TWI280572B - Device for scanning and cleaning and information carrier - Google Patents

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TWI280572B
TWI280572B TW092115852A TW92115852A TWI280572B TW I280572 B TWI280572 B TW I280572B TW 092115852 A TW092115852 A TW 092115852A TW 92115852 A TW92115852 A TW 92115852A TW I280572 B TWI280572 B TW I280572B
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Description

1280572 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用以讀取一資訊載體上之標示所代表 的資訊之裝置,該裝置包含:一掃描單元,其用以自该等 標示產生一讀取信號;一藉射源及若干光學元件,其用以 產生一輻射束,·聚焦構件,其用以控制該等光學元件之至 少一個以藉由聚焦該波束產生一光斑;以及清除構件,其 用以清除該資訊載體之一表面。 本發明係進一步關於一種用於該裝置中之資訊載體-,該 資訊載體具有一保護匣。 【先前技術】 一種用以掃描一資訊載體之裝置可從WO 98/53455中得 知。孩資訊載體所承載的資訊係藉由標示代表,例如一碟 形資訊載體之一磁軌中的光學可讀取印記。該裝置包含一 驅動單元,用以旋轉該資訊載體。當該資訊載體旋轉時, 藉由足“單元將由光學元件所構成之一光學頭與該磁軌 相對而置以掃描該磁軌。文中論述了該資訊載體之表面上 的/了染物問題。污染物可藉由數種方法移除,例如手工移 除或插入一特殊清除碟片於該裝置中以自該裝置内移除污 术物。文中說明了一清除系統,其具有内建於該裝置中之 :清除墊或刷子,用以清除該資訊載體之表面。該清除系 、進步匕含一塾清除組件,用以自該塾移除該等污染物 、、、、系、’、先之一問越係其機械構造複雜,且不適合於移 除” 口污木物。當從咼密度資訊載體讀取資訊時,此類污 85836 1280572 染物會造成特別大的擾動。 本發明之一項目的係提供一種具有一清除系統之掃描裝 置’孩清除系統可更有效地移除頑固污染物。 【發明内容】 為此目的,在序言段中所述的裝置之特徵在於該清除構 件包含控制構件,用以藉由控制該聚焦構件以將該光斑實 質上聚焦於該資訊載體之表面上來執行該清除,且用以控 制该無射源之功率。在序言段中所述的裝置之特徵在於該 E在距為^訊載體之表面一距離處具有一污染物收集構件 ’用以黏附藉由該清除自該資訊載體之表面移除之微粒, 特足i之,該匣之至少部分内壁係覆蓋有具有高表面能量 之材料。該等措施的效果係藉由局部加熱該污染之區域及/ 或藏污染微粒自身來清除該資訊載體之表面。因構成該光 斑之小區域上所聚焦的功率可用,故該污染物可有效地自 琢表面移除。藉由在該匣或碟片驅動器之内壁上提供可牢 固黏附微粒之一材料,即可防止自該表面移除之微粒再次 污染該表面。 本發明係基於以下認知··首先,發明者認識到機械清 方法不能有效移除較小污染微粒及頑固表面污染。其次 發明者認識到工業雷射清除技術可運用於諸如家用碟片 動器之類掃描裝置中,例如從「聚合物表面之雷射清除 丁. Founer等人,應用物理學a 72, 1(2〇〇1),材料科學與 理」中可得知的用於半導體裝置製造之清除技術等I利 一半導體輻射源在資訊載體之表面上聚隹一 ……、 斑,且控 85836 1280572 該輻射源之功率,可提供恰好足夠的功率以實現該清除效 果。 在該裝置之一項具體實施例中配置有該控制構件,用以 控制該輻射源的脈衝功率。因功率耗散係基於平均功率, 故使用短脈衝的效果在於該輻射源可輸送實質上高於平均 功率的峰值功率。該峰值功率可提高清除效率。 該裝置之另一項具體實施例包含偵測構件,用以偵測該 表面之可能污染’且配置有該控制構件,用以清除偵測到 該可能污染之該表面部分。此實施例的優點係僅需清除該 表面之污染部分,故可減少清除時間。 【實施方式】 圖la顯示具有一磁軌9及一中央孔10之一碟形資訊載體u 。磁軌9,即代表資訊之(需)記錄之標示序列的位置,係根 據一螺旋轉彎圖案配置,該等轉彎構成資訊層上實質上平 行的磁軌。該資訊載體可為磁性可讀取(例如一硬碟)或光學 可讀取(稱之為一光碟),且具有一唯讀或可記錄類型的資訊 層。唯讀碟片之實例係CD或DVD,可記錄碟片之實例係 CD-R與CD-RW、諸如D VD+RW與D VD + R之類可窝版的 DVD以及利用藍光雷射之高密度可寫光碟,稱之為藍光雷 射碟片(Blue-ray Disc; BD)。關於DVD碟片的更多細節可參 考文獻:ECMA-267.120 mm DVD-唯讀碟片_(1997)。資訊係 藉由在相變材料中沿磁軌記錄光學可偵測標示(例如晶形戈 非晶形標示)而在資訊層上代表。資訊載體之表面適合用下 述之雷射功率清除。請注意,表面之雷射清除可用於具有 85836 1280572 匠的碟片,但亦可用於無厘的碟片。讀取及窝入的可 均可得到改善。 非夂 上,且另一0.6 mm基板係焊接至其背面。該可記錄類型資 訊載體之磁軌9可藉由在製造該空白資訊載體期間所提供 的預壓印磁軌結構表示。該磁軌結構係由(例如)一預刻溝 槽14構成,其使一讀取/窝入頭在掃描期間可跟隨該磁軌。 圖1b為沿可記錄類型資訊載體U<b_b直線的斷面圖,其中 一透明基板15上具有一記錄層16及一保護層17。在一項多層 儲存媒體之具體實施例中,保護層17包含一或多個基板層及/ 或記錄層,例如在DVD中,其中記錄層係位於一 〇 基板 該磁軌結構包含位置資訊,例如位址,用以指示資訊單元 (通常稱作資訊區塊)之位置。該位置資訊包含特定同步標示 用以足位忒等資訊區塊之起始位置。預刻溝槽〗4可實施 為基板15材料之一凹痕或一凸痕,或實施為與其周圍有偏 差的一材料特性。 資訊載體Π可(例如)用於承載代表根據諸如mpeg 2等標 準格式進行數位編碼之視訊的資訊。 圖2顯不位於一匣中之一資訊載體。該資訊載體丨丨係由一 E 2 1所包圍。該匣可藉由一滑塊22關閉;當將該匣插入一 裝置中以使一讀取頭可接近該資訊載體表面時,該滑塊即 移去。該中央孔1 〇係可見,用以耦合至該裝置中的一驅動 單元’但其亦可藉由滑塊22覆蓋。當未插入一裝置中時, 咸II及滑塊即構成包圍資訊載體11之一實質上封閉的盒子 。該匿具有一污染物收集單元23,用以收集藉由下述雷射 85836 1280572 ’除從该^釩載體之表面分離出來的污染物。在一项具骨# 實施例中’污染物收集單元23係藉由覆蓋有一材料層之該 ®的内壁所構成,微粒可黏附在該材料層上,該材料可為 (例如)具有高表面能量及高反應性之一材料,如(化學處理 之)活性炭。 圖3顯π用以讀取一磁軌之一輻射束。一輻射源34(例如一 半導fa S射)所產生的輪射經由光學元件(如物鏡32)導引,用 以構成一輻射束3 5。該輻射束進入一資訊載體之表面3 6,其 係由箭頭所示之一預定厚度的基板37(例如,對於dvd為 0.6 mm,對於BD為〇.! mm)所構成。在基板”之後方有一記 錄層,其具有由標示38所構成之一磁軌。一第二基板支撐該 結構以保持其機械穩定,或提供一第二表面用以讀取及記錄 資訊。聚焦輻射束35以於該等標示上形成一光斑66。輻射反 射至一偵測器33,用以產生一讀取信號。該資訊載體之表面 36係由一塵埃微粒31污染。光束35可受到該微粒的擾動。光 碟(compact dlsc ; CD)之優異的可靠度在相當程度上係歸功 於位於資料層之上部的一丨·2 mm厚透明基板。在讀取及寫入 期間,孩雷射束透過該厚基板聚焦於該資料層上。該雷射束 在該碟片之表面上不再聚焦,使CD系統對塵埃及指紋相當 不敏感利用具有更鬲數值孔徑(numerical aperture)之物鏡 及更短波長之雷射,已實現資料容量超過CD的光學儲存系 統(即DVD與BD)。然而,為限制光學像差及為獲得足夠的 光學谷限’透明基板之厚度對於DVd減至〇.6 mm,對於BD 減至0.1 mm。因此DVD與BD,以及將來的光學儲存產品, 85836 1280572 更易受塵埃及指紋的影響,從而危及其可靠度。依據本發 明,下述雷射清除係内建於讀取及/或記錄裝置中,以提高 其可靠度。可偵測擾動(例如,讀取信號之強度的改變,追 蹤信號或讀取誤差的改變)以決定微粒3 1之存在及位置。 圖4顯示聚焦於表面用於清除之一藉射束。所顯示的光學 元件與圖3相同。該光學系統係為將輻射束35聚焦於該表面 或其附近(例如位於該表面上靠近微粒31處)而配置。藉由施 加足夠的功率至輕射源34,該塵埃微粒或者自該表面脫落 ,或者汽化。不同於讀取及寫入期間,該雷射束不是聚焦 於該資料層上’而是聚焦於該碟片之上表面上用於清除。 具有足夠南通量(通常為〜1〇〇 mj/cm2)之短雷射脈衝(通常為 〜20 ns)因快速熱膨脹作用可移除諸如塵埃及指紋等污染物 ’將該等污染物自碟片表面噴射出來。以下的計算利用最 大雷射功率為250 mW(脈衝)之一實際雷射。20 ns的脈衝寬 度與1x5 μιη2的光斑大小會導致1〇〇 mJ/cm2之通量。假定線 性碟片速度為10 m/s(約為DVD正常速度的3倍)且脈衝頻率 為10 MHz,即可獲得0.5 cm2/s之清除速率。250 mW之雷射 功率並非一嚴格要求,唯一要求係在數十奈秒之一脈衝期 間獲得大約100 mJ/cm2的通量。目前高速CD-R驅動器之最 大雷射功率約為200 mW(脈衝)。必須考慮光路徑之效率(通 常約為40%)。因此,利用碟片上之一 8〇 mW雷射功率、一 2 0 ns脈衝見度以及1X1 6 μπι2的^一光斑大小,即可獲得 100 mJ/cm2之一通量。再假定線性碟片速度為1〇 m/s且脈衝 頻率為10 MHz,則可獲得〇· 16 cm2/s的清除速率。影響碟片 85836 -10- 1280572 之=、取或寫入的塵埃微粒所覆蓋的區域通常遠小於一平方 屋米,故可快速地得到移除。 =5及6顯不依據本發明之用以掃描一資訊載體丨之設備 渔/、“有用於清除之雷射控制。圖5之設備係為讀取資訊載 -且 4 >釩載體與圖1或2所示之資訊載體相同。該 裝置具有包含用以掃描資訊載體上的磁執之一讀取頭52 之讀取構件、用以旋轉資訊載體1之一驅動單元55、包含 ^^如)—通道解碼器及一誤差修正器之一讀取信號處理: 以及一系統控制單元56。該讀取頭包含一熟知類型的 ^系先用以經由一輻射束6 5產生聚焦於該資訊載體之 錄曰的磁軌上之一輻射光斑66。輻射束65係藉由一輻 射源(例如一雷射二極體)產生。讀取頭52進一步包含一聚焦 驅59 1以聚焦輕射束⑽記錄層上,以及_追縱驅 (未頌71T ) ’用以使光斑66沿半徑方向精確定位於磁軌之 中央冗綠層所反射之輻射係藉由一通常類型的偵測器偵 測,例如—四象限二極體(f⑽卜quadrant dlode),用以產生 =备信號57,其包含—讀取信號、—追縱誤差信號以及 一聚焦誤差信號。在讀取期間,該讀取信號在讀取作 理單元53中轉換為箭頭64所示之輸出資説。該設備:有定 位構件54,用以將讀取頭52沿半徑方向大致定位於該磁執 上,孩精確定位係藉由該追縱驅動器執行。該追縱驅動哭 可包含線圈,)¾以沿半徑方向移動—光學元件,或可配^ 用以改變—反射元件在該讀取頭之可動部分上或(在光學系 統之部分係安裝於一固定位置的情形中)在一固定位置 85836 -11 - 1280572 一部分上的角度。該設備具有一清除控制單元5丨,用以聚 焦該波束於該資訊載體之表面上,且用以控制用於清除之 該雷射的功率。為產生足夠的功率以有效地執行清除,讀 雷射之功率係以脈衝施加。峰值功率係在該等脈衝期間輸 送,而在該等脈衝之間的週期期間,該雷射之平均功率保 持足夠低。該裝置進一步具有一控制單元56,用以接收來 自一控制電腦系統或一使用者之指令,且用以經由控制線 58控制該設備,該等控制線58可為(例如)連接至驅動單元 55、定位構件54、清除控制單元51以及讀取信號處理單元 53之一系統匯流排。為此目的,該控制單元包含控制電路 ,例如一微處理器、一程式記憶體以及控制閘,用以執行 下述程序。控制單元5 6亦可實施為邏輯電路中之一狀賤機 。清除控制單元5 1可配置用以經由該驅動器之韌體控制該 清除功能,且可與控制單元56整合。至於硬體,應注意聚 焦驅動為59具有足夠的垂直於該碟片表面之移動範圍,從 而在資料層及碟片表面上均能聚焦。位於一光學碟片驅動 器 < 光路徑中的該等光學元件通常係設計用以在透過一基 板於該資料層上聚焦期間使光學像差降至最低。若為一薄 基板設計,則當在碟片表面上聚焦時,光學像差仍然會相 對較小。視該基板之厚度而定,為在該表面上聚焦,有些 光學元件可調整。 在居裝置之一項具體實施例中,該裝置具有一污染物偵 測單元5 〇。為利用雷射清除將一污染物微粒自一光學碟片 表面上移除,需決定該污染物的位置。其基本思想為僅需 85836 -12- 1280572 和除影響光學謂取及/或寫入方法之污染物微粒。不會影響 光學記錄方法之污染物將保留。萬一污染物很大,在清除 期間使用者資料速率可能會暫時受到影響,但相對於不可 復原的資料丟失或寫入故障,此為較佳。 在污染物偵測單元50之第一項具體實施例中,一污染物 係藉由偵測不可復原資料誤差之出現而定位於一碟片表面 上。該方法假定不可復原資料誤差係因污染物所致。當偵 測到不可復原誤差且追蹤信號仍然存在時,即知悉該Y等') 不可復原資料誤差之準確位置。藉由聚焦該雷射於該表面 上’即可清除所涉及的磁軌之區域。在交替聚焦於綠片表 面及資料層之一項具體實施例中,碟片係藉由聚焦於碟片 表面上之雷射脈衝雷射清除,同時雷射脈衝仍然在磁轨上 ,因此時其交替聚焦於資料層上。在一項具有一薄基板之 一高密度碟片的具體實施例中,污染物非常有害,因資料 層與碟片表面之間的距離很小’故可在聚焦於資料層與聚 焦於碟片表面之間快速切換。 在污染物偵測單元50之第二項具體實施例中,一污染物 係藉由偵測追蹤信號丟失之出現而定位於碟片表面上。在 丟失追蹤信號之時刻,驅動器資料可儲存起來。以此方戈 ’即知悉該污染物的半徑位置。自此半徑位置開始,藉由 聚焦於碟片表面之雷射脈衝雷射清除該碟片。 在一項具體實施例中,在偵測到一污染物之後(藉由偵測 不可復原資料誤差、追知仏號丢失或不正常反射率),今 雷射清除方法係自個別半徑位置向外開始執行。該雷射清 85836 -13 - 1280572 除万法會在-固足時間或固定區域 染物得到移除(同择办一 右偟祁刀忒万 '、取係耩由偵測到一不可復原資料誤差、追 或不正常反射率而知悉),則該雷射清除方法將 在口疋時間或固定區域内再次繼續。 在污染物彳自測垔;、 。、·!早兀50之一項具體實施例中, 二=碟片表面以偵測嶋。此可藉由(例如)量: :、在…面上〈―雷射束的反射來完成。利用-驅動器 區域^ !表面ί掃描該雷射。反射率與平均值不同的 之1二::1到:染。在偵測到具有-不正常反射率值 兮碟二乂’精由聚焦於碟片表面上之雷射脈衝雷射清除 r會(嚴重)影響光學讀取及/或寫入方法之微粒 (二# 7’: ’故此万法所花費的時間較上-项具體實施例 (二中谓測誤差)為長。然而,該清除可有利地防止將來窝入 或碩取操作期間出現問題。 ”·、 在該讀取裝置或窝入裝置之一項具體實施例中,在將碟 片插入驅動哭日辛務爲雜p 、 β時扣描磲片則貞測污染*。任何污染之邱八 皆立即得到清除,或當 ^刀 始—背景方法。 使用者铁“取或寫入資料時,開 在該讀取裝置或該寫入裝置之一項具體實施例中,藉由 光固=鏡放入光路徑中獲得用於清除之一長方形雷射 = 長方形光斑以提高清除速率,即減少清除時 資Γ:二用於將資訊窝入具有用於清除之雷射控制的-……-裝置。該資訊載體係藉由一電磁輻射束65 85836 -14 - 1280572 以(例如)一磁光或光學方式(透過相變或染色)可(重複)寫類 型的載體。該裝置通常亦可用於讀取,故包含與圖5所示之 上述用於讀取之設備相同的元件,除此之外還包含寫入構 件’其包含一寫入/讀取頭62以及一寫入信號處理單元60, 孩窝入信號處理單元60包含(例如)一格式器、一誤差解碼器 及一通道編碼器。寫入/讀取頭62除具有與讀取頭52同樣的 功能之外,還具有寫入功能,且耦合至窝入信號處理單元 60 °發送至寫入信號處理單元60之輸入的資訊(箭頭63所示) 係根據格式化及編碼規則分佈於邏輯及實體區段中,且轉 換為一寫入信號61,以用於窝入/讀取頭62。系統控制單元 56係配置用以控制上述用於讀取設備之清除功能。在寫入 操作期間,代表資訊之標示係形成於該資訊載體上。從(例 如)CD系統中,用於記錄於光學碟片上之資訊的寫入及讀取 乂及可用的格式化、誤差修正及通道編碼規則在本技術中 為人知。該設備具有一清除控制單元51,用以控制用 於清除之雷射的功率,且在一項具體實施例中,該裝置具 有=染物制單元5G,其具有與上述料讀取裝置及其 具髂貫施例之偵測單元相同的功能。 在—項具體實施例中,該讀取裝置或該寫入裝置且有一 (未顯示),料合至讀取信號處理單⑶或寫A “。處理早⑽。決定該資料緩衝器的大小,使立可儲名 數秒時間的資料1用圖4所提供的實際雷射/、
及/或寫入期間可清除數平方董米之:二m 使用者資料速率。 冑片表面,而不會影I 85836 -15- 1280572 遠雷射清除方法會從碟片表面上移除污染物微粒。—旦 移除,微粒之運動即會受到光學驅動器中之空氣流動的影 響。在一項具體實施例中,於光學驅動器之内壁上可(部分) 覆蓋一材料,微粒可牢固地黏附於其上,從而防止同樣的 微粒再次污染碟片表面,該材料可為(例如)具有高表面能量 及尚反應性之一材料’如(化學處理之)活性炭。 :雖然本發明王要係藉由利用光學資訊载體之具體實施例 說明,但亦可利用其他媒體,如磁碟或磁帶。在清除期間 ’光斑之聚焦與雷射之功率必須調I,以{致擾動磁碟之 表面,例如不致從硬碟之表面移除潤滑劑。另外,在組合 驅動中’即具有至少二雷射源以用於二不同類型的光碟 (例如CD-R與DVD)(一裝置,用於清除之雷射源可為不同 於用於讀取資訊載體之雷射的_雷射。例如,内建於裝置 中用於寫人強大雷射可有利地用於清除—、靖 碟片。請注意’本文中的詞語「包含」並未排除除所列出 者(外的其他元件及步驟的存在,一元件之前的詞語「一 」,ίί排除!數個此種元件的存在’任何參考符號皆非限 弗'清專利範圍之範蜂,藉由硬體與軟體均可實施本發明 ,且數個「部件」可藉由相同的硬體項來表示。另外,本 發明之範脅並不侷限於該等具體實施例,而是在於上述各 個及所有新穎特徵或特徵之組合。 合 【圖式簡單說明】 附圖,詳細說 上又已結合範例及具體實施例,並且參考 明了本發明之各項觀點,其中 85836 -16- 1280572 圖la顯示一資訊載體(俯視圖); 圖lb顯示一資訊載體(斷面圖); 圖2顯示位於一匣中之一資訊載體; 圖3顯示用於讀取一磁軌之一輻射束; 圖4顯示聚焦於該表面用於清除之一輻射束; 圖5顯示具有用於清除之雷射控制的一讀取裝置;以及 圖6顯示具有用於清除之雷射控制的一讀取裝置。 不同圖式中對應的元件具有相同的參考數字。 【圖式代表符號說明】 9 磁軌 10 中央孔 11 資訊載體 14 預刻溝槽 15 基板 16 記錄層 17 保護層 21 匣 22 滑塊 23 污染物收集單元 31 塵埃微粒 32 物鏡 33 偵測器 34 猫射源 35 輻射束 85836 - 17 - 表面 基板 標示 污染物偵測單元 清除控制單元 讀取頭
讀取信號處理單元 定位構件 驅動器單元 系統控制單元 偵測器信號 控制線 聚焦驅動器 寫入信號處理單元 寫入信號 寫入/讀取頭 箭頭 箭頭 波束 光斑 -18 -

Claims (1)

1280572 拾、申請專利範圍: 種用於讀取藉由一資訊載體上之標示所代表的資訊 之裝置,該裝置包含: —知描單兀,其用以自該等標示產生一讀取信號; 軲射源及光學元件,其用以產生一輻射束; 一永焦構件,其用以控制該等光學元件之至少一元件以 藉由永焦該輕射束產生一光斑;以及 ⑺除構件,其用以清除該資訊載體之一表面,其特徵 在於 - 、邊旧除構件包含控制構件,用以藉由控制該聚焦構件 以將錢斑實質上聚焦於該資訊載體之該纟面上以執 2行該清除,且用以控制該輻射源之功率。 •=申請專利範圍第β之裝置,其中該等控制構件係配 用以技制該輻射源的脈衝功率。 3 L申請專利範圍第1項之裝置,其中該掃描單元包含該 訊恭源以及'5等光學70件之至少—元件,用以掃描該資 標示體上之一磁軌’從而產生該讀取信號及/或記錄該等 4 :;申:專利範圍第Η之裝置,其中該裝置包含價測構 偵測該表面之可能污染物,且其中該等控㈣ 分:、-置用以清除該表面之偵剛到該可能污染物的部 範圍第4項之裝置,其中該等價測構件係配 根據下列各項之至少一個谓測污染物:該表面之 85836 1280572 反射率,出現於該讀取信號中之一誤差;該掃描單元所 產生的追蹤信號中之一誤差。 6·如申請專利範圍第4項之裝置,其中該等控制構件係配 置用以以下列方式之至少一種清除污染物:自一偵測之 為差開始’沿半徑方向向外清除;重複地清除該表面之 一部分,其中偵測到該可能污染物;交替切換該聚焦構 件以分別聚焦於該表面上以及該資訊載體之一資訊層 上之一磁軌上,用以根據包含於該磁軌中之位置資訊定 位該等部分。 7·如申請專利範圍第1項之裝置,其中該等控制構件係配 置用以在下列時刻之至少一時刻清除污染物:當偵測到 一誤差時,中斷讀取或記錄標示;當不需要讀取或記錄 <時刻,在一背景方法中;在將一資訊載體插入該裝置 之後。 8 ·如申請專利範圍第1項之裝置,其中該等光學元件包含 用以產生呈一長方形之該光斑的一元件,該長方形係垂 直於該光斑之一運動方向,特定言之該元件為一圓柱透 鏡。 9.如申請專利範圍第1項之裝置,其中該裝置具有污染物 收集構件,用以黏附藉由該清除自該資訊載體之該表面 移除之微粒,特定言之,至少部分包圍該資訊載體之該 I置的内壁覆蓋有具有向表面能量之材料。 1 〇 · —種用於如申請專利範圍第1項之裝置中的資訊載體 ’孩資訊載體具有一保護匣,其特徵在於該匣在距該 85836 1280572 資訊載體之該表面一距離處具有污染物收集構件,用 以黏附藉由該清除自該資訊載體之該表面移除之微粒 ,特定言之,至少部分該匣之内壁覆蓋有具有高表面 能量之材料。 85836
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