,例如,盆 具體例可列舉·· R具體靖聽之烴基。 ^ 再者,通式(1)中之Α可列舉·· 成的直,亞烧基、分歧亞烧基、亞環烧基與芳基而 結鏈或殘k; 00之(聚)鱗(聚)醇所構成的連 而成&中1 戶亞f基、分歧亞烧基、亞環炫基與芳基 此等重複一俯里基具有以醋鍵所鍵結的一個或是 連結鏈Κί 置40〜100000的(聚)酉旨(聚)醇所構成的 的群直fff基、分歧亞烧基、亞環烧基與芳基而成 、的夕一個烴基,進行具有以醚鍵所鍵結的一個或 17 1294431 =此等重複單位之分子量4〇〜ι〇〇〇⑻的(聚)醚(聚)醇,與二_、 :六-叛酸(以下’簡稱為聚叛酸)之醋化反應所得到的 為聚竣酸殘基的(聚)鲮酸{(聚)醚(聚)醇}酯而構成的 連、、、吉鏈或殘基; 由直鏈亞烷基、分歧亞烷基、亞環烷基與芳基而成 二Ϊΐ所選出的至少一個烴基,進行具有以酯鍵及醚鍵所鍵結的 ^或是此等重複單位之分子量4〇〜1〇〇〇〇〇的(聚)酯(聚)醇 7二,酸之醋化反應所得到的末端為聚羧酸殘基的(聚)羧酸 U咸)酯(聚)醇}酯而構成的連結鏈或殘基; ("t5)由直鏈亞烷基、分歧亞烷基、亞環烷基與芳基而成的 的至少一個烴基,進行具有以醚鍵所鍵結的一個或是 1重複單位之分子量100〜40000的(聚)環氧化物之開環所得 到的連結鏈或殘基; / 由直鏈亞烷基、分歧亞烷基、亞環烷基與芳基而成 ,群,所卺,的至少一個烴基,進行具有以鱗鍵所鍵結的一個或 重複單位之分子量40〜100000的(聚)醚(聚)醇,與有 機(聚)異氰酸酯之胺甲酸酯化反應之(聚)醚(聚)異氰酸酯 所構成的連結鏈或殘基; jA-3_2)由直鏈亞烷基、分歧亞烷基、亞環烷基與芳基而成 ,群=所?f的至少一個烴基,進行具有以醋鍵所鍵結的一個或 1此f重複單位之分子量40〜100000的(聚)酯(聚)醇,與有 機(聚)異氰酸酯之胺曱酸酯化反應之(聚)酯(聚)異氰酸酯 所構成的連結鏈或殘基; 、,(A 4)由直鏈亞烧基、分歧亞烧基、亞環烧基與芳基而成的 群,所的至少一個烴基,進行具有以醚鍵所鍵結的一個或是 此等重複單位之分子量40〜100000的(聚)醚(聚)醇之由碳酸 酯所構成的連結鏈或殘基等。 還有’將(AH)、(A-2-2)與(A-2-3)形成通式⑴之(聚) 18 1294431
醋連結鏈或(聚)g旨殘基(A_2) A 聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁 : =醇可列 基二醇類;乙二醇、丙二醇、i 4 ^ t丁之聚亞燒 新戊二醇、甘油、三幾甲私基狀、=、w含-戊二醇’己二醇、 基丙烷、雙季戊四醇等之亞俨文 四醇、雙甘油、雙三羥甲 丙惊改暂你、寺亞烷基—醇類之環氧乙烷改質物、環备 物等。1中。烧改質物、環氧丁烧改質物或四氫咬喃改質 逑、、、。鏈或殘基(Α-1)之(聚)醚(聚) 傅战口亥 吱喃之共聚物、喃之共聚物、乙二醇與四氫 2、虱化聚丁二烯二醇等之烴系聚醇類;聚四亞甲基::: 由ir氫咬〇南改質物)#之多元經基化合物ί/、 例^構成該連結鏈或殘基(m) =々二?:f丙等聚丁二醇、聚-1,4· 丁】 ί : L 醇、丙二醇、Μ·丁二醇、以戊二醇、1,6_ 3:!!田ί戊一醇、甘油、三羥曱基丙烷、季戊四醇、雙甘油、 2讀甲基狀、雙季細醇等魏基二義之卜己内醋改質 物、r-丁内醋改質物、(5-戊内醋改質物或曱基戊内酯改質物;己 二酸、二聚物’之贿族二麵與新戊二醇、甲基戊二醇等聚 醇之酯化,的脂肪族聚酯聚醇;對苯二甲酸等之芳香族二羧酸與 新戊二^等聚醇之酯化物的芳香族聚酯聚醇;聚碳酸酯聚醇、丙 烯基聚醇、聚四亞甲基六甘油驗(六甘油鱗之四氫吱喃改質物) 等之多元羥基化合物與富馬酸、鄰苯二甲酸、間苯二曱酸、衣康 酸、己二酸、癸二酸、馬來酸等二羧酸之酯化物;甘油等之含多 元羥基的化合物與脂肪酸酯之酯交換反應所得到的一甘油酯等之 含多元羥基的化合物等。 例如,構成該連結鏈或殘基(A-2-2)之末端為聚羧酸的(聚) 1294431 羧酸{(聚)醚(聚)醇}醋可列舉:琥珀酸、己— 酸、六氫間苯二甲酸、四氫間苯二甲酸、富馬酽了酸、間苯二甲 酸、馬來酸、偏苯三酸、均苯四曱酸、苯五^萨=康酸、癸一 .檬酸、四氫呋喃四羧酸、環己烷三羧酸等之聚幾^、,笨六_甲酸、檸 所示之(聚)醚(聚)醇之醋化反應所得到的太進行該(Α-1) 羧酸{(聚)醚(聚)醇}酯等。 為聚竣酸之(聚) 例如,構成該連結鏈或殘基(Α-2_3)之主被去π 羧酸{(聚)酉旨(聚)醇}醋可列舉:_酸、己Ί魏之(一聚) 酸、六氫間苯二甲酸、四氫間苯二甲酸、富馬酸7&間甲 衣康酸、己二酸、癸二酸、馬來酸、偏笨三酸、均二 〇、三_、五、六_紐,與經該⑷)所示 ^之酯化所得到的末端為聚羧酸之(聚)羧酸{(聚)酯 例如,構成該連結鏈或殘基(Α_5)之(聚)環氧化物 由(甲基)環氧氯丙烷與雙酚Α或雙酚F、此等之環氧乙烷改所 ^、環氧丙烷改質物等所合成的環氧氯丙烷改質雙酚型之環氧^ 月曰’由(甲基)環氧氯丙烧與由氫化雙盼A、氫化雙紛ρ、此等之 環氧乙烧改質物、環氧眺改質物等所合成的環氧氯丙烧改質氮 化雙酚型之環氧樹脂'環氧酚醛樹脂;酚、雙酚等與(甲基)環 氧氯丙烷之反應物、對苯二甲酸、間苯二甲酸或均苯四甲酸之縮 水甘油酯等之芳香族環氧樹脂;(聚)乙二醇、(聚)丙二醇、(聚) I二醇、(聚)1,4_丁二醇、新戊二醇等之二醇類,此等之亞烷基 氧化物改質物之聚縮水甘油醚;三經甲基丙烧、三羥甲基乙烧、 甘油、雙甘油赤蘇醇、季戊四醇、山梨糖醇、1,4_丁二醇、1,心己 二醇等之脂肪族多元醇、或此等亞烷基氧化物改質物之縮水甘油 驗,己二酸、癸二酸、馬來酸、衣康酸等缓酸之縮水甘油酯;多 元醇與多元羧酸之聚酯聚醇的縮水甘油醚;縮水甘油基(甲基) 丙埽酸酯或甲基縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯之共聚物;高級脂 20 1294431 籌成"x連結鏈或殘基(A-3)之(聚)_ (¾)里聋_ 醋可列舉:藉由亞甲基二里心UT〇 _ (D異鼠酸 其>亞甲美-里A缺狀一…鼠酉""酉曰、六亞甲基二異氰酸酯、三甲 亡ΐ物酸亡昱isC5、四匕亞甲基二異氰酸酯、蓖麻二異氰酸酯、 ΙΪΪ t 娜旨;2,4·曱次苯基 異氰酸醋、;>亞二甲苯i 醋之二1體、2,6_曱次苯基二 4 η其审、f t厂異11酸醋、…亞二甲苯基二異氰酸醋、 ^ 3,3^f ^ 芳香族二異氰酸醋化合物;三甲基環 、ϋ亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、曱基環己 ίί其τΐ=、甲基環己烷_2,6·二異氰酸醋、α (異氰酸醋 環式二異氰酸醋等之聚異氰酸醋與(聚)醚 (丰)酵之胺曱W旨化反應所得_ (聚)趟(聚)異氰酸醋等。 例如,用於與聚異氰酸酯反應的(聚)醚(聚)醇可列舉: ϋ二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、聚妙丁二醇等之聚亞烧基二 醉類,一乙了醇、1,2-丙二醇、丙二醇、丁二醇、丨义戊二醇、 1,6:己二醇、新戊二醇、甘油、三經甲基丙院、季戊四酉^、雙甘油、 雙三=基城、雙季細醇等亞絲二_貞之環Α乙烧改質 物、環氧丙烷改質物、環氧丁烧改質物或四氫呋喃改質物等。其 中,較且為亞烧基二醇類之各種改質物。再者,例如,用於與聚 異氰酸酯反應之(聚)醚(聚)醇可列舉:環氧乙烷與環氧/丙烷 =共聚物、丙二醇與四氫呋喃之共聚物、乙二醇與四氫呋喃之共 ,物、聚異戊二烯二醇、氫化聚異戊二烯二醇、聚丁:烯二醇、 虱化♦丁一婦二醇等之經系聚醇類;聚四亞曱基六甘油基醚(六 甘油之四氫呋喃改質物)等之多元羥基化合物等。 &例如’構成該連結鏈或殘基(A-3-1)之(聚)酯(聚)異氰 酉 =酉曰可列舉:連結基或殘基(A-1)所列舉之聚異氰酸酯與(聚) 酿(聚)醇之胺曱酸酯化所得到的(聚)酯(聚)異氰酸酯等。 21 1294431 例如,用於聚異氰酸酯反應之(聚)酯(聚)醇可列舉··乙 二醇、1,2-丙二醇、1,3_丙二醇、1,4-丁二醇、1,5_戊二醇、:[,6_己 二醇、新戊二醇、甘油、三經甲基丙燒、季戊四醇、雙甘油、雙 三經甲基丙烧、雙季戊四醇等亞院基二醇類之e _己内酯改質物、 7- 丁内醋改質物、占-戊内醋改質物或甲基戊内醋改質物;己二 酸、二聚物酸等之脂肪族二羧酸,與新戊二醇、甲基戊二醇等聚 醇之酯化物的脂肪族聚酯聚醇;對苯二甲酸等之芳香族二竣酸, 與新戊二醇等聚醇之酯化物的芳香族聚酯聚醇等之聚醋聚醇;聚 碳酸酯聚醇、丙烯基聚醇、聚四亞曱基六甘油醚(六甘油鍵之四 氫呋喃改質物)等之多元羥基化合物,與富馬酸、鄰苯二甲酸、 間苯二甲酸、衣康酸、己二酸、癸二酸、馬來酸等二羧酸之酯化 物;甘油等之含多元羥基的化合物,與脂肪酸酯之酯交換反應所 得到的一甘油酯等之含多元羥基的化合物等。 ~ 例如,構成該連結鏈或殘基(A-4)之(聚)醚(聚)醇可 舉··連結基或殘基(A-1)所列舉之(聚)喊(聚)醇等。 用於與(聚)醚(聚)醇之碳酸酯化之化合物,可列舉·石户 酸二乙酯、碳酸二丙酯、碳醯氯等。另外,也可以藉由環氧化^ 與二氧化碳之交替聚合而進行聚碳酸酯化反應。 此等之中,通式(1)中之A較宜為由碳數2〜24之直鏈亞烷 基、碳數2〜24之分歧亞烷基、具有羥基碳數2〜24之亞烷基、亞 環烷基、芳基與芳基亞烷基而成的群中選出至少一個官能其 嶋旨鍵而成的群中所選出的至少一個 100〜100000之(聚)醚連結鏈或(聚)醚殘基(A-i),或者 酯連結鏈或(聚)酯殘基(A-2 );更佳為碳數2〜24之直鏈亞烷基、 碳數2〜24之分歧亞烧基、由含有具備經基碳數2〜24之亞烧基鱼/ 或芳基重複單位而成的分子量1〇〇〜1〇_〇之(聚)鍵連結鍵聚、 縫殘基(A-1)’或者,由含有碳數2〜μ之直鏈亞烧基、碳數2〜% 之分歧亞綠、具倾基魏2〜24之亞絲與/鮮基重複單位而 成的分子量100〜1_0G之(聚)自旨連結鏈或(聚)s旨殘基(A_2)。 22 1294431 基於硬化性的觀點,通式(1)所示之馬來酸酐縮亞胺系化合 物,R較宜為碳數1〜5之亞烷基,B較宜為·〇)0-或-0C0-所示之 酯鍵,A較宜為含有碳數2〜6之直鏈亞烷基、碳數2〜6之分歧亞 烧基,或者,具有羥基碳數2〜6之亞烧基重複單位而成的分子量 100〜100000之(聚)醚連結鏈或(聚)醚殘基(A-1)的馬來酸 酐縮亞胺系化合物。 如此之馬來酸酐縮亞胺系化合物,例如,該通式(2)所示之 聚醚雙馬來酸酐縮亞胺醋酸醋。 【化學式2】
(式中,R1表示亞烧基,η係1〜1000之整數。) 例如,通式(1)所示之馬來酸酐縮亞胺系化合物能夠由具有 綾基之馬來酸酐縮亞胺化合物與羧基進行反應的化合物,利用習 知方法進行合成。例如,與叛基進行反應的化合物可列舉:由直 鍵亞院基、分歧亞烧基、亞環烧基與芳基而成的群中所選出的至 少一個烴基,具有以醚鍵與/或酯鍵所鍵結的一個或是此等重複單 ,之平均分子量100〜1000000之2〜6官能基的聚醇或聚環氧化物 等。 、,另外,通式(1)所示之馬來酸酐縮亞胺系化合物能夠由具有 趣基之馬來酸酐縮亞胺化合物與羥基進行反應的化合物,利用習 知方法所合成的。例如,與羥基進行反應的化合物可列舉:由直 ,亞烷基、分歧亞烷基、亞環烷基與芳基而成的群中所選出的至 ν—個煙基,以醚鍵與/或酯鍵所鍵結的一個或是具有此等重複單 =之平均分子量ι〇0〜1000000之一分子中具有2〜6個羧基、醚鍵 ,,鍵的二·、三_、五·、六-羧酸、(聚)異氰酸酯、碳酸酯或碳醯 氣專。 - 23 1294431 除此之外,聚合先驅物尚可列舉如下之化合物。 例如,具有一個馬來酸酐縮亞胺基之化合物可列舉:曱基馬 來酸酐縮亞胺、己基馬來酸酐縮亞胺、N-苯基馬來酸酐縮亞胺、 N- 丁基苯基)馬來酸酐縮亞胺、N- (2-氟苯基)馬來酸酐 縮亞胺、N- (2_氯苯基)馬來酸酐縮亞胺、N- (2_碘苯基)馬來酸 酐縮亞胺、N-環己基馬來酸酐縮亞胺、N-月桂基馬來酸酐縮亞胺、 Ν,Ν’-亞曱基雙(N-苯基)一馬來酸酐縮亞胺、羥基曱基馬來酸酐 縮亞胺、羥基乙基馬來酸酐縮亞胺、2-乙基碳酸酯乙基馬來酸酐縮 亞胺、2-異丙基胺甲酸酯乙基馬來酸酐縮亞胺、2·丙烯醯基乙基馬 來酸酐縮亞胺、乙酸基乙基馬來酸酐縮亞胺、胺基苯基馬來酸酐 縮亞胺、Ν- (2-CFr苯基)馬來酸酐縮亞胺、N_ (4-CFr苯基)馬 來酸酐縮亞胺、N- (2-CFr苯基)曱基馬來酸酐縮亞胺、N- (2-漠-3,5-CF3-苯基)馬來酸酐縮亞胺等。 例如,具有二個以上馬來酸酐縮亞胺基之化合物可列舉:N,N,-伸乙基雙馬來酸酐縮亞胺、N,N’-六亞甲基雙馬來酸酐縮亞胺、 N,N’-4,4’-聯苯基雙馬來酸酐縮亞胺、风1^’-3,3’-聯苯基雙馬來酸酐 縮亞胺、N,N’- (4,4’_二苯基甲烷)雙馬來酸酐縮亞胺、n,N,-3,3,-二苯基甲烷雙馬來酸酐縮亞胺、:^,:^’-4,4,-二苯基曱烷雙馬來酸酐 縮亞胺、N,N’-亞甲基雙(3-氯少-亞苯基)雙馬來酸酐縮亞胺、 >1,:^’-4,4’-二氯己基甲烷雙馬來酸酐縮亞胺、:^,^[,-(2,2,-二乙基 -6,6’-二甲基-4,4’-亞甲基二亞苯基)雙馬來酸酐縮亞胺、N,N,丄2_ 亞苯基雙馬來酸酐縮亞胺、:^,1^,-1,3-亞苯基雙馬來酸酐縮亞胺、 N,N’-1,4-亞苯基雙馬來酸酐縮亞胺、2,2’-雙(4-N-馬來酸酐縮亞胺 苯基)丙烷、2,2’-雙[4-(4_N_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、 2,2’-雙[3初卜丁基-5_曱基_4_ (4_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙 烷、2,2’-雙[4- (4-N-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2,_雙 (4_N_馬來酸酐縮亞胺_2_曱基-5·乙基苯基)丙烷、2,2,-雙(4-N· 馬來酸if縮亞胺-2,5-二溴苯基)丙烧、雙(4-N-馬來酸軒縮亞胺苯 基)甲烷、雙(3,5_二曱基4-馬來酸酐縮亞胺苯基)甲烷、雙(β ία 1294431 乙基-5_甲基-4-馬來酸酐縮亞胺苯基)甲烷、雙(3,5-二乙基冰馬 來酸酐縮亞胺苯基)甲烷、雙(3-甲基_4_馬來酸酐縮亞胺苯基) 曱烷、雙(3-乙基-4-馬來酸酐縮亞胺苯基)曱烷、m-二-N-馬來酸 酐縮亞胺苯、2,6-雙[2-(4-馬來酸酐縮亞胺苯基)丙基]苯、N,N’-2,4-亞曱苯基雙馬來酸酐縮亞胺、:^,!^’-2,6-亞曱苯基雙馬來酸酐縮亞 胺、N,NM,4’_二苯基醚雙馬來酸酐縮亞胺、风^[’-3,3’_二苯基醚雙 馬來酸酐縮亞胺、:^,>1’-4,4’-二苯基硫化雙馬來酸酐縮亞胺、 ^^’-3,3’-二苯基硫化雙馬來酸酐縮亞胺、^^’-4,4’-二苯基砜雙馬 來酸酐縮亞胺、:^,:^’-3,3’-二苯基颯雙馬來酸酐縮亞胺、^[,]^,_4,4,-二苯基酮雙馬來酸酐縮亞胺、:^,:^’-3,3’-二苯基酮雙馬來酸酐縮亞 胺、>^’-4,4’-二苯基-1,1、丙烷雙馬來酸酐縮亞胺、风>1,-3,3,-二苯 基-U’_丙烷雙馬來酸酐縮亞胺、3,3’_二曱基->^,_4,4,-二苯基甲烷 雙馬來酸酐縮亞胺、3,3’-二甲基-风>1’_4,4,-聯苯基雙馬來酸酐縮亞 胺、1,3-雙(3-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯、雙(4-馬來酸酐縮亞 胺苯基)曱基 '雙[4- ( 3-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]曱烷、2,2,-雙[4- (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]曱烷、u,^[4-(各馬來 酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]甲燒、1,1’_雙[3_甲基-4- (4-馬來酸酐縮 亞胺苯氧基)苯基]甲烷、1,1,-雙[3-氯_4_ (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧 基)苯基]甲烷、1,1,_雙〇漠冬(4_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基] 甲烧、1,1’_雙[4-(3-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]乙烷、丨义雙^一 (3-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]乙烷、ι,Γ_雙[4_ (冬馬來酸酐 縮亞胺苯氧基)苯基]乙烷、1,1,_雙[3_甲基_4_ (4_馬來酸酐縮亞胺 苯氧基)苯基]乙烷、1,1,_雙[3_氯_4_ (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基) 苯基]乙烷、1,Γ-雙[3-溴_4-(4_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基;j乙烷、 2,2’1 (4-馬來酸酐縮亞胺苯基)丙烷、2,2,-雙[4_ (3_馬來酸酐縮 亞胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2’-雙[4- (4_馬來酸酐縮亞胺苯氧基) 苯基]丙烧、2,2,-雙[3_氯_4_(4_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、 2,2 _雙[3->臭-4- (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烧、2,2,-雙[3-乙基-4- (4•馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2,_雙[3_丙基冰 25 1294431 (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2,_雙[3-異丙基4- (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2,-雙[3-丁基-4- (4-馬來酸 酐縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2,-雙[3-從c-丁基-4- (4-馬來酸酐 縮亞胺苯氧基)苯基]丙烷、2,2,_雙[3-甲氧基-4- (4-馬來酸酐縮亞 胺苯氧基)苯基]丙烷、1,1’_雙[4- (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯 基]丙烷、2,2’_雙[4- (3-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]丁烷、3,3,-雙[4- (4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]戊烷、3,3,_雙[4- (3_馬來 酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]戊烷、4,4,-雙(3-馬來酸酐縮亞胺苯氧 基)聯苯、雙[4_ (3_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]酮、雙[4- (3-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]亞砜、雙[4- (3_馬來酸酐縮亞胺苯 氧基)苯基]砜、雙[4- ( 3_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]醚、N5N,-/7-二苯甲酮雙馬來酸酐縮亞胺、N,N,-十二亞曱基雙馬來酸酐縮亞 胺、亞二甲苯基雙馬來酸酐縮亞胺、Ν,Ν,-ρ-亞二甲苯基雙 馬來酸酐縮亞胺、:^,:^’-1,3-雙亞甲基環己烷雙馬來酸酐縮亞胺、 >1,:^’-1,4-雙亞甲基環己烷雙馬來酸酐縮亞胺、]^,1\[,-2,4-甲次苯基 雙馬來酸酐縮亞胺、]^,>1’-2,6-曱次苯基雙馬來酸酐縮亞胺、:^,>1,-二苯基乙烷雙馬來酸酐縮亞胺、N,N,-二苯基醚雙馬來酸酐縮亞 胺、N,N’-(亞甲基雙四氫苯基)雙馬來酸酐縮亞胺、n,N,- (3-乙基)-4,4’-二苯基甲烧雙馬來酸酐縮亞胺、n,N’- (3,3,-二曱基) _4,4’-二苯基甲烷雙馬來酸酐縮亞胺、n,N’- (3,3’_二乙基)-4,4,-二苯基甲烷雙馬來酸酐縮亞胺、N,N,- (3,3,-二氯)4,4,-二苯基曱 烷雙馬來酸酐縮亞胺、N,N’-三嗪雙馬來酸酐縮亞胺、n,N,-三甲基 環己烯酮雙馬來酸酐縮亞胺、Ν,Ν’-ρ,ρ’-二苯基二曱基石夕烧基雙馬 來酸酐縮亞胺、N,N’-二苯甲_雙馬來酸酐縮亞胺、n,N,-二苯基丙 烷雙馬來酸酐縮亞胺、N,N’_伸萘基雙馬來酸酐縮亞胺、n,N,-4,4,-(1,1’-二苯基環己烷)雙馬來酸酐縮亞胺、风:^3,5-(1,2,4_三唑) 雙馬來酸酐縮亞胺、N,N’_吡啶_2,6_二醯雙馬來酸酐縮亞胺、 N,N’-5-曱氧基-1,3-亞苯基雙馬來酸酐縮亞胺、1,2-雙(2-馬來酸酐 縮亞胺乙氧基)乙烷、1,3-雙(3-馬來酸酐縮亞胺丙氧基)丙烷、 26 1294431 N,N’-4,4’-二苯基甲烷雙二曱基馬來酸酐縮亞胺、N,N’-六亞曱基雙 二甲基馬來酸酐縮亞胺、N,N,-4,4,-(二苯基醚)雙二甲基馬來酸 酐縮亞胺、N,N’-4,4,-(二苯基砜)雙二甲基馬來酸酐縮亞胺、三 乙二醇雙碳酸酯雙乙基馬來酸酐縮亞胺、三甲基環己烯酮雙胺甲 酸酯雙乙基馬來酸酐縮亞胺、雙乙基馬來酸酐縮亞胺碳酸酯、4,9-二噁-1,12-十二烷雙馬來酸酐縮亞胺、雙丙基馬來酸酐縮亞胺碳酸 酯、十二炫_N,N,_雙馬來酸酐縮亞胺、N_ (2,4,6-異丙基-3-丙醯胺 苯基)馬來酸酐縮亞胺等。 另外,也可以列舉:3,4,4,-三胺基二苯基曱烷、三胺基酚等與 馬來酸酐之反應所得到的馬來酸酐縮亞胺系化合物或三(4-胺基苯 基)磷酸酯或三(4-胺基苯基)硫代磷酸酯與馬來酸酐反應所得到 的馬來酸酐縮亞胺系化合物。 另外,例如’含氟雙馬來酸酐亞縮胺系化合物可列舉:2,2-雙(4-馬來酸酐縮亞胺苯基)六氟丙烷、2,2’-雙[4- (3_馬來酸酐縮 亞胺苯氧基)苯基]_1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2’-雙[4-(4-馬來酸酐 縮亞胺苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2’-雙[4-(4-馬來酸 酐縮亞胺_2_三氟甲基苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2’-雙 [3>二甲基-(4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]-1山1,3,3,3-六氟丙 烷、2,2’-雙[3,5-二溴-(4-馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2’-雙[3-馬來酸酐縮亞胺-5-(三氟甲基基)苯 基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2,-雙(3-氟-5-馬來酸酐縮亞胺苯基) -1,1,1,3,3,3-六氟丙炫、3,3’-雙馬來酸酐縮亞胺-5,5’-雙(三氟甲基) 聯苯、3,3’-二氟_5,5’_雙馬來酸酐縮亞胺聯苯、3,3’_雙馬來酸酐縮 亞胺-5,5,-雙(三氟甲基)二苯甲酮、3,3,_二氟-5,5’-雙馬來酸酐縮 亞胺二苯甲酮、U-雙[3-馬來酸酐縮亞胺-5-(三氟甲基)苯氧基] 苯、1,4-雙[3-馬來酸酐縮亞胺-5-(三氟甲基)苯氧基]苯、1,3_雙(3」 氟_5_馬來酸酐縮亞胺苯氧基)苯、1,4-雙(3-氟-5-馬來酸酐·縮亞胺 苯氧基)苯、I,3·雙(3_氟~5_苯氧基馬來酸酐縮亞胺苯氧基)_5-氟苯、3,5-雙[3-馬來酸酐縮亞胺苯氧基]苯并三氟、3,5_雙〇馬來酸 27 1294431 酐縮亞胺-5-(三氟曱基)苯氧基]苯并三氟、雙·(3_氟_5_苯氧基馬 來酸酐縮亞胺苯基)_、雙[3_馬來酸酐縮亞胺_5-(三氟甲基)笨 基胸、雙(3-氟-5-苯氧基馬來酸酐縮亞胺苯基)硫化物、雙[3_馬 來酸酐縮亞胺-5-(三氟甲基)苯基]硫化物、雙(3_氟_5-苯氧基 馬來酸酐縮亞胺苯基)砜、雙[3_馬來酸酐縮亞胺-5-(三氟甲基^ 苯基]颯、1,3-雙(3-敦_5-苯氧基馬來酸酐縮亞胺苯基)_u,3,t四 甲基一石夕氧烧、1,3_雙[3_馬來酸酐縮亞胺_5_ (三氟甲基)苯基1 -1,1,3,3_四甲基二矽氧烷等。 土 另外,馬來酸酐縮亞胺系化合物,也可以列舉具有一個以上 馬來酸酐縮亞胺基之寡聚物與聚合物。 此寡聚物之種類並無特別之限制,例如,可列舉:藉由該馬 來酸酐縮亞胺系化合物與聚胺類之邁克爾加成反應而得到的寡聚 物、馬來酸酸類與/或馬來酸酐類與二胺進行反應而得到的寡聚物 等。另外,具有使四羧酸二酐與二胺進行反應而得到的末端酐基 之聚醯亞胺先驅物,並與使環氧樹脂與含有馬來酸酐縮亞胺基= 一羧酸的反應物之馬來酸酐縮亞胺化合物等含羥基之馬來酸酐縮 亞胺基化合物而得到的寡聚物;或是,具有使四羧酸二酐與二胺 反應而得到的末端酐基之聚醯亞胺先驅物,並與環氧樹脂與含有 馬來酸酐縮亞胺基之一羧酸的反應物之馬來酸酐縮亞胺化合物等 含羥基之馬來酸酐縮亞胺化合物,並與聚醇化物進行反應而得到 的寡聚物等。 ^再者以列舉·· 一個以上馬來酸酐縮亞胺基與胺曱酸酯 系樹脂、環氧系樹脂、聚酯系樹脂、聚_系樹脂、醇酸系樹脂、 聚,乙烯系樹脂、氟系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、醋酸乙烯系樹脂、 紛糸樹脂、聚醯胺樹脂以及此等二種以上改質樹脂等之聚合物成 分或券聚物成分鍵結的化合物。 例如,具有一個以上(甲基)丙烯醯基之化合物可列舉:(甲 基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(曱 基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲 28 1294431 基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸癸酯、·(曱基)丙烯酸十 二烧醋、(甲基)丙烯酸月桂酯、(曱基)丙烯酸月桂基十三烷酯、 (曱基)丙烯酸十三烷酯、(曱基)丙烯酸十六烷基硬脂醯酯、(甲 基)丙烯酸硬脂醯酯、(曱基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸笨 甲醋、(曱基)丙烯酸苯酯等之(曱基)丙烯酸酯類;(曱基)丙 烯酸醯胺、(曱基)丙烯酸羥甲基醯胺等之(曱基)丙烯酸醯胺類; (曱基)丙烯酸、(曱基)丙烯酸羥乙酯、(曱基)丙烯酸羥丙酯、 基)丙烯酸羥丁酯、(曱基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(曱基) 丙烯酸二乙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸丁胺基乙酯、(曱基)丙烯 酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯等之反應性丙烯系單體 類,二(曱基)丙烯酸乙烯酯、二(曱基)丙烯酸二乙二醇酯、 二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(曱基)丙烯酸四乙二醇酯、 二(甲基)丙烯酸十乙二醇酯、二(曱基)丙烯酸十五乙二醇酯、 二(曱基)丙烯酸一百五十亞甲基乙二醇酯、二(曱基)丙烯酸 丁烯酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、三(曱基)丙烯酸三羥曱基丙烷、 四(:基:2烯酸季戊四醇、二(甲基)丙烯酸二乙醇等之交聯 |±丙烯基系單體類,二乙二醇改質壬基紛(甲基)丙稀酸醋、显 J基(曱基)丙烯酸酯、月桂基(甲基)丙烯酸酯、十六烧基(’甲 土)丙烯酸酯、硬脂酸基(曱基)丙烯酸酯、2_ (2_乙氧基乙氧基) ^乙基己基(甲基)丙烯酸酯等單官能之(甲基)丙稀基化合物 除此=卜,具有二個以上(甲基)丙埽醯基之化合物,例如, ^一斯1^基)丙稀酸醋、新戊二醇二(曱基)丙烯酸酉旨、 ιΐΐ—醇二(r基)丙烯酸醋、祕丙酸新戊二轉 2 f6 p π ,、紐三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烤 旨、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(ΐί丙 三(甲基)丙稀酸§旨、環氧乙麟質Μ 甲基丙烧二(甲基)丙烯酸醋、環氧丙燒改質三經甲基丙烧三(甲 29 1294431 基)丙烯酸酯、環氧丙烧改質甘油三(甲基)丙烯酸醋、季戊四 醇三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸醋、雙三声 曱基丙燒四(甲基)丙烯酸醋、二季戊四醇六( , 異氰酸環氧乙烷改質三(曱基)丙烯酸酯篝。 ^ η另外,(甲基)丙^三 ,酉曰、曱基)丙烯5一一,戊5基乙酯、(曱基)丙烯酸二環戊氧 基丙,等;二乙二,二環戊烯基-社(甲基)丙烯酸g旨等;經 ^基寡聚物或丙二醇二環戊烯-醚寡聚物之(甲基)丙烯酸醋等; 二環戊烯基肉桂醯胺、二環戊烯氧基乙基肉桂醯胺、二環戊 基乙基-富馬酸醋或二富馬_旨等;3,9_雙(u [5,5]十-烧、3,9_雙(2_每乙基)_2,4,8展四嚼烧螺[5,5]十一烧等 之-、二(曱基)丙烯酸S旨,或此等螺乙二醇之環氧乙烧或環氧 丙烷加成聚合物之一、二(甲基)丙烯酸酯,或此等一(曱基 丙,酸醋之甲基謎、1_口丫雙環[2,2,2]各辛烯基(甲基)丙烯酸:旨、 雙環[2,2,1]-5-庚烯-2,3-一羧基一烯丙基酯等;二環戊二烯某(甲美 丙烯酸醋、二環戊二烯基經乙基(曱基)_酸醋了二氫二環土戊 二烯基(曱基)丙烯酸酯等。 另外,也可以列舉:具有一個以上(甲基) 基 物與聚合物。 I π κ 此券聚物之種類並無特別之限制,例如,可列舉:乙二醇寡 聚物、環氧樹脂寡聚物、聚酯樹脂寡聚物、聚醯胺&脂寡聚物、 胺甲酸酯樹脂寡聚物、乙烯醇寡聚物、酚樹脂寡聚物等。 此等寡聚物之具體例可列舉:環氧樹脂寡聚物之丙烯酸酯(例 如,雙酚Α之雙甘油醚二丙烯酸酯);環氧樹脂寡聚物與丙烯酸盥 甲基四氫鄰苯二甲酸酐之反應生成物;環氧樹脂寡聚物與2_羥/乙 基丙烯酸酯之反應生成物;環氧樹脂寡聚物與二縮水甘油醚與二 稀丙基胺之反應生成物;縮水甘油基二丙婦酸醋與鄰苯二甲酸軒 之開環共聚S旨;甲基丙烯酸二聚物與聚醇之醋;^丙烯酸與鄰苯 1294431 二甲酸酐與環氧丙烷所得到的聚酯;乙二醇寡聚物與馬來酸酐與 縮水甘油基甲基丙烯酸酯之反應生成物;乙烯醇寡聚物與^羥甲 基丙烯基醯胺之反應生成物;利用琥珀酸酐將乙烯醇寡聚物予以 酯化之後,進行縮水甘油基甲基丙烯酸酯之加成的反應生成物; 均f四甲酸二酐之二烯丙基酯化物與p,p,-二胺基聯苯反應而得到 的寡聚物;乙烯-馬來酸酐共聚物與稀丙基胺之反應生成物;甲基 乙烯終馬來酸酐共聚物與2-羥乙基丙烯酸酯之反應生成物;此反 應生,物進一步再與縮水甘油基f基丙烯酸酯進行反應的生成 物’、,由胺甲酸酯鍵而與羥基亞烷基段之寡聚物或飽和酯段寡聚 物或是二者相鍵結,於兩末端具有丙烯醯基或甲基丙烯 胺 甲酸醋系寡聚物,·末端丙烯基改質異戊二烯橡膠或丁^橡膠等胺 另外,具有(甲基)丙烯醯基之寡聚物的具體例,可列舉: 二(甲基)丙烯酸乙二醇酯寡聚物、(甲基)丙烯酸壬基β〇改質 醋L二i甲基)丙稀酸丙二醇酯寡聚物、二(甲基)丙烯酸新戊 一醇酯养聚物、二(甲基)丙烯酸丁二醇酯寡聚物、二(甲基) 丙,酉^1,6-己二醇酯寡聚物、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烧^旨、 聚(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、二(甲基)丙烯酸雙酚A雙縮水 甘油醚酯、酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物等。 X另外,也可以列舉··至少於任一侧之末端矽上,與(甲基) $醯基或是與含有-個以上(甲基)丙烯醯基相鍵^的含^甲 基)丙烯醯基之矽氧烷寡聚物。例如,矽氧烷寡聚物本身之構造 二Γίί!以上之烷基矽氧烷構造單位、芳基矽氧烷構 k早位或方烷基矽氧烷構造單位之任一種以上的矽氧烷寡聚物。 /再者,也可以列舉:一個以上(曱基)丙烯醯基盥胺 糸樹脂、環氧系樹脂、聚酯系樹脂、聚醚系樹脂酸月 聚氯乙烯系樹脂、氣系樹脂、魏炫系樹脂、醋酸、 成分或寡聚物成分鍵結的化合物。 Λ 口 具有-個以上雜醚構造之化合物’可尊:含有2〜12個破 31 1294431 與1〜6個氧之環狀醚構造,尤以 一 縮水甘⑽、讀舉:乙二醇雙 合物另外,也可以列舉:具有—個以上環狀曝造之寡聚物與聚 4 縣=勿等具有環狀_造之寡聚物可列舉··乙二醇雙縮水甘油 再者’也可以解··—似上之具有此等環細構造之 等乙=成 具有-個以上烯基之化合物,可列舉:具有—個以 物’具有—㈣上絲之齡物可列^ 〇再者,也了以列舉:-伽上烯基與胺猶g|細脂、環氧 糸樹H、聚酯系樹脂、聚鱗系樹脂、酉享酸系樹脂、$氯乙稀系樹 脂、氟系樹脂、矽氧烷系樹脂、醋酸乙烯系樹脂、酚系樹脂、聚 酸胺樹脂以及此等二種以上改質樹脂等之聚合物成分或寡聚物成 分鍵結的化合物。 例如,具有一個以上乙烯基之化合物可列舉:具有乙烯性不 飽和雙鍵之化合物、不飽和聚酯等。另外,具有一個以上亞乙烯 基之化合物’也可以列舉:具有一個以上肉桂基(c6h5—ch=ch —CH2—)或是亞肉桂基(c6H5 —CH=CH — CH:=)的化合物。 例如,如此之化合物可列舉··聚乙烯肉桂醯胺。例如,聚乙烯肉 桂醯胺能夠藉由使聚乙烯醇與QH5 — CH=CH—CH2~C0C1反應 而得到。 32 1294431 再者,也可以列舉:一個以上亞乙烯基與胺甲酸酯系樹脂、 ,氧系樹脂、聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、醇酸系樹脂、聚氯乙烯 系樹脂、氟系樹脂、矽氧烷系樹脂、醋酸乙烯系樹脂、酚系樹脂、 聚酿胺樹脂以及此等二種以上改質樹脂等之聚合物成分或寡聚物 成分鍵結的化合物。 例如,具有一個以上苯乙烯基之化合物可列舉:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、α一甲基一户-曱基苯乙烯、尸·甲氧基苯 ^烯、甲氧基苯乙烯、2,4-二曱基苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯 等。另外,也可以列舉:聚乙烯亞苯甲基乙醯苯類、聚乙烯苯乙 烯基σ比咬類等。 四〆,者,也可以列舉:一個以上苯乙烯基與胺甲酸酯系樹脂、 ,氧系樹脂、聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、醇酸系樹脂、聚氯乙烯 系樹脂、氟系樹脂、矽氧烷系樹脂、醋酸乙烯系樹脂、酚系樹脂、 聚醯胺樹脂以及此等二種以上改質樹脂等之聚合物成分或寡聚物 成分鍵結的化合物。 #例如,具有一個以上疊氮基之化合物可列舉:2,6_雙(4-疊氮 亞苯甲基)環己烷、2,6-雙(4,-疊氮苯甲基)曱基環己酮等。 片气’也可,列舉·· 一個以上疊氮基與胺甲酸酯系樹脂、環 ,$樹,二聚醋系樹脂、聚醚系樹脂、醇酸系樹脂、聚氯乙烯系 樹脂、氟系樹脂、矽氧烷系樹脂、醋酸乙烯系樹脂、酚系樹脂、 ㈣胺樹舰及此等二_上改質齡等之聚合物成分或寡聚物 成分鍵結的化合物。 另外,與該單體可進行共聚合之單體,可列舉··丙烯腈盥曱 腈等之含氰基之乙烯化合物類;氯化乙烯與偏氯乙稀等之 烯化合物類’·醋酸乙烯與丙酸乙烯等之含有機酸基的 ,乙烯:馬來酸以及衣康酸等之反應性單體類,·丙 t質石夕氧ί類丄氯乙細、婦丙基縮水甘油細、亞乙基原 波烧、二乙烯苯、三烯丙基氰酸s旨以及三烯 、 聯性共聚合賴鮮。 n自日寺之又 33 1294431 該聚合細物可以使用-種,也可以合併二種以上而使用。 另外,於聚合時,藉由使進行聚合的聚合先驅物之組成改變 專’例如,使所得到的聚合物組成,相狀基材表面,進行垂直 方向的變化。 於本發明之製造方法,為了追加聚合物機能之添加成分並無 ί=ϊ制’可以為有機物’也可以為無機物。所用之添加成分, 此夠因應於所要之聚合物組成或物性等㈣以適當選擇。例如, ϊ,ί=ϊ加之機能可列舉:吸附機能、分離機能、觸媒機 月匕藥效機月b 4,但是並不局限於此等機能。 少—部分較宜溶於超臨界流體或亞臨界流體之 tLi 應’也可以分散於超臨界流體中或亞臨界流 體中之狀憑下進行光聚合反應。 添加成分可列舉:含有金屬之化合⑯(也包含配位化 二t含?金屬之化合物可列舉:下列通式(3)所示者, 干者$ )所示f,下列通式⑴所示者,下列通S (6)所 不者;下列通式⑺所示者,下列通式(8)所示者。 【化學式3】 (3) 本ϋ j表不金屬元素’ ¥表示〇、S、S〇4或P〇4。P與 t A二〜、之比例,根據金屬元素M1之價數所定出之值。但 =。) 固以上之情开知χ1不必完全相同,也可以混合二種以 【化學式4】 M2X2t (4) rm 表示金屬元素,χ2表示F、〇、价、I、CN、N03、 3 =/pRQV1(其中’ Μ1、Μ2、RQ3、RG4表示分別獨立 =/2、R°3、R°4可以相同,也可以不同。 Μ21χ2之^ 、R也可以為酞菁等之多元配位基)。^示 A二個以It例,根據金屬元素Μ"之價數所定出之值。但是,$ 一 r#與情形,χ2不必完全相同,也可以混合二種以上。) L化子式 5】 M3 (OR3) i (5) 34 1294431 3 (式中,Μ3表示金屬元素,R3表示氳、烴基或CF3C>i表示 Μ與〇R3)之比例,根據金屬元素M3之價數所定出之值。但是, (OR3)為二個以上之情形,R3不必完全相同,也可以混合二種 以上〇 ) 【化學式6】 M4 (OCOR4) j (6) * (式中,Μ4表示金屬元素,R4表示氩、烴基或CF3。』表示 M4,(COOR4)之比例,根據金屬元素M4之價數所定出之值。 但是,(COOR4)為二個以上之情形,R4不必完全相同,也可以混 合二種以上。) 【化學式7】 M5(〇S03R5)k (7) (式中,Μ5表示金屬元素,R5表示氳、烴基或CF^k表示 M5與(〇S〇;jR5)之比例,根據金屬元素M5之價數所定出之值。 但是,(OSOsR5)為二個以上之情形,r5不必完全相同,也可以 混合二種以上。) 【化學式 8】 M6 ( R6COCH2COR7 ) 1 ( 8 ) (式中,Μ6表示金屬元素,R6、R7表示分別獨立的氫、烴基 或CF3。1表示Μ5與(R6COCH2COR7)之比例,根據金屬元素 M6之價數所定出之值。但是,(r6c〇CH2COR7)為二個以上之情 形,R6、R7不必完全相同,也可以混合二種以上。) 還有,該式(3)中之p與q、該式(4)中之t、該式(5)中 之卜該式(6)中之j、該式(7)中之k、該式(8)中之1係如 上所述,根據金屬元素之價數所定出的,例如,該式(3)中之 M1為a價金屬之情形,(p,q) = (l,a/2),另外,例如,該式(4) 中之M2為b價金屬之情形,t=b。 該式(3)中之Μ1、該式(4)中之Μ2、該式(5)中之Μ3、 該式(6)中之Μ4、該式(7)中之Μ5、該式(8)中之Μ6,並 無特別之限定,例如,較宜為鎳(Ni)、金(Au)、銀(Ag)、銅 ((:1〇、銦(111)、鈀(?(1)、鉑(?1)、錫(811)、鎢(1)、鋁(八1) 等。該式(3)中之M1、該式(4)中之M2、該式(5)中之M3、 35 1294431
Si6種):上之。:該t之Μ、該式⑻中之Μ6也可 ιμΤγΛ )-、該式⑷、該式(5)、該式⑷、該式⑺、 μι ’煙基之碳數並無特別之限定,較宜為1〜50,例如, 壤心脂肪舰基、芳香族義脂肪族烴基等。驗族烴基 可以為直鏈狀、也可以為分歧狀。 基之具體例,可列舉:由甲基、乙基、㈣基、異丙基、小 異丁基 丁基、〜戊基、異戊基、新戊基、如t戊基、 丁基、〜己基、異己基、1甲基戊基、乙基丁基、π庚基、 1甲土己基、辛基、異辛基、辛基、2_乙基己基、3_曱基庚 |、〜壬基、異壬基、1·曱基辛基、乙基庚基、〜癸基、μ曱基壬 基、η-十一烧基、U-二甲基壬基、η-十二烷基、η_十四烷基、η_ 十七烷基、η-十八烷基,再者,由乙烯、丙烯或丁烯之聚合物或此 等之共聚物而成的官能基等。 另外,該金屬化合物中所含之金屬含有率,亦即,該式(3) 中之Ρ與q、該式(4)中之t、該式(5)中之i、該式(6)中之 j、該式(7)中之k、該式(8)中之卜並無特別之限定。 若更具體加以說明,例如,添加成分可列舉··有機鉑配位化 合物、有機鈀配位化合物等之有機金屬配位化合物。 有機鉑配位化合物並無特別之限制,例如,可列舉:鉑·烷基 配位化合物、鉑-烯烴配位化合物、鉑-芳烴配位化合物、鉑-膦配 位化合物、鉑-鱗酸酯配位化合物等。有機鉑配位化合物,具體而 言,可列舉:Pt (COD) 2、pt (COD) Me2、Pt (COD) Et2、Pt (CH2 = CH2) 2C12、Pt (CH2 = CH2) 2 (PPh3)、Pt (PPh3) 4、Pt (PMe3)、Pt (PEt3)、Pt (PBu3) 4、Pt[P (OPh) 3]4、Pt[P (OMe) 3]4、Pt[P (OEt) 3]4、Pt[P (OBu) 3]4 等。但是,其中,COD 表示 1,5-環辛二烯,Me表示曱基,Et表示乙基、Bu表示丁基、Ph表 示苯基。 36 1294431 有機鈀配位化合物並無特別之限制,例如,.可列舉:Pdcyp (Me) 3]4、PdCl2 (PBu3) 2、Pd (PPh3) 4 等。另外,也可以列舉: Pd3 (02CCH3) 6、Pd (acac) 2等。但是,其中,acac表示乙醯丙 酉同配位基。 除此之外,添加成分之有機金屬配位化合物可列舉:有機釕 配位化合物、有機钻配位化合物、有機錄配位化合物、有機銀配 位化合物等。還有,此等之配位化合物也可以為任意之配位基。 含有有機金屬配位化合物作為添加成分之情形,也能夠進行 含有已製成突起部之聚合物的煅燒而予以金屬化。此情形下,較 宜使用配位基為烴之有機金屬配位化合物作為添加成分。 另外,例如,添加成分之各種藥效成分可列舉:習知之血液 循環劑、抗消炎劑、消炎鎮痛劑、抗氧化劑、抗組胺劑、殺菌劑、 抗生素、類固醇劑等之有機化合物。 另外,添加成分也可以列舉:其他之樹脂成分、橡膠成分、 填充劑、耐熱安定劑、耐候安定劑、抗氧化劑、抗靜電^、增滑 劑、抗結塊劑、防霧劑、潤滑劑、成核劑、染料、顏料等。 為了追加該聚合物機能的添加成分,可以使用二種,也可以 合併二種以上而使用。 另外,於聚合時,藉由使添加成分之組成或量改 夠使所得到的聚合物組成,例如相對於基材表面,進行垂直方向 的變化。 為了追加聚合物機能之添加成分_量,能 合物的組成或物性等而抑適度決定。例如,相_ ίg聚驅物’添加成分的用量關設為約G.001〜1〇< 加成分的用量較宜為份質量以上,另了卜,先驅:旦缚 進行ίίΪί合先驅物’添加成分的用量較宜為5〇份ΓΚ 聚合起始劑為必要的。只要光聚合起始劑=物容;^^體夫 37 1294431 ^ Ut^) (ΛΙΒΝ) ^ 等之偶^起始劑;咖丁基氫過氧化物ί ^本虱過魏物、齡丁基過氧新癸醋、齡丁基過氧三甲基乙 二乙基己醋、甲基乙基酮過氧化物、乙醯基環 物月桂_氧化物、過氧化苯甲醢等之過氧化 i%# ^他之光聚合起始齊 1,例如,可列舉:苯偶因、苯偶因乙基 ί因/t丙基心f偶因異丁基轉之苯偶因烧基醚類;2,2,-;^,土 _2·本基乙醯苯、笨甲基_2_二甲基胺-1· ( 4·嗎琳代苯基) =-==乙己基基^=乙醯基、二苯基硫、曙紅、 —光聚合起始劑可進-步列舉:二苯甲酮、苯偶因異甲基縫、 笨偶因異丙基醚、二苯基乙二酮、咕噸酮、嗔噸酮、蒽酮等之芳 香基化合物;乙醯苯、丙醯苯、α_羥基異丁酚、α,“,_二氯 4-苯氧基乙醯苯、1-經基-環己基乙醯苯等之乙醯苯類;苯醯過氧 化物二如基過氧苯曱酸酯、^丁基過氧-2_乙基己酸酯、_ 丁基虱化過氧化物、二Verb丁基二過氧間苯二甲酸酯、I?,* 4,_ 四(如☆丁基過氧羰基)二苯甲酮等之有機過氧化合物;」苯基碘 ,化物、二苯基埃氯化物等之二苯基_鹽;四氯化碳、四溴化碳、 氣仿、破仿專之有機鹵化物;3_苯基_5·異η惡唾酮、2,4,6_三(二氯 曱基)-1,3,5-二唤本弁恩酮專之雜環式與多環式化合物;ι,ι,_偶^ (環己烷-1-腈)等之偶氮化合物;揭示於歐洲專利第152377號公 報之鐵-方經配位化合物(Iron-Arene Complex);揭示於日本公開 專利第昭63-221110號公報之二茂鈦化合物等。 ' 幵 該光聚合起始劑可以使用一種,也可以合併二種以上而使用。 38 1294431 份質劑f用量可以予以適度決定,例如,相對於獅 貝里之聚合先驅物,可以設為約0.1〜30份質量。 劑〔ϋ’广要的話,可以合併該光聚合起始劑與光聚合起始助 笨如’光聚合起始助劑可列舉:甲胺基乙基 里胺=甲基丙婦酸-N,N’_二甲胺基乙酯、厂二甲胺基安息香酸 ,、胺®曰、浐二甲胺基安息香酸乙酯等。 “杳酉文 發明’能夠使用與製成的聚合物或光聚合起始劑且右相 辦ΐί分光增感齊卜例如,分光感劑可列舉:嗟嘲系'有^占 、系望=糸、噻,鑌鹽系、鹼苯乙烯系、份菁系、3母代^ 互作ί 嗟嗪轉之色素類。還有,此處所謂之「相 物錢紅分光增感觸始,朝崎製得之聚合 物J或jbt合絲舰行能量雜或電子移鱗。 κ 口 之一 ^能圖示’以說明本發明聚合物製造方法 係二羞;f., / ί ’顯示—製造裝置例之概略構造圖。1 高壓狀態i反ί器夠維持高溫、 減_、8係透射=能i i之^窗)、6係光源、7係 ,摔㈣瓣 時,使活性能量線人射面之窗^==基材8係於聚合反應 亞臨界—氣化碏中,%梯不曝露於超臨界二氧化碳或 碳或娜界二氧化 不與窗5接觸而扣配置,也可/ j^b里線透射基材8可以 置用構件。 吧j以間隔活性能量線透射膜等之配 活性能量線透射基材8之固宕古>、, 可列舉:將窗設置於反應器壁凹邻之無特別之限制,例如, 凹4之底部,並將基材塞入其中而 39 1294431 與窗緊岔黏著的方法、利用卡子而將基材裝設於窗框的方法等。 另外,也可以卸下窗而作成可能的構造,將窗本身作為基材。 只要基材為能夠透射活性能量線的話,並無特別之限制,例 如,可列舉··透明樹脂或半透明樹脂、透明或半透明之玻璃、IT〇 (銦-錫氧化物)等之金屬氧化物或金屬等。基材之材質係考慮所 形成的聚合物組成荨而予以選擇。例如,形成雙馬來酸酐亞縮胺 系聚合物之情形,只要基材為石英的話,所形成的聚合物之密著 性低,能夠容易地予以剝離。另一方面,只要基材為ΡΕτ (平斟 例如二也可以使用已塗布聚乙烯醇(PVA)等之塗布材料的基板。 還有,基材可以使用任意形狀之基材。溶於超臨界流體中或 亞臨界流體中之聚合先驅物係均勻分布於基材界面之狀態下進行 聚合,、生成含有突起部之聚合物。因此,不論於具有微的凹凸 構造或深的凹凸構造之基材上,均可以形成含有均勻突起部之聚 合物。 另外,為了射入已配置基材8之活性能量線的窗5,或是設置 於其上之配置用構件,能夠配合形成含有突起部之聚合物的基材 形狀,或是含有所要之突起部的形狀而決定其形狀。 將/舌性此置線透射基材8配置於反應器3内之後,再將聚合 先驅物,必要的話,也將添加成分或光聚合起始劑置入反應器3 中:另外,聚合先驅物或添加成分為液體之情形,能夠藉由幫浦 而將聚合先驅物、添加成分、光聚合起始劑,從此等之儲備槽而 供應至反應器3。使用二種以上聚合先驅物之情形,或是使用聚合 先驅,與添加成分之情形,能夠預先混合此等物質之後再供應至 =應器3,或是也可以個別供應至反應器3。聚合先驅物、添加成 分、光聚合起始劑能夠藉由預加熱器,調整至聚合溫度之後,再 供應至反應器3。 =一方面」二氧化碳係藉由幫浦2,從二氧化碳鋼瓶1供應至 反應3。二氧化碳也可以利用預加熱器,調整至聚合溫度之後, 1294431 再供應至反應器3〇 …反應器3内之壓力係根據所供應之二氧化碳的量而調整聚合 【力另方面,反應态3内之溫度係藉由加熱器之溫度控制裝 ,4進行調整。反應n 3内之壓力的調整與反應器3内之溫度的 調整可以同時進行。另外,也可以先調整任意一個之後,再調整 另一個0 11 還有,藉由預加熱器,將已調整至聚合溫度或更高溫度的聚 口先驅物,必要的話,也將添加成分與二氧化碳供應至反應器3 的情形,於聚合反應時,若要使反應器3内之溫度保持聚合溫度 的話,也可以設置加熱裝置等之溫度控制裝置4。 又 …使反應态3内達到既定之壓力與溫度之後,一面藉由磁石攪 拌器9與勝子1〇進行反應器内之攪拌,並一面從光源6通過活 性能量線透射性之窗5與基材8而照射至反應器3内,進行光聚 合反應,於活性能量線透射基材之活性能量線射出面上,形成含 ^突起部之聚合物。潍能量線可以進行連續式照射,也可以進 行間歇式照射。藉由控制活性能量線之照射量,便可能控制含有 所形成的突起部之聚合物突起部的高度。 含有因添加成分存在下之光聚合所形成的突起部之聚合物, 於突起部中含有選擇性之添加成分。 另外,於聚合時,能夠進一步將聚合先驅物與/或添加成分供 應至反應器3。進行如此方式,藉由改變聚合先驅物或添加成分之 組成,能夠使含有所得到的突起部之聚合物組成,相對於基材表 面,進行垂直方向的變化。 還有,攪拌反應器内之攪拌裝置,並非局限於磁石攪拌哭9 與攪拌子10。 另外,依本發明,基材上之活性能量線能夠選擇性地於透射 的:卩刀,形成含有突起部之聚合物。例如,藉由經過光罩圖案而 進行活性能量線之照射,能夠形成含有具備所要之圖案的聚合 物。此情形下,例如,將光罩圖案貼合於窗5之外側,只要將窗 1294431 的形狀作成既定之圖案形狀即可。 另外j由使时射光束作為光源,她於其 於能,2光,射區域,便可能形成含*具備微細圖案之突起 源,由於麟進行更高触之光黯,含有 部=與縱橫比(突起部之高度與直徑的比例)之控 聚合反應結束後,藉由減賴7轉出二氧 應器3,壓約至-大氣壓力。另外,為了去除未 驅物等,付到更減度的聚合物,使反應器3内較—大 為低壓’例如,達到133Pa以下之真空後,也可以回復至約一大 内之溫度回復至約常溫之後,從反應器3取 出已形成含有突起部之聚合物的基材8。 聚合反應結束後’藉由從超臨界狀態或亞 態下進行急遽減壓,或是藉由從高溫、高壓狀態下^ 的ί合物得以發泡。由於超臨界流體或亞臨 界^體對t合度内部之渗透力強且均勻,藉由 能夠形成均勻的多孔質物。 此時’聚合物之冷卻速度與聚合物之減壓速度可 決定。藉由控制聚合物之冷卻速度與聚合物之減壓速度,便可= 控制,孔直徑:聚合物之冷卻速度與聚合物之減壓速度越快,氣 孔直徑傾向於變得越大。 y 還有,於聚合後,必要的話,也可以於既定時間内,將聚人 流體中或亞臨界流體中’賴急冷與急遽降壓二 使聚合物發泡。 於從反應3取出之基材上含有卿成的突起部 , 可以藉由電磁波之照射、光之照射或加熱,或是也可 以複合之後再進行後段硬化。 於聚合反應結束後,從反應器3内所釋出二氧化碳,能夠予 42 1294431 以回收再利用。 雖然以上之聚合步難时批方絲示,也能齡行連續 或半連續式之聚合。 、另夕!’,了實施本發明聚合物之製造方法所用之反應器的形 狀:顯示於第1圖的形狀並無特狀限制。例如,可以作成將光 纖等之光學系插設於反應器内部的構造,通過此光學系而將活性 能量線照射於反應器内。 於第2圖,顯示為了實施本發明製造方法之另一例製造裝置 的概略構造®。、1、〜10係相同於第丨圖的構件。n與u,係預先將 聚合先驅物與/或添加成分予以置入,附有可開關蓋子之儲備部; 12與12係攪拌子(旋轉磁石);13與13,係磁石餅器。還有, ,了^不設置窗5’。另外,必要的話,可以僅設置一個聚合先驅 物與添加成分之儲備部,也可以設置三個以上。 聚合先驅物與/或添加成分之儲備部u與U,也可以具有溫度 控!!裝U外’進行儲備部1卜n,内攪拌之攪拌裝置並非局限 ? ' 13、13’與授拌子12、12’。聚合先驅物與/或添加成 *之儲,、11’ ’也可以無麟内部之攪摔裝置。 ^不?第2圖之製造裝置,除了預先置人聚合先驅物與/或添 卞成^ ’设置附有可進行開關之蓋子的儲備部U與n,、為了進 行巧β η與π’授拌的攪拌子12與12,、磁石攪拌器13與13, 之外,具有與顯示於第!圖之製造裝置相同的構造。 利用=於第2 ®之製造裝置而製造含有姨觸聚合物之 有之進行聚合的聚合先驅物,與必要時之添加成 劑—起置人反應113,而是將其-部分或全部置入 於儲備部11與1Γ中,可以置入-種聚合先驅 lit J成》’也可以混合二種以上之聚合細物與/或添加成分 後予以置入。 工聚合開始前或聚合時,必要的話,打開儲備部之蓋 子’將儲備於⑽之聚合先輸與/或添加成分供絲反應器3。 43 1294431 時’能夠容易地進行存在於反應器3内之聚人弁 以藉=器而調整至聚合溫度:;先;也可 造聚,物之情形,能夠製造含有突起部之聚合^錢裝置而製 只要之時’ 之構造的話,也可以:蓋;:===丄供應至反應系 的情形,最=====超臨界流體中或亞臨界流體中 加熱裝置置盍子’而是設置進行儲備部加熱的 聚合:ir先二之所製時,藉由改變_ 變化的情形。材表之垂直方向,進行垂直方向 發明進能夠製造含有本發明突起部之聚合物。於本 聚合&i==。’秦術物鍋含有突起部之 聚合:本::步t有f ^為直徑ο.1倍以上之突起部的 一步人古度為直么1倍以上之突起部的聚合物,進 度為上以:二②部:聚合物,進一步含有高 件以卜夕作扣加if起°卩的水合物,進一步含有高度為直徑5 二1的x《合物。雖然突起部高度與直徑的比值之上限 H 例如’能夠將突起部高度作成直徑的50倍。 π ^1,,依本發明,能夠製造:含有高度& 10nm以上之突起部 、♦口 ,一步含有高度為〇·5_以上之突起部的聚合物,進 44 1294431 -步含有1¾度為1,以上之突起部的聚合物,進—步 5μΓΠ以上之突起部的聚合物,進—步含有高度為 合物,進-步含有高度為3一以上之突起部的聚合^ ΐ二步3有*度為5_以上之突起部的聚合物。雖然突起部之 上限並純狀限定,例如,可以將突起部的高度作成 —聚合物突起部之高度能夠藉由活性能量線之照射量(積分式 光里),行調節。雖然,聚合物突起部之高度幾乎與活性能量線 之照射量成比例,但是,若活性能量線之照射量達到—定量之上, 物犬起邻之南度將無法鬲到以上之數值,突起部之間隔將有 變窄而形成連續薄膜化之傾向。 、尤其、’,依本發明,能夠製造:含有突起部之高度為直徑的〇1 倍以上,並且,突起部之高度為1〇nm以上之突起部的聚合物;進 -步含有絲部之高度為直徑的丨倍以上,並且,狄部之高度 為Ιμπι以上之突起部的聚合物;進一步含有突起部之高度為直徑 的5倍以上,並且,突起部之高度為5〇μιη以上之突起部的聚合 物。如此方式,含有高度與直徑之比值為大的,並且,高度為高 的犬起部之聚合物係習知藉由進行單體等之聚合先驅物的聚合所 無法得到的。 —雖然,含有突起部之聚合物突起部的表面密度並無特別之限 定,依本發明,例如,於基材上可以形成含有突起部之表面密度 ,〇·01個/nm2以上、甚至為〇·1個/nm2以上之高表面密度之突起 聚合物。另外,含有突起部之聚合物的突起部低密度化也為 可能的,例如,突起部之表面密度可以作成〇 〇〇1個/nm2。 於此’含有突起部之聚合物為突起狀聚合物的情形,所謂突 起部之表面密度係指基材表面上之突起狀聚合物的密度。 立依本發明’進行聚合反應之同時,於基材上能夠形成含有突 起部之聚合物。進行聚合之聚合先驅物與添加成分能夠予以適當 選擇’然而’包含所得到的突起部之聚合物,含有高度與直徑的 45 1294431 比值為大的,並且,高度為高的突起部。 另外,如上所述,因為能夠根據所選擇的基材, 材將含有已形成的突起部之聚合物予以剝離。例如,可以 ^ 備含有一種以上添加成分之一個以上突起的樹脂薄膜。寸1八 再者,於本發明’藉由改變進行聚合之聚合先驅物 添加成分的組成,或是藉由變更聚合時之壓力與溫度之^ 一個,可时含有所得_突起狀聚合物城,撕於 面,進行垂直方向之變化。 =上所述’依本發明,例如,可以制含有具備各種添加成 分之犬起部的聚合物。然而,包含所得到的突起部之聚合物,含 有高度與直徑之比值為大的,並且,高度為高的突起部:再者, 也可以得到一種含有突起部的聚合物,相對於基材表面,組 行垂直方向變化。 因此,依本發明,可以得到含有具備各種物性或機能之突起 部的聚合物。含有本發明突起部之聚合物,尤其基於其特異型態, 期待應用於各種用途,另外,也期待新型機能構造物的實現。 例如,含有具備有機把配位化合物作為添加成分之突起部的 聚合物’可以使用於Ni等之無電解電鍍。添加成分(有機金羼配 位化合物)與進行電鍍之金屬的組合並非限定於有機鈀配位化合 物與Ni,能夠予以適當決定。 另外,藉由設定添加成分為各種藥效成分,例如,可以進行 粒狀藥劑之製造。 再者,含有本發明突起部之聚合物係活用其特異型態,適當 選擇進行聚合的聚合先驅物以及必要時也適宜選擇添加成分,可 以適用於人工腎臟、人工肺等之人工臟器或血漿淨化材料等。 另外’也能夠進行含有有機鉑配位化合物等有機金屬配位化 合物作為添加成分之含有突起部的聚合物之煅燒而予以金屬化, 形成具有特異微細構造之金屬膜(也包括金屬氧化物薄膜)。煅燒 後之金屬膜幾乎維持含有具備煅燒前有機金屬配位化合物之突起 46 1294431 部的聚合物形狀,具有多孔質構造。 為了形成金屬膜之煅燒條件能夠因應添加成分之有 位化合物的種類等而予以適當決定。例如,藉由將含 金屬配位化合物之突起部的聚合物,於含有空氣等之氧^中 〜200(TC下進行5分鐘〜48小時馳燒,能夠形成金屬膜。通 楱’也燒溫度較宜為300 C以上,另外,較宜為17〇〇。〇以下。另 一方面,煅燒時間較宜為10分鐘以上,另外,較宜為5小時以下。 進行如此方式所得到的金屬膜也期待應用於各式各樣之甩 ^。例如,根據本發明所得到的氧化鈦膜或是由氧化鈦與鉑等之 貴金屬而成的薄膜,麟作為高活性之細媒,尤其作為高活性 之環境淨化用光觸媒。 另外,也妬夠進行包含具備作為添加成分之有機鉑配位化合 、有機把配位化合物等有機金屬配位化合物的還原處理,使有 ,金屬配位化合物還原成金屬,並依金屬種類而形成金屬氧化 物,形成含有具備金屬與/或金屬氧化物之突起部的聚合物。 π為了形成含有具備金屬與/或金屬氧化物之突起部的聚合物之 還原處理方法與還原處理條件,並無特別之限定,能夠因應添加 成分之有機金屬配位化合物種類等而予以適當決定。 例如,還原處理方法可列舉將含有具備有機金屬配位化合物 之突起部的聚合物浸潰於含有還原劑之溶液中的方法,或是使含 有具備有機金屬配位化合物之突起部的聚合物與還原性氣體接觸 而進行氣相還原的方法等。 -將含有具備有機金屬配位化合物之突起部的聚合物浸潰於含 有還原劑之毅巾的綠上,只要所狀還原雛驗添加成分 之有機金屬配位化合物還原成金屬,或是形成金屬氧化物的話即 可,並無特別之限制。例如,還原劑可列舉:氫硼化鈉、氫硼化 1、二曱基胺硼(DMAB)、三甲基胺硼(ΤΜαβ)、聯氨、曱醯 胺、此等各化合物之衍生物;或亞硫酸鈉等之亞硫酸鹽、次磷酸 鈉等之次磷酸鹽等。另外,還原劑可列舉:FeS〇4等之亞鐵鹽、次 47 1294431
%酉文=之酸辆酸金屬鹽、硫酸_、亞硫酸氫 .i有還原劑之溶液,通常形成水溶液,但是,盾 W合ίϊ非局限於水。例如’用以溶解還原劑之溶劑可列舉.、 :ϊ: ί:酵、乙趟、己烷、苯、二氯甲烷、二甘醇二甲鍵(1乙 ·::,)、四氫呋喃、二甲基乙醯胺、二曱基亞砜、乙浐等。 '人還原劑之溶液中的還原劑濃度通常設為約0·0〇3〜0 1苴:H 話,。的還原劑濃度為0.003莫耳/升以上的 的脫i 4下的話,能夠更充分地控制已析出之金屬 A 额處理溫度最好設為約2G〜9G°C。還原處理溫度較宜 二或的1 1Λ v另外L較宜為8〇C以下。通常,還原處理時間最好 ί二二*鐘。還原處理時間較宜為2分鐘以上,另外,較宜 局5为鐘以下。 原性屬配位化合物之突起部的聚合物與還 仃氣相還原的方法,所用之還原性氣體,只要 之有機金屬配位化合物經還原成金屬或金屬氧化 硼烧氣體Ϊ:、翻之關。例如,還雜氣體可列舉:氫氣、乙 斛ffiff 、還原處理時間等之還原處理條件,能夠因應 的種類、添加成分之有機金屬配位化合物的種 if定。例如,使用氫氣作為還原性氣體的情形, 取^於氣驗中、於約3〇〜3⑻。^溫度下,進行約5〜6〇分鐘 之處理。 、還原處理溫度最好考慮進行處理之聚合物絲材之耐熱性、 添加成艾之$機金屬配位化合物的還原容射生舒以適當決定。 通:j原處理至少進行直到存在於聚合物表面的有機金屬 配位化&織乎完全被還原為止,必要的話,也可以在此之前的 48 1294431 途中停止還原處理。 顧ΐίί備f行如此方式所得到的金屬與7或金屬氧化物之突起 部的聚合物,例如,能夠作為電鍍底部使用。 ’I•依本發明’不論於具有微細的凹凸構造或_凹凸構 ’均可明自地形成含有具備添加成分之突起部的聚 ;也可魏摘微型㈣紅錄數十叫 、、紐ίί始2ir月’能夠選擇性地於基材活性能量線射出面之 1你月b ^射的部分,形成含有具備添加成分之突起部的聚 1突起部的聚ί2形成具有所要之微細圖案_ 能定大小之突起部的聚合物,歸因於其特異型 有的ΐ水機能。例如,能夠得到含有具備與水之接觸 邻二取二至_以上極高的斥水性(超斥水性)之突起 二水之接觸角係藉由於測定溫度2〇°c,將一滴純水 4丨1被’狀標的物之聚合物膜的表面上,滴下1G秒鐘後, 角觀察其水滴形狀,藉由測定水滴與聚合物膜接觸的 祕LI,t其表物質’可廣泛地應用於汽車、船舶、 :廚房設備、廚房用品、浴賴、洗臉設備、 鏡子、拋物線天線、其他各式各樣之領域。 & 本,突起部之聚合_斥水機能係歸因於其特異型 ϊ:二二二有本發明突起部之聚合物無關於聚合物之組成,具 ΐ ’依本發明’便可能具有優異之適合於其用 k之、、且成♦ 5物(膜)的斥水機能。 右供發明突起部之聚合物歸因於其特異型態,也具 ihUr含有本發明突起部之聚合物能夠使用於作為 黏者^、黏者片材的各種領域。 49 1294431 人^外,含有本發明突起部之聚合物也具有極佳的吸附機能。 二八施起部之聚合物能夠使用於作為吸著劑或分離膜(氣 體分離膜等)的各種領域。 更具體而言,含有本發日歧起部之聚合物也可以活化其特里 合之聚合先驅㈣細於DNA之檢測 另外,含有本發明突起部之聚合物可以適宜選擇進行聚合之 聚合先驅物而應用於顯示器的背光源導光與散亂板。 *另外利用蒸鍍或電鍍等之習用方法,也能夠於含有本發明 犬起部之聚合物上形成金屬膜。金屬膜並非局限於金屬單體,可 合金,另外,也可以為金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化 物4。 於含有本發明突起部之聚合物上形成金屬膜或金屬氧化物 、’可以適用於電子搶等。例如,此電子槍可用於顯示器等。 另外,也能夠利用習知之方法,從含有本發明突起部之聚合 物上剝離金屬膜,並將所制的金屬膜作成樹麟壓賴之模具。 &另外,依本發明,不論於具有微細的凹凸構造或深的凹凸構 &之基材上,均可能生成含有均勻突起部之聚合物。例如,依本 發明,也能夠進行所謂微型反應器之直徑數+μπι微小反應器内的 塗布。 另外,也能夠形成含有奈米粒子或其他添加劑均勻分散之突 起部的聚合物,例如,也可以形成著色膜或螢光膜。 以下,列舉實施例進一步詳細說明本發明。還有,本發明並 不局限於此等實施例。 [實施例1] 設置^反應器内壁之凹部底部具有石英耐壓窗之容積3〇cm3 1壓反應器中,將作為聚合先驅物的〇 872g之聚醚雙馬來酸酐亞 縮胺醋酸酯(大日本油墨化學工業股份公司製之MIA-2〇〇)與作 為添加成分的0.026g之有機鉑配位化合物[(1,5-環辛二烯)二曱 1294431 基翻(π)]予以進料。接著,一面進行反應器内之攪拌,並一面 利用鋼瓶壓力(約7MPa)而將二氧化碳導入反應器内之後,升溫 至35°C ’進一步利用加壓幫浦而將二氧化碳導入,使反應器内之 壓力成為30MPa而形成超臨界狀態。聚合先驅物之聚醚雙馬來酸 酐亞縮胺醋酸酯的進料濃度為3.5質量%。 於壓力30MPa、溫度35°C下,攪拌一小時之後,光源使用裝 設石英纖維之超高壓水銀燈,從反應器外部,經由石英耐壓窗而 將紫外線照射於反應器内,使照射量成為l〇j/cm2。此時之紫外線 照射條件係設定照射強度33mW/cm2、照射時間303秒鐘。進行照 射之紫外線波長於254〜436nm之範圍。其結果,石英耐壓窗上, 於紫外線照射方向,亦即,相對於基材表面之垂直方向,形成含 有已長成突起部之聚合物。 紫外線照射後,花費120分鐘慢慢將二氧化碳釋出於反庳哭 外,而將反應器内減壓至一大氣壓。 利用XMA (X線微型分析器),進行含有所得到的突起部之 聚合物的pt面分析。將含有所得到的突起部之聚合物SEM昭 (上圖)與XMA Pt像(下圖)顯示於第3圖。於第3圖之; 的XMA Pt像中,自色部分為Pt。其結果,得知於含有突起 聚合物中’突起部之Pt濃度為高的。亦即,得知形成 有機鉑配位化合物添加成分之突起部的聚合物。 /、 另夕^於空氣中、45(TC下’進行含有^制的突起部 物5小時之,燒,將Pt予以金屬化。將所得到 ς 照片顯示^第4圖。锻燒後之金屬pt臈終止含有具備烺 鉑配位化合物之突起部的聚合物形狀,為多孔 儿月】有機 [實施例2] ^ ^ ° 除了將光罩圖案貼合於石英耐壓窗之外側,經由此光 而將紫外線聽至反應_ ’其餘進行相_實施例丨之光聚二 反應,於石英耐壓窗之紫外線所透射的部分上,形成了包含= 51 1294431 印光罩圖案之含有有機鉑配位化合物突起部的聚合物。 [實施例3] 進行相同於實施例1之光聚合反應,得到了含有具備有機銘 配位化合物添加成分之突起部的聚合物。 將含有所得到的突起部之聚合物,於室溫,浸潰於〇e3% NaBH4 水溶液中進行還原處理。浸潰於〇·3% NaBH4水溶液中約2分鐘之 後’於含有突起部之聚合物表面上析出金屬鉑。 [實施例4] 除了將添加成分設為有機Is配位化合物(纪乙酿鹽)之外, 進行相同於實施例1之光聚合反應,得到了含有具備有機鈀配位 化合物添加成分之突起部的聚合物。 將含有所得到的突起部之聚合物,於室溫,浸潰於〇.3% NaBH4 水溶液中進行還原處理。然後,以純水洗淨之後,將含有此突起 部之聚合物,於40°C (313K)浸潰於(濃度:50mL/L)中攪拌 2分鐘,活化用以電鍍之觸媒。然後,將含有此突起部之聚合物從 濃硫酸中取出,再以純水洗淨。 接著,於5L燒杯中,倒入無電解銅電鍍用水溶液[日本奥野 製藥工業製之OPC700A (濃度:1〇〇 mL/L)與日本奥野製藥工業 製之OPC700B (濃度:100 mL/L)之混合水溶液],於室溫下再將 空氣通入溶液中,一面進行60分鐘之通氣並一面進行攪拌,將含 有該突起部之聚合物浸潰於此無電解銅電鍍用水溶液中進行銅電 鍍處理。然後,從無電解銅電鍍用水溶液中取出含有此突起部之 聚合物,再以純水洗淨。 #接著’於5L燒杯中,倒入無電解銅電鍍用水溶液[曰本奥野 製藥工業製之OPC Cover T1 (濃度:60 mL/L)與曰本奥野製藥工 業製之OPC Cover T2 (濃度·· 12 mL/L)、曰本奥野製藥工業製之 OPC CoverT3 (濃度·· 100 mL/L)之混合水溶液],於 60°c (333K) 下再將空氣通入溶液中,一面進行12〇分鐘之攪拌通氣並一面進 行攪拌’將含有該突起部之聚合物浸潰於此無電解銅電鑛用水溶 52 1294431 液中進行銅電鍍處理。然後,從無電解銅電鍍用水溶液中取出含 有此突起部之聚合物,於室溫下,再以純水超音波洗淨5分鐘, 再於甲醇中超音波洗淨10分鐘。 進行如此方式,含有已進行鍍銅處理之突起部的聚合物,外 觀上於聚合物表面形成無膨脹之均勻的電鑛膜(電鍍層之厚度: 2μιη) 〇 [實施例5] 設置於反應器内壁之凹部底部具有石英耐壓窗之容積3〇cm3 耐Μ反應斋中,將作為聚合先驅物的〇 872g之聚謎雙馬來酸野亞 縮胺醋酸酯(大日本油墨化學工業股份公司製之MIA-2〇〇)予以 進料。接著,一面進行反應器内之攪拌,並一面利用鋼瓶壓力(約 7MPa)而將二氧化碳導入反應器内之後,升溫至35°C,進一步利 用加壓幫浦而將二氧化碳導入,使反應器内之壓力成為MPa而 形成超臨界狀態。聚合先驅物之聚醚雙馬來酸酐亞縮胺醋酸酯的 進料濃度為3.5質量%。 於壓力30MPa、溫度35°C下,攪拌一小時之後,光源使用裝 設石英纖維之超高壓水銀燈,從反應器外部,經由石英耐壓窗而 將紫外線照射於反應器内,使照射量成為U/cm2。此^之紫外線 照射條件係設定照射強度33mW/cm2、照射時間3〇·3秒鐘。進行 舨射之紫外線波長於254〜436nm之範圍。其結果,石英耐壓窗上, 於糸外線照射方向,亦即,相對於基材表面之垂直方向,形成含 有已長成突起部之聚合物。 紫外線照射後,花費120分鐘慢慢將二氧化碳釋出於反應器 外,而將反應器内減壓至一大氣壓。將含有所得到的突起部之聚 合物SEM照片顯示於第5圖〇 口 " [實施例6] 除了紫外線照射條件係設定照射強度33mW/cm2、照射時間 152 ^/知’务、外線之照射篁设為5J/cni之外,其餘均相同於實施 例5而進行光聚合,石英耐壓窗上,於紫外線照射方向,亦即, 53 1294431 =於基材表面之垂直方向,形成含有已長成突起部 將3有所得到的突起部之聚合物SEM照片顯示於第6 Λ。σ [實施例7] m ° 除了紫外線照射條件係設定照射強度33mW/ 2 03 ^ 10J/cm^,h, ,5而進;fr光聚合,石英樣壯,於料線照射方向即, 相對於基材表面之垂直方向,形成含有已具忐办 、 將含有所得到的突起部之Ϊ合^合物。 另外,利用曰本協和界面化學製之接觸角 -X150 ’於溫度2〇°C、濕度55%之條件下,將一滴吨水(^ ) 表面上,滴下,觀察其 二ί合ϊίί”,,測定含有所得到的突起部之聚合物 ^方面,進行同樣的聚合先驅物(大日本 1股 二=ΜΙΑ-2〇〇)之聚合而得到的連續歡水接觸角予為 連伽’含有本發明突起部之聚合物具有高的斥水 有’含有所得_突起部之聚合物的斥水性烟於PTFE(聚 四鼠乙婦)。 [實施例8] 了光罩圖案貼合於石英耐廢窗之外侧,經由此光罩圖案 ^紫外線蹄至反絲内,其餘進行相同於實關7之光聚合 3置窗之紫外線所透射的部分上,形成了含有已轉 印先罩圖案之突起部的聚合物。 [參考例1] 除了紫外線照射條件係設定照射強度33mW/cm2、照射時間 1515秒鐘’料紅卿量設為5QT/em2 施例光聚合後,於石英耐壓窗上,形成聚合物膜。 將所付到的聚合物臈之SEM照片顯示於第8圖。另外,將所 付到的聚合物膜之示意橫剖面圖顯示於第9圖。21係基材(石英 54 1294431 、22錄合_。她於含有實關 參考!^所得到的聚合物膜進行多赠連續膜化。起和 而言1起^部之大小係如第5〜7 _示,具體 徑之度約為α5〜100μιη ’各突起部之高度約為各直 ίΜ±ΜΜ之可能性 合物依到含有具備各種物性或機能之突起部的聚 , L異微細構造之金屬與/或金屬氧化物為主成t 感測器材料用材料、分離機能材料、 新型機能構造Ξϋί式各獅赖躺。糾,也期待 並且另ί;^ί5Γ〇賴得到含有高度與直徑之比值為大的, 附材料、分離機能材料、感測器材料、顯示用材料、 g 权各式各樣的應用。另外,也脏新型機能構造物的 【圖式簡單說明】 概略料了實施本㈣之製造方法所狀-製造裝置例的 2 81係為了實施本發明之製造方法顧之—製造裝置例的 概略構造圖。 SP1U第2圖之上侧照片係含有實施例1所得到的突起部之聚合物 yivu恥片,下侧照片係含有實施例1所得到的突起部之聚合物 XMAPt影像。 圖係實施例1所得到的金屬pt膜之SEM照片。 ,5圖係含有實施例5所得到的突起部之聚合物SEM照片。 第6圖係含有實施例6所得到的突起部之聚合物SEM照片。 55 1294431 第7圖係含有實施例7所得到的突起部之聚合物SEM照片。 第8圖係參考例1所得到的聚合物膜之SEM照片。 第9圖係參考例1所得到的聚合物膜之示意橫剖面圖。 元件符號說明: 1〜二氧化碳鋼瓶 2〜二氧化碳供應用幫浦 3〜反應器 4〜溫度控制裝置 5〜窗 5’〜窗 6〜光源 7〜減壓閥 8〜活性能量線透射基材 9〜磁石攪拌器 10〜攪拌子 11〜儲備部 11’〜儲備部 12〜攪拌子 12’〜攪拌子 13〜磁石攪拌器 13’〜磁石攪拌器 21〜基材 22〜聚合物膜 56

Claims (1)

129443 j +、申請專利範圍: 中,聚合物的製造方法,於超臨界流體中或亞臨界流體 武、、由^長10〜380nm之紫外線、波長380〜780nm之可見光, ;if;I80nm〜2.5/zm之近紅外線之照射,進行以通式(1)表示 之馬來酸if魅㈣化合物 0· A^B~R^N J )r ο μ ΙΙΛ’Α絲可具有取代基之錄;或是,可具有取代基之 ^幻、㈣鍵、i旨鍵、胺情酯鍵與碳咖鍵而成 少-個鍵所鍵結的分子量40〜綱_之(聚)鍵連結鍵或 ,歹=、(聚)g旨連結鏈或(聚)酯絲、(聚)胺曱酸g旨連結 Hi胺甲酸酯殘基或是(聚)碳酸s旨連結鏈或(聚)碳i酉旨 殘^Β,表示峨、S旨鍵、胺甲_旨鍵或碳_旨鍵;]1表示可取 代基之羥基。m表示2〜6之整數;但是,Β盥R 入: 可以混合二種以上)的絲合反應,製造突起部之高起g =倍以上’且該突起部高度為一上之含有突起= 、2·如申請專利範圍帛i項之聚合物的製造方法, 界流體或亞臨界流體為超臨界二氧化碳或亞臨界二氧化碳:/ ° - 於超臨界流體中或亞臨界流體中所 f中在曝路 上,形成含有突起部之聚合物。 /〖生%里線透射基材 4·如申請專利範圍第3 X員之聚合物 射活性能量狀射人面不曝露㈣轉透 且活性能量線之射出面曝露於超臨體中’ 置之活性能量線透射基材’以照射活:能量;的3流== 57 1294431 有具備一個以上不飽和鍵之光硬化性化合物之一種以上光聚合性 :合先驅物的光聚合反應,於該活性能量線透射基材之活性能量 線射出面上,形成含有突起部之聚合物。 5·如^請專利範圍第4項之聚合物的製造方法,其中藉由將 二活丨生,畺線,經由光罩圖案而照射於該活性能量線透射基材 μ !!5奸㈣㉙線透射基材之活性缝線射出面的活性能量線 透射的部分上,麵性地形成含有狄部的聚合物。 中,’㈣臨界流射或亞臨界流體 能、貞二種上由用於追加聚合物之吸附機能、分離機 Η 避===== 示之卜狀縣,進行輯式⑴表 Ο 經基表二可具5取代基鄕;或是,可具有取代基之 少一 ί固鍵所槠处二、胺曱酸酯鍵與碳酸酯鍵而成的群中選出至 鱗殘ΐ 子量40〜10咖之(聚)魏结鏈或(聚) 殘美.β 走基或疋聚)碳酸酯連結鏈或(聚)碳酸酉旨 以混人Κ必完全相同,也可 以上之含有突起部之聚合物膜。 anh度為lOmr 1294431 7. 如申請專利範圍第6項之聚合物的製造方法,其中該添加 成分為一種以上之有機金屬配位化合物。 8. 如申請專利範圍第7項之聚合物的製造方法,其中該添加 成分為一種以上之有機鉑配位化合物。 十一、圖式·'
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8298466B1 (en) 2008-06-27 2012-10-30 Abbott Cardiovascular Systems Inc. Method for fabricating medical devices with porous polymeric structures
JP5356784B2 (ja) * 2008-11-19 2013-12-04 Hoya株式会社 フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法
US8461546B2 (en) 2009-04-03 2013-06-11 Lawrence Livermore National Security, Llc Compounds for neutron radiation detectors and systems thereof
US9309456B2 (en) 2011-04-15 2016-04-12 Lawrence Livermore National Security, Llc Plastic scintillator with effective pulse shape discrimination for neutron and gamma detection
US8841412B2 (en) 2011-08-11 2014-09-23 Abbott Cardiovascular Systems Inc. Controlling moisture in and plasticization of bioresorbable polymer for melt processing
US9121947B2 (en) 2012-01-23 2015-09-01 Lawrence Livermore National Security, Llc Stress reduction for pillar filled structures
US9193810B2 (en) * 2012-02-23 2015-11-24 University Of Connecticut Free radical and controlled radical polymerization processes using hypervalent iodide radical initiators
CN102604016B (zh) * 2012-03-12 2014-09-03 大连大学 一种用于超临界二氧化碳中聚合反应的表面活性剂
US9650564B2 (en) * 2012-05-14 2017-05-16 Lawrence Livermore National Security, Llc System and plastic scintillator for discrimination of thermal neutron, fast neutron, and gamma radiation
JP2014077102A (ja) * 2012-10-12 2014-05-01 Kawamura Institute Of Chemical Research 有機無機複合体膜、及びその製造方法
US9241787B2 (en) * 2013-02-13 2016-01-26 Sifi Medtech Srl Intraocular lens with a proofed surface
US9274237B2 (en) 2013-07-26 2016-03-01 Lawrence Livermore National Security, Llc Lithium-containing scintillators for thermal neutron, fast neutron, and gamma detection
JP5960321B1 (ja) * 2015-05-12 2016-08-02 田中貴金属工業株式会社 有機白金化合物からなる化学蒸着用原料及び該化学蒸着用原料を用いた化学蒸着法
US11021558B2 (en) 2016-08-05 2021-06-01 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Polymer compositions containing grafted polymeric networks and processes for their preparation and use
US10961341B2 (en) 2018-01-30 2021-03-30 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic devices derived from grafted polymeric networks and processes for their preparation and use
US11034789B2 (en) 2018-01-30 2021-06-15 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic devices containing localized grafted networks and processes for their preparation and use
US20230193073A1 (en) * 2020-06-24 2023-06-22 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Resin composition, optical fiber, and method for producing optical fiber
US11912800B2 (en) 2021-09-29 2024-02-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Amide-functionalized polymerization initiators and their use in the manufacture of ophthalmic lenses

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4006047A (en) 1974-07-22 1977-02-01 Amp Incorporated Catalysts for electroless deposition of metals on comparatively low-temperature polyolefin and polyester substrates
JPH05117481A (ja) 1991-10-28 1993-05-14 Asahi Glass Co Ltd 水性分散液
JP2000251676A (ja) 1999-02-25 2000-09-14 Canon Inc 電子放出素子製造用金属含有水溶液、該金属含有水溶液を用いた電子放出素子、電子源、画像形成装置、及びこれらの製造方法
US6994964B1 (en) 1999-09-01 2006-02-07 Affymetrix, Inc. Macromolecular arrays on polymeric brushes and methods for preparing the same
JP2001087628A (ja) 1999-09-27 2001-04-03 Sintokogio Ltd 光触媒能を有するフィルター
JP2001347162A (ja) 2000-06-07 2001-12-18 Sharp Corp 酸化チタン薄膜を有する光触媒材
JP3945982B2 (ja) 2000-11-13 2007-07-18 独立行政法人科学技術振興機構 ナノ構造機能体
JP2003128409A (ja) * 2001-10-22 2003-05-08 Ube Ind Ltd 多孔質炭素膜構造体、触媒担持体、燃料電池用電極、電極接合体、及び燃料電池
JP3653572B2 (ja) 2001-09-06 2005-05-25 福井県 多孔性光触媒の製造方法
JP3536210B2 (ja) 2002-03-25 2004-06-07 テイカ株式会社 セラミックス薄膜の電解合成法
EP1598374A4 (en) * 2003-02-25 2008-04-02 Japan Government PROCESS FOR PRODUCING POLYMERS
US7416707B2 (en) * 2004-05-19 2008-08-26 Kansai Paint Co., Ltd. Polymerization reaction apparatus, and method of producing polymer using this apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
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