JP4178249B2 - 有機物蒸着装置およびその蒸着方法 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 title claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 461
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 41
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 29
- 238000007665 sagging Methods 0.000 claims description 29
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 26
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 20
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 12
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 9
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims description 9
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 claims description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 239000007779 soft material Substances 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- WMAXWOOEPJQXEB-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-5-(4-phenylphenyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)O1 WMAXWOOEPJQXEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWXGSYPUMWKTBR-UHFFFAOYSA-N 4-carbazol-9-yl-n,n-bis(4-carbazol-9-ylphenyl)aniline Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2N1C1=CC=C(N(C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=C1 AWXGSYPUMWKTBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 4-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n-bis[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000837344 Homo sapiens T-cell leukemia translocation-altered gene protein Proteins 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100028692 T-cell leukemia translocation-altered gene protein Human genes 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Description
本発明の第1実施形態による有機物蒸着装置は、図1に示したように、内部に搭載された基板Sに蒸着が行われるチャンバー110と、このチャンバー110の内部に備わって基板Sの側面を固定する第1駆動部220と、この第1駆動部220と直交する上部に設けられ、基板Sが垂れないように空圧によって引張力を提供する第2駆動部240と、前記チャンバー110の上面に備わって、このチャンバー110の内部に設けられた基板Sに有機物質を気化して蒸発する過程で、基板Sの全体に有機物質が分布されるように回転する回動昇降部300と、から構成される。
本発明の第2実施形態による有機物蒸着装置は、図示してないが、内部に搭載された基板Sに蒸着が行われるチャンバー(図示せず)と、このチャンバー内の上側に備わって、基板Sの両端を固定した状態で大型化基板Sの垂れを防止する基板搭載台400と、前記チャンバーの上面に備わって、このチャンバーの内部に設けられた基板Sに有機物質を気化して蒸発させる過程で、全体の基板Sに有機物質が分布されるように回転する回動昇降部(図示せず)と、から構成される。
本発明の第3実施形態による有機物蒸着装置は、図示してないが、内部に搭載された基板Sに蒸着が行われるチャンバー(図示せず)と、このチャンバー内の上側に備わって、基板Sの両端を固定した状態で大型化基板Sの垂れを防止する基板搭載台600と、前記チャンバーの上面に備わって、このチャンバーの内部に設けられた基板Sに有機物質を気化して蒸発する過程で、全体の基板Sに有機物質が分布されるように回転する回動昇降部(図示せず)と、から構成される。
110 チャンバー
130 位置固定シリンダー
132 整列シリンダー
140 加熱部
142 有機物ボート
200 本発明の第1実施形態による基板搭載台
204 固定側板
206 移動側板
208 加圧ホルダー
210 基板安着ホルダー
212 伝達部
220 第1駆動部
240 第2駆動部
300 回動昇降部
400 本発明の第2実施形態による基板搭載台
410,510 基板固定部
412 固定部材
414,514 下板
416,516 固定ホルダー
418,518 位置固定板
422,522 加圧部
424,524 移動板
426,526 加圧ホルダー
428,528 垂直方向駆動部
540 ベース
542 水平移動ガイド
550 引張力提供部
552 固定側板
554 水平方向駆動部
556 移動軸窓
L1,L2 第1および第2圧力測定部
600 本発明の第3実施形態による基板搭載台
610 固定ホルダー
612 移動ホルダー
620,622 加圧ホルダー
630 垂直方向駆動部
632 水平方向駆動部
640 基板接触部
Claims (24)
- 有機物蒸着装置であって、
外部と隔離される内部空間が備わり、一側に基板が搬入または搬出される出入口および前記出入口を開閉するゲートが備わったチャンバーと;
前記チャンバー内の上側に備わって、搬入された基板の両端を加圧力によりそれぞれ固定し、その固定された基板の両端のうち一端を外側方向に移動して基板の垂れ量を減少させるように基板に引張力を提供する基板搭載台と;
前記基板搭載台の上面中心部に結合されて前記基板搭載台を回転または昇降させる回動昇降部と;
前記チャンバー内の下部に設けられ、有機物質を気化して基板に蒸発させる加熱部および有機物ボートと;
を含んで構成され、
前記基板搭載台は、
前記基板搭載台の内部に設けられ、基板の縁部4辺が安着されるように中央部が貫通された板状に形成され、その一側が他側から分離される基板安着ホルダーと;
前記基板安着ホルダーの上側に設けられて昇降し、下降時に基板の上面縁部を加圧して基板を固定し、中央部が貫通された板状に形成され、前記基板安着ホルダーと同一線上でその一側が他側から分離される加圧ホルダーと;
前記加圧ホルダーの上側縁部に下方に向かって設けられ、空気の流入または排出によって基板の縁部を加圧または減圧するように上下往復運動をする第1駆動部と;
前記第1駆動部と直交配置され、分離される加圧ホルダーに固定され、空気の流入または排出によって左右往復運動をして両端が固定された基板の一端を引っ張って垂れを防止するように、一側が分離された基板安着ホルダーおよび加圧ホルダーを左右に往復させる第2駆動部と;を含むことを特徴とする有機物蒸着装置。 - 前記基板安着ホルダーには、基板整列手段がさらに設けられたことを特徴とする請求項1記載の有機物蒸着装置。
- 前記基板整列手段は、
接した2辺縁部に2個ずつ位置され、所定位置で基準点になる4個の位置固定シリンダーと;
前記位置固定シリンダーとの対向位置にそれぞれ設けられ、他の2辺縁部に2個ずつ位置させられて往復運動をする4個の整列シリンダーと;を含み、
前記整列シリンダーが基板の接する2辺を加圧して移動し、位置固定シリンダーの位置まで移動して基板を整列させることを特徴とする請求項2記載の有機物蒸着装置。 - 前記第1および第2駆動部は、
板状に設けられるベースと;
前記ベースの上面両端に上方に直立するように設けられる固定板と;
前記固定板に介在させられて介在方向に往復運動をし、先端中央部に設けられた軸が前方の固定板を貫通して突出させられるように設けられる移動板と;
前記後方の固定板と移動板との間に両端が固定された状態で備わり、内部に空気が充填されて体積が増加すると、軸を前方に直進させるベローズと;
前記ベローズに外部から流入する空気を注入する空気注入ノズルと;
前記ベローズからの空気の排出により収縮する過程で、ベローズに復元力を提供するように移動板と固定板との間に備わった軸の途中に設けられるスプリングと;から構成されることを特徴とする請求項3記載の有機物蒸着装置。 - 有機物蒸着装置であって、
外部と隔離される内部空間が備わり、一側に基板が搬入または搬出される出入口および前記出入口を開閉するゲートが備わったチャンバーと;
前記チャンバー内の上側に備わって、搬入された基板の両端を加圧力によりそれぞれ固定し、その固定された基板の両端のうち一端を外側方向に移動して基板の垂れ量を減少させるように基板に引張力を提供する基板搭載台と;
前記基板搭載台の上面中心部に結合されて前記基板搭載台を回転または昇降させる回動昇降部と;
前記チャンバー内の下部に設けられ、有機物質を気化して基板に蒸発させる加熱部および有機物ボートと;
を含んで構成され、
前記基板搭載台は、
板状のベースと;
前記ベースの上面両端で固定する基板の両端と平行にそれぞれ備わって、一端は固定式で、他端は移動式で基板に圧力を提供する基板固定部と;
前記基板固定部のうち移動式基板固定部の外側面に直交状態で備わり、基板固定部を外側方向に移動して基板に引張力を与える引張力提供部と;から構成されることを特徴とする有機物蒸着装置。 - 前記基板固定部で提供する加圧力と、引張力提供部で提供する引張力とを制御する制御部がさらに設けられることを特徴とする請求項5記載の有機物蒸着装置。
- 前記基板固定部は、
長さ方向に延長され、基板の固定部位よりも長い板状に備わる下板と;
前記下板と同一形状に上側に位置させられ、上面に基板が載置される板状の固定ホルダーと;
前記固定ホルダーの一側縁部に設けられ、長さ方向に延長される断面"L"(この"L"はLの点対称の形状を意味する)状の位置固定板と;
前記位置固定板の上側中央部に離隔状態で設けられる板状の駆動部固定板と;
前記駆動部固定板と前記固定ホルダーとの離隔空間で上下に移動して固定ホルダーに位置された基板の上面を加圧または減圧し、長さ方向に延長される板状の加圧ホルダーと;
前記駆動部固定板の上面中央部に備わって、基板に圧力を提供するように移動軸の先端が固定された加圧ホルダーを昇降させる垂直方向駆動部と;から構成されたことを特徴とする請求項6記載の有機物蒸着装置。 - 前記基板固定部の下部には、その基板固定部の位置をそれぞれ可変とし、基板の大きさによって位置を調節する水平移動ガイドがさらに設けられることを特徴とする請求項7記載の有機物蒸着装置。
- 前記垂直方向駆動部の移動軸上には、第1圧力測定部がさらに設けられることを特徴とする請求項8記載の有機物蒸着装置。
- 前記第1圧力測定部は、ロードセルであることを特徴とする請求項9記載の有機物蒸着装置。
- 前記垂直方向駆動部は、空圧または油圧シリンダーであることを特徴とする請求項10記載の有機物蒸着装置。
- 前記引張力提供部は、
前記基板固定部の下板および固定ホルダーの外側壁に結合される板状の固定側板と;
前記固定側板と外側方向に離隔された位置に設けられ、ベースの一側縁部に直立させられるように固定された板状の駆動部固定側板と;
前記駆動部固定側板の外壁に設置され、移動式基板固定部を水平方向に移動して基板に引張力を提供するように、移動軸の先端が移動される基板固定部に固定された水平方向駆動部と;から構成されることを特徴とする請求項11記載の有機物蒸着装置。 - 前記水平方向駆動部の移動軸上には、第2圧力測定部がさらに設けられることを特徴とする請求項12記載の有機物蒸着装置。
- 前記第2圧力測定部は、ロードセルであることを特徴とする請求項13記載の有機物蒸着装置。
- 前記水平方向駆動部は、空圧または油圧シリンダーであることを特徴とする請求項14記載の有機物蒸着装置。
- 前記ロードセルは、少なくとも一つ設けられることを特徴とする請求項10または14記載の有機物蒸着装置。
- 前記垂直および水平方向駆動部は、
基板の厚さに応じて基板に加える加圧力および引張力が変わることを特徴とする請求項16記載の有機物蒸着装置。 - 前記制御部には、
電気的に連結され、第1および2圧力測定部で検出された結果値が数値として出力されるディスプレイがさらに設けられることを特徴とする請求項17記載の有機物蒸着装置。 - 基板をチャンバーの内部に設けられた基板搭載台の固定ホルダーに搬入する基板の 搬入段階と;
前記基板が両側の基板固定部に安着されて垂直方向駆動部により基板の両側を固定する基板の両側固定段階と;
前記基板の両側を固定した基板固定部のうちいずれか一つの基板固定部に設けられた引張力提供部の水平方向駆動部により、基板の一側を外部方向に引っ張る基板の一側引張段階と;
ローディングされた基板に有機物を蒸着する基板の蒸着段階と;
蒸着が終了した基板を外部に搬出する基板の搬出段階と;から構成されることを特徴とする有機物蒸着方法。 - 有機物蒸着装置であって、
外部と隔離される内部空間が備わり、一側に基板が搬入または搬出される出入口および前記出入口を開閉するゲートが備わったチャンバーと;
前記チャンバー内の上側に備わって、搬入された基板の両端を加圧力によりそれぞれ固定し、その固定された基板の両端のうち一端を外側方向に移動して基板の垂れ量を減少させるように基板に引張力を提供する基板搭載台と;
前記基板搭載台の上面中心部に結合されて前記基板搭載台を回転または昇降させる回動昇降部と;
前記チャンバー内の下部に設けられ、有機物質を気化して基板に蒸発させる加熱部および有機物ボートと;
を含んで構成され、
前記基板搭載台は、
長さ方向に延長される板状に形成され、一端が下方に折り曲げられる固定ホルダーと;
前記固定ホルダーと水平状態でその固定ホルダーの折り曲げ部位と対向するように、他端が下方に折り曲げられる移動ホルダーと;
前記固定ホルダーおよび移動ホルダーの底面でそれぞれ接触または分離させられるように昇降し、対向する断面"L"状に形成された加圧ホルダーと;
前記固定ホルダーおよび移動ホルダーの上面縁部に多数個固定され、移動軸の先端が固定ホルダーおよび移動ホルダーの縁部に垂直方向に貫通し、その貫通部位を通して加圧ホルダーにそれぞれ対向して固定される垂直方向駆動部と;
前記移動ホルダーの外側面上部に多数個固定され、移動軸の先端が固定ホルダーを水平方向に貫通し、その貫通部位を通して移動ホルダーに固定される水平方向駆動部と;
前記固定ホルダーおよび移動ホルダーの内側面に対向する縁部と、加圧ホルダーの内側面に対向する縁部にそれぞれ設けられる基板接触部と;を含んで設けられることを特徴とする有機物蒸着装置。 - 前記垂直および水平方向駆動部は、
ボルトまたはシリンダーのうちのいずれか一つであることを特徴とする請求項20記載の有機物蒸着装置。 - 前記基板接触部は、
摩擦力が大きく軟性の材質により備わり、内側から外側に行くほど下方に傾斜角を有して設けられて基板の垂れを最小化することを特徴とする請求項21記載の有機物蒸着装置。 - 前記基板接触部は、
シリコンパッドまたはゴムにより形成されて設けられることを特徴とする請求項22記載の有機物蒸着装置。 - 前記基板接触部の傾斜角は、
0゜〜90゜の間で形成されることを特徴とする請求項23記載の有機物蒸着装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040019290A KR100703070B1 (ko) | 2004-03-22 | 2004-03-22 | 유기el용 대면적 기판 쳐짐 방지 장치 |
KR1020040077655A KR100592917B1 (ko) | 2004-09-25 | 2004-09-25 | 기판 처짐 방지수단을 구비한 유기물 증착장치 |
KR1020040080961A KR100651260B1 (ko) | 2004-10-11 | 2004-10-11 | 유기물 증착장비 및 그 유기물 증착장비의 기판 적재 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005273014A JP2005273014A (ja) | 2005-10-06 |
JP4178249B2 true JP4178249B2 (ja) | 2008-11-12 |
Family
ID=34994098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005057937A Expired - Fee Related JP4178249B2 (ja) | 2004-03-22 | 2005-03-02 | 有機物蒸着装置およびその蒸着方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4178249B2 (ja) |
TW (1) | TWI274792B (ja) |
WO (1) | WO2005091683A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8512473B2 (en) | 2009-09-25 | 2013-08-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Substrate centering device and organic material deposition system |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100842182B1 (ko) * | 2006-12-28 | 2008-06-30 | 두산메카텍 주식회사 | 기판과 마스크를 얼라인하는 장치 및 방법 |
KR101073566B1 (ko) | 2009-12-07 | 2011-10-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 표시장치의 제조 방법 |
KR101921526B1 (ko) | 2012-04-18 | 2018-11-23 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP6036249B2 (ja) * | 2012-12-11 | 2016-11-30 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
KR102133776B1 (ko) * | 2013-04-15 | 2020-07-15 | 주식회사 원익아이피에스 | 얼라인장치 |
KR102255195B1 (ko) * | 2013-04-16 | 2021-05-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 필름 건조 장치 및 필름 건조 방법 |
KR102116498B1 (ko) * | 2013-10-17 | 2020-05-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패널부재 고정장치 |
KR101479943B1 (ko) | 2013-10-29 | 2015-01-12 | 주식회사 에스에프에이 | 기판과 마스크의 얼라인 시스템 및 얼라인 방법 |
JP6308877B2 (ja) * | 2014-06-06 | 2018-04-11 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置 |
JP6276816B2 (ja) * | 2015-10-01 | 2018-02-07 | キヤノントッキ株式会社 | 基板引張装置、成膜装置、膜の製造方法及び有機電子デバイスの製造方法 |
KR102167504B1 (ko) | 2015-11-05 | 2020-10-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치의 제조장치 |
KR102490641B1 (ko) * | 2015-11-25 | 2023-01-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 증착 방법 |
KR102517921B1 (ko) * | 2016-05-30 | 2023-04-04 | 엘지전자 주식회사 | 클램핑 장치 |
JP2019044249A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | キヤノン株式会社 | アライメント装置、および、成膜装置 |
KR102010158B1 (ko) * | 2017-12-26 | 2019-08-12 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 성막장치, 성막방법 및 이를 사용한 유기 el 표시 장치의 제조방법 |
CN110747434B (zh) * | 2019-12-05 | 2021-10-08 | 山东国晶新材料有限公司 | 一种分体式导电陶瓷舟 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100384472B1 (ko) * | 2000-12-30 | 2003-05-22 | 아이티에스테크놀러지 주식회사 | 대형기판의 처짐방지장치 |
KR100422487B1 (ko) * | 2001-12-10 | 2004-03-11 | 에이엔 에스 주식회사 | 전자석을 이용한 유기전계발광소자 제작용 증착장치 및그를 이용한 증착방법 |
KR100647577B1 (ko) * | 2002-06-12 | 2006-11-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판정렬장치 및 기판정렬방법 |
-
2005
- 2005-01-29 WO PCT/KR2005/000269 patent/WO2005091683A1/en active Application Filing
- 2005-03-02 JP JP2005057937A patent/JP4178249B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-08 TW TW94106868A patent/TWI274792B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8512473B2 (en) | 2009-09-25 | 2013-08-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Substrate centering device and organic material deposition system |
US8632854B2 (en) | 2009-09-25 | 2014-01-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Substrate centering device and organic material deposition system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005273014A (ja) | 2005-10-06 |
WO2005091683A1 (en) | 2005-09-29 |
TW200532051A (en) | 2005-10-01 |
TWI274792B (en) | 2007-03-01 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R371 | Transfer withdrawn |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |