TWI274792B - Substrate depositing method and organic material depositing apparatus - Google Patents

Description

1^74792 « j 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係與沉積有機物之裝置及方法有關，尤指一種用以沉 積有機物之裝置及方法，其設計特色係於沉積一有機物之過程 中’可防止送人該裝置沉積室之大尺寸基板巾^發生下陷現象。 【先前技術】 最近’從資訊傳達技術的快速發展以及市場需要大幅膨服的 丨月形來看’平板齡料以觀經跑在面紐制祕，而具有 代表性的平板顯示器計有：液晶顯示器、電漿顯示板、及有機發 光二極體等。 在這些平板顯示H中，因為有機敎二極體具有：反應快速、 相對於傳驗關示雜蚊少、輕量化、财具#絲薄形化、 及面亮度等優點，所以，業界對於有機發光二極體未來的發展益 不寄於厚望’普遍視其為具有代表性的下—代平板顯示裝置。 该有機發光二極體係基於奴發光㈤原理而作動， 由—陰極膜、-有機薄膜、與_陽極膜之塗佈於基板上，二^ 壓施加於陰極與陽極之間時，财機_之 二 :=亦:’、經由該陰極與陽極分別注入之電—^ ::。㈣，再結合於該有機薄膜，因此 後 產生之光波嶋侧物==，由於該有機薄膜 成物之接雜置加以調節控制，所以

682-KRIP 8 1274792 嫩㈣此㈣，械改麵示板產能與 曰寸之兩求，採用玻璃基板製作顯示板，理應更為有利。 +至於該有機發光二極體之詳細結構方面，其包括有：陽極、 电凡主入層、電洞轉移層、發光層、電子轉移層、電子注入層、 及陰極，依序堆膽基板上而形成，其巾，做騎细料之減 有平面崎低電_高傳導雜。前述有機薄膜包含 有夕個層二人，如··電洞注入層、電洞轉移廣、發光層、電子轉移 層、與電子注人層，其中，做騎糾之錢材料射為伽、 ™™、m侧Α、或咖等，而做為陰極的材料則為-氣化 鐘-銘金福。另外’因_雜_對於濕氣與魏的抵抗力至 為薄弱’所以特別在該二極體之最上部形成—膠囊賴膜 其壽命。 儘管具有上述若干佩，然因可健製仏射機發光二極 體之生產裝置目前為止仍未能標準化，所以，時下有機發光二極 體尚不能敎地成為下-代顯示器以取代傳統平板顯示器。然 而’有繁於液晶顯示H或顯示器在產製大面積面板之生縣 置方面已經快速發展且及於鮮化，因此，業界依難烈期待能 夠早日發展成功可供敎產製A_酿之有機發光二極 裝置。 一同時，製作例如-有機發光顯示器之平板顯示器時，基於顯 示器之特性考量，顯示器以形成於—玻璃基板上為宜，且進行沉

682-KR1P 1274792 $ 積製程之際’該玻·板必須_—例如破魏鮮之支撐裝置 撐住，使-處於真空狀H中之該紐沉積面麵下方。 —種廣為應用之玻璃吸盤係—可自然支撐破璃基板四周之央 .持式吸盤。另外還有—種_大氣勤差之真空吸盤，以及一種 - 利用電場與靜電感應之靜電吸盤。 ^該真奴㈣'藉由—與平板_基板後_接狀吸附板進 氣以利用大氣麼力差支擇該玻璃基板者。但因基板之沉積製程 #僅能在真空環境中進行、所以，在這種條件下採用真空吸盤會有 卉多問題，其衍生之結構也會變得相當繁雜。 即’以平板顯不器之製作而言，最容易造成產品瑕疯，大致 不外乎灰塵、水*汽、氧氣科來因素所造成，耻，操作必須 在真空中進行。有鑒於此，該雜讀並不適合用於該真空裝置。 其次，該靜電吸盤則係利用其本身與一平板基板間產生之靜 電力來支撐.亥平板基板，其中該靜電力之來源係因施加電流於該 _平板基板後面日守，所產生之電場導致該基板電化的結果使然。該 、盤雖可使用於真空狀態中，惟仍有後述之某些問題存在。 ’ ；支撐片大面積平板玻璃基板之場合，該靜電吸盤會需要 -個大電場_此增加了電力消耗。另外，為容許在任何不同類 里之’儿_貝衣私日守白此持績供應電流起見，不僅該靜電吸盤需要較 為複雜之機械結構，而且，該電流在紐上產生之電場亦將影響 ’儿知於斜板麵基板之物f，亦即沉補物，致使成效降低。

682-KRIP 10 1274792 於夾持式吸盤之場合，因為皮重的緣故，基板中心會發生下 陷的現象。若以玻璃基板面積為37〇χ誦而中心下陷約丨麵為 基準則玻璃基板面積為6〇〇x72(hnm時，中心下陷約5麵。又，真 空吸盤之不可於纽狀態下實施沉積製程已如祕，至於大面積 玻璃基板之場合時，靜電吸盤又需要-個力量很大的電場，而且 在運送基板方面需要安排的纜線，也有一定的困難度。 一種用以沉積有機物之傳統裝置通常包括有··一真空室，係 ⑩可供在其内部實施沉積製程者；一基板架設用平台，係設於該室 上。卩以供女置基板者；磁石支撐物，係設於架在該平台上之基板 上方者；一光罩支撐物，係設於架在該平台上之基板下方者；一 電…、係"又於該室下部以促進一有機物蒸發並沉積於該基板表 面者；及，一有機物載舟係設於該室之下部。 此處，在評估及放置適量用以沉積於基板上之有機物於該有 機物載舟後，前述真空室乃個―真空幫浦將其内部抽空至低於 # 10 U下之真空度，其中，所述之有機物載舟通常含有金屬翻 ，（molybdenum)。然後，供電給該電熱器使其升溫並透過一溫度控 • 制(未示）準確控制溫度至該有機物之融點為止以促進其蒸發。 ^由於為有機物已開始從有機物載舟蒸發，一預設之遮門遂 被打開以料缝化之有機物質沉積於基板麵上。該遮門之作 用在於防止該有機物於蒸發前已有雜賊留於有機物載舟以至沉 積於該基板上者。 但是，沉積有機物用傳統裝置有一問題，亦即，遇到大面積基

682-KRIP 11 1274792 板的情況下，在安置基板於該基板架設用平台之際，因為本 重的緣故’基板巾心會訂陷現象因而導致錢物不能均句地r 積於基板表面。 【發明内容】 有鑒於此，本發明之主要目的在於提供一種沉積有機物之裝 置及方法，其設計魅係在—基板兩邊棚_座加關定而伸 展該基板之其他-邊，藉使進行基板之沉積製辦，得以防止該 籲基板因本身之皮重而下降，甚至引起其中央部τ陷之現象。 依本發明思考面向之-，上述以及其他目的係可藉由提供一 種沉積有機物之裝置來達成，該沉積有機物之裝置包括：一沉積 室，係、具有-與外部隔絕之⑽空間；—人口，係設於該沉積室 -侧以供基板進ώ -π，制關放或關職人^ ;—基板架 設平台，係設於該沉積室-頂部，用以施加張力於一基板以防該 基板發生下陷，其實施方式為湘壓制力固定已送人該沉積室之 •基板兩邊及保持該兩邊固定而朝外移動其他一邊；一旋轉式升降 機’係_合於該基板架設平台之頂部中央，以供轉動或升降該基 板架設平台·’及，-電熱器與一有機物載舟，係設於該沉積室底 部，用以促進該有機物蒸發並沉積於該基板上。從而，由於該用 以女置送入 >儿積至之基板以待沉積友機物之基板架設平台之提 供，大面積基板之下陷已然得以避免。 所述之基板架設平台包括有：—設於其内之基板底座 ，係容 許其-邊與其他各邊分離，該基板底座之中央有一透空部，是以，

682-KRIP 12 1274792 一基板S四邊皆坐落於一定義在該基板底座之透空部；一壓板， 係設於該基板架設平台上方且可上升或下降者，於降下時，該壓 板係用以壓制基板之上表面兩側及容許位於該基板一側之該壓板 一邊離開與該基板底座一側齊線之另一邊，且該壓板中央為一盤 狀透空部；一第一驅動件係朝下設於該壓板一上表面任一側上 方，依導入或釋出空氣之不同情況對該基板上表面之一協力邊進 行％壓或解壓動作，一弟二驅動件係與該第一驅動件正交且固定 鲁於0亥壓板之一側，藉使别述基板底座與壓板依供放空氣之不同條 件，呈現一邊與另一邊分離之線性往復動作，則在基板兩端被壓 板固定之情況下，利用往復動作使該基板之另一邊因可向外伸展 而防止基板下陷之現象。從而’當該壓板與固定置於基板底座上 之基板上表面側邊日t 4第—與第二驅動件遂分別施力4制力與 張力於該基板，其方式為：該第二鶴件係向外移動基板之一邊 以知加-張力於該基板崎第—轉件顧定基板之兩邊，藉以 • 防該基板發生下陷問題。 各该第-與第二驅動件包括有：—板狀底座；設於該底座兩 侧-上表面之直立_板；—設於該兩_板之間以便往復來回 其中7動板，該移動板之正财央設有—穿透其前方之該固定 板2犬出料部之軸；—物風㈣設於該轉減位於該移動 ==固_ 1風箱之兩端部係分職於該移動板及固 疋板之^ ’因之，當一 士JTL、广> »又於》儿知室外部之壓縮機充氣於該風箱以

682-KRIP ]3 1274792 致体積顧時，有獅線性鷄雜向前；—空 以引進外部空氣進入該伸縮風箱者；一彈簧係稽 在°亥運動狀態之移動板與位在該移動板後方 風箱因釋出空氣而萎縮時，分糾灰復力至該 一空氣注入喷嘴係用 ’一彈黃係環繞於軸，其係位

風相之配送前向或後向力量，端視風箱進氣與否而定。 用於沉積有機物之本裝置，進而包括有：—基板固定部件係 提供基板之_力者；-張力施力部件；及—控制器係用以控制 该基板固定部件提供之壓制力及該張力施力部件提供之張力，藉 乂透過基板下陷1之檢視以校正該等壓制力與張力。 該基板固定部件包括有：一較基板固定部為長之延伸下板； 一板狀固枝係坐落於該下板上方a料該基板s置於其上表 面，其中，各該板狀固定座係與該下板形狀相當；一位置固定板 係設於該ϋ定座之-砸沿長度方向延伸，其巾，該位置固定板 具有L型剖面；-鱗件固定板係與該位賴定板隔離且位於該 位置固定板之上方巾央；—魏係可在該鶴侧定板至該固定 座之空間时降’⑽坐落於顧定座之基板上表面進行施壓或 解壓動作’其中’該壓板係—水平延伸之板狀物；及—垂直驅動 件係設於該驅動件固定板之上表面中央，用以升降該驅動件固定 板施加壓制力於該基板，且該垂直驅動件尚有一設於前端之動桿 以連結該壓板。又，該基板驅動件係設於該基板固定部件之一上 部以供升降前述壓板，藉使該基板兩端可透過如基板固定部件這

682-KRIP 14 1274792 種簡單的結構，即可加以固定。 該垂直驅動件亦得配備一具第一壓力計於其動桿上以量取及 輪出一在垂直方向之負載。 該第一壓力計係可至少為一負載小室。 该張力施力部件包括有：一固定式側板係固設於該下板與基 板固定部件之固定座特；—驅動件目定側板係自翻^式侧板 朝外配置而豎立於該底座—側之邊緣；及，—水平驅動件係設於 ⑩雜動件固定側板之外壁，以驅動該活動式基板固定部件於水平 方向及知加張力於該基板，且該水平驅動件另有一設於前端之動 桿以連結該_絲板固定部件。又，該斜 板固定部件之-之外壁，因之，可細推動該基板之-侧= 生張力而該基板之另_聽翻定狀態以達雜止該基板下陷 之目的。 前述之至少為—負載小室，亦得為複數個負載小室，以利量 取張力與壓制力更加準確。 a 該垂直驅鱗與水平賴件亦得視紐厚紅需要而施 同之壓制力無力於職板，如此當可獲得—最佳之壓制力與張 力而不必在意基板之不同 又 條件，例如厚度差異等。 器，則該第— 有利於操作者 又，該控制器亦得配置—與之紐連結之顯示 與第二麼力計可輪出讀字形態絲之偵測結果，

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I 1274792 Μ 判讀壓制力與張力。 【實施方式】 以下係參照本發明之相關附圖對若干較佳實施例所做的說明。 [實施例1] 凊芩閱第1圖所示之本發明有機物沉積裝置第一實施例構成 圖。如第1圖所示，本發明第一實施例之有機物沉積裝置包括： φ ’冗％至110内部裝載一等待沉積製程處理之基板一第一驅動 件220係設於該沉積室11〇内部用以固定該基板s周邊；一第二 驅動件240係與該第一驅動件22〇形成垂直狀態以便利用氣壓提 供張力，以防該基板s下陷；及，一設於該沉積室110頂面之旋 轉式升降機300用以轉動基板s，以利沉積室内之有機物於蒸發時 可均勻分佈於該基板S上。 此處，該沉積室110具有：一與其外部隔絕之内部空間；一 鲁形成於该沉積室110—側以供基板s進出該沉積室110之入口（未 不）；及一用以啟閉該入口之門（未示）。該沉積室110之施作係用 以配合其⑽有機物附著於基板§之沉積作業。 其次，該沉積室11〇之底緣設有真空幫浦p，用以降低沉積室 之内力亦即，為了沉積較純之有機物質於該基板S表面上 起見，因此，在沉積有機物於該基板s表面時，有必要清除沉積 室内之不純物。關於這_點，依靠真空幫浦p把沉積室110内部 之空氣抽出，即可達到消除不純物的目的。

682-KRIP 16 1274792 沉積室110内設：一板體202、一位於該板體202下方且離開 一預設距離之基板架設用平台200、與一殼體120位於沉積室一上 部内以及該基板架設用平台200之下方。該基板架設用平台200 包含：一基板底座210、一壓板208、前述第一驅動件220、及前 述第二驅動件240。 該板體202之一面設置一固定侧板204，另一面設置一水平運 動之活動側板206。該基板底座210係橫向分別設於該固定側板 • 2〇4與活動側板206之低端。該壓板208係與基板底座210平行而 可上升或下降者。 ， 殼體120具有一 c形剖面，且其一底部係呈開放狀。又，該 - 殼體120包含有··一水平分設於殼體兩端之光罩支架122 ; 一對設 於該殼體120上部用以施放磁力之板狀磁石支架124 ;及，一坐落 在該光罩支架122上之光罩126。 磁石支架124施加磁力於光罩126令其緊密接觸該基板s之 •底面，亦即緊密接觸該基板S之圖案面。 .基板底座210因盤财央透空，是_基板S四邊皆坐落於 ，一定義在該基板底座之透空部之上，因之有利於使該基板底 座210之一邊與其他各邊分離。 前述驗2G8之形狀與基板底座21{)互為對應且位於後者上 方而可由第-驅動件220操縱升降。又，當基板s下降時，謂 板2〇8係壓制於該基板之上表面兩側加以固定，且其亦具有二中

682-KRIP 17 4 K74792 央透過部。因配合基板底座210，該壓板208之一邊亦得與其他各 邊分離且與該基板底座210之一邊齊線者。 亦即，該壓板208之設於基板底座210上方，用意在於方便 "亥第驅動件220壓制置於基板底座210上之該基板s之上表面 兩邊以控制其升降。 如第2圖所示，非但該基板底座21〇之盤體中央透空，而且 在該基板之上表面與前述透空部側表面之邊界間形成有一圈步 •階，正好可供輕易置放該基板於步階上。 另外，該基板底座210設有四支定位柱13〇與四支設於定位 柱相反位置之對準柱132於基板s四周，以方便對準設置其上之 - 該基板S。 a 定位柱130係以氣壓驅動，於基板落在該基板底座21〇上以 備沉積時，提供該基板s之參考點。對準柱132亦係以氣壓驅動， 於執行基板之對準動作時，用以將該基板3移至其參考點。 • 此處，該等四支定位柱130係設於基板S之兩鄰接邊，且定 義該基板S之參考點。同時，該等另外四支對準柱132則係設於 該基板S之另外兩雜邊而與前述四妓她13G形成對恃之 勢。進行鮮該基板S時，係分職加基板側邊所產生之壓制力 於該等定位柱130。 用以升降壓板208之前述第—驅動件22〇，係利用一設於該第 -驅動件220及壓板2〇8間之傳動件212而得以往返動作。該傳

682-KRIP 18 i 1274792 $ 動件212呈棒狀，其兩端係朝相反方向彎折。 活動側板206係利用該板體202上表面一側之導桿而可自由 向外移動，其時，該活動侧板206之線性往復運動係由橫向設置 之該第二驅動件240所控制。 次如第3a與3b圖所示，前述第一驅動件220包括有：一板 狀底座222 ; —對分設於該第一驅動件22〇兩側之直立固定板 224; —移動板226係設於該兩固定板224之間以便來回其中，且 •該移動板226之正面中央設有一穿透其前方之該固定板224而突 出於外部之軸228卜伸縮風箱232係設於該移動板226與位於該 移動板後方之固定板224間，而風箱之兩端部係分別固定於該移 •動板226及固定板224之上，因之，當一設於沉積室外部之壓縮 機（未示）充氣於該風箱以致体積膨脹時，有利於線性移動該軸娜 向月ίι，-空氣注入喷嘴234係用以引進外部空氣進入該伸縮風箱 232者’· -彈簧236係環繞於軸228，其係位在該運動狀態之移動 ♦板226與位在該移動板226後方之固定板224之間，以供風箱娜 因釋出线而萎縮時，分派恢復力至該風箱232。此處有—用以壓 制或釋放該彈簧236之緩衝力控制板238係固定於該軸微上， 以控制該彈箐236之缓衝力。 按，第二驅動件240,因其形狀與功能皆與前述第一驅動件 220大致相f ’所以，此處省略其結構說明不再贅述。惟兩者之主 要差別在於：該第-驅動件22〇係垂直固設於該固定侧板與

682-KRIP 19 1274792 活動侧板206用以升降該壓板208 ;然而，第二驅動件24〇係以正 交於該第一驅動件220之姿態設置於板體202之活動側板2〇6頂 端，利用氣壓朝外移動該活動侧板206或使之復歸原位者。 同時，參考號碼 242、244、246、248、250、252、254、256、 及258各係代表底座、固定板、移動板、軸、籍制器、風箱、空 氣注入喷嘴、彈簣、及緩衝力控制板。 如第1圖所示，設於沉積冑110頂面之旋轉式升降機3〇〇係 _用_動基板S贼使有频於沉積擁能夠均勻分配於沉積室 内部之該基板S。該旋轉式升降機期包含：一第一空心轴3〇6， 係自-旋轉式升降機殼體304内部向下延伸至該沉積室110内部 之基板架設平台200之頂面；一第二空心轴3〇8，係自該第一空心 軸3〇6上方延伸至該第一空心軸306内部之磁石支架124頂面； -空氣注入器3〇2 ’係設於該旋轉式升降機咖之上部，用以自一 _機提供氣動塵力給予該第一與第二驅動件22〇與尬該等定 Φ位柱130 ;及該等對準柱132。 祕板架設平台200之光罩支架122係設於該第一空心轴33〇 之底端下方，係透過—值馬達(未示）之驅_升降光罩者。又， 設於該第二空心軸34{)底端之磁石支架则糊一圓柱(未示） 以升降該基板S者。 動裝置（未示），以供轉動基板 此有機物沉積裝置進而附加一轉 s設置其上之該基板架設平台2〇〇。

682-KRIP 20 1274792 此有機物沉積裝置糾包含一電絲與-設於該沉積室 m内-下部之有機物載舟⑷，用以蒸發及沉積有機物於該基板 S表面。 依據本實補’有關沉積核物之本裝置操作方式，將參昭 第1至3c圖說明如下： … 首先’運用-設於沉積室110外部之輸送裝置（未示），經由 該沉積室no -側之入口置入一基板3於基板架設平台2⑽之基 • 板底座210上。 其次’利用閘門關閉該沉積室110之入口後，透過複數個設 -於該沉積室110底面邊緣之小室卜將該沉積111〇之空氣排出室 外0 然後’從該置於沉積室外部之屋縮機將空氣壓入設於固定側 板204與活動侧板206之第-驅動件22〇之風箱微μ，可使該 壓板208 T降而固定基板S於基板底座21〇上。當該風箱232之 體積因壓縮機壓人空氣而脹大時，活動側板2G6之軸挪被推向 前移動，然後-設於_ 228遠端之箝制器23〇遂強制傳動件212 下降，而與該傳動件230結合之壓板208亦被迫隨之下降。 當該壓板208下降時，會壓制基板s之上表面兩側以固定之。 俟該基板s確實ϋ定後，注人空氣於第二驅動件24()以移動該活 動側板206使該第二驅動件之軸248向前推動而強迫該活動側板 206向外水平移動。

682-KRIP 21 1274792 其時，介於基板底座210與塵板208間之該基板s已然確實固 定而設於活動側板206 Λ之第二驅動件24〇被操作去強迫活動側 板挪向外移動，同時也帶動該基板s之—邊往外伸展，如此一 ^，該基板S經過整平而可水平放置4相本狀皮重而導致 其中央部發生下陷現象。 之後，魏給該設於沉· 11〇底面之電熱器14〇，同時透過 一溫度控㈣（絲)精密控繼度升高至該麵物之溶點為止以 促進其蒸發。此際，因該有機物載舟142之有機物已細始基發， ^在就可將-歡之朝（絲）㈣，關該麵物統沉積於 基板S表面。&遮門之作用在於避免蒸發前有機物載舟142上之 有機物受到雜質污染。 此時，沉積製程中之基板S係由該旋轉式升降機3〇〇帶動旋 轉’以利均勻分佈該有機物於沉積室11G内部之該基板s表面。 "14貝作業既畢，現在就可將該第二鷄件⑽之内部空氣釋出， 從而’由於環繞軸248周圍彈簀256之恢復力使然，該活動侧板 邡6—乃回到其原來位置’同時釋放施加於該基板^之張力。最後， 該第-驅動件22G亦釋出空氣使前述航2()8上升 就可由輪送裝置自該沉積室110運出。 乂土 士依據本實施例，於本裝置100之沉積室110内部實施沉積製程 日寸’於祕板208固定住基板s兩端之際，因為該基板s之一邊 可以水平舰，_結置—以面祕板s時，可_止其本

682-KRIP 22 1274792 身因為皮重而導致下陷之現象。 [實施例2] 括雖圖本㈣麵敏積裝置之第二實施例係包 基板m ίΓ、如部跋—轉承受_縣之大面積 二 '"反木5又用平台400 ’其係設於該沉積室頂部以防該基 反=兩端姻定時其中央部發生下關題；及—旋轉式升降機

:二其係動亥沉積室之頂面以轉動該基板s以利有機物 «日撕以均勻分佈於該沉積室内之基板s表面。 t和㈣有機物沉絲置之第二實_，除了基板架設用平 …H崎外’其構成與功能大致皆與該第-實施例相仿， 而省略其結構說明不再贅述。 冰加—機物沉積裝置進而包括：—控顧未示），其係在該基板 士、又於基板木叹用平台4〇〇上而兩端受到壓制力與張力作用 7以控制之用；與—顯示器（未示），其係電性連結至該控制器， 以輸出前述壓制力與張力之檢測數據。 財機物"L魏置尚包括—電熱n(未示)與-設於該沉 下如乂促進洛發有機物沉積於基板s表面之有機物載舟（未 示）。 如弟4與5圖所示，前述基板架設用平台4GG包括：-板狀底 丄4〇,-對基板固定部件仙與⑽，其係分設於該板狀底座⑽ 相對兩邊者；一斜士 宁K+移動導桿542，其係設於該板狀底座540

682-KRIP 23 4 1 1274792 表面之長度方向，致令該等基板固定部件41〇與51〇位於該等 水伟動導桿542之上表面兩端；及—張力施力部件550，其係與 =基板固定部件其巾之可被鶴者之外表面形颜直狀態，是 以當向外移動該基板固定部件時，可施加張力於該基板。 其_人’此有機物沉積裝置尚具有垂直分立於該底座54〇兩相 對端之驅動件固定側板544與側板536。 、等基板固疋σ卩件410與510係可在水平移動導桿542上沿 _水平方向移動，是以，兩者之間距可視基板s之尺寸大小加以調 整。 该基板固定部件41〇係一設於該底座54〇 一側之固定式部件 土板口疋口[5件510則為-設於該底座54〇另一側之活動式部 =’除了這-點差異外，其餘包括形狀與功能等，兩者皆無不同。 由於姻疋型與活動型基板蚊部件仙與训兩者俱為可 、移動者疋以’兩者之間距可視大面積基板$之大小予以調整， 故可容許不同面積之基板置人及實施沉積製程。 =，基板固定部件410與51(H系分別包含一固設於該水平移 ^才干542側之固定式構件412與另一側之活動式構件512，其 組構狀態為：該兩構件412與512係與設於該底座54G上表面長 度方向之該對水平移動導桿542相接觸。該基板固定部件410與 510進—步各自含有一設於該固定式構件412或活動式構件512 上表面且在長度方向延伸之下板414與514 ; 一板狀固定座仙

682-KRIP 24 t 1^74792 或516係坐落於該下板414或514上方，且彼此上下之間各介入 一直立板以確保該板狀固定座416或516與該下板414或514間 之分隔狀態，致使該基板S得以置放於其上表面，其中，各該板 狀固定座416或516係與該下板414或514形狀相當；一位置固 定板418或518係設於該固定座416或516之一侧並沿長度方向 延伸，其中，該位置固定板418或518具有L型剖面；一驅動件 固定板420或520係與該位置固定板418或518隔離且位於該位 •置固定板418或518之上方中央；一壓板426或526係可在該壓 板426或526至該固定座416或516之空間内升降，以壓制坐落 於该固定座416與516之基板S上表面，其中，該壓板420或520 係一水平延伸之板狀物；及一垂直驅動件428或528係設於該驅 動件固定板420或520之上表面中央，用以升降該驅動件固定板 420或520並施加壓制力於該基板s。 一壓制部422或522包括該壓板426或526以及位於該壓板 肇426或526上方之-移動板424《524，且該壓制部另備有複數個 縱向桿以保持該壓板426或526與移動板424或524之間的隔離 狀態。 -亥壓制部422或522計包括壓板426或526與移動板424或 524。

此處之垂直驅動件428或528係一水力或空氣壓力缸，利用 外部提供之液體或空氣壓制該基板S。 682-KRIP 25

I 1274792 前述垂直驅動件428或528之動桿上設有一第一壓力計L1， 該第一壓力計L1係可為至少一發生負載時準備承受例如伸長或壓 陷等變形之負載小室。所述之變形程度經過一變形檢測器檢測 後，先形成一電氣信號然後再轉換成一數位信號，其輸出之壓制 力以數字顯示於該控制器之顯示板上。 另外，一連結板430或530係介入該垂直驅動件428或528 之第一壓力計L1與壓板426或526之間。 § 亦即，當該垂直驅動件428或528下降壓迫基板s時，對該 基板S施加之壓制力，即負載，就傳達給該負載電池，隨即從電 氣信號轉換為數位信號而使輸出之壓制力成為數字形式。 該張力施力部件550係呈垂直豎立狀，其包括有：活動式基 板固定部件510之下板514; -固定式側板552係固設於該固定座 16之外壁上且王垂直豎立狀，一驅動件固定侧板544係、跳開該固 疋式側板552而設於該底座54〇之一側；及，一水平驅動件554 籲係設於該驅動件固定側板544之外壁上，以便在水平方向移動該 活動式基板固定部件51〇。 水平桿係介入該固定式侧板552與驅動件固定侧板之 間以保持兩者分開。 此處之水平驅動件554係一水力或空氣壓力缸，其係利用外 來勺液體或卫氣向外移動該活動式基板固定部件51〇而麼制該基 板S。

682-KRIP 26 Π74792 恭了為—準備承受例如伸長或壓轉變形所施加負 恭/述之度經過—變形檢測ϋ檢測後，先形 然後再轉換成一數位信號，其輪出之壓制力以數字 顯不於該控制器之顯示板上。

亦P由於.亥水平驅動件554之動桿係在水平方向朝外移動， 所以基板S之-邊被拉伸而兩相鄰則予岐，其時，施加於該基 板S之張力（即張力負載)遂傳達至該負載小室，然後信號從電氣 信號轉換域健·容許張力喊字形式_。 雖然°亥第與第二壓力計L1與L2各具有-個單一負載小室， 但如各含複數個負載小賴更佳，更有利於均社準雜測出負 載。 另外4垂直驅動件428或528及該水平驅動件554係可視基 板S之厚度而施以不等之壓制力與張力。 從而，利用該第一與第二壓力計量取施加於該基板s之壓制力 與張力後，所得之值經過處理成為該壓制力與張力資料。將資料 代入一反饋電路後’即可將一沉積製程自動化以供大量生產之用。 在架設基板S於基板架設平台200之過程中，該基板3之下陷 可分為三個步驟。在第一步驟中，由於壓板426與526尚未壓迫 到该固定座416與516，因此，坐落於固定座416與516之該基板 S本身並未承受到任何負載，此時，該基板s因本身皮重而發生如

682-KRIP 27 1274792 第6a圖所示之下陷量” a”為最大下陷值。 人如第6b圖所示之弟二步驟中，該基板s係坐在該固定座416 與516之上，而原本位在該固定座416與516上方之壓板伽與 526則因下降而施加壓制力於該基板s兩端。此時，在兩端皆為壓 板426與526壓制之情況下，該基板之下陷量係如圖中所示 之b ，其值小於基板完全未被壓制時之” a，，。此種基板s兩 端雖_被壓板426與526壓制於固定座416與516上而絲板S 鲁中央仍不免發生下陷，乃係該基板S本身皮重所致。 又如第6c圖所示之第三步驟中，該基板s係被壓板4邡與5沈 壓制於固定座416與516上，惟藉由其中位於該基板s 一端之固 '疋座516與壓板526被向外移動以致施加一張力於該基板S，乃得 以避免發生岫述下陷問題。理由是：兩端皆被壓板426與5邡壓 制於固疋座416與516上之該基板s，其-邊因為受到張力作用而 伸展，故能克服該基板S因本身皮重而造成之下陷問題。 Φ 弟7a兵7b圖係分別為具有兩間距較寬邊且被壓板426與526 塵制於固定座416與516上加以固定之基板s平面視圖與一壓制 力及-張力同時作驗該基板s，其下陷量vs夹持長度之曲線關 係圖。今如第7b圖所示，可知該壓板426與526夾持基板§之長 度若增加，縣板s之下陷量將減少。又，第7b圖巾，該基板s 自由坐落在該固定座416與516之場合，該基板s之下陷^變化 係如圖中-實線所示者；其次，該基板s之兩對邊係利用該壓板

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I 1274792 426與526加以固定之場合，則該基板s之下陷量之隨該敵426 兵526之夹持長度之改變情形係如圖中一虛線所示者；再其次， 該基板S之兩對邊係被該壓板426與526固定於固定座416與516 上而另一鄰邊若藉由該固定座416與51Θ與壓板426與526之向 外移動而伸展之％合，則該基板S之下陷量之隨該壓板eg與526 之夾持長度改變之情況，係如圖中一折線所示者。 弟b固了知，¥基板S兩端被該慶板426與52Θ固定於固 籲定座416與516上而-張力係施加於該基板s之另一邊時，該基 板S之下陷量為最小。 另外，亦可得知：該基板s之夹持長度增加，則該基板s之下 陷減少。 第8a與8b圖係分別為具有兩間距較窄邊且被壓板426與526 壓制於固疋座416與516上加以固定之基板s平面視圖與一壓制 力及-張力同時作用於該基板8，其下陷量vs夾持錢之曲線關 馨係圖。今如第8b圖所示，可知該壓板426與526夾持基板s之長 度若增加，縣板s之下陷量將減少。又，f 7b圖巾，該基板s 自由坐落在該固定座416與516之場合，該基板s之下陷量變化 係如圖中-點線所不者；其次，該基板s之兩對邊係糊該壓板 426與526加以固定之場合，則該基板s之下陷量之隨該壓板伽 與526之夾持長度之改變情形係如圖中一實線所示者；再其次， 孩基板S之兩對邊係被該壓板426與526固定於固定座416與516

682-KRIP 29 1274792 i $ 上而另一鄰邊若藉由該固定座416與516與壓板426與526之向 外移動而伸展之場合，則該基板S之下陷量之隨該壓板426與526 之夾持長度改變之情況，係如圖中一雙點線所示者。 從第8b圖可知，當基板s之相對兩邊係被該壓板426與526 固定於固定座416與516上而一張力係施加另一鄰邊時，該基板s 之下陷量為最小。 再者，吾人可見該基板S之夾持長度增加，則該基板s之下 _ 陷減少。 從而，吾人可知··當一張力施加於該基板s之一邊而兩相鄰 邊仍為該壓板416與516所壓制之場合，該基板s之下陷量遠較 基板雖坐落於固定座416與516上但別無其他受力之場合或基板 兩邊雖被壓板426與526固定但未施加張力之場合之基板下陷量 為小；以及，該基板S之夾持長度若增加，則其下陷量將降低。

其次，吾人亦可得知：於該基板s之兩間距較窄邊坐落於固 疋座416 14 516上且§ -張力施力口於該基板$之一邊而其鄰接之 兩邊係以壓板426與526加以_之場合，該基板s之下陷量比 較該基板s雖坐落於固定座416與516上但並未施於任何力量之 場合或該基板s之兩邊係以壓板426與526固定但未施以張力之 場合時之絲板S下陷量為小。另外，若基板之續長度增加， 邊，其下陷量亦 則基板之下陷減少，同時，若固定基板之兩較寬 小於固定基板之兩較窄邊。

682-KRIP 30 1274792 是以，依據本發明第二實施例，該基板架設平台400之操作 方式係如第4與5圖所示，將基板S坐落在設於該基板架設平台 4〇〇兩側之基板固定部件410與51〇之固定座416與516上，再將 空氣分別注入設於前述基板固定部件41〇與51〇兩邊之垂直驅動 件428或528,藉以下降該垂直驅動件428或528之動桿以固定該 基板S於該固定座416與516上，因而下降該壓板426與526以 固定基板s兩邊於該固定座416與516上。其次，該基板s係在 其兩鄰接邊俱為簡板426與526壓制之情況下，操作該水平驅 動件554以移動位在底板一側之該基板固定部# 510而使基板之 另一鄰接邊水平伸展者。 此處’该基板S係穩定介入該固定座416與516及壓板426與 ’、邊係透過水平驅動件554之操作而向外移動，因 此’曰该基板S乃得以水平置放且不致因其本身皮重而導致下陷。 疋以基板-旦進人核置找積室㈣安置域板架設平 台400以供實施有機物沉積製程時，該基板s 展而可防朗本身賴引起下_題。 弟9圖所不係本發明之一種沉積有機物之方法，其包括有：將 沉積室之步驟·，·固定該基板兩邊之步驟_ ;伸 展该基板一邊之步驟·、 s·及，從該缺〜 冗積—有機物於該基板上之步驟 X"知至運出该基板之步驟S640。 將一基板運w積室之該步__用-沉積室110外界

682-KRIP 4 1274792 —輪送裝置（絲)將—基槪__室UG峰絲板架設平 台400之基板固定部件41〇與51〇之固定座416與灿上者。 口疋雜板兩邊之步驟S61Q係利用該垂直驅動件微或娜 以固定錄在該基板崎部件41G與51()上之基板s兩邊者。 又土板迻之步驟S62〇係在基板$兩邊皆已固定於該基 板固疋轉410與510後，利用設於基板/1^部件別之張力施 力部。件550之水平驅動件聊使基板s之一邊向外伸展者。 和有機物於基板上之步驟S63〇係利用一電熱器（未示)之 …促進有機物条發及沉積蒸發之有熱於該基板$上者。 攸该沉積室運出該基板之步驟襲係從該 沉積製程之基板者。 匕疋成 [實施例三] _中並無顯示’然本發明有機物沉雜置之第二實施例係包 ，基板m(ii) ’其内部置放一準備承受沉積製程之大面積 土 土反木。又用平台6〇0 ’其係設於該積室頂部以防該基 二-，兩知被固疋時其中央部發生下陷問題；及一旋轉式升降機 ^ H於如積室之頂面以轉動該基板S以利有機物 祕時得《羽分胁咏積£仅基衫㈣。 台mrr機物沉積裝置之第三實施例’除了基板架設用平 v丈、'且件外，其構成與功能大致皆與該第一及第三實施 例相仿，故而省略其結構說明不再贅述。

682-KRIP 4 Π74792 t 請參閱第l〇a、10b、與10c圖，在本發明第三實施例中，該基 板架設用平台600包括有··固定式支架;活動式支架612 ;壓 板620與622;至少一對垂直驅動件630 ;至少一水平驅動件632 ; 及基板接觸墊640。 該固定式支架610係一在長度方向延伸之板體，且在其一端部 向下彎折。 5亥活動式支架612係與别述固定式支架61〇呈水平狀態，日甘 • 一端利用水平驅動件632接於該固定式支架610，另一端下彎形成 一彎折部而與該固定式支架610之彎折部遙相對望，其中，該活 動式支架612較固定式支架610為短。 • 该壓板620與622具有對稱之“L”形斷面，因兩者係可升高 或降低，故可接觸或離開固定式支架610與活動式支架612之底 面。 该對垂直驅動件630可為螺栓或空氣壓力缸。透過該螺栓之手 •動旋轉或該空氣壓力缸柱塞之自動往復操作，彼等可對位於該等 壓板622間之基板S進行施壓或解壓，藉使該基板安置於前述基 板架設用平台60〇。亦即，若該等垂直驅動件630倶為螺栓，則該 等壓板622係可透過其螺紋之旋動而接觸或離開該固定式支架 610與活動式支架612者。 前述固定式支架610與活動式支架612之任一邊上表面，皆得 为別$又置若干對垂直驅動件630，同時，若該等垂直驅動件63〇

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I 1274792 皆為空氣壓力缸，則其柱塞在垂直方向穿透該固定式支架6i〇與 動式支木612之上表面側邊，且固定於面對彼此之該固定式支 架610與活動式支架612之前端部。 該垂直驅動件632係可為一螺栓或一空氣壓力缸，其係可利 用手動旋轉螺栓或自動往復操作該空氣壓力缸之柱塞藉以對該置 於該兩基板接觸墊622間之基板S施壓或解壓，藉以安置該基板 S於箣述基板架设用平台6〇〇者。亦即，若該垂直驅動件632係一 •螺栓之場合，則該壓板620與622將可透過該螺栓之轉動及藉由 其表面螺紋之旋動而接觸或離開前述固定式支架61〇與活動式支 架 612。 複數個水平驅動件632亦得設置於該活動式支架612 —外側 之上部，同時，若該水平驅動件為一空氣壓力缸時，其柱塞 係在水平方向穿透活動式支架612 一外侧之上部且固定於其前端。 複數個基板接觸墊640係設於該固定式支架61〇、活動式支架 _ 612、及壓板620與622之相對面内緣。又，各該基板接觸墊64〇 皆屬於高度磨擦力之軟質矽墊或橡膠墊，以防基板s表面受損。 此外，該等基板接觸墊640係如第11圖所示各具有一朝外下 傾一Θ角之傾斜表面，因之初始在裝設基板s於該等基板接觸墊 640日守兩:¾¾各坐點會略主鼓起狀，但基板一邊經拉伸後即可防其 下陷，使該基板保持一幾乎完全平整之表面。

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I 9 1274792 所述各該基板接觸墊640之傾角宜在〇。〜90。之範圍内。從 而’依據本發明第三實施例擬固定基板S於該基板架設用平台600 日守’该基板S係利用一設於前述沉積室110外部之輸送裝置（未 不）’將其運送至本沉積裝置（未示）之基板架設用平台6〇0以備實 施沉積有機物作業。此際，該基板S應係坐落於壓板620與622 上之該等基板接觸墊640之間，並因基板本身之皮重使其中央部 呈現下陷狀態。 鲁 其次，如第10b圖所示，開始運作複數個垂直驅動件630，該 等垂直驅動件630係設於彼此對面而立之固定式支架61〇與活動 式支架612之上表面一側，以升起該等壓板62〇與拟2。今因該等 垂直驅動件630之柱塞前端部係埋設於該等壓板62〇與6找之内， 所以，該基板s實質上係固定於該壓板62〇與固定式支架61〇之 間及該壓板622與活動式支架612之間兩端。此時，該基板s中 央略顯下陷。這裡，若將該基板s固定，因該等基板接觸塾64〇 •俱屬於軟質材料且設於該基板s上下兩表面，故可防止基板表面 受損。 . 繼而，如第i〇c圖所示，操作設於該活動式支架612外壁之 複數個水平驅動件632,使該活動式支架612朝外移動而與該固定 式支架610分離’及與該從活動式支架612下方支擇基板s之壓 板622在-起。亦即’該基板s之一側係利用設於前述固定式支 架610與壓板620之該等基板接觸墊64〇加以固定，而該基板s

682-KRIP 35 1274792 之另一側則係利用設於前述活動式支架610與壓板622之該等基 板接觸墊640加以固定者。此時，為活動式支架與壓板622 所固定之基板S另一侧，係透過該等水平驅動件632之操作而向 外移動，因此，張力係施加於該基板S之另一側，致令該基板s 可在水平方向受到支撐。 另一種選擇係如第12a圖所示，於固定基板s之四邊後，張力 亦可施加於該基板S之四邊於四個方向以防其發生下陷。 又，另一種選擇係如第12b圖所示，於壓制基板s之四邊後， 張力亦可施加於該基板S之斜角方向。本發明之上述觀念可以擴 大到任一方向，應用可以非常廣泛。 再者，本發明亦得應用於一可撓性基板，例如：塑膠基板、不 銹鋼基板、或易碎玻璃基板、等。 [產業應用]

力…依本發明之以上· ’ _可見—基置人沉積室内之基板 木叹平台後，湘該基板兩邊@定而另外—邊向外移動之方式施 加張力於職板，可藉雜止基板，即使大面射然，因本身皮 重而導致其巾央部發生下陷之現象。 以上 ’對於熟悉本技術領域之人士而言，本發明之基本理念 當可運用於其他不_式或方式，而本發明所提示之實施値

2=而_以關其實施顧者，惟任何引伸之變化仍應受 申味專利範圍各巾請項之節制。 682-KRIP 36 1274792 » 【圖式簡單說明】 為促使本發明之結構、特徵、及效用等更容易瞭解起見，以下茲 配合實施例提供若干相關圖式以利說明，其中： 第1圖所示係本發明有機物沉積裝置第一實施例之構成侧面視 圖； 第2圖所示係本發明有機物沉積裝置之基板對準器平面視圖； 第3a與3b圖所示係分別為本發明有機物沉積裝置之第一與第 φ 二驅動件之平面與側面視圖； 第4圖所示係本發明有機物沉積裝置第二實施例之基板架設平 台立體視圖； . 第5圖所示係第4圖之斷面圖； 第6a至6c圖所示係固設一基板於本發明有機物沉積裝置第二 實施例之基板架設平台之程序示意圖； 第7a與7b圖所示係本發明有機物沉積裝置第二實施例之分別 籲》又置於該基板木5又平台上之基板平面視圖，與利用前述基板架設 平台之固定支撐物支撐該基板_時’其下陷程度與夾持長度之 關係曲線圖， 第8a’、8b圖所不係分別為本發明有機物沉積裝置第二實施例 ，设置於祕板架設平台上之基板平面棚，·綱用前述基板架 认平CT之□&支擇物支撐該基板兩側時，其下陷程度與夾持長度 之另一關係曲線圖； 、 第9圖所轉本發明—種沉積有機物方法之方塊圖；

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I 1274792 第10a至10c圖所示係固設一基板於本發明有機物 三實施例之基板架設平台之程序示意圖； $衣置第 第11圖所示係第l〇a至l〇c圖中該基板架設平台之基板接觸 墊之部份示意圖；及 第12a與12b圖所示係固設方法概念圖，其中第i2a圖顯示基 板係在垂直與水平方向伸展，而第12b圖則顯示基板係朝斜角方 向伸展者。 【主要兀件符號說明】

Li第一壓力計 L2第二壓力計 p真空幫浦 S基板 S600步驟 S610步驟 S620步驟 S630步驟 S640步驟 100裝置 110沉積室 120殼體

682-KRIP 38 1274792 122光罩支架 124板狀磁石支架 126光罩 130定位柱 132對準柱 140電熱器 142有機物載舟 φ 200基板架設用平台 202板體 204固定侧板 206活動侧板 208壓板 210基板底座 212傳動件 • 220第一驅動件 222板狀底座 224固定板 226移動板 228軸 230箝制器 232伸縮風箱 682-KR1P 39

I 1274792 234喷嘴 236彈簧 238緩衝力控制板 240第二驅動件 240’第二驅動件 242底座 244固定板 φ 246移動板 248軸 250箝制器 252風箱 254空氣注入喷嘴 256彈簀 258緩衝力控制板 • 300旋轉式升降機 302空氣注入器 304旋轉式升降機殼體 306第一空心軸 308第二空心軸 330第一空心轴 340第二空心軸

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I 400基板架設用平台 410基板固定部件 412固定式構件 414下板 416板狀固定座 418位置固定板 420壓板 φ 422壓制部 424移動板 426壓板 428垂直驅動件 430連結板 510活動式基板固定部件 512活動式構件 _ 514下板 516板狀固定座 518位置固定板 520壓板 522壓制部 524移動板 526壓板 682-KRIP 41 T274792 528垂直驅動件 530連結板 536侧板 540板狀底座 542水平移動導桿 544驅動件固定侧板 550張力施力部件 • 552固定式侧板 554水平驅動件 600基板架設用平台 610固定式支架 612活動式支架 620壓板 622壓板 Φ 630垂直驅動件 632水平驅動件 640基板接觸墊 682-KRIP 42

Claims (8)

1274792十、申請專利範圍：1 · 一種有機物沉積裝置 包括：

Λ

一沉積室，係具有一與外部隔絕之内部空間；一入口，係 設於該沉積室-_供基板進出；—門，係物姐或關閉該 入π ; 一基板架設平台，储於該沉積室—頂部，肋施加張力 於-基板以防該基板發生下陷現象，其實施方式為糊壓制力 • 固定已送入該沉積室之基板兩邊及保持該兩邊固定而朝外移 動其他一邊； 一旋轉式升降機，係耦合於該基板架設平台之頂面中央， 以供轉動或升降該基板架設平台；及， 一電熱器與一有機物載舟，係設於該沉積室底部，用以促 進有機物蒸發並沉積於該基板上。 2·如申請專利範圍们項所述之裝置，其中該基板架設平台 包括： σ又於其内之基板底座，係容許其一邊與其他各邊分離，該 基板底座之中央有一透空部，是以，一基板之四邊皆可坐落於 一定義在該基板底座之透空部； 一壓板，係設於該基板架設平台上方且可上升或下降者， 於降下時，該壓板係用以壓制基板之上表面兩側及容 許位於該基板一側之該壓板一邊離開與該基板底座一 侧齊線之另一邊，且該壓板中央為一盤狀透空部；

682-KRIP 43 1274792 一第一驅動件係朝下設於該壓板一上表面任一側上方，依導 入或釋出空氣之不同情況對該基板上表面之一協力邊進行施 壓或解壓動作；及 一第二驅動件係與該第一驅動件正交且固定於該壓板之一 側’藉使兩述基板底座與壓板依供放空氣之不同條件，呈現一 邊與另一邊分離之線性往復動作，則在基板兩端被壓板固定之 情況下，利用往復動作使該基板之另一邊因可向外伸展而防止 基板下陷之現象。 3·如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中該基板底座設有 一基板對準器。 4·如申睛專利範圍第3項所述之裝置，其中該基板對準器包 括有： 四支疋位柱係分設於該基板之相鄰兩邊，致令兩組定位柱各 設於一邊之兩遠端位置，且各定位柱於一固定位置提供 參考點；及 四支對準㈣分設_基板之另—__邊，致令兩組對準 柱各設於-邊之兩遠端位置以供往復動作，於使用該等對準柱 進行對準該基板時，係_迫縣板之相_邊並移動該基板 至定位柱位置之方式為之。 5·如申請專利範圍第4項所述之裝置，其中該第—與第二驅 動件各包括有： 一板狀底座；

682-KRIP 44 1274792 複數個設於該底座關—上表面之直立固定板； 兩固定板之伽便往復來回其巾之鶴板，該移 料之$面中央設有—穿透其前方之朗定板而突出於 -伸縮風㈣設於該移動板與位於該移触後方之固定板 間’而風箱之兩端部係分別固定於該移動板及固定板之上，其 係用以當—設於沉魅外部之_機充氣於該風箱以致体積 _ 膨服時，有利於線性移動該移動板之軸向前； -空氣注人噴嘴係用以引進外部空氣進人該伸縮風箱者； 及， -料係魏雜，其餘在闕植紋雜板與位在 該移動板後方之固定板之間，以供風箱因釋出空氣而萎縮時， 分派恢復力雜闕；從而，該伸縮風敎前向或後向風 力大小，端視風箱進氣與否而定。 • 6.如申請專利範圍第i項所述之裝置，其中該基板架設平台 包括： k板狀底座； 一為活動式；及， 正 -張力施力部件倾脑動式基油定部件—外表面 交，以便_移_基板岐部件如施域力於該基板

682-KRIP 45 i 1274792 t 7·如申請專利範圍第6項所述之裝置，其進而包括： 控制為，其係用以控制該基板固定部件所提供之壓制力 與該張力施力部件所提供之張力者。 8·如申請專利範圍帛7項所述之裝置，其中各該基板固定部 件包括： 一較基板固定部為長之延伸下板； 一板狀固定座係坐落於該下板上方，且容許該基板置放於 _ 其上表面’其中，各該板狀固定座係與該下板形狀相當； 一位置固定板係設於該固定座之一側並沿長度方向延伸， 且該位置固定板具有L型剖面； 一驅動件固定板係與該位置固定板隔開且位於該位置固定 板之上方中央； 壓板係可在該驅動件固定板至該固定座之空間内升降， 以對坐洛於該固定座之基板上表面進行施壓或解壓動作，且該 •壓板係-水平延伸之板狀物；及 垂直驅動件係設於該驅動件固定板之上表面中央，用以 升降該驅動件固定板以施加壓制力於該基板，且該垂直驅動件 尚有一設於前端之動桿以連結該壓板。 9·如申明專利範圍第8項所述之裝置，其中該基板架設平台 進行包括： 一對水平移動導桿位於該基板固定部件下方，係用以移動該 基板固定部件，使部件與部件之距離可視基板尺寸予以^周

682-KRIP 46 1274792 整。 1〇ι如3申請專利細第9項所述H其中難直驅動件在 v、動桿上设有一第一壓力計。 11·”如申請專利範圍第10項所述之裳置，其中該第一壓力計 至少為一負載小室。 12·如申请專利範圍第11 ^ 〆 乏衣置，其中該垂直驅動件 係一水力或氣動缸。 2如中請糊_第12項所述n其找張力 件包括： 座外壁； 固定式側板，侧設於該下板與基板目定部件之 固定 動件口疋側板，係、自該固定式側板朝夕卜配置而暨立 於该底座一側之邊緣；及， 水平驅動件係言曼於該驅動件固定側板之外I，以驅動 該活動式基板，部躲水平方向聽加張力麟基板，且該 w -°動件另有一设於韵端之動桿以連結該活動式基板固定 部件。 14.如申請專利範圍第13項所述之裝置，其中該水平驅動件 之動桿上設有一第一壓力計。 15·如申請專利範圍第14項所述之裝置，其中該第一屡力計 至少為一負載小室。 16·如申請專利範圍第15項所述之裝置，其中該垂直驅動件

682-KRIP 47 I 1274792 係一水力或氣動缸。 π.如申請專利範圍第11或15項所述之裝置，其中該至少一 負載小室係為複數個負載小室。 18. 如申請專利範圍第17項所述之裝置，其中該垂直與水平 驅動件係可依據基板厚度而施以不同之壓制力與張力。 19. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該控制器係電性 連結一顯示器，以利用數字形式輸出該第一與第二壓力計之檢 出結果。 20· —種有機物沉積方法，包括以下步驟： 運送一基板至沉積室内一基板架設平台之固定座之步驟； 利用一垂直驅動件將坐落於基板固定部件上之基板兩側 加以固定之步驟； 利用設於基板固定部件之張力施力部件之水平驅動件，以 向外拉伸該基板一邊之步驟； _ 於該坐落於基板固定部件之基板呈伸展狀態時，對該絲 實施有機物沉積作業之步驟；及 「 將已70成有機物沉積作業之基板運出該沉積室之步驟。 21·如申請專利範圍第丨項所述之裝置，其中該基板架設平 台包括： —固定式支架係一在長度方向延伸之板體，且在其一端 部向下彎折；

682-KRIP 48 1274792 -活動式支架係與IT述固定式支架呈水平狀態，其一端 利用水平驅動件接於該固定式支架，另一端下彎形成一彎折部 而與該固定式支架之彎折部遙相對望； 複數個壓板與係可升高或降低以接觸或離開該固定式支 架與活動式支架之底面，彼等皆具有對稱之” L”形斷面； 複數個垂直购件係分設於定式支架與活動式支架 之上表面-侧’且該等垂直驅動件係垂直穿人該上表面後， ❿ 細疋式支架與活動式支架之前端而呈互望之勢； 複數個水平軸件係在水平方向穿透該活動式支架外側 一上表面且固定於該支架前端；及， 複數個基板_㈣設__歧架、騎動式支架、 及該壓板之相對内緣面。 22.如申請專利範圍第21項所述之裝置，其中各該垂直驅動 件係一螺栓或空氣壓力缸。 • 2\如_請專概圍第22顧叙錢，射各該基板接觸 ^ 墊係以一種高度磨擦力之軟性材料製得，且其一表面具有向 „ 外下傾之預設角度，藉以極小化基板之下陷程产。 24. 如申請專利範圍第23項所述之裝置，其中各該基板接觸 墊係以矽墊或橡膠材料製得。 25. 如申料娜Μ 24項職之鼓，射㈣之較佳預 設角度為0〜90°。

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