TWI286673B - Slit nozzle and apparatus for supplying treatment liquid using the same - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 4
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E02—HYDRAULIC ENGINEERING; FOUNDATIONS; SOIL SHIFTING
- E02B—HYDRAULIC ENGINEERING
- E02B3/00—Engineering works in connection with control or use of streams, rivers, coasts, or other marine sites; Sealings or joints for engineering works in general
- E02B3/04—Structures or apparatus for, or methods of, protecting banks, coasts, or harbours
- E02B3/12—Revetment of banks, dams, watercourses, or the like, e.g. the sea-floor
- E02B3/129—Polyhedrons, tetrapods or similar bodies, whether or not threaded on strings
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- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E02—HYDRAULIC ENGINEERING; FOUNDATIONS; SOIL SHIFTING
- E02B—HYDRAULIC ENGINEERING
- E02B2201/00—Devices, constructional details or methods of hydraulic engineering not otherwise provided for
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E02—HYDRAULIC ENGINEERING; FOUNDATIONS; SOIL SHIFTING
- E02B—HYDRAULIC ENGINEERING
- E02B3/00—Engineering works in connection with control or use of streams, rivers, coasts, or other marine sites; Sealings or joints for engineering works in general
- E02B3/04—Structures or apparatus for, or methods of, protecting banks, coasts, or harbours
- E02B3/06—Moles; Piers; Quays; Quay walls; Groynes; Breakwaters ; Wave dissipating walls; Quay equipment
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- Inorganic Chemistry (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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Description
1286673 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於左右半體的材質不同的開縫式噴嘴及採 用該開縫式噴嘴的處理液供給裝置。 【先前技術】 在以往,已知在噴嘴自體使預定寬幅的塗佈液吐出口 開口,對於被處理物而利用相對性地移動噴嘴來在被處理 物表面以預定寬幅塗佈塗佈液的開縫式噴嘴。採用具有該 預定寬幅的塗佈液吐出口的開縫式噴嘴的話,沒有塗佈液 的浪費而且進行有效率性地塗佈。 可是,隨著被處理物的大型化,在一具的開縫式噴嘴 是具有其供給時間及供給量的界限。例如,當由處理液的 供給開始到供給結束所花費的時間過多時,就會產生處理 不均勻。此爲供給厚的處理液時也引起同樣的情形。 於是,在供給厚的處理液之情況,係採用兩個組合左 右半體的零件之塗佈頭(亦即,開縫式噴嘴),而記載有 對塗佈對象物塗佈有二次塗佈液。(專利文獻1 ) 另外,記載有不僅在塗膜的中央部份,爲了在被決定 了塗膜端部之短的範圍不產生處理不均勻,而形成預定的 膜厚輪廓形狀,因此藉由採用兩個組合了開縫的寬幅之相 異的左右半體之零件的塗佈模(亦即,開縫式噴嘴),在 寬幅方向的塗佈液之塗佈位置偏離而塗佈面積不同,可形 成在其結果寬幅方向的膜厚輪廓。(專利文獻2) (2) 1286673 而且’記載有由塗佈機所吐出的塗佈液以不在被塗佈 構件上重疊的方式由組合左右半體的兩個塗佈模同時地將 塗佈液塗佈在被塗佈構件上。(專利文獻3 ) 〔專利文獻1〕 日本特許第3236703號(第4頁〜第6頁、第9圖) 〔專利文獻2〕 日本特開平第2000-102759號公報(第5頁〜第10 頁、第4圖) 〔專利文獻3〕 日本特開平第2001 — 907號公報(第4頁〜第8頁、 第2圖) 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 可是,吐出有實際處理液的開縫式噴嘴的吐出口及吐 出寬幅是由於爲非常精密者,因此開縫式噴嘴的材質是很 精密地加工了所謂硬質的不鏽鋼或SUS之金屬材。在該 加工是必須花大量的時間與勞力,且爲高價。 而且,即使無極限且加工精度再高,由於開縫式噴嘴 的寬幅寬廣,因此在組合之面其中一部份存在有微小的間 隙,從此處引起毛細管現象而造成處理液滲入。一旦僅些 許的處理液固化時就成爲微粒(Particle )等的原因。 本發明是有鑒於上述問題而開發完成者’能簡單化開 縫式噴嘴的加工,而且提供不引起毛細管現象的開縫式噴 e (3) 1286673 嘴及採用該開縫式噴嘴的處理液供給裝置作爲其目的。 〔用以解決課題之手段〕 可解決上述課題的本案發明之開縫式噴嘴是組合左右 半體而構成,其中一方的材質爲金屬材,而另一方的材質 爲樹脂材。 如此,利用開縫式噴嘴的其中一方的材質是使用硬的 材質(金屬材),而另一方的材質是使用柔軟的材質(樹 脂材),在組合兩方時因爲柔軟的材質之側向硬的材質之 側密接,所以不形成如引起毛細管現象的間隙,並且因爲 不需要以往程度的加工精度,所以加工上所需要的時間也 可縮短。 另外,利用使用具備複數個由上述左右不同的材質所 組成的開縫式噴嘴之處理液供給裝置,來縮短處理液的供 給時間,並且即使厚的塗膜也可在短時間內完成。 而且,將由上述左右不同的材質所組成的開縫式噴嘴 利用設置在被調溫的處理液之循環路徑,來縮短處理液的 供給時間,並且可將處理液在短時間內調整到預定的溫度 【實施方式】 以下,依據添附圖面說明本發明的實施方式。此處, 第1圖(A) 、(B)是本案發明的開縫式噴嘴的立體圖 及擴大剖面圖,第2圖(A )、( B )是採用複數個本案 -7- (4) 1286673 發明的開縫式噴嘴,而供給處理液的簡略圖,第3圖是具 備本案發明的開縫式噴嘴及溫度調整器的直接溫調的簡略 圖,第4圖是以往裝置的間接溫調之簡略圖。 如第1圖所示,開縫式噴嘴1是組合鈦製的左半體2 及聚苯硫(polyphenylene sulfide (PPS))製的右半體 3 而構成。在右半體3是設置有用來形成歧管(manifold) (橫方向流路)的凹部4、及較該凹部4底面形成還淺的 縱方向的流路之扁平面5。而且,左半體2即使是不鏽鋼 製也可。 如此,利用將左半體2作成金屬系,將右半體3作成 樹脂系,因爲柔軟的樹脂系沒有阻力而與硬質的金屬系密 接,所以不產生間隙而且也不引起毛細管現象。另外,因 爲第1圖的圓C所示的部份之接合面密接的話較佳,所以 即使將左半體2作成樹脂系,將右半體3作成金屬系,而 且在金屬系側形成歧管也可。 以往,開縫式噴嘴是爲了需要作成嚴密的精度,因此 使用比較硬的材質之不鏽鋼等的金屬材製成,以其結構組 合左右半體而形成。爲了形成該情況的開縫狀之開口而夾 有墊片、在半體的左右任一方或兩方裝設有凹凸。可是, 在第1圖的圓C所示的部份是金屬彼此即使有多良好的精 度之平面也由於噴嘴的寬幅在橫方向是長的,因此由其接 合面產生微小的間隙,處理液因爲毛細管現象而滲出,但 是利用本發明的構成,可解決該不利之缺點。 如第2圖(A )所示,在採用兩個開縫式噴嘴1、;!, -8 - (5) 1286673 而供給處理液6的情況,相對於大型基板7而不使處理液 6的供給時間拉長就可完成。亦即,由基板7的不同的位 置以同樣的膜厚同時地供給處理液6的話,基板即使大型 化所花費的時間也相同。例如,藉由將丨丨〇 〇 χ ;! 3 〇 〇 m m以 上的大型基板之供給開始點製作成2處所,而可與550x 6 5 0mm的小型基板以相同的時間來供給處理液6。 另外’如第2圖(B )所示,採用兩個開縫式噴嘴1 、1 ’而開始由基板7的同一位置供給處理液6的情況是調 節供給量,而以相同的時間供給大量的處理液6。亦即, 較從最初以一支開縫式噴嘴來塗厚,係以複數支開縫式噴 嘴來多層地重疊的話’即使厚膜也不使供給時間拉長就可 完成。 將具備開縫式噴嘴1的處理液之循環型配管8顯示於 第3圖。在循環型配管8的途中設置有槽9、泵1 0、溫度 調整器11、及閥體12。另外,在第4圖是顯示具備開縫 式噴嘴1的一方向通行型配管13。在該一方向通行型配 管13的途中設置有槽9、泵10、溫度調整器11、及閥體 12 ° 如此,以溫度調整器1 1來將被調溫到預定溫度的處 理液6循環在循環型配管8的圖示顯示於第3圖。處理液 6是由溫度調整器1 1調溫到23 °C,並在循環型配管8循 環,而且返回到溫度調整器Π之時是即使變得較2 3 °C稍 低,因爲再度調溫到2 3 °C並循環,所以如第5圖及表1 所示以短時間就使循環型配管8全體變爲23 °C。此爲所 -9- (6) 1286673 謂直接溫調。 另外,以溫度調整器1 1來將被調溫成預定溫度的處 理液6經由一方向通行型配管1 3而供給到開縫式噴嘴1 的圖示顯示於第4圖。由槽9經由泵1 0的處理液6是藉 由溫度調整器Π而被調溫到23 t,到達開縫式噴嘴1時 是較23 t低。因爲如此一次次供給有新的處理液6,所以 如第5圖及表1所示即使花費時間一方向通行型配管1 3 也無法達到23 °C。此爲所謂間接溫調。 〔表1〕 時間 0 1 2 3 4 5 6 直接 20.0 20.2 20.5 22.0 22.5 22.8 23.0 間接 20.0 20.1 20.5 20.8 20.9 2 1.0 2 1.2 同樣地,如第6圖及表2所示,即使將20 °c作爲目 標而設定的情況,也重顯了上述的直接溫調、及間接溫調 的現象。 〔表2〕 時間 0 1 2 3 4 5 6 直接 23.0 22.5 22.5 2 1.5 20.8 20.4 20.1 間接 23.0 22.8 22.5 22.0 22.0 2 1.9 2 1.6 〔發明效果〕 -10- (7) 1286673 如以上說明,根據本發明的話,利用開縫式噴嘴的其 中一方的材質是使用硬的材質(金屬材),另一方的材質 是使用柔軟的材質(樹脂材),而因爲在組合兩方時因爲 柔軟的材質之側向硬的材質之側密接,所以不形成如引起 毛細管現象的間隙,並且加工上所需要的時間也可縮短。 另外,利用使用具備複數個由上述左右不同的材質所 組成的開縫式噴嘴之處理液供給裝置,來縮短處理液的供 給時間,並且即使厚的塗膜也可在短時間內完成。 而且,將由上述左右不同的材質所組成的開縫式噴嘴 利用設置在被調溫的處理液之循環路徑的預定處所,可將 處理液在短時間內調整到預定的溫度。 明 說 單 簡 式 圖 第1圖(A)及(B)是本案發明的開縫式噴嘴之立 體圖及放大剖面圖。 第2圖(A)及(B)是採用複數個本案發明的開縫 式噴嘴而供給處理液的簡略圖。 第3圖是採用本案發明的開縫式噴嘴的直接溫調之簡 略圖。 第4圖是採用開縫式噴嘴的間接溫調之簡略圖。 第5圖是藉由將設定溫度設成23 °C的直接溫調及間 接溫調之循環型配管的溫度分布。 第6圖是藉由將設定溫度設成2(TC的直接溫調及間 接溫調之循環型配管的溫度分布。 -11 - (8) 1286673 〔主要元件符號說明〕 1、1 ’ :開縫式噴嘴 ’ 2 :鈦製的左半體(半體) 3 : PPS製的右半體(半體) 4 :凹部 5 :扁平面 6 ··處理液 φ 7 :基板 8:循環型配管(循環路徑) 9 :槽 10 :泵 1 1 :溫度調整器 1 2 :閥體 -12-
Claims (1)
- (1) 1286673 拾、申請專利範圍 1 · 一種開縫式噴嘴,係針對在被處理物表面以預定 寬幅供給處理液的開縫式噴嘴,其特徵爲: 該開縫式噴嘴係組合左右的半體所構成,其中一方的 半體之材質爲金屬材,另一方的半體之材質爲樹脂材。 2. 一種處理液供給裝置,係具備了申請專利範圍第 1項所記載的開縫式噴嘴的處理液供給裝置,其特徵爲: 在被調溫的處理液之循環路徑上設置有上述開縫式噴 嘴。 3. 如申請專利範圍第2項所記載的處理液供給裝置 ,其中具備複數個上述開縫式噴嘴。-13-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003108952A JP3838990B2 (ja) | 2003-04-14 | 2003-04-14 | スリットノズル及びそのスリットノズルを用いた処理液供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200506541A TW200506541A (en) | 2005-02-16 |
TWI286673B true TWI286673B (en) | 2007-09-11 |
Family
ID=33470265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW093110126A TWI286673B (en) | 2003-04-14 | 2004-04-12 | Slit nozzle and apparatus for supplying treatment liquid using the same |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3838990B2 (zh) |
KR (1) | KR101070041B1 (zh) |
CN (1) | CN100376330C (zh) |
TW (1) | TWI286673B (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4619139B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2011-01-26 | 東京応化工業株式会社 | スリットノズル |
KR100782539B1 (ko) * | 2006-06-15 | 2007-12-06 | 세메스 주식회사 | 슬릿 노즐 및 이를 포함하는 약액 도포 장치 |
CN101495241B (zh) * | 2006-06-16 | 2012-09-19 | 曼泰克株式会社 | 喷嘴装置、使用该喷嘴装置的药液的供给方法 |
KR100898570B1 (ko) * | 2006-12-28 | 2009-05-19 | 주식회사 나래나노텍 | 개선된 노즐 디스펜서 |
CN103464315B (zh) * | 2013-08-28 | 2015-12-09 | 清华大学深圳研究生院 | 一种能形成均匀水幕的工艺喷嘴 |
CN104635437A (zh) * | 2013-11-07 | 2015-05-20 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 幕状显影喷嘴 |
US10766041B2 (en) | 2014-12-24 | 2020-09-08 | Illinois Tool Works Inc. | Flow diverter in fluid application device |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH021907A (ja) * | 1988-06-09 | 1990-01-08 | Nec Kyushu Ltd | インライン型半導体熱処理装置 |
JPH10174922A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-06-30 | Konica Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
JP3530361B2 (ja) * | 1997-11-12 | 2004-05-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 現像装置 |
JPH11197576A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-27 | Konica Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
JPH11319865A (ja) * | 1998-05-18 | 1999-11-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 生物ろ過設備 |
JP2000102759A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-04-11 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置並びにプラズマディスプレイおよびディスプレイ用部材の製造方法および製造装置 |
JP2002086041A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-03-26 | Nitto Denko Corp | エクストリュージョン用ダイ |
JP2002219399A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-06 | Nec Corp | ダイコータ |
JP2002336763A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-26 | Sony Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
-
2003
- 2003-04-14 JP JP2003108952A patent/JP3838990B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-04-12 KR KR1020040024826A patent/KR101070041B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-04-12 TW TW093110126A patent/TWI286673B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-04-14 CN CNB2004100329674A patent/CN100376330C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040089562A (ko) | 2004-10-21 |
KR101070041B1 (ko) | 2011-10-04 |
CN100376330C (zh) | 2008-03-26 |
CN1541779A (zh) | 2004-11-03 |
TW200506541A (en) | 2005-02-16 |
JP2004313873A (ja) | 2004-11-11 |
JP3838990B2 (ja) | 2006-10-25 |
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---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |