KR100627679B1 - 대면적 기판 어라인 장치 - Google Patents

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KR100627679B1
KR100627679B1 KR1020050032210A KR20050032210A KR100627679B1 KR 100627679 B1 KR100627679 B1 KR 100627679B1 KR 1020050032210 A KR1020050032210 A KR 1020050032210A KR 20050032210 A KR20050032210 A KR 20050032210A KR 100627679 B1 KR100627679 B1 KR 100627679B1
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황창훈
김승한
강택상
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두산디앤디 주식회사
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Abstract

본 발명은 대면적 기판 어라인 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 공정 처리할 대면적 차세대 기판의 처짐을 방지하면서 마스크를 비전 어라이너(Vision aligner)에 의해 정렬하는 대면적 기판 어라인 장치에 관한 것이다.
즉, 본 발명은 챔버의 상부에서 기판과 마스크 및 마그네트 플레이트를 각각 상하로 이동하거나 동시에 회전할 수 있도록 동력을 전달하는 축; 상기 축 하단에 고정되는 베이스 플레이트의 사방 측면에 각각 고정되며, 그 저면에 마스크가 안착되는 마스크 홀더를 사방에서 미세하게 이동시켜 정렬하도록 하는 비전 어라이너(Vision aligner); 상기 축 저면에 고정되는 판상으로 마스크에 기판을 접촉시킬 수 있도록 상하로 이동하면서 상기 기판에 압력을 가하는 마그네트 플레이트(Magnet plate); 상기 비전 어라이너와 소정 간격만큼 이격된 챔버 내측벽 양쪽에 각각 마련되어 적정 위치에서 대면적 기판을 로딩(Loading) 또는 언로딩(Unloading)하되 상기 기판을 고정하고 한 부분을 인장하게 하는 기판 고정부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치를 제공한다.
기판 어라인 장치, 기판 고정부, 처짐, 탑재대, 실린더, 회동승강부

Description

대면적 기판 어라인 장치{Large-size substrate align apparatus}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 기판 어라인 장치가 마련되는 유기물 증착장치를 도시한 정단면도이다.
도 2는 상기 대면적 기판 어라인 장치의 기판 고정부의 작동 상태를 도시한 정단면도이다.
도 3a 및 도 3b는 상기 대면적 기판 어라인 장치의 수직방향구동부를 도시한 평면도 및 단면도이다.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
100 : 챔버 110 : 고정대
120 : 가압부 200 : 탑재대
204 : 마그네트 플레이트(Magnet plate)
208 : 마스크(Mask) 210 : 마스크 프레임
220 : 비전 어라이너(Vision aligner)
300 : 기판고정부 310 : 수직방향구동부
320 : 수평방향구동부 324 : 프레임
330 : 실린더 400 : 회동승강부
본 발명은 대면적 기판 어라인 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 공정 처리할 대면적 차세대 기판의 처짐을 방지하면서 마스크를 비전 어라이너(Vision aligner)에 의해 정렬하는 대면적 기판 어라인 장치에 관한 것이다.
최근 정보 통신 기술의 비약적인 발전과 시장의 팽창에 따라 디스플레이 소자로 평판표시소자(Flat Panel Display)가 각광받고 있다. 이러한 평판표시소자로는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등이 대표적이다.
그 중에서 유기발광소자는 빠른 응답속도, 기존의 액정표시소자보다 낮은 소비 전력, 경량성, 별도의 백라이트(back light) 장치가 필요 없어서 초 박형으로 만들 수 있는 점, 고휘도 등의 매우 좋은 장점을 가지고 있어서 차세대 디스플레이 소자로서 각광받고 있다.
이러한 유기발광소자는 기판 위에 양극 막, 유기 박막, 음극 막을 순서대로 입히고, 양극과 음극 사이에 전압을 걸어줌으로써 적당한 에너지의 차이가 유기 박막에 형성되어 스스로 발광하는 원리이다. 즉, 주입되는 전자와 정공(hole)이 재결합하며 남는 여기 에너지가 빛으로 발생하는 것이다. 이때 유기 물질의 도판트의 양에 따라 발생하는 빛의 파장을 조절할 수 있으므로 풀 칼라(full color)의 구현이 가능하다.
유기발광소자의 자세한 구조는 도면에는 도시하지 않았지만 기판상에 양극(anode), 정공 주입층(hole injection layer), 정공 운송층(hole transfer layer), 발광층(emitting layer), 전자 운송층(eletron transfer layer), 전자 주입층(eletron injection layer), 음극(cathode)이 순서대로 적층되어 형성된다. 여기에서 양극으로는 면저항이 작고 투과성이 좋은 ITO(Indium Tin Oxide)이 주로 사용된다. 그리고 유기 박막은 발광 효율을 높이기 위하여 정공 주입층, 정공 운송층, 발광층, 전자 운송층, 전자 주입층의 다층으로 구성되며, 발광층으로 사용되는 유기물질은 Alq3, TPD, PBD, m-MTDATA, TCTA 등이다. 또한, 음극으로는 LiF-Al 금속막이 사용된다. 그리고 유기 박막이 공기 중의 수분과 산소에 매우 약하므로 소자의 수명(life time)을 증가시키기 위해 봉합하는 봉지막이 최상부에 형성된다.
따라서, 현재 학계뿐만 아니라 일반산업에서의 연구 개발 분야 중에서도 유기발광소자에 대한 개발 경쟁이 치열하게 전개되고 있다. 일반적으로 유기물질은 무기물질에 비해 디스플레이 소자로서 작은 구동전압, 높은 휘도 등의 많은 장점이 있어서, 차세대의 디스플레이 소자로서의 가능성과 응용 가능성을 세계적으로 인정받고 있는 상황이다.
한편, 현재까지 개발된 유기박막형성 방법에는 진공증착법(Vacuum Deposition Method), 스퍼터링(sputtering)법, 이온빔 증착(Ion-beam Deposition)법, Pulsed-laser 증착법, 분자선 증착법, 화학기상증착법, 스핀코터(spin coater) 등이 있다. 이 중에서 현재 상용화되어 있는 기술은 진공증착법이다.
여기서 진공증착법이란 진공챔버의 하부에 열증발원과 그 상부에 성막용 기판을 설치하여 박막을 형성시키는 것이다. 진공증착법을 이용한 유기박막 형성장치의 개략적인 구성을 살펴보면 다음과 같다. 우선 진공챔버에 연결된 진공배기계가 존재하며, 이를 이용하여 진공챔버의 일정한 진공을 유지시킨 후, 진공챔버 하부에 배치된 하나 이상의 유기박막재료 열증발원으로부터 유기박막재료인 유기물을 증발시킨다. 유기박막재료의 열증발원은 원통형상 또는 사각형상의 용기로 그 내부에 피성막용 유기물재료를 넣는다. 용기 재료로는 석영, 세라믹 등이 사용되며, 용기부의 주변에는 일정한 패턴의 가열용 히터가 감겨 있어 일정량의 전력을 가해주면 용기주변 온도가 상승함과 동시에 용기도 가열되어 일정온도가 되면 유기물이 증발되기 시작한다. 온도는 용기 하부 또는 상부에 설치된 온도조절용 열전대에 의하여 검측되어 유기증발재료를 일정한 농도로 유지하여 원하는 증발속도가 얻어지도록 한다. 증발된 유기물은 용기 상부로부터 일정거리가 떨어진 곳에 배치된 유리 또는 웨이퍼 재질로된 기판 표면에 흡착, 증착, 재증발 등의 연속적 과정을 거처 기판 위에 고체화되어 얇은 박막을 형성시킨다.
일반적으로 유기박막재료의 유기화합물은 증기화되는 증기압이 높고, 가열에 의한 열분해 온도가 증발온도와 근접되어 있어 장시간 안정된 유기증발 속도의 제어가 용이하지 않아 고속 박막증착이 어려운 문제점이 있다. 또한, 진공 챔버 내의 열증발원으로부터 방출되어진 증기화된 유기박막재료는 열증발원 상부의 개구부 형상에 상응하는 형상의 지향성을 갖게 되고, 이러한 특성은 증기화된 유기박막재료가 기판 중에서 한정된 좁은 범위 내에 국한되어 도달되게 하므로 대면적 기판에 형성되는 균일한 박막을 얻기 힘들다는 문제점이 있다.
또한, 유기박막의 균일한 박막 형성을 위해 지향성의 보정 수단으로 기판을 일정 속도로 회전시키면서 성막을 수행하는 경우에는, 기판의 회전반경 때문에 증착장비가 그에 상응하는 크기로 대형화된다. 따라서 진공장비의 불필요한 유효면적까지 유기박막이 형성되므로 고가의 유기재료의 사용효율이 매우 떨어지고, 진공장비의 성능이 커져야 하므로 생산성이 저하되고 장비의 단가가 높아진다.
이렇듯 종래의 진공증착법 기술에서는 유기박막을 이용한 유기발광소자 및 기능성 박막을 응용한 제품을 제조함에 있어서 낮은 성막속도, 낮은 유기재료 사용효율, 유기박막층의 불균일성, 주재료(host재료)와 발색재료(Dopant재료)의 혼합량 미세조정의 어려움, 열증발원 온도조절, 기판의 대형화에 따른 균일한 유기박막의 형성곤란 등등의 여러 가지 문제점으로 인하여 고품질의 소자를 저가의 비용으로 제작, 생산하기가 어려운 상황이다.
특히, 이러한 증착에 앞서 기판상에 전극과 유기발광층을 일정 패턴에 따라 증착하여야 하는데 이를 위한 차폐수단으로 사용되는 것이 마스크이다. 즉, 기판상에 원하는 패턴(pattern)모양의 마스크를 접촉시킨 후 증착을 수행하면 원하는 패턴의 전극 또는 발광층을 형성할 수 있다.
이 때, 미리 설계된 패턴과 일치시키기 위하여 마스크와 기판의 정렬이 이루어져야하며, 이를 위하여 CCD카메라로 관찰하면서 유리기판 및 마스크에 형성된 얼라인 마크(align mark)가 일치되도록 마스크를 이동시킨 후 그 마스크를 기판상에 밀착한다.
종래의 기판 어라인 장치가 마련되는 유기물 증착 장치는 도면에는 도시하지 않았지만 내부에서 증착 공정이 수행되는 챔버와, 상기 챔버내 상측에 마련되어 기판을 탑재하는 기판 탑재대와, 상기 기판 탑재대에 탑재되는 기판 상측에 마그네트 플레이트가 마련되고, 상기 기판의 하측에 마스크가 구비된 마스크 홀더와, 증착시 기판 탑재대를 정렬하는 어라이너(Aligner)와, 상기 기판 탑재대와 마스크 홀더와 마그네트 플레이트의 승강 및 회동시 동력을 제공하는 회동승강부가 챔버의 중앙부 상단에 구비되고, 상기 챔버내 하부에 마련되어 유기물질을 기화시켜 기판으로 증발시키는 증발원으로 이루어지는 구성이었다.
상기 기판 탑재대에 탑재되는 기판은 대면적화되는 추세에 따라 자중에 의해 기판 중심부가 하방으로 처지는 현상이 발생하며, 이를 방지하기 위해 상기 기판의 대향된 양단을 고정한 상태에서 일측을 신장시킨 후 증착을 수행하는 수직방향구동부와 수평방향구동부가 각각 마련된다.
한편, 상기 기판 탑재대의 수직, 수평방향구동부의 구동은 회동승강부를 통해 외부에서 유입된 공기로 실시된다.
여기서, 상기 수직방향구동부는 기판의 양단을 각각 접촉한 상태로 가압하여 기판의 양단을 고정하게 되며, 어느 한 수직방향구동부에 마련되는 수평방향구동부에 의해 이 수직방향구동부를 외측 방향으로 이동시키면 고정된 기판을 인장시켜 자중에 의해 처지는 현상을 방지하게 되는 것이다.
한편, 상기 수직방향구동부와 수평방향구동부는 실린더 역할을 하며, 그 구조는 이격된 상태로 마련되는 고정판과 이동판의 사이에 양단이 고정된 상태로 구 비되되 자바라 형상으로 내부에 외부에서 유입되는 공기가 충진되면 부피가 증가하여 그 부피의 증가에 따라 이동판에 마련되는 축을 전방으로 직진시키고, 그 부피가 감소하면 부피의 감소에 따라 이동판에 마련되는 축을 후방으로 후진하게 하는 벨로우즈(bellows)가 개입된다.
그러나 상기 벨로우즈는 고무재로 형성되어 내부에 고압이 발생하거나 작동 과정에서 근접한 타 구성요소에 의해 쉽게 손상될 우려가 있고, 상기 수직, 수평방향구동부의 구동은 회동승강부를 통해 외부에서 유입된 공기로 실시되므로 구조가 복잡하고 유지보수가 어려운 문제점이 있었다.
그리고 상기 기판 탑재대와 마스크 및 마그네트 플레이트가 챔버내 상부 영역 중앙부에 집중적으로 마련됨에 따라 그 기판 탑재대와 마스크 및 마그네트를 지지하는 회동승강부의 축에 응력이 집중되어 내구성이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 대면적 차세대 기판에 적용함에 있어, 탑재대와 기판 고정부를 챔버에 고정되도록 마련하여 중량을 분산하고 구조적으로 단순하게 하여 유지 보수 또한 용이할 수 있게 한 유기물 증착 장치를 제공함에 있다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 챔버의 상부에서 기판과 마스크 및 마그네트 플레이트를 각각 상하로 이동하거나 동시에 회전할 수 있도록 동력을 전달하는 축; 상기 축 하단에 고정되는 베이스 플레이트의 사방 측면에 각각 고정 되며, 그 저면에 마스크가 안착되는 마스크 홀더를 사방에서 미세하게 이동시켜 정렬하도록 하는 비전 어라이너(Vision aligner); 상기 축 저면에 고정되는 판상으로 마스크에 기판을 접촉시킬 수 있도록 상하로 이동하면서 상기 기판에 압력을 가하는 마그네트 플레이트(Magnet plate); 상기 비전 어라이너와 소정 간격만큼 이격된 챔버 내측벽 양쪽에 각각 마련되어 적정 위치에서 대면적 기판을 로딩(Loading) 또는 언로딩(Unloading)하되 상기 기판을 고정하고 한 부분을 인장하게 하는 기판 고정부;를 포함하여 구성됨으로써, 대면적 기판의 로딩시 그 기판의 처짐을 방지하면서 상기 비전 어라이너에 의해 기판으로부터 마스크를 어라인하므로 바람직하다.
또한, 본 발명에서는 마스크 홀더의 상면에 판상의 마스크 프레임이 더 안착되며, 상기 마스크 프레임은 중앙부에 구멍이 두께 방향으로 관통 형성됨으로써, 상기 마스크 프레임의 상면에 안착되는 마스크에 하측에서 증발하는 유기물질이 마스크 프레임의 구멍 이외에 다른 곳으로 증발하는 것을 차단하므로 바람직하다.
또한, 본 발명에서의 기판 고정부는, 판상으로 고정대를 따라 수평 왕복 운동하고 적정 간격으로 마주보게 마련되며, 안쪽 가장자리 상면에 길이 방향으로 연장되는 기판 안착 홀더가 각각 마련되는 가이드; 상기 가이드마다 상면 한 부분에 직립된 프레임이 마련되고 그 프레임의 안쪽면 상단마다 각각 고정되어 수직방향으로 구동하며, 구동로드의 저면에 기판 고정 홀더가 각각 고정되어 마련되는 수직방향구동부; 상기 수직방향구동부 중 어느 한 수직방향구동부가 마련되는 프레임에 구동로드가 고정되어 이 수직방향구동부를 수평방향으로 구동하는 수평방향구동부; 상기 프레임마다 마련되어 수직방향구동부 또는 수직방향구동부와 수평방향구동부를 설정 위치로 이동하게 하는 실린더;로 이루어짐으로써, 대면적 기판의 양단을 수직방향구동부에 의해 각각 고정하고 어느 한 수직방향구동부를 잡아당겨 인장하게 하는 수평방향구동부에 의해 기판의 처짐을 방지하며, 기판의 로딩/언로딩 위치까지 실린더에 의해 기판고정부가 이동하므로 바람직하다.
또한, 본 발명에서의 기판 고정부의 기판 안착 홀더는, 기판 수납 위치와 마스크 수납 위치로 각각 이동하며, 마스크 수납 위치에서 마스크를 마스크 프레임에 로딩 또는 언로딩함으로써, 대면적 기판과 마스크의 수납이 용이하므로 바람직하다.
또한, 본 발명에서의 수직, 수평방향구동부와 챔버 내측벽과의 사이에 수직, 수평방향구동부에 공기를 공급할 수 있도록 고정되는 공기 공급부가 더 마련되며, 상기 공기 공급부는 내부가 중공 형성된 여러 단으로 링크 연결되어 절첩됨으로써, 상기 수직, 수평방향구동부와 챔버 내측벽과의 간격조절이 가능하면서 그 수직, 수평방향구동부에 공기를 공급하여 상기 수직, 수평방향구동부가 이동하기 전에는 공기 공급부가 접혀있는 상태고, 상기 수직, 수평방향구동부가 이동하면 접혀있던 공기 공급부가 펴지므로 바람직하다.
또한, 본 발명에서의 수직, 수평방향구동부와 챔버 내측벽과의 사이에는 수직, 수평방향구동부에 공기를 공급하는 공기 공급관의 외주면을 감싸는 벨로우즈(Bellows)가 더 마련됨으로써, 상기 수직, 수평방향구동부에는 공기 공급관의 선단이 고정된 상태로 그 공기 공급관의 후단은 챔버의 외부에서 고정되지 않고 이동가능하게 챔버 외부까지 연결되며, 챔버 내부의 진공 상태를 유지하기 위해 수직, 수평방향구동부와 챔버 내측벽과의 사이에 벨로우즈를 개입하여 상기 수직, 수평방향구동부가 이동하면 공기 공급관도 같이 이동하지만 수축, 이완되는 벨로우즈에 의해 수직, 수평방향구동부와 챔버 내측벽과의 공간에서 노출되는 공기 공급관의 기밀을 유지되므로 바람직하다.
이하, 본 발명의 대면적 기판 어라인 장치를 첨부도면을 참조하여 일 실시예를 들어 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 바람직한 일 실시예의 대면적 기판 어라인 장치가 구비되는 유기물 증착 장치는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 챔버(100)와, 탑재대(200)와, 기판고정부(300)와, 회동승강부(400)와, 증발원(500)으로 이루어진다.
상기 챔버(100)는 내부에 반입된 기판에 유기박막을 증착하되 외부와 격리되는 내부 공간을 구비하고 있으며, 한 부분에 기판이 반입 또는 반출될 수 있도록 출입구(도면에 미도시)가 형성되고 상기 출입구를 개폐시키는 게이트(도면에 미도시)가 마련된다.
그리고 상기 챔버(100)내 저면 모서리부에는 각각 진공펌프(도면에 미도시)가 마련되며, 이 진공펌프는 챔버(100)의 내부 압력을 낮추는 구성요소이다.
즉, 상기 진공펌프는 기판 표면에 순수한 유기물을 증착시키기 위해서는 챔버(100) 내부의 불순물이 제거된 상태에서 유기물을 증착하여야 하므로, 유기물을 증착하기 전에 챔버(100) 내부의 기체를 흡입하여 제거하는 역할을 한다.
상기 탑재대(200)는 마그네트 플레이트(Magnet plate : 204)와 마스크(Mask : 208)를 지지하는 기능을 하며, 그 구조는 최상부에 마련되는 베이스 플레이트(Base plate : 202)와, 상기 베이스 플레이트(202)의 하측에 마련되는 마그네트 플레이트(204)와, 상기 마그네트 플레이트(204)의 하측에 마련되어 마스크(208)가 안착되는 마스크 홀더(Mask Holder : 206)로 이루어진다.
여기서, 대면적 기판 어라인 장치는 축(412)과 비전 어라이너(220)와 마그네트 플레이트(204)와 기판 고정부(300)로 이루어진다.
그리고 상기 탑재대(200)의 상면 중앙부에는 축(412)이 마련되며, 상기 축(412)은 기판과 마그네트 플레이트(204) 및 마스크(208)를 개별적으로 상승시키거나 증착시 기판, 마그네트 플레이트(204), 마스크(208)를 동시에 회전시킬 때 동력을 전달하는 기능을 한다.
상기 베이스 플레이트(202)의 사방 측면에는 비전 어라이너(Vision aligner : 220)가 각각 고정되어 마련되고 이 비전 어라이너(220)의 저면에 마스크(208)가 안착되는 마스크 홀더(206)를 마련하여 이 마스크 홀더(206)를 X, Y 축 방향과 θ 축 회전방향으로 정렬하는 기능을 한다.
즉, 상기 비전 어라이너(220)는 베이스 플레이트(202)의 각 측벽마다 적어도 2개 이상이 마련되며, 근접한 베이스 플레이트(202) 두 측벽에 마련되는 비전 어라이너(220)는 기준점이 되고 나머지 이웃한 베이스 플레이트(202) 두 측벽에 마련되는 비전 어라이너(220)는 기준점이 되는 비전 어라이너(220) 쪽으로 밀면서 마스크 홀더(206)의 상면에 안착된 마스크(208)를 정렬하게 된다.
그리고 상기 비전 어라이너(220)는 스테이지(430)에 의해 승강부(120)를 하방으로 이동시켜 그 승강부(120)와 접하는 수직방향의 수직부재를 누르면 저면에 설치된 마스크 홀더(206)를 안쪽으로 이동하게 하며, 기준점이 되는 비전 어라이너(220)는 기준점이기 때문에 이동량이 한정되고 나머지 비전 어라이너(220)는 이동량이 한정되지 않는다.
그리고 상기 챔버(100)의 상면 중앙부에 마련되는 스테이지(430)는 챔버(100)내 위치하는 비전 어라이너(220)와 수직선상 챔버(100)의 천장 위치에 상기 비전 어라이너(220)에 압력을 가하는 승강부(120)가 각각 마련된다.
여기서, 상기 스테이지(430)는 마스크(208)가 안착되는 마스크 홀더(206)를 X, Y, θ 축 방향으로 정렬할 수 있도록 승강부(120)를 상하로 이동하게 하는 기능을 한다.
한편, 상기 챔버(100)에는 검사부(도면에 미도시)가 마련되어 상기 기판과 마스크(208)의 끝단에 새겨진 얼라인마크의 벗어난 정도의 데이터(X, Y, θ)를 취득한 후 마스크(208)를 비전 어라이너(220)에 의해 정렬한다.
상기 마그네트 플레이트(204)는 판상으로 마스크(208)에 자력을 제공하여 그 자력으로 개입된 기판 하면 즉, 패턴 형성면에 마스크(208)를 밀착시키며, 다수개의 핀(Pin)이 탄성부재에 의해 탄성력이 기판에 작용할 수 있도록 하방으로 돌출되어 있어 그 핀이 기판을 마스크(208)와 접하도록 압력을 가하게 된다.
여기서, 상기 마그네트 플레이트(204)는 일체형 또는 다수개를 배열하는 배열형 중 어느 하나를 선택적으로 적용할 수 있다.
상기 마스크 홀더(206)의 상면에는 마스크 프레임(210)이 마련되며, 이 마스크 프레임(210)은 판상의 사각 틀 형상으로 중앙부가 관통되며, 그 상면에 마스크(208)가 안착될 수 있다.
상기 기판고정부(300)는 최초에 반입된 기판을 안착한 다음 양단을 고정하되 대면적 기판에 고정력과 인장력을 부여하여 기판 처짐을 방지하는 기능을 하고 상기 탑재대(200)와 근접한 챔버(100)의 양측벽에 대향되는 상태로 각각 구비되며, 그 구조는 가이드(322)와, 수직방향구동부(310)와, 수평방향구동부(320)와, 실린더(330)로 이루어진다.
상기 가이드(322)는 판상으로 탑재대(200)를 기점으로 양쪽 챔버(100) 내측벽에 각각 마련되는 고정대(110)를 따라 수평 왕복 운동하며, 안쪽 가장자리 상면에 길이 방향으로 연장되는 기판안착홀더(312)가 각각 마련된다.
상기 수직방향구동부(310)는 가이드(322)마다 상면 한 부분에 수직방향을 갖는 프레임(324)이 마련되고, 그 프레임(324)의 내측면 상단마다 각각 고정되어 수직방향으로 구동하며, 출몰하는 구동로드의 저면에 기판고정홀더(314)가 각각 고정되어 마련된다.
상기 수평방향구동부(320)는 수직방향구동부(310) 중 어느 한 수직방향구동부(310)가 마련되는 프레임(324)에 출몰하는 구동로드가 고정되어 이 수직방향구동부(310)를 수평방향으로 구동하게 하는 기능을 한다.
상기 실린더(330)는 프레임(324)마다 수평방향으로 마련되어 한 부분에 마련되는 수직방향구동부(310) 또는 다른 한 부분에 마련되는 수직방향구동부(310)와 수평방향구동부(320)를 설정 위치로 이동하게 한다.
그리고 상기 실린더(330)에 의해 기판안착홀더(312)와 기판고정홀더(314)를 기판 수납 위치와 마스크 수납 위치로 각각 이동하며, 기판 수납 위치에서 기판을 로딩 또는 언로딩하고, 마스크 수납 위치에서 마스크(208)를 마스크 프레임(210)에 로딩 또는 언로딩한다.
여기서, 상기 수직방향구동부(310)와 수평방향구동부(320)는 각각 적어도 2개 이상 마련되는 것이 바람직하며, 상기 수직방향구동부(310)는 기판의 대향된 네 지점을 고정하는 것이 바람직하다.
상기 기판안착홀더(312)의 상측에 마련되어 수직방향구동부(310)에 의해 승강하는 기판고정홀더(314)는 기판안착홀더(312)에 안착되는 기판의 상면 가장자리부를 고정한다.
그리고 상기 기판안착홀더(312)는 내측면 상단이 단차 형성되어 그 단차진 부분에 기판이 안착되며, 상기 기판고정홀더(314)는 하방으로 부분 돌출 형성되어 그 돌출된 부분이 기판을 누르면서 기판을 고정하게 된다.
또한, 상기 수직방향구동부(310)는 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이 하우 징(302)과 실런더(304)로 이루어지며, 상기 하우징(302) 그 내부에는 대기압이 작용하고 내부 저면에 실린더(304)가 하방을 향해 고정된다.
상기 실린더(304)는 외부에서 공급하는 공압으로 구동되는 공압 실린더로 그 실린더(304)의 전전 및 후퇴시 공기를 공급하고 잔압을 배기하는 연결관(306)의 일단이 각각 연결된다.
그리고 상기 연결관(306)의 타단에는 공기공급부(308)가 마련되어 챔버(100)의 외벽에서 내부로 제공하는 공기를 수직방향구동부(310)에 전달하는 통로 역할을 한다.
한편, 상기 수평방향구동부(320)는 수직방향구동부(310)와 동일한 구조로 마련되므로 상세한 설명은 생략한다.
상기 공기공급부(308)는 다수개의 링크 연결되어 절첩이 가능하되 그 내부에는 공기가 공급될 수 있도록 연통되며, 일단은 챔버(100)의 내측벽에 고정되고 타단은 수직방향구동부(310)와 수평방향구동부(320)에 고정된다.
이와 같은 공기공급부(308)는 위치 이동하는 기판고정부(300)에 공기를 효과적으로 공급하기 위해 접었다 펼쳤다 절첩되며, 최초에는 접혀있다가 상기 기판고정부(300)가 기판을 고정하기 위해 기판 쪽으로 기판고정부(300)의 이동이 불가피함에 따라 공기공급부(308)는 펼쳐진다.
그리고 상기 수직방향구동부(310) 및 수평방향구동부(320)와 챔버(100) 내측벽과의 사이에는 그 수직방향구동부(310), 수평방향구동부(320)에 공기를 공급하는 공기 공급관(도면에 미도시)의 외주면을 감싸는 벨로우즈(Bellows : 도면에 미도 시)가 양단이 고정된 상태로 마련되며, 공기공급부(308)를 대신할 수 있다.
즉, 상기 수직방향구동부(310)와 수평방향구동부(320)에는 공기 공급관의 선단이 연통되고 그 공기 공급관의 후단은 챔버(100)의 외부까지 연장되게 마련되어 기판고정부(300)가 실린더(330)에 의해 중심부를 향해 이동하면 그 공기 공급관도 따라 이동하게 되며, 상기 공기 공급관이 삽입되는 챔버(100)의 구멍으로 인해 챔버(100) 내부의 기밀유지가 불가능하므로 상기 수직방향구동부(310), 수평방향구동부(320)와 마주보는 챔버(100)의 내측벽에 수축 또는 이완하는 벨로우즈의 양단을 고정하여 챔버(100)의 기밀을 유지할 수 있다.
상기 회동승강부(400)는 챔버(100)의 상면에 마련되고 증착하는 기판에 유기물질을 기화시켜 증발시킬 때 기판에 전체적으로 유기 물질이 분포될 수 있도록 회전하며, 하우징(410)의 내부에서 하방으로 연장되어 그 하단이 챔버(100) 내부에 구비된 탑재대(200)에 고정되는 축(412)이 마련된다.
또한, 상기 회동승강부(400)는 마그네트 플레이트(204)와 마스크(208)의 승강시킬 때도 작동하며, 상단에는 상기 마그네트 플레이트(204)를 승강시키는 마그네트 플레이트 승강구동부(422)와 마스크(208)를 승강시키는 마스크 승강구동부(424)와 탑재대(200)를 회전하게 하는 회전구동부(420)가 마련된다.
상기 마그네트 플레이트 승강구동부(422)와 마스크 승강구동부(424)와 회전구동부(420)는 서보 모터(Servo motor) 또는 실린더 중 어느 하나를 선택적으로 사용할 수 있다.
상기 증발원(500)은 챔버(100)내 하부 중앙에 마련되어 유기물질을 기화시켜 기판으로 증발시키는 기능을 하며, 가열부와 유기물보트로 이루어진다.
그리고 상기 증발원(500)에 의한 유기물질의 기화시 유기물질이 기판 이외에 다른 곳으로 기화되는 것을 방지하기 위해 상단이 내측 방향으로 절곡된 안내부(510)가 마련된다.
그리고 상기 챔버(100)내 저면에 마련된 증발원(500)의 가열부에 전원을 인가하고 온도조절장치(도면에 미도시)를 이용하여 증착물질의 녹는점 근처까지 열을 올린 후, 다시 미세하게 조절하면서 기화될 때까지 온도를 올린다. 이때, 서서히 유기물 보트 위의 물질이 증발되기 시작하면 미리 장착되어 있던 셔터(350)를 열어서 증발된 물질 분자들을 기판에 증착시킨다. 이때 셔터(350)는 유기물 보트 위에 있는 유기물질이 기화되기 직전에 잔존하는 불순물들이 기판에 증착되지 못하게 막아주는 역할을 한다.
그러므로 본 발명의 유기물 증착 장치의 작동 과정은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 상기 마스크(208)를 마스크 홀더(206)에 안착하기 위해 마스크 승강구동부(424)를 구동하여 기판의 반입 위치와 동일한 위치로 마스크 홀더(206)를 상승하게 한다.
그 후, 외부에 마련되는 운송 로봇(도면에 미도시)에 의해 마스크(208)를 마스크 홀더(206)에 안착시킨 다음 운송 로봇이 원위치로 복귀하고 마스크 홀더(206)가 마스크 승강구동부(424)의 구동에 의해 하강한다.
그리고 상기 실린더(330)를 구동하여 기판고정부(300)의 기판안착홀더(312) 가 탑재대(200) 방향으로 전진한 다음 다수 적재된 기판 중 어느 하나의 기판을 운송 로봇에 의해 기판안착홀더(312)에 안착시킨다.
그리고 상기 기판고정부(300)의 수직방향구동부(310)가 구동하여 기판의 양단을 고정한 다음 수평방향구동부(320)가 구동하면 상기 기판의 한 부분을 잡아당겨 긴장된 상태로 고정 후 운송 로봇이 원위치로 복귀하고 마스크(208)가 안착된 마스크 홀더(206)가 상승하여 기판과 마스크(208)를 근접한 상태로 위치시킨다.
그리고 상기 스테이지(430)가 승강부(120)를 하강하게 하여 비전 어라이너(220)가 그 비전 어라이너(220)의 저면에 고정되는 마스크 홀더(206)를 X, Y, θ 축 방향으로 정렬한 후 마그네트 플레이트 승강구동부(422)에 의해 마그네트 플레이트(204)를 하강시켜 마스크(208)상에 마그네트 플레이트(204)와 기판을 서로 접하도록 위치시킨다.
그리고 상기 기판고정부(300)의 수직방향구동부(310)와 수평방향구동부(320)를 기판에서 분리한 다음 탑재대(200)의 회전시 간섭받는 것을 방지하기 위해 기판고정부(300)를 실린더(330)의 구동에 의해 원위치로 복귀시킨다.
그리고 상기 회동승강부(400)의 회전구동부(420)의 축(412)을 회전하게 하여 탑재대(200)에 구비된 기판을 회전하게 하고 챔버(100)내 저면에 구비된 증발원(500)을 작동하게 하여 증착을 수행하며, 증착이 완료되면 회전구동부(420)의 구동을 정지한다.
그 후, 상기 기판고정부(300)를 실린더(330)에 의해 기판 방향으로 이동하여 그 기판고정부(300)의 기판안착홀더(312)에 기판이 안착되도록 한다.
그리고 상기 기판고정부(300)의 수직방향구동부(310)가 구동하여 기판의 양단을 고정한 다음 수평방향구동부(320)가 구동하면 상기 기판의 한 부분을 잡아당겨 긴장된 상태로 고정한다.
그리고 상기 마그네트 플레이트 승강구동부(422)가 구동되면 마그네트 플레이트(204)가 상승하고 복귀한 다음 마스크(208)가 안착된 마스크 홀더(206)를 마스크 승강구동부(424)의 구동으로 하강시켜 윈위치로 복귀하게 한다.
그리고 상기 반송 로봇이 챔버(100)의 내부로 진입하고 기판 위치로 이동하면 상기 기판고정부(300)의 수직방향구동부(310)와 수평방향구동부(320)를 기판에서 분리한 다음 기판고정부(300)를 실린더(330)의 구동에 의해 원위치로 복귀시킨다.
그리고 상기 기판이 안착된 반송 로봇이 챔버(100)의 외부로 이동하여 원위치로 복귀한다.
이와 같은 본 발명의 대면적 기판 어라인 장치는 상기 기판고정부를 탑재대에 마련하지 않고 챔버의 대향된 내측벽에 고정된 상태로 마련하여 탑재대와 기판 고정부가 분리됨에 따라 구조 단순화로 유지 보수가 용이하며, 상기 기판고정부의 수직, 수평방향구동부의 구동시 회동승강부를 통해 공기를 공급하지 않고 챔버에서 직접 공급하여 공기를 공급하는 구조가 단순해지는 효과가 있다.
또한, 상기 기판고정부에 대면적 차세대 기판 고정시 그 기판의 양단을 수직방향구동부에 의해 고정한 다음 한 부분에 구비된 수직방향구동부를 외측 방향으로 이동하게 하는 수평방향구동부에 의해 기판의 한 부분을 신장시켜 대면적 기판의 처짐을 방지하는 효과가 있다.
또한, 상기 비전 어라이너에 의해 마스크의 미세 정렬이 가능한 효과가 있다.

Claims (7)

  1. 챔버의 상부에서 기판과 마스크 및 마그네트 플레이트를 각각 상하로 이동하거나 동시에 회전할 수 있도록 동력을 전달하는 축;
    상기 축 하단에 고정되는 베이스 플레이트의 사방 측면에 각각 고정되며, 그 저면에 마스크가 안착되는 마스크 홀더를 사방에서 미세하게 이동시켜 정렬하도록 하는 비전 어라이너(Vision aligner);
    상기 축 저면에 고정되는 판상으로 마스크에 기판을 접촉시킬 수 있도록 상하로 이동하면서 상기 기판에 압력을 가하는 마그네트 플레이트(Magnet plate);
    상기 비전 어라이너와 소정 간격만큼 이격된 챔버 내측벽 양쪽에 각각 마련되어 적정 위치에서 대면적 기판을 로딩(Loading) 또는 언로딩(Unloading)하되 상기 기판을 고정하고 한 부분을 인장하게 하는 기판 고정부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 마스크 홀더의 상면에 판상의 마스크 프레임이 더 안착되며, 상기 마스크 프레임은 중앙부에 구멍이 두께 방향으로 관통 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 기판 고정부는,
    판상으로 고정대를 따라 수평 왕복 운동하고 적정 간격으로 마주보게 마련되며, 안쪽 가장자리 상면에 길이 방향으로 연장되는 기판안착홀더가 각각 마련되는 가이드;
    상기 가이드마다 상면 한 부분에 직립된 프레임이 마련되고 그 프레임의 안쪽면 상단마다 각각 고정되어 수직방향으로 구동하며, 구동로드의 저면에 기판고정홀더가 각각 고정되어 마련되는 수직방향구동부;
    상기 수직방향구동부 중 어느 한 수직방향구동부가 마련되는 프레임에 구동로드가 고정되어 이 수직방향구동부를 수평방향으로 구동하는 수평방향구동부;
    상기 프레임마다 마련되어 수직방향구동부 또는 수직방향구동부와 수평방향구동부를 설정 위치로 이동하게 하는 실린더;로 이루어진 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 기판 고정부의 기판 안착 홀더는,
    기판 수납 위치와 마스크 수납 위치로 각각 이동하며, 마스크 수납 위치에서 마스크를 마스크 프레임에 로딩 또는 언로딩하는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 수직, 수평방향구동부는,
    내부가 중공인 하우징과, 상기 하우징 내부에 마련되는 공압실린더로 이루어진 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 수직, 수평방향구동부와 챔버 내측벽과의 사이에 수직, 수평방향구동부에 공기를 공급할 수 있도록 고정되는 공기 공급부가 더 마련되며, 상기 공기 공급부는 내부가 중공 형성된 여러단으로 링크 연결되어 절첩되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 수직, 수평방향구동부와 챔버 내측벽과의 사이에는 수직, 수평방향구동부에 공기를 공급하는 공기 공급관의 외주면을 감싸는 벨로우즈(Bellows)가 더 마련되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 어라인 장치.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101436895B1 (ko) * 2012-06-12 2014-09-02 주식회사 에스에프에이 박막 증착 장치
KR101479944B1 (ko) * 2013-10-10 2015-01-12 주식회사 에스에프에이 기판 센터링장치 및 그를 구비하는 유기물 증착시스템
KR101530034B1 (ko) * 2013-12-04 2015-06-19 주식회사 에스에프에이 박막 증착 장치
KR20200133037A (ko) * 2019-05-15 2020-11-26 연기옥 블랭크 메탈 마스크 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002212704A (ja) 2000-10-31 2002-07-31 Boc Group Inc:The シャドーマスク拘束方法及び装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002212704A (ja) 2000-10-31 2002-07-31 Boc Group Inc:The シャドーマスク拘束方法及び装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101436895B1 (ko) * 2012-06-12 2014-09-02 주식회사 에스에프에이 박막 증착 장치
KR101479944B1 (ko) * 2013-10-10 2015-01-12 주식회사 에스에프에이 기판 센터링장치 및 그를 구비하는 유기물 증착시스템
KR101530034B1 (ko) * 2013-12-04 2015-06-19 주식회사 에스에프에이 박막 증착 장치
KR20200133037A (ko) * 2019-05-15 2020-11-26 연기옥 블랭크 메탈 마스크 장치
KR102215887B1 (ko) 2019-05-15 2021-02-17 연기옥 블랭크 메탈 마스크 장치

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