CN1814357B - 基板处理装置以及基板处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板(B)的主面上，使清洗刷部(221、222)的毛束(50)的前端(50H)成为从该毛束(50)延伸的方向沿基板(B)的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端(50H)与基板(B)的主面滑动接触。在该姿势下，前端(50H)与基板(B)的表面滑动接触的同时，该清洗刷部(221)沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。

Description

基板处理装置以及基板处理方法
技术领域
本发明涉及一种在液晶显示装置(LCD)、等离子显示器(PDP)、半导体装置等的制造过程中对LCD或者PDP用玻璃基板、半导体基板、印刷电路板等例如进行清洗处理等的各种处理的基板处理装置。
背景技术
一直以来，在LCD或者PDP用玻璃基板等的基板制造生产线上，在使用了如蚀刻处理等的药液的特定的处理装置之后设置有基板清洗机构，进行将残留在基板表面的薄膜或颗粒等的异物清洗除去的工作。作为具有这样的基板清洗机构的基板处理装置，例如，如专利文献1所示，提出了如下装置：向通过辊式输送机等的搬运装置搬运的基板供给纯水等的处理液的同时，使圆筒状的辊式刷与该基板表面接触。
另外，如专利文献2所示，还提出了一种清洗装置，其在所搬运的基板的上表面侧以及下表面侧按规定间隔配置多个棒状刷，通过使棒状刷在垂直于基板搬运方向的方向上往复运动，从而除去基板上的尘埃等。
专利文献1：JP特开平9-326377号公报；
专利文献2：JP特开平10-34090号公报。
但是，上述专利文献1所示的基板处理装置，因为使用辊式刷清洗基板，所以制作具备大型尺寸的基板的清洗所要求的精度的辊式刷很困难。即，伴随着基板大型化，与基板的搬运方向垂直并在水平方向上延伸的辊式刷的长度变长，所以，因基板自身的重量而在长度方向的中央部分附近产生弯曲，将基板和辊式刷的间隔保持一定变得困难，制作基板和辊式刷的间隔保持一定的清洗机构不是容易的。
上述专利文献2所示的清洗装置的情况下，若在清洗刷毛束的前端所形成的平面不均匀，就不能使清洗刷与基板的主面均匀的滑动接触，但使清洗刷毛束的前端的平面均匀在加工上困难。另外，通过这样的由垂直于基板表面的姿势构成的棒状刷，要确保充分的清洗性能，就必须加大对基板表面的按压力，因此在基板搬运时，有可能由该按压力对基板搬运产生障碍，或者使基板蜿蜒而行地进行搬运。而且，需要以上述清洗刷前端的平面和基板主面平行的状态来按压清洗刷，但随着基板大型化，与基板的搬运方向垂直并沿水平方向延伸的清洗刷长度变长，因基板自身的重量而在长度方向的中央部附近易产生弯曲，因此在使在清洗刷的长度方向上使清洗刷不向上下倾斜，而将基板和清洗刷的间隔保持一定的状态下，将清洗刷主体按压在基板主面上，要求精度高而变得困难。
发明内容
本发明是为解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置，其能够确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。
本发明(1)所记载的基板处理装置，包括：
支承基板的支承装置；
清洗刷，其具有底座、和由从该底座延伸的多个毛构成的毛束；
滑动接触装置，其在上述支承装置所支承的基板的主面上，使上述清洗刷的毛束的前端部从该毛束延伸的方向沿着上述基板的主面向一个方向弯曲了的状态下，而使该前端部与上述基板的主面滑动接触。
(9)所记载的发明，是一种基板处理方法，在使由从清洗刷的底座延伸的多个毛构成的毛束的前端部，以沿着上述基板的主面的方式向一个方向弯曲的状态下，使上述前端部与上述基板的主面滑动接触而对基板进行处理。
在这些的结构中，清洗刷的毛束的前端部，在以沿基板的主面的方式弯曲的状态下与基板的主面滑动接触。因此，这样在弯曲的状态的清洗刷毛束的前端部，由于作用有要返回笔直状态的应力，所以清洗刷毛束的前端部向着基板的主面侧加载。该结果是，即使例如清洗刷毛束的前端部形成的平面不均一，还有，由于清洗刷的长条化，因清洗刷自身的重量而在清洗刷的长度方向中央部附近产生弯曲，在清洗刷的长度方向上清洗刷多少有些向上下倾斜，也可以使清洗刷毛束的前端部相对于基板主面均一的滑动接触。
另外，(2)所记载的发明，是如(1)所记载的基板处理装置，上述清洗刷成为在第一方向上延伸的棒状，
还具有在与上述第一方向交叉的第二方向上将上述基板相对于上述清洗刷进行相对搬运的搬运装置，
相对于通过上述搬运装置而沿着上述第二方向相对于上述清洗刷被相对搬运的上述基板的主面，上述滑动接触装置，使上述清洗刷的毛束的前端部向着上述基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使上述清洗刷沿着上述第一方向往复移动，同时，与上述基板的主面滑动接触。
根据该结构，相对于沿第二方向而相对于清洗刷进行相对搬运的基板的主面，使清洗刷毛束的前端部朝向基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使该清洗刷沿第一方向进行往复移动的同时与基板的主面滑动接触，因此即使由于清洗刷的长条化，在清洗刷的长度方向上清洗刷多少有些上下倾斜，在使清洗刷毛束的前端部相对于基板主面均一滑动接触的状态下，也可以使清洗刷沿上述第一方向往复运动。
(3)所记载的发明，是如(2)所记载的基板处理装置，上述滑动接触装置，以上述清洗刷的毛束的前端部朝向上述基板的相对搬运方向的下游侧的方式，使上述清洗刷倾斜而支承着该清洗刷，同时，使上述清洗刷与上述基板的主面滑动接触。
根据该结构，以不阻碍基板的相对搬运方向的方式配置清洗刷，因此即使处于使清洗刷与基板的主面滑动接触状态，也可以顺利的搬运基板。
另外，(4)所记载的发明，是如(2)或(3)所记载的基板处理装置，沿着上述第二方向，并列配置有多个上述清洗刷。
根据该结构，通过沿着上述第二方向的多个清洗刷的并列设置，由清洗刷部连续进行基板表面的污垢的扫去，而提高对基板的主面的清洗能力。
另外，(5)所记载的发明，是如(3)或(4)所记载的基板处理装置，在上述支承装置所支承的上述基板的两个主面侧上，分别配置多个上述清洗刷。
根据该结构，通过在上述基板的两边的主面侧配置多个清洗刷，从而提高清洗刷部对基板两边的主面的清洗能力。
另外，(6)所记载的发明，是如(5)所记载的基板处理装置，在上述支承装置所支承的上述基板的两个主面侧上相互对向配置多个上述清洗刷，并且，以在上述支承装置上没有支承上述基板时、该对向配置的上述各清洗刷的前端部相互接触的方式配置上述各清洗刷，同时，在上述支承装置上没有支承上述基板时，通过上述滑动接触装置使对向配置的上述各清洗刷的前端部相互滑动接触。
根据该结构，在支承装置没有支承基板的状态下，使上述各清洗刷的前端部相互接触，滑动接触装置使相对向配置的上述各清洗刷的前端部相互滑动接触，而使两边的清洗刷部的毛束前端部彼此相互摩擦，由此，清洗各清洗刷的两边的毛束前端。
另外，(7)所记载的发明，是如(1)至(6)中任一项所记载的基板处理装置，上述清洗刷的毛束的前端部形成的平面，成为朝向毛束应被弯曲的一个方向而与上述支承装置所支承的上述基板的主面接近的倾斜面。
根据该结构，在处于清洗刷毛束相对于基板的主面滑动接触而弯曲的状态时，清洗刷前端部从侧面看扩展为扇形状，因此作用于基板的主面的毛的根数增加，清洗效率提高。例如，若清洗刷毛束的前端没有被斜切，则清洗刷毛束与基板的主面滑动接触时毛层叠，位于毛束的弯曲部分的上侧的毛没有作用于基板的主面，但根据上述结构，可以减少产生这样的情况。
此外，(8)所记载的发明，是如(1)至(7)中任一项所记载的基板处理装置，还具有处理液供给装置，该处理液供给装置向着处于与上述基板的主面滑动接触而弯曲的状态的上述清洗刷的毛束的前端部供给处理液。
另外，(10)所记载的发明，是如(9)所记载的基板处理方法，向处于与上述基板的主面滑动接触而弯曲的状态的上述清洗刷的毛束的前端部供给处理液。
根据这些的结构，通过向清洗刷毛束的前端部供给处理液，将清洗刷相对于基板主面的滑动接触产生的物质(异物)排出到清洗刷外，从而提高处理(清洗)效率。
根据上述(1)以及(9)所记载的发明，清洗刷毛束的前端部，在以沿基板的主面的方式弯曲的状态下与基板的主面滑动接触，在该弯曲的状态的清洗刷毛束的前端部，作用要返回笔直状态的应力，清洗刷毛束的前端部对基板的主面侧加载，因此即使例如清洗刷毛束的前端部形成的平面不均一，还有，由于清洗刷的长条化，因清洗刷自身的重量在清洗刷的长度方向中心附近产生弯曲，在清洗刷的长度方向清洗刷多少有些向上下倾斜，也可以使清洗刷毛束的前端部与基板主面均匀的滑动接触。
根据(2)所记载的发明，相对于沿第二方向相对于清洗刷相对搬运的基板的主面，使清洗刷毛束的前端部朝向基板的相对搬运方向的下游侧弯曲的状态下，使该清洗刷沿第一方向往复移动的同时与基板的主面滑动接触，因此，即使由于清洗刷的长条化，在清洗刷的长度方向清洗刷多少有些向上下倾斜，也可以在使清洗刷毛束的前端部与基板主面均匀的滑动接触的状态下，使清洗刷沿第一方向往复移动。
根据(3)所记载的发明，由于以不阻碍基板的相对搬运方向的方式配置清洗刷，所以即使在使清洗刷与基板主面滑动接触的状态下，也可以顺利的搬运基板。
根据(4)所记载的发明，通过沿上述第二方向的清洗刷多个并列配置，曲清洗刷部连续进行基板表面上的污垢的扫去，从而可以提高对基板主面的清洗能力。
根据(5)所记载的发明，通过在上述基板的两边的主面侧配置多个清洗刷，从而能够提高清洗刷对基板的两边的主面的清洗能力。
根据(6)所记载的本发明，在支承装置没有支承基板的状态下，使上述各清洗刷的前端部分相互接触，滑动接触装置使相对向配置的上述各清洗刷的前端部分相互滑动接触，使两边的清洗刷部的毛束前端部彼此相互摩擦，从而可以清洗各清洗刷两边的毛束前端。
根据(7)所记载的发明，在处于清洗刷毛束与基板的主面滑动接触而弯曲的状态时，清洗刷的前端部从侧面看扩展为扇形，因此作用于基板的主面的毛的根数增加，清洗处理效率提高。
根据(8)以及(10)所记载的发明，通过向清洗刷毛束的前端部供给处理液，将由清洗刷相对于基板主面的滑动接触产生的物质(异物)排出到清洗刷外，从而提高处理(清洗)效率。
另外，本发明所述的一种基板处理装置，其特征在于，包括：支承基板的支承装置；清洗刷，其具有底座和由从该底座延伸的多个毛构成的毛束；滑动接触装置，其在上述支承装置所支承的基板的主面上，使上述清洗刷的毛束的前端部从该毛束延伸的方向沿着上述基板的主面向一个方向弯曲了的状态下，而使该前端部与上述基板的主面滑动接触；上述清洗刷为在第一方向上延伸的棒状，上述基板处理装置还具有在与上述第一方向交叉的第二方向上将上述基板相对于上述清洗刷进行相对搬运的搬运装置，相对于通过上述搬运装置而沿着上述第二方向相对于上述清洗刷被相对搬运的上述基板的主面，上述滑动接触装置，以上述清洗刷的毛束的前端部朝向上述基板的相对搬运方向的下游侧的方式，使上述清洗刷倾斜而支承着该清洗刷，使上述清洗刷的毛束的前端部向着上述基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使上述清洗刷沿着上述第一方向往复移动，同时，与上述基板的主面滑动接触。
另外，本发明所述的一种基板处理方法，其特征在于，以使由从清洗刷的底座延伸的多个毛构成的毛束的前端部沿着基板的主面朝向上述基板的相对搬运方向的下游侧的方式，使上述清洗刷倾斜而支承着该请洗刷，并且使上述清洗刷的毛束的上述前端部向着上述基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使上述清洗刷沿着与上述相对搬运方向交叉的方向往复移动，同时，与上述基板的主面滑动接触而对基板进行处理。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式的基板处理装置所具有的基板清洗装置的概略图。
图2是简单的表示基板清洗装置的药液处理室所具有的清洗刷部及其驱动机构的结构图。
图3是表示使清洗刷安装基部往复运动的摇动机构的概略的俯视图。
图4是清洗刷部的侧剖面图。清洗刷部如上所述，具有：基板的表面清洗用的清洗刷毛束；和竖直设置该清洗刷毛束(植毛)的平板状的清洗刷底座。
图5是表示相对于基板的清洗刷部及处理液供给喷嘴的配置的侧视图。
图6是表示相对于基板的清洗刷部及处理液供给喷嘴的配置的侧视图，是表示无基板状态的图。
图7是表示分别配置多个清洗刷部及处理液供给喷嘴的状态的侧视图。
图8是表示清洗刷部的其他实施方式的侧剖面图。
图9是表示其他实施方式的清洗刷部及处理液供给喷嘴的配置的侧视图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的一个实施方式的基板处理装置进行说明。图1是表示本发明的一个实施方式的基板处理装置所具有的基板清洗装置的概略图。基板处理装置1所具备的基板清洗装置10具有：对成为处理对象的基板B进行药液处理的清洗刷清洗室2；对通过了清洗刷清洗室2的基板B进行冲洗的冲洗室3；风刀室4。另外，基板B最好是以从与基板B的搬运方向垂直的水平方向倾斜的姿势搬运。通过将基板B以该姿势进行搬运，从而在清洗刷清洗室2以及冲洗室3中，容易使向基板B供给的各液体落到下方，从基板B的面上能很好的清除液体。
清洗刷清洗室2具有：接收并搬运完成了例如在蚀刻工序、剥离工序等的前工序中的处理的基板B的搬运辊21；与由搬运辊21搬运的基板B的上表面接触并进行清洗的清洗刷部221；与基板B的下表面接触并进行清洗的清洗刷部222；对基板B的上表面供给纯水等的处理液(可以适用清洗基板所使用的各种处理液，纯水是一例)的处理液供给喷嘴(液体供给部)231；对基板B的下表面供给处理液的处理液供给喷嘴232。这些清洗刷部221、222和处理液供给喷嘴231、232分别设置有多个。另外，为防止由于清洗刷部221、222与干燥的基板B的表面滑动接触而对表面造成损伤，处理液供给喷嘴231、232配置在相比于清洗刷部221、222的基板搬运方向上游侧(清洗刷部221、222与基板B滑动接触前)的位置，其处理液喷出方向是朝着基板搬运方向下游侧的。此外，处理液供给喷嘴231、232与省略图示的处理液供给源连接。
冲洗室3，对结束了在清洗刷清洗室2的处理的基板B进行冲洗处理。冲洗室3具有：从清洗刷清洗室2接收并搬运基板B的搬运辊31；将作为冲洗液的纯水等供给到基板B的上表面的冲洗液供给喷嘴32；向基板B的下表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴33。
风刀室4具有：接收并搬运从冲洗室3搬运来的基板B的搬运辊41；对由搬运辊41搬运的基板B的上表面喷射空气而使基板B的上表面干燥的风刀421；对基板B的下表面喷射空气而使下表面干燥的风刀422。
图2是简单的表示基板清洗装置10的清洗刷清洗室2所具有的清洗刷部221及其驱动机构的结构图。此外，清洗刷部222是与该清洗刷部221相同的结构。清洗刷清洗室2的清洗刷部221具有：基板B的表面清洗用的清洗刷毛束50；将该清洗刷毛束50竖直设置(植毛)的平板状的清洗刷底座51。由这些清洗刷毛束50以及清洗刷底座51构成的清洗刷部221，成为在与基板B的搬运方向垂直的方向或者与其接近的方向上、沿与基板B的上表面平行的方向呈长条状延伸的形状。另外，清洗刷部221，由相对于基板B的面垂直的姿势，变成将清洗刷毛束50的前端50H侧朝向基板B的搬运方向下游侧仅倾斜预定的角度的姿势(详细说明在后面叙述)。
在清洗刷底座51的上表面部111侧，安装有将清洗刷部221吊起固定支承的支承件60，通过该支承件60将清洗刷部221安装在由刚性的构件构成的清洗刷安装基部61上。在清洗刷安装基部61安装有摇动机构8，通过由该摇动机构8赋予的水平横向的驱动力，清洗刷安装基部61，在与基板B的搬运方向垂直、并与基板B上表面平行的方向(例如，图2的左右方向)上摇动，从而安装在清洗刷安装基部61上的清洗刷部221的清洗刷毛束50的前端50H沿与基板B上表面的平行的方向摇动。关于摇动机构8的结构在后面叙述。另外，支承件60，以使图2所示的距离G可变的方式，相对于清洗刷安装基部61移动自由的设置。另外，支承件60、清洗刷安装基部61以及摇动机构8是滑动接触装置的一个例子(并不是将滑动接触装置的结构限定于此的意思)。
对这样构成的基板清洗装置10的动作进行说明。首先，进行清洗刷底座51的高度位置的设定。该高度位置根据如下方面而确定，即考虑到成为清洗刷毛束50的各种毛的直径和材质等、清洗刷毛束50相对于基板B上表面的角度(倾角)、以及作为清洗目标的颗粒的颗粒直径等，而以多大的压力、还有在多大的接触面积下使清洗刷毛束50的前端50H接触于应清洗的基板B的上表面这样的观点。
微调整清洗刷毛束50的前端50H相对于基板B上表面的位置的作业，也使得可以调整支承件60相对于清洗刷安装基部61的位置。例如清洗刷底座51为对应于大型的基板的长条状的形状时，清洗刷底座51的纵向大致中央部分易向下方弯曲。在这样的情况下，通过调整接近该弯曲的部分的支承件60相对于清洗刷安装基部61的位置，将弯曲的部分向上方抬起，从而可以使清洗刷毛束50的前端50H相对于基板B上表面的位置关系在清洗刷部222的纵向变得均一。
这样，在调整清洗刷毛束50的前端50H相对于基板B上表面的位置关系的基础上，进行基板B的清洗处理。在该清洗处理时，使处理液供给机构9的供给泵93工作，由从设置在清洗刷底座51上的处理液喷出孔131向基板B喷出处理液的同时，通过摇动机构8使清洗刷安装基部61摇动。由此，清洗刷毛束50的前端50H相对于基板B如上所述那样成为倾斜的姿势，在处理液存在的情况下与搬运来的基板B的表面摇动接触，从而清洗刷毛束50作用于基板B而除去颗粒等。
接着，对摇动机构8的具体形式进行说明。图3是表示使清洗刷安装基部61(清洗刷前端50H)沿与基板B的行进方向(图中用箭头b表示)垂直的方向(图中箭头c的方向)，而线性往复运动的摇动机构8的大致俯视图。
曲柄机构部80通过电动马达(驱动源)82而被驱动，在与驱动源82的旋转轴821结合的旋转圆板811的外周部附近突出设置有轴支承销812，设置在驱动轴813的一端侧的连接孔以松配合的方式嵌合于该轴支承销812。并且，设置在驱动轴813另一侧的连接孔、和突出设置在清洗刷安装基部61的侧端边的轴支承部611，通过连接销612旋转自由地连接着。
另一方面，清洗刷安装基部61是通过线性引导件613，以沿图中箭头c的方向可直线往复运动的方式被支承着。也可以代替该线性引导件613，而使用线性衬套等。
在这样的结构中，当驱动源82被驱动时，与驱动源82的旋转轴821结合的旋转圆板811旋转，而一端侧连接在突出设置于该旋转圆板811上的轴支承销812的驱动轴813进行图面左右方向的曲柄动作。通过该曲柄动作，通过连接销612而连接于驱动轴813的清洗刷安装基部61，被上述线性引导件613引导的同时，沿图中箭头c的方向往复运动。即，清洗刷部221，以从与基板B垂直的姿势仅倾斜角度θ1的姿势清洗刷毛束50的前端50H与基板B的上表面接触，并沿图中箭头c的方向往复运动，从而扫去并清洗基板B的表面上的污渍。另外，也可以采用利用了气缸等的线性往复运动机构而代替使用了这样的曲柄机构80和驱动源82的线性往复运动机构。
下面，对清洗刷部221的结构进行说明。图4是图2所示的清洗刷部221的侧剖面图。清洗刷部221，如上所述，具有：基板B的表面清洗用的清洗刷毛束50；竖直设置该清洗刷毛束50(植毛)的平板状的清洗刷底座51。该清洗刷毛束50，多根毛在其纵向的大致中央部夹着轴52，在夹着该轴52的清洗刷毛束50部分，从其上方被清洗刷底座51覆盖。清洗刷底座51，其剖面形状从侧面看为大致“コ”的形状，开口部朝向下方，从侧面看成为前端细的形状。通过这种形状的清洗刷底座51，夹着该轴52的清洗刷毛束50部分被容置在清洗刷底座51的内部，通过清洗刷底座51而成为紧固状态。
成为清洗刷毛束50的各种毛，例如由尼龙类、特氟纶类、氯乙烯(PVC：Poly Vinyl Chloride：聚氯乙烯)类的材质构成，直径为0.05～0.2(mm)。清洗刷毛束50从清洗刷底座51露出的部分，最长部分的长度L为10≤L≤40(mm)。
另外，清洗刷底座51的基板搬运方向上的宽度尺寸W最好是只要能够竖立设置清洗刷毛束50即可的尽可能小的尺寸，具体地说，最好是10mm或其以下。清洗刷底座51的长度方向尺寸是对应于与成为处理对象的基板的搬运方向垂直的方向的尺寸而逐个设定。
图5是表示清洗刷部221、222以及处理液供给喷嘴231、232相对于基板B的配置的侧视图。清洗刷部221、222分别配置在基板B的上方或者下方。
清洗刷部221、222，成为使清洗刷毛束50的前端50H侧朝向基板B的搬运方向下游侧、而从垂直于基板B的上表面或者下表面的姿势仅倾斜预定的角度θ1的姿势。该角度θ1为5～20°(最好是15°)。通过这样以相对于基板B的各表面倾斜的姿势配置清洗刷部221、222，从而对清洗刷部221、222的清洗刷毛束50的前端50H和基板B的各表面的间隙调节不要求精度，另外，即使没有以高精度进行清洗刷部221、222的倾斜角θ1的设定，产生这样的问题、即在清洗刷毛束50的前端50H和基板B的各面之间产生间隙、或者由前端50H不必要的对基板B的各表面进行按压的可能性极小。
处理液供给喷嘴231、232例如是：(1)主要以高压喷出纯水的高压喷嘴，(2)通过以液滴为基体经由压力而呈雾状供给到基板，喷射液体流体和气体流体的两流体的两流体喷嘴，(3)喷出被赋予了超声波振动的纯水的超声波喷嘴等。处理液供给喷嘴231、232设置在相比于清洗刷部221、222的基板搬运方向下流侧的基板B的上方或者下方。该处理液供给喷嘴231、232，以使来自处理液供给喷嘴231、232的处理液喷射(供给)到清洗刷毛束50的前端50H、基板B的上表面或者下表面、清洗刷毛束50的前端50H与基板B的上表面或者下表面的接触部分的方式设定配置位置以及配置角度。由此，可同时进行基板B的各表面的清洗、清洗刷毛束50的前端50H的清洗。
图6是表示清洗刷部221、222以及处理液供给喷嘴231、232相对于基板B的配置的侧视图，是表示没有基板B的状态的图。如图6所示，清洗刷部221和清洗刷部222最好配置在相互的清洗刷毛束50的前端50H在它们之间不存在基板B时接触的位置。这样配置清洗刷部221以及清洗刷部222，若在清洗刷部221以及清洗刷部222间的基板搬运路径上不存在基板B的状态下，驱动摇动机构8使清洗刷部221以及清洗刷部222沿上述图3的c方向往复运动(振动)，则可以使清洗刷部221以及清洗刷部222的清洗刷毛束50的前端50H彼此相互摩擦，从而可以清洗清洗刷部221以及清洗刷部222的清洗刷毛束50的前端50H。
图7是表示分别设置多个清洗刷部221、222以及处理液供给喷嘴231、232的状态的侧视图。清洗刷部221、222以及处理液供给喷嘴231、232分别多个设置在清洗刷清洗室2，清洗刷部221和处理液供给喷嘴231在基板B的搬运方向上交互配置，同样，清洗刷部222和处理液供给喷嘴232也在基板B的搬运方向上交互配置。如果这样构成，则因为由清洗刷部221、222扫去基板B各表面的污垢，和由处理液供给喷嘴231、232供给的清洗液除去污垢是不设置相对时间差而进行的，因此可以提高对基板B的各表面的清洗能力。
下面对本发明的其他实施方式进行说明。例如，在上述实施方式中，清洗刷部222的结构如图4所示，清洗刷毛束50的前端50H的下表面部为与水平面平行的形状。但如图8所示，也可以使该下表面部为相对水平面具有5～20°(最好是15°)的倾斜角θ2的形状。由此，使得清洗刷毛束50的前端50H的下表面部沿着基板B的上表面或者下表面。这时，清洗刷毛束50从清洗刷底座51露出的部分，最长部分的长度L为10≤L≤40(mm)。
图9是表示由具有上述倾斜角θ2的清洗刷毛束50构成的清洗刷部221、222以及处理液供给喷嘴231、232的配置的侧视图。在配置由具有上述倾斜角θ2的清洗刷毛束50构成的清洗刷部221、222时，清洗刷部221、222，使清洗刷毛束50的前端50H朝向基板B的搬运方向下游侧，而成为从垂直于基板B的上表面或下表面的姿势仅倾斜预定的角度θ3的姿势，但该角度θ2与θ3的关系为θ2＜θ3(例如15°＜20°)。通过这样以相对于基板B的各表面倾斜的姿势配置清洗刷部221、222，从而可以使清洗刷毛束50的前端50H与基板B的上表面或者下表面相对向的面的几乎整个区域接触到基板B的上表面或者下表面。
进而，在向清洗刷部221、222的毛束50的前端50H的弯曲部分供给处理液时，与没有形成具有倾斜角θ2的倾斜面的毛束前端部相比，具有该倾斜面的毛束50，在与基板B的主面接触时扩展成扇状，从而前端50H的厚度变薄(因为毛变疏)，因此处理液容易浸透在毛束50和基板B的主面之间，提高处理液的处理效率。
另外，即使没有以高精度进行清洗刷部221、222的倾斜角θ3的设定、和使上述角度θ3和角度θ2大致相等的进行调整，由于使清洗刷部221、222倾斜而使其与基板B的各表面接触，所以产生下面的问题、即在清洗刷毛束50的前端50H和基板B的各表面之间产生间隙、或将通过前端50H而不必要的按压基板B的各表面的可能性极小。
此外，本发明不仅限于上述实施方式的结构，可以有种种的变形。例如，在上述实施方式中，清洗刷部221、222设置在与基板B的两边的主面相对向的位置，但也可以设置在任意一边的主面侧。另外，清洗刷部221、222相对于基板B的主面，以其前端50H朝向基板B的搬运方向侧倾斜的姿势而配置，但只要清洗刷毛束50的前端50H在以沿着基板B的主面的方式在弯曲的状态下与基板B的主面接触即可，也能够将清洗刷部221、222以相对于基板B的主面大致垂直的姿势、和反向倾斜的倾斜姿势等、除了上述的倾斜姿势以外的姿势配置。
另外，在上述实施方式中，以清洗刷部221、222适用于清洗刷清洗室2的情况为例进行了说明，但该清洗刷部221、222的适用不限于清洗刷清洗室2，在进行剥离处理或显影处理等其他的处理的处理室内，在由清洗刷进行处理的情况下也可以适用。
另外，在上述实施方式中，表示了在清洗刷清洗室2中，通过处理液供给喷嘴231、232对清洗刷部221、222供给处理液的结构。但也可以设置通过清洗刷底座51的内部而从清洗刷部221、222的根部向基板B供给处理液的机构。
另外，在上述实施方式中，清洗刷清洗室2作为与前工序用的处理室连接的结构进行了说明，但使用清洗刷部221、222的清洗刷清洗室2并不限于此，也可以广泛使用。例如，也可以适用于作为单独的清洗装置而配置的、将在其他的前工序用单独装置(蚀刻装置等)中处理过的基板清洗那样的基板清洗机构。
另外，在上述实施方式中，通过摇动机构8，使清洗刷部221、222在规定方向摇动，但也可以不设置该摇动机构8而构成本发明。

Claims (8)

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
支承基板的支承装置；
清洗刷，其具有底座和由从该底座延伸的多个毛构成的毛束；
滑动接触装置，其在上述支承装置所支承的基板的主面上，使上述清洗刷的毛束的前端部从该毛束延伸的方向沿着上述基板的主面向一个方向弯曲了的状态下，而使该前端部与上述基板的主面滑动接触，
上述清洗刷为在第一方向上延伸的棒状，
上述基板处理装置还具有在与上述第一方向交叉的第二方向上将上述基板相对于上述清洗刷进行相对搬运的搬运装置，
相对于通过上述搬运装置而沿着上述第二方向相对于上述清洗刷被相对搬运的上述基板的主面，上述滑动接触装置，以上述清洗刷的毛束的前端部朝向上述基板的相对搬运方向的下游侧的方式，使上述清洗刷倾斜而支承着该清洗刷，使上述清洗刷的毛束的前端部向着上述基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使上述清洗刷沿着上述第一方向往复移动，同时，与上述基板的主面滑动接触。
2.如权利要求1所记载的基板处理装置，其特征在于，沿着上述第二方向，并列配置有多个上述清洗刷。
3.如权利要求1所记载的基板处理装置，其特征在于，在上述支承装置所支承的上述基板的两个主面侧上，分别配置有多个上述清洗刷。
4.如权利要求3所记载的基板处理装置，其特征在于，在上述支承装置所支承的上述基板的两个主面侧上相互对向配置多个上述清洗刷，并且，以在上述支承装置上没有支承上述基板时、该对向配置的上述各清洗刷的前端部相互接触的方式配置上述各清洗刷，同时，在上述支承装置上没有支承上述基板时，通过上述滑动接触装置使对向配置的上述各清洗刷的前端部相互滑动接触。
5.如权利要求1所记载的基板处理装置，其特征在于，上述清洗刷的毛束的前端部形成的下表面，为朝向上述基板的相对搬运方向的下游侧且呈与上述支承装置所支承的上述基板的主面接近的倾斜面。
6.如权利要求1所记载的基板处理装置，其特征在于，还具有处理液供给装置，该处理液供给装置向着处于与上述基板的主面滑动接触而弯曲的状态的上述清洗刷的毛束的前端部供给处理液。
7.一种基板处理方法，其特征在于，以使由从清洗刷的底座延伸的多个毛构成的毛束的前端部沿着基板的主面朝向上述基板的相对搬运方向的下游侧的方式，使上述清洗刷倾斜而支承着该清洗刷，并且使上述清洗刷的毛束的上述前端部向着上述基板的相对搬运方向的下游侧而弯曲的状态下，使上述清洗刷沿着与上述相对搬运方向交叉的方向往复移动，同时，与上述基板的主面滑动接触而对基板进行处理。
8.如权利要求7所记载的基板处理方法，其特征在于，向处于与上述基板的主面滑动接触而弯曲的状态的上述清洗刷的毛束的前端部供给处理液。
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