JPH11314065A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPH11314065A JPH11314065A JP4207999A JP4207999A JPH11314065A JP H11314065 A JPH11314065 A JP H11314065A JP 4207999 A JP4207999 A JP 4207999A JP 4207999 A JP4207999 A JP 4207999A JP H11314065 A JPH11314065 A JP H11314065A
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Abstract
性変形内の微少な変形量で、塗布厚みを調整可能とする
塗布方法を提供すること。 【解決手段】 塗布ヘッドのスリットから塗布液を押し
出して支持体表面に塗布液を塗布するエクストルージョ
ン型塗布方法において、下流側ブロックのエッジ面13
aの上流端をAとし、スリットを介してその上流側に位
置する上流側ブロックのエッジ面12aの下流端Bから
前記下流側ブロックのエッジ面13aに引いた接線をL
としたとき、Aから接線Lに下ろした垂線の長さtを上
記支持体の幅方向に調整して塗布厚みを調整することを
特徴とする塗布方法。
Description
関し、より詳細にはガイドローラなどの走行案内手段に
より支持されて連続走行する可撓性支持体の表面に、塗
布ヘッドの先端を対向させて配置し、上記塗布ヘッドの
スリット先端から押し出される塗布液を上記可撓性支持
体の表面に塗布する、いわゆる、エクストルージョン型
塗布方法に関するものである。
などの製造工程においては、可撓性支持体上に所望の塗
布液を塗布する工程が存在する。この塗布液は、その用
途に応じて種々の液組成のものがあり、例えば、写真感
光材料における感光乳剤層、下塗層、保護層、バック層
等の塗布液、磁気記録媒体における磁性層、下塗層、保
護層、潤滑剤層などの塗布液を挙げることができる。こ
れらの塗布液は、それぞれ、必須成分,バインダーおよ
び必要に応じて種々の添加物を含んだ水性および有機溶
媒性液等である。このような塗布液を可撓性支持体表面
に塗布する方法としては、従来から、例えば、ローラコ
ート法,グラビアコート法,ローラコートプラスドクタ
ー法,エクストルージョン型塗布法,スライドコート法
等種々の方法が用いられる。そして、近年においては、
磁性塗布液の塗布にはエクストルージョン型塗布方法が
多用されている。
ようにスリットを有する塗布ヘッドを連続走行する可撓
性支持体に押しつけ、ドクターエッジ部において上述の
スリットから押し出される塗布液を上記可撓性支持体の
表面に、薄くかつ均一に塗布する塗布方法である。この
ドクターエッジ部の形状、塗布液圧力、支持体とドクタ
ーエッジ先端との位置関係等については、従来から、例
えば、特開昭60−238179号公報、特開昭62−
132566号公報、特開平4−145977号公報な
どに開示されているように、種々の検討がなされてい
る。エクストルージョン型塗布方法では、スリット内を
塗布液が通過するときの圧力損失p1と、可撓性支持体
を押し圧することにより発生するドクターエッジ面上で
の圧力p2の和Pに、幅方向で不均一があった場合、幅
方向の塗布厚みも不均一になってしまうという欠点があ
る。例えば、スリットギャップやドクターエッジ面形状
の製作精度上の不均一があったり、可撓性支持体の幅方
向の厚みムラや部分的な変形(凹凸)等により幅方向の
厚み不均一が発生する。
7−106332号公報や特開平5−293419号公
報に開示されているような、支持体の幅方向にスリット
ギャップを個別に調整可能な調整手段を具備した塗布装
置などが提案されている。これらの装置は、塗布液のス
リット通過時の圧力損失を支持体幅方向に分布を持たせ
ることにより、支持体の不均一による塗布厚みムラを改
善しようとするものである。一方、近年の磁気記録媒体
の動向として、高密度な記録媒体の要求に伴い記録を司
る磁性層の厚みが薄くなってきている。塗布厚みが薄く
なると、厚み精度はより高精度なものが要求され、上記
のような厚み調整機構は必須のものとなる。
高い可撓性支持体にこのようなエクストルージョン型塗
布ヘッドを用いた場合、スリットでの圧力損失p1に比
べドクターエッジ面上で発生する圧力p2が高く、前述
のような幅方向厚み調整手段を用いてp1を変えても圧
力の和Pが大きく変わらないという問題が発生した。ま
た、更に大きなスリットギャップ分布を持たせるために
は、塗布ヘッド材質の弾性変形領域を超えて変形させる
必要があり、これは使用上好ましくないことである。
のような問題を解消し、エクストルージョン型塗布ヘッ
ドの材質の弾性変形内の微少な変形量で、塗布厚みを調
整可能とする塗布方法を提供することにある。
続的に走行する可撓性支持体の表面に、前記可撓性支持
体の幅方向に延びる塗布ヘッドの上流側ブロックのエッ
ジ面および下流側ブロックのエッジ面を押しつけ、前記
上流側ブロックと前記下流側ブロックとの間のスリット
から塗布液を押し出して前記可撓性支持体表面に塗布液
を塗布するエクストルージョン型塗布方法において、前
記下流側ブロックのエッジ面の上流端をAとし、前記ス
リットを介してその上流側に位置する前記上流側ブロッ
クのエッジ面の下流端Bから前記下流側ブロックのエッ
ジ面に引いた接線をLとしたとき、Aから接線Lに下ろ
した垂線の長さtを前記可撓性支持体の幅方向に調整し
て塗布厚み分布を調整することを特徴とする塗布方法に
より達成される。
で行ってもよいが、塗布ヘッドに調整機構を具備するこ
とによって、オンラインで調整することが可能になる。
すなわち、上記塗布ヘッドの幅方向に複数の調整手段を
設け、該調整手段により上記長さtを部分的に調整可能
とすることを特徴とするものである。更に、上記接線L
とスリットの中心軸のなす角θを90°以下とし、か
つ、上記調整手段により下流側ブロックの傾斜角を変え
ることにより、上記長さtを部分的に調整するように構
成することを特徴とするものである。本発明において、
下流側ブロックはドクターエッジブロックであり、上流
側ブロックはバックエッジブロック又はドクターエッジ
ブロックのいずれか一方である。例えば、一層用の塗布
ヘッドの場合、上流側ブロックはバックエッジブロック
である。また、二層以上の塗布ヘッドの場合、最上流に
はバックエッジブロックが配置されるので、下流側ブロ
ックであるドクターエッジブロックの上流側ブロックは
他のドクターエッジブロックとなる。
発明の一実施の形態に係る塗布装置について説明する。
図1および図2は、本実施の形態に係る塗布装置の2層
重層塗布タイプの塗布ヘッドの概略構成を示す斜視図お
よび断面図であり、図3は図2に示す塗布ヘッドのX部
分の拡大図である。本実施の形態に係る塗布装置では、
その上下流に設けられたガイドローラ30a,30bに
より可撓性支持体(以下、単に支持体」という)1を塗
布ヘッド10に押し付け、後述するスリットから押し出
される塗布液を均一に支持体1上に塗布する。
する。塗布ヘッド10は、支持体1の移動方向Sに対
し、その上流側から順に、第1ブロック11,第2ブロ
ック12,第3ブロック13が、ネジ19により結合さ
れている。本実施形態では、第1ブロック11はバック
エッジブロックであり、第2ブロック12及び第3ブロ
ック13はドクターエッジブロックである。本発明にお
ける上流側ブロックは第2ブロック(下層側ドクターエ
ッジブロック)12に相当し、下流側ブロックは第3ブ
ロック(上層側ドクターエッジブロック)13に相当す
る。上記各ブロックの合わせ面には、ポケット14a,
14bおよびスリット15a,15bが形成されてお
り、外部に設けられた定量かつ連続的に送液できる図示
されていないポンプなどの送液手段から塗布液が上記各
ポケットに送り込まれ、ポケットに連続したスリットを
通して支持体1方向へ塗布液を押し出す。
には、上流側からバックエッジ面11a,下層側ドクタ
ーエッジ面12a,上層側ドクターエッジ面13aが形
成されており、バックエッジ面11aの横断面形状は、
長さ(支持体1の走行方向に沿った長さ)が0.1〜3
0mmで、平面状であってもある曲率を持っていてもよ
い。また、各ドクターエッジ面12a,13aは長さが
0.5〜20mmで、横断面形状はある曲率を成した円
弧状、あるいは、円弧と平面を組み合わせた形状になっ
ている。上記曲率Rは支持体の走行速度、支持体の剛
性、所望の塗布厚みによって適宜変更可能であるが、通
常R=0.5〜20mm程度が望ましい。
クターエッジ面13aの上流端をAとし、その上流側に
位置する下層側ドクターエッジ面12aの下流端Bから
上記上層側ドクターエッジ面13aに引いた接線をLと
するとき、Aから接線Lに下ろした垂線の長さをtとす
る。前述のように、本実施の形態に係る塗布装置では、
塗布ヘッド10のこの長さtを上記支持体1の幅方向内
で調整することにより、塗布厚みを調整することを特徴
とするものである。以下、この調整方法について説明す
る。
係は、相互の合わせ面でスライドさせることにより、任
意の高さ関係に設定することができ、また、幅方向で部
分的にブロックの高さ関係を変えることもできるように
構成されている。例えば、図4(図1のY方向矢視図)
に示すように、3つのブロックを精度のよい平面16上
に置き、第3ブロック13の下に厚みの違う板材17を
敷き、この状態で平面16の下部からブロック下面をネ
ジ18等で締め引っ張ることにより、第3ブロック13
を弾性変形させる。この状態で第3ブロック13の合わ
せネジ19を締めることにより、上述の長さtを、幅方
向に所望の分布を持たせて設定することができる。
支持体の剛性不均一に起因して、塗布液に部分的に上層
厚みが厚い部分が発生した場合には、第3ブロック13
の厚みの厚い部分に相当するところを上述の方法で持ち
上げて、長さtを小さくすることにより、ドクターエッ
ジ面13a上で発生する圧力p2を高くして、上層厚み
をその分だけ薄くすることができる。また、ある部分だ
け上層厚みが薄い場合には、上と逆の操作をすれば、上
層厚みを厚くすることができる。前述の通り、上述の長
さtの調整は、塗布ヘッドに調整機構を具備することに
よって、オンラインで調整することができる。
構としては、種々の形態が考えられるが、以下では、第
3ブロック13の側面を斜めに形成することによって、
上述の長さtを調整する方法について説明する。図5
は、上記調整機構の一実施形態である。本実施形態に示
す構成では、第2ブロック12と第3ブロック13で形
成される上層側スリット15bの軸方向は、下層側ドク
ターエッジ面12aの下流端Bから、上層側ドクターエ
ッジ面13aに引いた接線Lとのなす角θが90°以
下、好ましくは45°〜80°となるように設定されて
いる。
の出口までのスリット長さLSは、塗布液の助走区間と
するため40mm以上であることが望ましい。第3ブロ
ック13の外壁面13bには、支持体1の幅方向に複数
のL字部材20a〜20cが付設されており、各L字部
材20a〜20cは、調整部材である2本の調整ネジ2
1a,21bを有している。このうちの一方の調整ネジ
21aは、図6に示すように、L字部材20a〜20c
に開けられた貫通穴22aを通して第3ブロック13の
壁面に開けられたタップ穴13cにねじ込まれている。
第3ブロック13がほぼポケット14bを中心にして、
スリット15bを広げる方向に弾性変形すると共に、上
層側ドクターエッジ面13aの上流端Aが移動し、Bか
ら上層側ドクターエッジ面13aに下ろした接線と上層
側ドクターエッジ面13aの上流端Aとの距離t、すな
わち、前述の長さtが小さくなり、上層側ドクターエッ
ジ面13a上で発生する圧力が高くなり、塗布液の厚み
を部分的に薄くすることができる。
は、L字部材20a〜20cに開けられた貫通のタップ
穴22bを通して、第3ブロック13の壁面に当接して
いる。この調整ネジ21bを締めることによって、第3
ブロック13がほぼポケット14bを中心にしてスリッ
ト15bを狭くする方向に弾性変形すると共に、上層側
ドクターエッジ面13aの上流端Aが移動し、上記長さ
tが大きくなって、塗布液の厚みを部分的に厚くするこ
とができる。
図8を用いて詳細に説明する。前述のように、下層側ド
クターエッジ面12aの下流端Bから、上層側ドクター
エッジ面13aに引いた接線Lとのなす角θが45°〜
80°となるように設定されている。このため、図8に
示すように、第3ブロック13の上層側ドクターエッジ
面13aの上流端Aは、上記調整ネジ21aを締めるこ
とによって、図8中の破線で示すようにA1まで変位す
る。また、上記調整ネジ21bを締めることによって、
図8中の一点鎖線で示すようにA2まで変位する。
た場合の長さtの変化は、上述の角θが45°に近付く
ほど大きくなる。但し、スリット15bでの圧力損失p
1に対し、上層側ドクターエッジ面13aで発生する圧
力p2がさほど大きくない条件の下では、スリット15
bでの圧力損失の変化の影響が大きくなり、厚み変化が
逆に現われる場合もある。
体1に塗布する塗布液は、表1,表2に示す成分組成
を、それぞれボールミルに入れ十分混合分散させた後、
エポキシ樹脂を30重量部加え十分混合させたものを用
いた。
を5μmに設定し、厚み調整機構は支持体幅方向にほぼ
等ピッチで10点設けた。以上の条件の調整機構を操作
しながら長さtと上層厚みの関係を調べた。結果を図9
(a),(b)に示す。このように、調整機構により長さt
を幅方向で変えることにより、任意に塗布厚みを変える
ことができ、均一な厚み分布を得ることができた。
たものであり、本発明はこれに限定されるべきものでは
ないことは言うまでもないことである。例えば、上に掲
げた調整機構は一実施形態に過ぎず、長さtを変えられ
る機構であればこの限りではない。また、上記実施形態
の中では2層同時塗布の場合を例に挙げて説明したが、
本発明に係る塗布方法は、1層のみの塗布の場合、更に
多数の層を同時に塗布する場合にも適用可能である。例
えば、1層塗布ヘッドの場合、バックエッジブロックが
本発明における上流側ブロックに相当し、ドクターエッ
ジブロックが下流側ブロックに相当する。また、3層以
上の塗布ヘッドの場合、ドクターエッジブロックは3個
以上となる。この場合、必要とする塗布厚の調整を行う
ドクターエッジブロックが本発明における下流側ブロッ
クに相当し、それに隣接した上流側のドクターエッジブ
ロック又はバックエッジブロックが本発明における上流
側ブロックに相当する。
よれば、スリットギャップやドクターエッジ面形状の製
作精度上の不均一がある場合や、支持体の幅方向の厚み
ムラや部分的な変形等により幅方向の厚み不均一がある
場合にも、均一な厚みの塗布が可能な塗布方法を実現で
きるという顕著な効果を奏するものである。
イプの塗布ヘッドの概略構成を示す斜視図である。
本発明の原理を説明する図である。
関係を変える調整方法を説明する図であり、図1のY方
向矢視図である。
図(その1)である。
図(その2)である。
図(その3)である。
グラフである。
本発明における上流側ブロック) 12a 下層側ドクターエッジ面 13 第3ブロック(上層側ドクターエッジブロック:
本発明における下流側ブロック) 13a 上層側ドクターエッジ面 14a,14b ポケット 15a,15b スリット 20a〜20c L字部材 21a,21b 調整ネジ A 上層側ドクターエッジ面13aの上流端 A1 Aの変位後の位置(その1) A2 Aの変位後の位置(その2) B 下層側ドクターエッジ面12aの下流端 L Bから上層側ドクターエッジ面13aに引いた接線
Claims (3)
- 【請求項1】 連続的に走行する可撓性支持体の表面
に、前記可撓性支持体の幅方向に延びる塗布ヘッドの上
流側ブロックのエッジ面および下流側ブロックのエッジ
面を押しつけ、前記上流側ブロックと前記下流側ブロッ
クとの間のスリットから塗布液を押し出して前記可撓性
支持体表面に塗布液を塗布するエクストルージョン型塗
布方法において、 前記下流側ブロックのエッジ面の上流端をAとし、前記
スリットを介してその上流側に位置する前記上流側ブロ
ックのエッジ面の下流端Bから前記下流側ブロックのエ
ッジ面に引いた接線をLとしたとき、Aから接線Lに下
ろした垂線の長さtを前記可撓性支持体の幅方向に調整
して塗布厚み分布を調整することを特徴とする塗布方
法。 - 【請求項2】 前記可撓性支持体の幅方向に複数の調整
手段を有し、該調整手段により前記長さtを部分的に調
整することを特徴とする請求項1記載の塗布方法。 - 【請求項3】 前記接線Lとスリットの中心軸のなす角
θが90°以下であり、かつ、前記調整手段により前記
下流側ブロックの傾斜角を変えることにより前記長さt
を部分的に調整することを特徴とする請求項2記載の塗
布方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4207999A JPH11314065A (ja) | 1998-02-19 | 1999-02-19 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-37600 | 1998-02-19 | ||
JP3760098 | 1998-02-19 | ||
JP4207999A JPH11314065A (ja) | 1998-02-19 | 1999-02-19 | 塗布方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11314065A true JPH11314065A (ja) | 1999-11-16 |
Family
ID=26376736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4207999A Ceased JPH11314065A (ja) | 1998-02-19 | 1999-02-19 | 塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11314065A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6582768B2 (en) | 2000-07-11 | 2003-06-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Extrusion-type coating method and apparatus |
US7102750B2 (en) | 2002-08-29 | 2006-09-05 | Kabushiki Kaisha Ekisho Sentan Gijutsu Kaihatsu Center | Method of in-situ monitoring of crystallization state |
KR100684048B1 (ko) | 2005-03-15 | 2007-02-16 | 주식회사 디엠에스 | 유체분사장치 |
CN110612165A (zh) * | 2018-01-08 | 2019-12-24 | 株式会社Lg化学 | 电极浆料涂覆设备及方法 |
EP4154992A4 (en) * | 2020-09-28 | 2023-12-20 | LG Energy Solution, Ltd. | MULTI-SLOT DIE COATER |
-
1999
- 1999-02-19 JP JP4207999A patent/JPH11314065A/ja not_active Ceased
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6582768B2 (en) | 2000-07-11 | 2003-06-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Extrusion-type coating method and apparatus |
US7102750B2 (en) | 2002-08-29 | 2006-09-05 | Kabushiki Kaisha Ekisho Sentan Gijutsu Kaihatsu Center | Method of in-situ monitoring of crystallization state |
KR100684048B1 (ko) | 2005-03-15 | 2007-02-16 | 주식회사 디엠에스 | 유체분사장치 |
CN110612165A (zh) * | 2018-01-08 | 2019-12-24 | 株式会社Lg化学 | 电极浆料涂覆设备及方法 |
EP4154992A4 (en) * | 2020-09-28 | 2023-12-20 | LG Energy Solution, Ltd. | MULTI-SLOT DIE COATER |
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