TWI274385B - Substrate treatment apparatus and method - Google Patents

Description

^274385 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種在液晶顯示裝置（LCD )、等離子 顯示器（PDP )、半導體裝置等的製造過程中對LCD或者 PDP用玻璃基板、半導體基板 '印刷電路板等例如進行清 洗處理等的各種處理的基板處理裝置。 ^ 【先前技術】 一直以來，在LCD或者PDP用玻璃基板等的基板製造 生產線上，在使用了如蝕刻處理等的藥液的特定的處理裝 置之後設置有基板清洗機構，進行將殘留在基板表面的薄 膜或顆粒等的異物清洗除去的工作。作為具有這樣的基板 清洗機構的基板處理裝置，例如，如專利文獻丨所示，提 出了如下裝置··向通過輥式輸送機等的搬運裝置搬運的基 板供給純水等的處理液的同時，使圓筒狀的輥式刷與該基 φ 板表面接觸。 另外’如專利文獻2所示，還提出了一種清洗裝置， 其在所搬運的基板的上表面側以及下表面側按規定間隔配 置複數棒狀刷’通過使棒狀刷在垂直於基板搬運方向的方 向上往復運動，從而除去基板上的塵埃等。 專利文獻1 ·· JP特開平9-326377號公報； 專利文獻2 : JP特開平1〇 —34090號公報。 但是’上述專利文獻1所示的基板處理裝置，因為使 用輕式刷清洗基板’所以製作具備大型尺寸的基板的清洗

2014-7509-PF 5 1274385 所要求的精度的輥式刷很困難。即，伴隨著基板大型化， 與基板的搬運方向垂直並在水平方向上延伸的輥式刷的長 度變長，所以’因基板自身的重量而在長度方向的中央部 分附近產生彎曲’將基板和輥式刷的間隔保持一定變得困 難，製作基板和輥式刷的間隔保持一定的清洗機構不是容 易的。 上述專利文獻2所示的清洗裝置的情況下，若在清洗 刷毛束的前端所形成的平面不均勻，就不能使清洗刷與基 板的主面均勻的滑動接觸，但使清洗刷毛束的前端的平面 均勻在加工上困難。另外，通過這樣的由垂直於基板表面 的姿勢構成的棒狀刷，要確保充分的清洗性能，就必須加 大對基板表面的按壓力，因此在基板搬運時，有可能由該 按壓力對基板搬運產生障礙，或者使基板蜿蜒而行地進行 搬運。而且，需要以上述清洗刷前端的平面和基板主面平 行的狀態來按壓清洗刷，但隨著基板大型化，與基板的搬 運方向垂直並沿水平方向延伸的清洗刷長度變長，因基板 自身的重量而在長度方向的中央部附近易產生彎曲，因此 在使在清洗刷的長度方向上使清洗刷不向上下傾斜，而將 基板和清洗刷的間隔保持一定的狀態下，將清洗刷主體按 壓在基板主面上，要求精度高而變得困難。 【發明内容】 本發明是為解決上述問題而提會的_身目…的会於提供 -種基板處理裝置，其能夠確保充分的清洗功能的同時正 2014-7509-PF 6 .1274385 " 確地搬運基板，而且基板清洗機構的製作容易。 本發明（1)所記載的基板處理裝置，包括·· 支承裝置，支承基板； /月洗刷’其具有底座、和由從該底座延伸的複數毛構 成的毛束；及 滑動接觸裝置，其在上述支承裝置所支承的基板的主 面上，使上述清洗刷的毛束的前端部從該毛束延伸的方向 沿著上述基板的主面向一個方向彎曲了的狀態下，而使該 • 前端部與上述基板的主面滑動接觸。 (9 )所記載的發明，是一種基板處理方法，在使由從 清洗刷的底座延伸的複數毛構成的毛束的前端部，以沿著 上述基板的主面的方式向一個方向彎曲的狀態下，使上述 刖端部與上述基板的主面滑動接觸而對基板進行處理。 在這些的結構中’清洗刷的毛束的前端部，在以沿基 板的主面的方式彎曲的狀態下與基板的主面滑動接觸。因 φ 此，這樣在彎曲的狀態的清洗刷毛束的前端部，由於作用 有要返回筆直狀態的應力，所以清洗刷毛束的前端部向著 基板的主面側載入。該結果是’即使例如清洗刷毛束的前 端部形成的平面不均一，還有，由於清洗刷的長條化，因 清洗刷自身的重量而在清洗刷的長度方向中央部附近產生 彎曲，在清洗刷的長度方向上清洗刷多少有些向上下傾 斜，也可以使清洗刷毛束的前端部相對於基板主面均一的 滑動接觸。 另外，（2 )所記載的發明，是如（1 )所記載的基板 2014-7509-PF 7 、1274385 處理裝f，上述清洗刷成為在第一方向上延伸的棒狀， 冑具有在與上述第-方向交叉的第二方向上將上述基 板相對於上述清洗刷進行相對搬運的搬運裝置， 相對於通過上述搬運裝置而沿著上述第二方向相對於 上述清洗刷被相對搬運的上述基板的主面，上述滑動接觸 裝置，使上述清洗刷的毛束的前端部向著上述基板的相對 搬運方向的下游側而彎曲的狀態下，使上述清洗刷沿著上 馨述第-方向往復移動，同時，與上述基板的±面滑動接觸。 根據該結構，相對於沿第二方向而相對於清洗刷進行 相對搬運的基板的主面，使清洗刷毛束的前端部朝向基板 的相對搬運方向的下游側而彎曲的狀態下，使該清洗刷沿 第一方向進行往復移動的同時與基板的主面滑動接觸，因 此即使由於清洗刷的長條化，在清洗刷的長度方向上清洗 刷夕j/有些上下傾斜，在使清洗刷毛束的前端部相對於基 板主面均一滑動接觸的狀態下，也可以使清洗刷沿上述第 Φ 一方向往復運動。 (3)所記載的發明，是如（2)所記載的基板處理裝 置，上述滑動接觸裝i，以上述清洗刷的毛束的前端部朝 向上述基板的相對搬運方向的下游側的方式，使上述清洗 刷傾斜而支承著該清洗刷，同時，使上述清洗刷與上述基 板的主面滑動接觸。 根據該結構，以不阻礙基板的相對搬運方向的方式配 置清洗刷，因此即使處於使清洗刷與基板的主面滑動接觸 狀態，也可以順利的搬運基板。 2014-7509-PF 8 ，1274385 另外，（4)所記載的發明，是如（2)或（3)所記載 的基板處理裝置，沿著上述第二方向，並列配置有複數上 述清洗刷。 根據該結構，通過沿著上述第二方向的複數清洗刷的 並列設置，由清洗刷部連續進行基板表面的污垢的掃去， 而提高對基板的主面的清洗能力。 另外’ （5)所記載的發明，是如（3)或（4 )所記載 的基板處理裝置，在上述支承裝置所支承的上述基板的兩 個主面侧上，分別配置複數上述清洗刷。 根據該結構，通過在上述基板的兩邊的主面侧配置複 數清洗刷，從而提高清洗刷部對基板兩邊的主面的清洗能 另外’ （6)所記載的發明，是如（5 )所記載的基板 處理裝置’在上述支承裝置所支承的上述基板的兩個主面 側上相互對向配置複數上述清洗刷，並且，以在上述支承 φ 裝置上沒有支承上述基板時、該對向配置的上述各清洗刷 的前端部相互接觸的方式配置上述各清洗刷，同時，在上 述支承裝置上沒有支承上述基板時，通過上述滑動接觸裝 置使對向配置的上述各清洗刷的前端部相互滑動接觸。 根據該結構’在支承裝置沒有支承基板的狀態下，使 上述各清洗刷的前端部相互接觸，滑動接觸裝置使相對向 配置的上述各清洗刷的前端部相互滑動接觸，而使兩邊的 清洗刷部的毛束前端部彼，此相互聲擦扣 刷的兩邊的毛束前端。 2014-7509-PF 9 -1274385 另外’ （7)所記載的發明’是如（1)至（6)中任 項所述的基板處理裝置，上述清洗屈彳沾主 肖/无刷的毛束的前端部形成 的平面，成為朝向毛束應被f曲的—個方向而與上述支承 裝置所支承的上述基板的主面接近的傾斜面。

根據該結構，在處於清洗刷毛束相對於基板的主面滑 動接觸而f曲的狀態時’清洗刷前端部從侧面看擴展為: 形狀’因此作用於基板的主面的毛的根數增加，清洗效率 提高。例如，若清洗刷毛束的前端沒有被斜切，則清洗刷 毛束與基板的主面滑動接觸時毛層疊’位於毛束的彎曲呷 分的上側的毛沒有作用於基板的主面，但根據上述結構： 可以減少產生這樣的情況。 此外，（8)所記載的發明，是如（1)至（7)中任一 項所述的基板處理裝置，還具有處理液供給裝置，該處理 液供給裝置向著處於與上述基板的主面滑動接觸而彎曲的 狀態的上述清洗刷的毛束的前端部供給處理液。 _ 另外（10 )所§己載的發明，是如（9 )所記載的基板 處理方法，向處於與上述基板的主面滑動接觸而彎曲的狀 態的上述清洗刷的毛束的前端部供給處理液。 根據這些的結構，通過向清洗刷毛束的前端部供給處 理液，將清洗刷相對於基板主面的滑動接觸產生的物質（異 物）排出到清洗刷外，從而提高處理（清洗）效率。 、义根據上述（1)以及（9)所記載的發明，清洗刷毛束 的别端部，在以沿基板的主面的方式擎曲的狀態下與基板 的主面⑺動接觸’在該彎曲的狀態的清洗刷毛束的前端

2014-7509-PF 10 1274385 部，作用要返回筆直狀態的應力，清洗刷毛束的前端部對 ^面侧载入，因此即使例如清洗刷毛束的前端部形 成的平面不均一，還有，由於清洗刷的長條化，因清洗刷 自身的重里在清洗刷的長度方向中心附近產生彎曲，在清 洗刷的長度方向清洗刷多少有些向上下傾斜，也可以使清 洗刷毛束的前端部與基板主面均勻的滑動接觸。 根據（2)所記載的發明，相對於沿第二方向相對於清 洗刷相對搬運的基板的主面，使清洗刷毛束的前端部朝向 基板的相對搬運方向的下游侧彎曲的狀態下，使該清洗刷 沿第一方向往復移動的同時與基板的主面滑動接觸，因 此，即使由於清洗刷的長條化，在清洗刷的長度方向清洗 刷多少有些向上下傾斜，也可以在使清洗刷毛束的前端部 與基板主面均勻的滑動接觸的狀態下，使清洗刷沿第一方 向往復移動。 根據（3 )所記載的發明，由於以不阻礙基板的相對搬 _ 運方向的方式配置清洗刷，所以即使在使清洗刷與基板主 面滑動接觸的狀態下，也可以順利的搬運基板。 根據（4)所記載的發明，通過沿上述第二方向的清洗 刷複數並列配置’由清洗刷部連續進行基板表面上的污垢 的掃去，從而可以提南對基板主面的清洗能力。 根據（5 )所5己載的發明，通過在上述基板的兩邊的主 面侧配置複數清洗刷，從而能夠提高清洗刷對基板的兩邊 的主面的清洗能力。 根據（6 )所記載的本發明，在支承裝置沒有支承基板

2014-7509-PF 11 ,1274385 的狀態下，使上述各清洗刷的前端部分相互接觸，滑動接 觸裝置使相對向配置的上述各清洗刷的前端部分相互滑動 接觸，使兩邊的清洗刷部的毛束前端部彼此相互摩擦，從 而可以清洗各清洗刷兩邊的毛束前端。 根據（7)所記載的發明，在處於清洗刷毛束與基板的 主面滑動接觸而彎曲的狀態時，清洗刷的前端部從側面看 擴展為扇形，因此作用於基板的主面的毛的根數增加，清 洗處理效率提高。 _ 根據（8)以及（1 〇)所記載的發明，通過向清洗刷毛 束的前端部供給處理液，將由清洗刷相對於基板主面的滑 動接觸產生的物質（異物）排出到清洗刷外，從而提高處 理（清洗）效率。 【實施方式] 以下，參照附圖對本發明的一個實施形態的基板處理 鲁裝置進行說明。圖1是表示本發明的一個實施形態的基板 處理裝置所具有的基板清洗裝置的概略圖。基板處理裝置 2014-7509-pp 12 1 所具備的基板清洗裝置10具有··對成為處理對象的基板 B進订藥液處理的清洗刷清洗t 2;對通過了清洗刷清洗室 2的基板β進行沖洗的沖洗室3 ;風刀室4。另外，基板B 最好疋以從與基板Β的搬運方向垂直的水平方向傾斜的姿 $搬運。通過將基板Β以該姿勢進行搬運，從而在清洗刷 、 以及沖洗室3中，容易使向基板♦供,给的各液體 落到下方’從基板B的面上能很妤的清除液體。 1274385 清洗刷清洗室2具有··接收並搬運完成了例如在蝕刻 工序、剝離工序等的前工序中的處理的基板β的搬運輥 與由搬運輥21搬運的基板β的上表面接觸並進行清洗 的凊洗刷部221 ;與基板Β的下表面接觸並進行清洗的清 洗刷邻2 2 2 ,對基板β的上表面供給純水等的處理液（可 以適用清洗基板所使用的各種處理液，純水是一例）的處 液供、、Ό嘴嘴（液體供給部）2 31 ;對基板β的下表面供給 處理液的處理液供給喷嘴232。這些清洗刷部221、222和 處理液供給噴嘴231、232分別設置有複數。另外，為防止 由於清洗刷部221、222與乾燥的基板Β的表面滑動接觸而 對表面造成損傷，處理液供給噴嘴231、232配置在相比於 /月洗刷邛2 21、2 2 2的基板搬運方向上游侧（清洗刷部2 21、 222與基板Β滑動接觸前）的位置，其處理液喷出方向是 朝著基板搬運方向下游側的。此外，處理液供給喷嘴2 31、 232與省略圖示的處理液供給源連接。 沖洗室3,對結束了在清洗刷清洗室2的處理的基板β 進订沖洗處理。沖洗室3具有··從清洗刷清洗室2接收並 搬運基板Β的搬運輥31 ;將作為沖洗液的純水等供給到基 板Β的上表面的沖洗液供給喷嘴32;向基板Β的下表面供 給沖洗液的沖洗液供給喷嘴33。 風刀室4具有：接收並搬運從沖洗室3搬運來的基板 Β的搬運輥41;對由搬運輥41搬運的基板Β的上表面噴射 空氣而使基板Β的上表面乾普的風刀421〜;對基板β的下 表面喷射空氣而使下表面乾燥的風刀422。 2014-7509-PF 13 ' 1274385 所呈:20單的表示基板清洗裝置1G的清洗刷清洗室2 嗓_有的清洗刷部221及其㈣機構的結構圖。此外，清 222是與該清洗刷部221相同的結構。清洗刷清洗 至2的清洗刷部2 21且右：a ϋ a 士 .. /、 ·土板β的表面清洗用的清洗刷 毛束50，·將該清洗刷毛束欧亩抓 .^ , 不5U丑直5又置（植毛）的平板狀 的>月洗刷底座51。由這虺清泱别主击μ ^ 一⑺冼刷毛束5〇以及清洗刷底座

構成的清洗刷部22卜成為在與基板Β的搬運方向垂直 的方向或者與其接近的方向上、沿與基板Β的上表面平行 的方向呈長條狀延伸的形狀。另外，清洗刷部221，由相 對於基板Β的面垂直的姿熱，傲Λ 太 旦扪文勢變成將清洗刷毛束50的前端 5〇Η側朝向基板β的搬運方向下游側僅傾斜預定的角度的 姿勢（詳細說明在後面敘述）。 在清洗刷底座51的上表面部lu侧，安裝有將清洗刷 部221吊起固定支承的支承件6〇，通過該支承件6〇將清 洗刷部221安裝在由剛性的構件構成的清洗刷安裝基部61 上。在清洗刷安裝基部61安裝有搖動機構8，通過由該搖 動機構8賦予的水平橫向的驅動力，清洗刷安裝基部61， 在與基板B的搬運方向垂直、並與基板8上表面平行的方 向（例如，圖2的左右方向）上搖動，從而安裝在清洗刷 女裝基部61上的清洗刷部221的清洗刷毛束5 〇的前端5 0H 沿與基板B上表面的平行的方向搖動。關於搖動機構8的 結構在後面敘述。另外，支承件6〇，以使圖2所示的距離 G可變的方式’相對於清洗刷安.备部，肿7务 置。另外，支承件6 0、清洗刷安叢基部61以及搖動機構8 2014—7509-PF 14 -1274385 =滑動接觸裝置的-個例子（並不是將滑動接觸裝置的結 構限定於此的意思）。 對這樣構成的基板清洗裝置1〇的動作進行說明。首 先，進行清洗刷底座51的高度位置的設定。該高度位置根 據如下方面而確定，即考慮到成為清洗刷毛束50的各種毛 的直徑和材質等、清洗刷毛束50相對於基板β上表面的角 度夕（作角）、以及作為清洗目標的顆粒的顆粒直徑等，而 以：大的壓力、還有在多大的接觸面積下使清洗刷毛束Μ 的則端50Η接觸于應清洗的基板β的上表面這樣的觀點。 微調整清洗刷毛束50的前端5〇Η相對於基板β上表面 的位置的作業，也使得可以調整支承件6Q相對於清洗刷安 裝土 p 61的位置。例如清洗刷底座5卫為對應於大型的基 板的長條狀的形狀時’清洗職座51的縱向大致中央部分 下方f曲。在這樣的情況下’通過調整接近該彎曲的 部分的支承件60相對於清洗刷安裝基部61的位置，將弯 曲的部分向上方抬起’從而可以使清洗刷毛束50的前端 4對於基板B上表面的位置關係在清洗刷部⑵的縱 向變得均一。 這樣在調整清洗刷毛束50的前端50H相對於基板β 上表面的位置關係的基礎上’進行基板β的清洗處理。在 該清洗處理時，使處理液供給機構9的供給泵93工作，由 從成置在清洗刷底座51上的處理液喷出孔向基板B喷 出處里液的同時，通過搖動機構嗜使清洗席小安裝基部61搖 動。由此’清洗刷毛束50的前端50H相對於基板B如上所

2014-7509-PF 15 -1274385 述那樣成為料的姿勢，在處理液存在的情況下與搬運來 的基板b的表面搖動接觸，從而清洗刷毛束5〇作用於基板 B而除去顆粒等。 接著，對搖動機構8的具體形式進行說明。圖3是表 示使清洗刷安裝基部61 (清洗刷前端50H)沿與基板B的 行進方向（圖中用箭頭b表示）垂直的方向（圖中箭頭〇 的方白）而線性在復運動的搖動機構8的大致俯視圖。 ⑩ 曲柄機構部80通過電動馬達（驅動源）82而被驅動， 在與驅動源82的旋轉轴821結合的旋轉圓板811的外周部 附近突出設置有軸支承銷812，設置在驅動軸813的一端 側的連接孔以松配合的方式嵌合于該軸支承銷812。並且， 設置在驅動軸813另一側的連接孔、和突出設置在清洗刷 安裝基部61的側端邊的軸支承部611，通過連接銷6〗2旋 轉自由地連接著。 另一方面，清洗刷安裝基部61是通過線性引導件 參 613’以沿圖中箭頭c的方向可直線往復運動的方式被支承 著。也可以代替該線性引導件613，而使用線性襯套等。 在這樣的結構中，當驅動源8 2被驅動時，與驅動源 8 2的旋轉轴821結合的旋轉圓板811旋轉，而一端側連接 在突出設置於該旋轉圓板811上的轴支承銷812的驅動轴 813進行圖面左右方向的曲柄動作。通過該曲柄動作，通 過連接銷612而連接於驅動轴813的清洗刷安裝基部61， 被上述線性引導件时3,導的赞時〜 往復運動。即，清洗刷部221，以從與基板B垂直的姿勢

2014-7509-PF 16 -1274385 僅傾斜角度0 1的姿勢清洗刷毛束5〇的前端5〇H與基板b 的上表面接觸，並沿圖中箭頭c的方向往復運動，從而掃 去並清洗基板B的表面上的污潰。另外，也可以採用利用 了氣缸等的線性往復運動機構而代替使用了這樣的曲柄機 構80和驅動源82的線性往復運動機構。 下面，對清洗刷部221的結構進行說明。圖4是圖2 所示的清洗刷部221的侧剖面圖。清洗刷部221，如上所 _ 述，具有：基板B的表面清洗用的清洗刷毛束50 ;豎直設 置該清洗刷毛束50 (植毛）的平板狀的清洗刷底座51。該 /月洗刷毛束5 0，多根毛在其縱向的大致中央部夾著軸$ 2， 在夾著該軸52的清洗刷毛束50部分，從其上方被清洗刷 底座51覆蓋。清洗刷底座η，其剖面形狀從侧面看為大 致口”的形狀，開口部朝向下方，從側面看成為前端細 的形狀。通過這種形狀的清洗刷底座51，夹著該軸的 清洗刷毛束50部分被容置在清洗刷底座51的内部，通過 φ 清洗刷底座51而成為緊固狀態。 成為清洗刷毛束50的各種毛，例如由尼龍類、特氟給 類、氯乙烯（PVC : Poly Vinyl Chloride :聚氯乙烯）類 的材質構成，直徑為0 · 0 5〜0 · 2 ( mm )。清洗刷毛束5 〇從 〉月洗刷底座51路出的部分’最長部分的長度l為1 〇 < l < 40 ( mm ) ° 另外’清洗刷底座51的基板搬運方向上的寬度尺寸ψ 最好是只要能夠豎立設置清洗刷，束孙 的尺寸’具體地說，最好是1 〇mm或其以下。清洗刷底座 2014-7509-PF 17 .1274385 51的長度方向尺寸是對應于與成為處理對象的基板的搬運 方向垂直的方向的尺寸而逐個設定。 圖5是表示清洗刷部221、222以及處理液供給噴嘴 31 2 3 2相對於基板B的配置的侧視圖。清洗刷部如、 222分別配置在基板B的上方或者下方。 /月洗刷。卩221、222 ’成為使清洗刷毛束5〇的前端5〇H 側朝向基板B的搬運方向下游側、而從垂直於基板b的上 表面或者下表面的姿勢僅傾斜預定的角度Si的姿勢。該 角又6»1為5 20 (最好是15)。通過這樣以相對於基板 B的各表面傾斜的姿勢配置清洗刷部⑵、—，從而對清 洗刷部22卜222的清洗刷毛束5〇的前端5〇H和基板b的 各表面的間隙調節不要求精度，另外，即使沒有以高精度 進行清洗刷部22卜222的傾斜^ 1的歧，產生這樣的 問題、即在清洗刷毛束5〇的前端5〇H和基板B的各面之間 產生間隙、或者由前端50H不必要的對基板B的各表面進 _ 行按壓的可能性極小。 處理液供給喷嘴231、232例如是·· （1)主要以高壓 噴出純水的高壓喷嘴，（2)通過以液滴為基體經由壓力而 呈霧狀供給到基板，噴射液體流體和氣體流體的兩流體的 兩流體噴嘴，（3)噴出被賦予了超聲波振動的純水的超聲 波噴嘴等。處理液供給噴嘴231、232設置在相比於清洗刷 部221、222的基板搬運方向下流側的基板B的上方或者下 方。該處理液供給喷嘴23卜232 ,以使來自處 嘴231、232的處理液噴射乂供給）到清洗刷毛束5〇的前 2014-7509-PF 18 -1274385 端5OH、基板B的上表面或者下表面、清洗刷毛束5〇的前 端50H與隸B的上表面或者下表自的接觸部㈣方式設 定配置位置以及配置角度。由此’可同時進行基板B的各 表面的清洗、清洗刷毛束5〇的前端5〇H的清洗。 圖6是表示清洗刷部221、222以及處理液供給喷嘴 231、232相對於基板B的配置的侧視圖，是表示沒有基板 B的狀態的圖。如圖6所示，清洗刷部221和清洗刷部222 最好配置在相互的清洗刷毛束5〇的前端5〇H在它們之間不 存在基板B時接觸的位置。這樣配置清洗刷部$ 21以及清 洗刷部222，若在清洗刷部221以及清洗刷部222間的基 板搬運路徑上不存在基板B的狀態下，驅動搖動機構8使 清洗刷部221以及清洗刷部222沿上述圖3的c方向往復 運動（振動），則可以使清洗刷部221以及清洗刷部222 的清洗刷毛束50的前端50H彼此相互摩擦，從而可以清洗 清洗刷部221以及清洗刷部222的清洗刷毛束50的前端 50H。 圖7是表示分別設置複數清洗刷部221、222以及處理 液供給喷嘴231、232的狀態的侧視圖。清洗刷部221、222 以及處理液供給喷嘴231、232分別複數設置在清洗刷清洗 室2 ’清洗刷部221和處理液供給喷嘴231在基板B的搬 運方向上交互配置，同樣，清洗刷部2 2 2和處理液供终喷 嘴232也在基板B的搬運方向上交互配置。如果這樣構成， 則因為由清洗刷部221:、222'掃女基 由處理液供給噴嘴231、232供給的清洗液除去污垢是不& 2014-7509-PF 19 .1274385 置相對時間差而進行的，因此可以提高對基板β的各表面 的清洗能力。 下面對本發明的其他實施形態進行說明。例如，在上 述實施形態中’清洗刷部222的結構如圖4所示，清洗刷

毛束50的前端50H的下表面部為與水平面平行的形狀。但 如圖8所示，也可以使該下表面部為相對水平面具有5〜別 。（最好是15。）的傾斜角02的形狀。由此，使得清洗刷 毛束50的前端50H的下表面部沿著基板8的上表面或者下 表面。這時，清洗刷毛束50從清洗刷底座51露出的部分， 最長部分的長度L為1〇slS40 (mm)。 圖9是表示由具有上述傾斜角θ2的清洗刷毛束5〇構 成的π洗刷邛221、222以及處理液供給喷嘴231、232的 配置的側視圖。在配置由具有上述傾斜角θ2 #清洗刷毛 束50構成的清洗刷部22卜222時，清洗刷部221、⑽， 使清洗刷毛束50的前端5〇Η朝向基板Β的搬運方向下游 側，而成為從垂直於基板Β的上表面或下表面的姿勢僅傾 斜預定的角度W的姿勢，但該角度02與03的關係為0 2<0 3 (例如15 <20 )。通過這樣以相對於基板β的各表 面傾斜的姿勢配置清洗刷部22卜222，從而可以使清洗刷 毛束50的前端50Η與基板㈣上表面或者下表面相對向的 面的幾乎整個區域接觸到基板Β的上表面或者下表面。 ▲進而’在向清洗刷部22卜222的毛束5G的前端5〇η ^ f ^ 4 s ^^ 5 ^ ^ ^ # # ## η θ 2 ^ 傾斜面的毛束前端部相比’具有該傾斜面的毛束50,在盥

2014-7509-PF 20 I2?4385 薄（因為毛變μ B、擴展成扇狀，從而前端卿的厚度變 B的主面之門因此處理液容易浸透在毛束5°和基板 間’長:鬲處理液的處理效率。 另外’即使沒有以高精度進行清洗刷部m、222的傾

逸广的設定、和使上述角㈣和角度θ2大致相等的 仃调整，由於使清洗刷部22卜222傾斜而使其與基板Β 的=表面接觸，所以產生下面的問題、即在清洗刷毛束50 的前端5GH和基板Β的各表面之間產生間隙、或將通過前 端50Η而不必要的按壓基板Β的各表面的可能性極小。 此外，本發明不僅限於上述實施形態的結構，可以有 種種的變形。例如’在上述實施形態中，清洗刷部221、 222 σ又置在與基板β的兩邊的主面相對向的位置，但也可 以叹置在任意一邊的主面側。另外，清洗刷部2 21、2 2 2相 對於基板Β的主面，以其前端50Η朝向基板Β的搬運方向 側傾斜的姿勢而配置，但只要清洗刷毛束5〇的前端5〇η在 以沿著基板Β的主面的方式在彎曲的狀態下與基板β的主 面接觸即可，也能夠將清洗刷部221、222以相對於基板β 的主面大致垂直的姿勢、和反向傾斜的傾斜姿勢等、除了 上述的傾斜姿勢以外的姿勢配置。 另外，在上述實施形態中，以清洗刷部221、222適用 於清洗刷清洗室2的情況為例進行了說明，但該清洗刷部 221、222的適用不限於清洗刷清洗室2，在進行剝離處理 或顯影處理等其他的處理的處理實卿

理的情況下也可以適用。 2014-7509-PF 21 .1274385 另外’在上述實施形態中，表示了在清洗刷清洗室2 中，通過處理液供給喷嘴231、232對清洗刷部221、222 供給處理液的結構。但也可以設置通過清洗刷底座5丨的内 部而從清洗刷部221、222的根部向基板B供給處理液的機 構。 另外’在上述實施形態中，清洗刷清洗室2作為與前 工序用的處理室連接的結構進行了說明，但使用清洗刷部 221、222的清洗刷清洗室2並不限於此，也可以廣泛使用。 例如，也可以適用于作為單獨的清洗裝置而配置的、將在 其他的前工序用單獨裝置（蝕刻裝置等）中處理過的基板 清洗那樣的基板清洗機構。 另外，在上述實施形態_，通過搖動機構8,使清洗 刷4 221 222在規疋方向搖動，但也可以不設置該搖動機 構8而構成本發明。 【圖式簡單說明】 圖1是表示本發明的一個實 口 κ施形態的基板處理裝置所 具有的基板清洗裳置的概略圖。 圖2是簡單的表示基板清洗朴 、 月，光裝置的樂液處理室所具有 的清洗刷部及其驅動機構的結構圖。 圖3是表示使清洗刷安裝基部往復運動的搖動機構的 概略的俯視圖。 圖4是清洗刷部的猶剖 。 閏清秦刷部如由所俯，且 有··基板的表面清洗用的清洗 ^ 心七朿，和豎直設置該清洗

2014-7509-PF 22 -1274385 刷毛束（植毛）的平板狀的清洗刷底座。 圖5是表示相對於基板的清洗刷部及處理液供給噴 的配置的側視圖。 、 圖6是表示相對於基板的清洗刷部及處理液供给 的配置的側視圖，是表示無基板狀態的圖。 、 圖7是表示分別配置複數清洗刷部及處理液供 的狀態的側視圖。 、角

疋表示清洗刷部的其他實施形態的側剖面圖。 圖9是表示其他實施形態的清洗刷部及處理液供给喳 嘴的配置的侧視圖 【主要元件符號說明】 1〜基板處理裝置； 3〜沖洗室； 8〜搖動機構； 1 〇〜基板清洗裝置； 50〜清洗刷毛束； 50H〜前端； 52〜夹著軸； B〜基板； 2〜清洗刷清洗室； 4〜風刀室； 9〜處理液供給機構； 21、31〜搬運輥； 3 2、3 3〜冲洗液供給嘴嘴· 51〜清洗刷底座； 22卜222〜清洗刷部； 231、232〜處理液供給噴嘴

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Claims (1)

1274385 十、申請專利範圍： 1 · 一種基板處理裝置，包括·· 支承裝置，支承基板； 清洗刷，其具有底座、和由從該底座延伸的複數毛構 成的毛束；及 滑動接觸裝置，其在上述支承裝置所支承的基板的主 面上，使上述清洗刷的毛束的前端部從該毛束延伸的方向 沿著上述基板的主面向一個方向彎曲了的狀態下，而使該 月ίι端部與上述基板的主面滑動接觸。 2.如申請專利範圍第丨項所述的基板處理裝置，其中 上述清洗刷成為在第一方向上延伸的棒狀； 還具有在與上述第一方向交叉的第二方向上將上述基 板相對於上述清洗刷進行相對搬運的搬運裝置； 相對於通過上述搬運裝置而沿著上述第二方向相對於 上述清洗刷被相對搬運的上述基板的主面，上述滑動接觸 裝置’使上述清洗刷的毛束的前端部向著上述基板的相對 搬運方向的下游侧而彎曲的狀態下，使上述清洗刷沿著上 述第一方向往復移動，同時，與上述基板的主面滑動接觸。 3. 如申請專利範圍第2項所述的基板處理裝置，其中 上述滑動接觸裝置係以上述清洗刷的毛束的前端部㈣上 述基板的相對搬運方向的下游侧的方式，使上述清洗刷傾 斜而支承著該清洗刷’同時，使上述清洗刷與上述基板的 主面滑動接觸。. 4. 如申請專利範圍第2或3項所述的基板處理裝置， 2014-7509-PF 24 1274385 其中沿著上述第二方向，並列配置有複數上述清洗刷。 5.如申請專利範圍第3項所述的基板處理裝置，其中 在上述支承裝置所支承的上述基板的兩個主面側上，分別 配置有複數上述清洗刷。 6 ·如申請專利範圍第5項所述的基板處理裝置，其中 在上述支承裝置所支承的上述基板的兩個主面側上相互對 向配置複數上述清洗刷，並且，以在上述支承裝置上沒有 支承上述基板時、該對向配置的上述各清洗刷的前端部相 互接觸的方式配置上述各清洗刷，同時，在上述支承裝置 上沒有支承上述基板時，通過上述滑動接觸裝置使對向配 置的上述各清洗刷的前端部相互滑動接觸。 7·如申請專利範圍第1至3項中任一項所述的基板處 理裝置，其中上述清洗刷的毛束的前端部形成的平面，成 為朝向毛束應被彎曲的一個方向而與上述支承裝置所支承 的上述基板的主面接近的傾斜面。 8. 如申請專利範圍第丨至3項中任一項所述的基板處 理裝置’丨中還具有處理液供給装i，該處理液供給裝置 向者處於與上述基板的主面滑動接觸而彎曲的狀態的上述 清洗刷的毛束的前端部供給處理液。 9. 一種基板處理方法，在使由從清洗刷的底座延伸的 複數毛構成的毛束的前端部，以沿著上述基板的主面的方 式向一個方向f曲的狀態下，使上述前端部與上述基板的 主面滑動接觸而對基板進行處理。 10·如申請專利範圍第9項所述的基板處理方法，其中 2014-7509-PF 25 1274385 ^ 向處於與上述基板的主面滑動接觸而彎曲的狀態的上述清 洗刷的毛束的前端部供給處理液。

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