TWI250226B - Copper electrolytic solution containing a dialkyl amino group-containing polymer having a specific skeleton and an organic sulfur compound as additives, and an electrolytic copper foil prepared by the same - Google Patents
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Description
1250226 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 電解液,特別是有 優異延伸性與抗拉 本發明係有關電解銅箔之製造用銅 關可圖案精細化且在常溫與高溫下具有 強度之電解銅箔的製造用銅電解液。 【先前技術】 =而言’在電解㈣製造中,使用經研磨表面的轉 動孟屬衣陰極滾筒,及配置於該陰極滾筒大約下 處之圍在該陰極滾M周圍的轉性金屬陽極,在銅 流過上述陰極滾筒與陽極之間的同時,係提供此兩:之= 的電位^使陰極滾筒上電沈積銅’達魏定厚度; 陰極滾筒剝下電沈積銅而以連續性地製造_。 ^ 如此所得到的銅箔一般稱為生羯,i 處理便使用在印刷線路㈣。 表面 習知之銅箱製造裝置之概要示於第!圖中。此電解銅 泊裝置於容納電解液的電解槽中設置有陰極滾筒工。此陰 系以部分(大約下半部)浸潰於電解液中的狀態; 轉動的情況。 β在圍住此陰極滾筒i外圍的下半部,㈣置有不溶性 1¼極2。此陰極滾筒丨盥陽極 也^ 之間有一定的間隙3,而成 Μ解液流動的間隙。在第1圖的裝置中,係配置有2片 1%極板。 第1圖之裝置係構成由下方 人印「乃供給電解液,而該電阁 通過陰極滾同1與陽極2的間卩_ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 』丨序、J攸陽極2的上緣溢; 315947(修正 5 1250226 2並=電解液依此循環。使整流器介於陰極滾筒i與陽極 而達到能夠維持兩者之間規定的電壓。 ^者陰極滾筒i轉動,由電解液電沈積的銅厚度增 :達到某個厚度以上的情況下,剥離此生4,連續 =取:如此所製造的生麵由陰極滾筒i與陽極2 、距雄、所供給之電解液的流速或供給電量而調整厚 復0 筒接::此!電解銅落製造裝置所製造的銅箱,與陰極滾 、面_成為鏡面,而相反側的面會變成凹凸不平的 二:。用-般的電解會使該粗糙面的凹凸不平加劇,在 j %易於發生下切而有難以圖案精細化的問題。 一方面,近來伴隨印刷線路板的高密度化,進而要求 狀如Z將電路寬度窄化、及伴隨多層化之圖案精細化的銅 ;白。為了將圖案精細化,必須要有具蝕刻速度與均句溶解 性之銅箔,亦即具有優異蝕刻特性之銅箔。 、、未另方面,印刷線路板用銅箔所要求的性能,不只要 下的i伸’並要求為了防止由於熱應力導致龜裂的 ^伸特!·生,更由於印刷線路板之尺寸安定性而要求的 门抗拉強度。但是如上述粗縫面嚴重凹凸不平的銅謂,會 有如上述之完全不適合圖案精細化的問題。因此檢討粗 面的超薄化。 -般而言,該超薄化已知可藉由在電解液中大量添加 膠或硫脲等而達成。 然而,此種添加劑會急遽地降低常溫與高溫下的延伸 315947(修正版) 1250226 :發:::r低印刷線路板用㈣之性能的問題 二!=?面側(光澤面之相反側)之表面粗輪度小的超 溫;=,,特別是得到可圖案精細化並且在常溫與高 /jel 〃有k異延伸性與抗拉強度的電解銅箔。 本發明之課題係以在使用陰極滾筒 、本發明人等得知藉由在電解液中添加可超薄化之 :加劑’而能得到可圖案精細化且在常溫與高溫下具有優 〃延伸性與抗拉強度的電解銅箔。 B本發明人等根據該知識’在使銅電解液流過陰極滾筒 ”陽極之間於陰極滾筒上電沈積銅,使電沈積銅箔從該陰 極滾筒剝離而連續地製造銅羯的電解銅fl製造方法中,: ^吏用含有具備特定骨格之二烧基胺基聚合物及含有有^ 硫化合物之銅電解液進行電解,而發現能得到可圖案精細 =且在常溫與高溫下具有優異延伸性與抗拉強度的電解銅 箔,遂而完成本發明。 換言之,本發明係由以下結構所組成。 X &π] —種銅電解液,係含有··將具有二烷基胺基之丙 烯::糸化合物經由單獨聚合或與其他具有不飽和 鍵之化合 物了水σ所彳于到之含有二烷基胺基之聚合物及有機硫化合 物為添加劑。 ^[2]如[1]之銅電解液,其中,上述具有二烷基胺基之 丙稀S夂系化合物為下列通式⑴、(2)或(3)所示者。 7 315947(修正版) 1250226 0 1 one 丨一 R Ic II 2 H c N 1 H c
2 3 R R 2 3 R R / \ N 1 one 丨一 RIC II 2 H c 2 R, Ο CH2=c^c- NH(CH2)nN; R- (3) 子或碳數1至 R虚(Γ式⑴至(3)中,〜表示氫原…乂似丄至5之η I、3各自表示碳數!至5之燒基,n表示工至5之^ [3]如[1]之銅電解液,1 +, 疋數 J通式⑷或(5)所示化合物者。 物為、 x-R】-(s)n〜R2 — Y R 4 一 Q — ρ 3 b R〜S〇3z (4) (5) 、 ⑸ R4為選自中’Rl、R、R3為碳數1至8之伸燒
H3C-CH2〜〇j h2n c 所成之群組者,x 或膦酸之鹼金屬脇選自氫原子、磺酸基、膦酸基 、’ I基或銨鹽基所成之群組者,γ為: 8 31594/ 1250226 酸基、膦酸基、磺酸或膦酸之鹼金屬鹽基所成之群組者, z為氫原子或驗金屬,η為2或3。) [4] 一種電解銅箔,係使用上述π]至[3]中任—項之銅 電解液而製造。 、 [5] —種鍍銅層壓板,係使用上述[4]之電解銅箔而 【實施方式】 在本發明中,重要的是在電解液中含有:將具有二烷 基胺基之丙烯酸約匕合物經由單獨聚合或與其他具有不飽 和鍵之化合物共聚合所得到《含二烧基胺基之聚合物及有 機硫化合物。只添加其中一種便無法達到本發明之目的。 在本土明中,作為具有二烧基胺基之丙烯酸系化合物 者,例如具有二烷基胺基之丙烯酸化合物、具有二烷基胺 ,之甲基丙烯酸化合物等,以及包含於化合物中乙稀基内 邛的妷上鍵結有烷基者。作為具有二烷基胺基之丙烯酸系 化合物者’較佳為下列通式(1)至(3)所示之化合物。
Ri Ο
C — C-〇_(CH2)nN
R, Ο CH2=c — C一 N
(2)
(3) R, O CM—上 11 〇H2=C-C-NH(CH2) (通式(1)至(3)中,心表示氫原子或碳數i至5之烷基, 9 315947(修正版) 1250226 R2與R3表示碳數1至5之烷基,η表示1至5之整數。) 較"^之R1為氫原子或曱基,R2、R3之石炭數1至5之 烷基者,較佳為甲基或乙基。 使用上述通式(1)至(3)所示之化合物者係可列舉如:丙 烯酸二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸二乙基胺基乙酯、甲基. 丙烯酸二曱基胺基乙酯、N,N-二乙基丙烯醯胺、N,N_二曱· 基丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺、N,N_二曱基 胺基丙基甲基丙烯醯胺等。 , 具備特定骨格之含二烷基胺基之聚合物係將含有該等鲁 一烷基胺基之丙烯酸系化合物經由單獨聚合或與其他具有 不飽和鍵之化合物共聚合而得。 、 進行單獨聚合時,較佳係以水為溶劑,使用如過硫酸 鉀、過硫酸銨等自自基產生劑以作為聚合起始劑來進行。 再者,在與其他具有不飽和鍵之化合物共聚合的情況 下’作為其他具有不飽和鍵的化合物者為共聚性不飽和化 合物,較佳之化合物可例舉如:丙烯酸2_經乙基醋、丙烯 酸2-羥丙基酯、甲基丙烯酸2_羥乙基酯。 · 經由單獨聚合或共聚合所得到之含燒基胺基之聚合物 的重量平均分子量較佳為1000至5〇〇 〇〇〇。 在反應未充分完成’仍殘留單體的情況下,殘留單體 之莫耳比在40%以下時,即使使用與單體的混合物亦不合 有特性上的問題。 曰 、再者’有機硫化合物較佳為具有上述通式⑷或⑺之構 造式的化合物。 315947(修正版) 10 1250226 上述通式(4)所示之有機硫化合物 下列舉者。 1佳為使用例如以 h2〇3p-(ch2)广 s-s H〇3S-(CH) c (CH 山-P〇3H2 一 H2)^s~s-(ch2)4~s〇3h -03S (CH2)^s_s_(cH2)3__s〇3Na
CH3 H2)U-(ch2)2-s〇3H
CH3-S~S-ch2~s〇3H
Na 〇3 S — (CFM 〇 山〜s-s-S-(CH2)3 —S〇3Na (CHICHIS-S、(CH2)2 —s〇3t{ 再者’上述通式(5)所示之有機硫化合物 例如以下列舉者。 句便用 HS~CH2CH2CH2-S03Na HS - CH2CH?_s〇3Na
H3 C\ s u p/N—C-S-CH2CH2CH「S03Na
M 3 C
S h3c-ch2-o-c-s-ch2ch2ch2-so3k NH N — C一 S -ch2ch2ch2-so
H
H 銅私解液中,含有二院基胺基之聚合物與有機硫化合 物的比,以重量比計,較佳為1 : 5至5 : 1,更佳為i ·· 2 至2· 1。含有二烷基胺基之聚合物在銅電解液中的濃度較 佳為1至200ppm。 在銅電解液中,除了上述含有二烷基胺基之聚合物及 11 315947(修正版) 1250226 有機硫化合物之外,亦可添加聚乙二醇、聚丙二醇等聚喊 化合物,聚伸乙亞胺、吩哄染料、膠、纖維素等周知的添 加劑。 …再者,層積本發明之電解㈣所得到的鑛銅層壓板, 係成為可圖案精細化且在常溫與高溫下具有優異延伸與抗 拉強度的鐘銅層壓板。 實施例 以下以所示之實施例更詳細說明本發明。 含有一烧基胺基之聚合物之合成例1 將50 g的N,N-二甲基胺基丙基丙烯酿胺溶於5〇 g的 離子交換水中’對此添加05g的過硫酸鉀,在氮氣環境 下於紙進行3小時的聚合反應。所得化合物為含有下列 化學式所示之含二烷基胺基之聚合物(1)(重量平均分子量 為8500)及其單體之混合物,單體含量為至。 Η2 — C H)r
I c ~ 〇 卜H C H 2
I 〒H2 C Η ο
I
N C H3〆H3 含有二烧基胺基之聚合物之合成例2 ^除了將上述合成例,队二甲基胺基丙基丙稀醯 胺改為曱基丙稀酸二曱基胺基乙g旨以外,利用與合成例1 相同的方法進行聚纟。所得化合物為含有下列化學式所示 315947(修正版) 12 !25〇226 之含有二烷基胺基之聚合物(II)(重量平均分子量為45〇〇) 及其單體之混合物,單體含量約為6%。 Η C τ
CIOIOIOICICIN 3 Η Nrn
ο II Η 2 Η
Η C
Η C έ有二院基胺基之聚合物之合成例3 =將上述合成例κΝ,Ν_:甲基胺基丙基丙稀酿 為N,N-二甲基丙烯醯胺以外,利用與合成例!相同 勺方法進行聚合。所得化合物為含有下列化學式所示之含 之ΐΓ(ΠΙ)(重量平均分子量為92。。)及其 早體之k合物,早體含量約為1〇%。 气CH广CHk c = 〇
I
N CH广、CH3 貫施例1至6及比較例1至5 按照弟1圖所示,播用帝盜 3—的電糊。電解液:=製造裝置製造厚度為
Cu ·· 90g/L
H2S04 : 80g/L 315947(修正版) 13 1250226
Cl : 60ppm 聚乙二醇(PEG) : 20mg/L 或 Omg/L 液溫: 55至57°C。 添加劑A :雙(3-磺酸丙基)二硫化鈉 (RASCHIG公司製造 SPS) 添加劑B1 :上述合成例1所得之具有特定構造且含二 烷基胺基之聚合物之混合物 添加劑B2 :上述合成例2所得之具有特定構造且含二 烷基胺基之聚合物之混合物 添加劑B3 :上述合成例3所得之具有特定構造且含二 烷基胺基之聚合物之混合物 以JIS B 0601為標準,測定所得電解銅箔的表面粗 糙度Rz (//m),以IPC—TM650為標準,測定常溫延伸度 (%)、常溫抗拉強度(kgf/mm2)、高溫延伸度(%)、高溫抗 拉強度(kgf/ mm2)。結果示於表1至表3中。 表1 PEG (mg/L) 添加劑 A (mg/L) 添加劑 B1 (mg/L) Rz 〇m) 常溫延 伸度 (%) 常溫 抗拉強度 (kgf/mm2) 高溫延 伸度 (%) 古、、田 肉/HL 抗拉強度 (kgf/mm2) 實施例 1 20 50 100 0.98 11.0 34.8 15.0 20.9 實施例 2 0 50 100 0.75 9.7 37.0 16.2 20.8 比較例 1 20 0 0 5.5 9.85 35.2 12.3 19.8 比較例 2 20 0 100 5.8 0.8 13.2 1.5 14.3 比較例 3 20 50 0 5.1 0.2 10.6 2.9 12.6 14 315947(修正版) 1250226 表2 PEG (mg/L) 添加劑 A (mg/L) 添加劑 B2 (mg/L) Rz ("m) 常溫延 伸度 (%) 夺、、田 rp /m. 抗拉強度 (kgf/mm2) 常溫延 伸度 (%) 古、、田 肉 /BZL 抗拉強度 (kgf/mm2) 實施例 3 20 50 100 0.88 10.5 36.2 15.8 20.5 實施例 4 0 50 100 0.91 9.5 35.5 15.7 20.7 比較例 4 20 0 100 5.4 0.5 9.9 3.2 13.2 表3 PEG (mg/L) 添加劑 A (mg/L) 添加劑 B3 (mg/L) Rz (//m) 常溫延 伸度 (%) 常溫 抗拉強度 (kgf/mm2) 常溫延 伸度 (%) 南溫 抗拉強度 (kgf/mm2) 實施例 5 20 50 100 0.82 10.0 35.2 16.0 20.8 實施例 6 0 50 100 0.82 10.8 35.4 15.8 20.6 比較例 5 20 0 100 5.3 0.6 11.4 2.6 12.8 如上述表1至3所示,在添加本發明之添加劑(具備特 定構造且含二烷基胺基之聚合物及有機硫化合物)的實施 例1至6中,表面粗糙度Rz為0.75至0.98//m,常溫延 伸度為9.5至11.0%,常溫抗拉強度為34.8至37.Okgf/ mm2,高溫延伸度為15.0至16.2%,高溫抗拉強度為20.5 至20.9kgf/mm2。不但能夠達成如此顯著的超薄化,其常 溫延伸度、常溫抗拉強度、高溫延伸度、高溫抗拉強度均 顯示出與沒有添加添加劑的比較例1有相同優異的特性。 相對於此,在無添加的比較例1與只有添加單一添加劑的 比較例2至5均無法達到超薄化。此外,在只有添加單一 15 315947(修正版) 1250226 添加劑的情況下,常溫延伸度、當、、θ 一、 吊,農抗拉強度、咼溫延伸 度、南溫抗拉強度反而變成不良的結果。 產業上之可利用性 脸其由Γ上看來,本發明之添加具備特定構造且含二烧基 二之水合物及有機硫化合物的銅電解液,對於所得 銅、名粗糙面的超薄化極為有效^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 4双此外不僅能有效地維持在 吊k以及咼溫之延伸特性,^ ^ A — 遇此6且貫同樣得到高抗拉 強度的優異特性。再者,上述此 台匕心,'+、“ 上这共同添加甚為重要,藉此始 月匕獲付上述特性。 藉由常用方法能得到 此外,利用本發明之電解銅箔 圖案精細化的最佳鑛銅層壓板。 【圖式簡單說明】 如前所述,第W為說明以往㈣製造裝置之概要 :二電二職置於容㈣^ 、同1 η亥陰極浪同1係以部分(大 中Μ你n A t (大、々下+部)浸潰於電解液 〒的狀悲下轉動的情況。 在圍住此陰極滾筒1外圚的 ,e ^ 〇 _ 外圍的下+部,則設置有不溶性 除極2。此陰極滾筒丨與陽 焱千知. 呀位2之間有一定的間隙3,而成 陽極板。 *弟1圖的&置中,係配置有2片 2 陽極 4 生箔 【主要元件符號說明】 1 陰極滾筒 3 間隙 315947(修正版) 16
Claims (1)
- 1250226 十、申請專利範圍: 1· 一種銅電解m具有二垸基胺基之㈣酸系化合 物經由早獨聚合或與其他具有不飽和鍵之化合物共聚 合所得到之含二烧基胺基之聚合物及有機硫化合物做 為添加劑。 2·如申請專利範圍第丨項之銅電解液,其中,上述具有二 烷基胺基之丙烯酸系化合物為下列通式〇)、(2)或(3)所 示者 c Ri 〇 II C — 〇 — (CH2)nNR, Ο CH2=C —C-N (2) R- R. O CH2=C — C — NH(CH2)nN: (3) R (通式(1)至(3)中,R〗表示氫原子或碳數1至5之烷基, R2與I各自表示碳數1至5之烷基,n表示1至5之 整數)。 如申請專利範圍第1項之銅電解液,其中,上述有機硫 化合物為下列通式(4)或(5)所示之化合物者 X-R1-(s)n —R2 一 Υ r4 — s — R3〜s〇3z (4) (5) (通式(4)和(5)中,R1、R2及R"3為碳數1至8之伸烧基, 17 315947(修正版) 1250226 R為選自氫原子h3c、 HoC7S H3C - c h2 — o - g 一 所成之群組者,X為選自氫原子、磺酸基、膦酸基、· 石只酸或膦酸之鹼金屬鹽基或銨鹽基所成之群組者,γ為_ 選自磺酸基、膦酸基、磺酸或膦酸之鹼金屬鹽基所成之 群組者,Z為氫原子或鹼金屬,n為2或3)。 4· 一種電解銅箔,係使用申請專利範圍第1至3項中任一 項之銅電解液而製造。 - 5· 一種鍍銅層壓板,係使用申請專利範圍第4項之電解銅 -箔而製成。 18 315947(修正版)
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