TWI247728B - Molding die for molding glass - Google Patents

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TWI247728B TW093110035A TW93110035A TWI247728B TW I247728 B TWI247728 B TW I247728B TW 093110035 A TW093110035 A TW 093110035A TW 93110035 A TW93110035 A TW 93110035A TW I247728 B TWI247728 B TW I247728B
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Description

1247728 五、發明說明（1) 發明所屬之技術領域 f發明係一種玻璃模造之模仁，特別係關於—種 加工再生的玻璃模造之模仁及其再生方法。 ； 先前技術 ^專利m⑽3_277G74所揭露的模仁， ί i_，依主序形成鉻層、翻-銀貴金屬層或鉻層、氮化2 曰 銥貝金屬層，其中上述鉻層為硬鉻，JL為硬产: ^ ίΪ，；屬，利用表層链膜Μ-銀貴金屬層)之Ϊ: 寺間磨耗里為鉻層之5倍之特性 經研磨後，仍能維持良好之面产迹，、有絡層之模仁 生模仁的製程。然❿，如果上 一：：： 貝金屬層時加工不當或是豆 一因移除 時，因為終為一 7¾、片-各八、，導致其表面形狀偏離 ‘，素，其原子具有W域的未共用電 鑽石切削刀起化學磨耗反 、用： :研磨方式1又因鉻之硬度極高且而磨耗使 付研磨方式加工難度高且費時。 〇 τ靨耗使 發明内容 有鏗於此’本發明的主龙 模仁及其再生方法，即使提供—種玻璃模造之 時，仍具有優良的可八面精度）偏離 升模仁之使用壽命。 再生呀間短的特性，從而提 造之目：’本發明係提供-種玻璃模 合金層，於：：底材！材錄鱗 甲間層，於上述鎳磷合金層
1247728 五、發明說明（2) 上；以及一 本發明 含：以上述 中間層，暴 金層暴露的 上；以及形 第二中間層 保護層的材 本發明 磷合金層因 方法時的另 第二中間層 層，暴露上 成磷含量不 上，形成一 成一 的材 料成 材上 述鎳 其在 滑的 狀符 第三保 料成分 分係大 本發明 的停止 鱗合金 再生加 作用， 合所需 保護層’於上述中間層上 係又提供上述模仁 ^ 錄鱗合金層為停:層面^時的再s *法，包 露上述鎳磷合金 ^除上述保護層與上述 表面；形成-第丄二；面；清洗上述錄4 成一第二保護層於上述&於上述鎳磷合金層 的材料成分係大體等同於：：：層上。在此， 料成分係大體等同於上述以間層；且第二 上述的再生過程中厚=狀偏離時且上述鎳 -再生方法，包含=缚而不適用上述再生 s •移除上述第_ # :以上述底材為停止 瘦層與該 、+、念u * 生 才多除上迷鎳磷合冬 述底材一表面；清洗該底材暴露的# ， 大於30wt%的一第-镱谜入人+路的表面，·形 楚-由η 磷合金層於上述底材 第二中間層=上述第二鎳磷合金層上；以及形 護層於上述第三中間層上。在此，第三中間層 係大體等同於上述中間層；且第三保護層的材 體等同於上述保護層。 的特徵之一，在於藉由鎳磷合金層作為模仁底 層且磷含量大體為10 wt%至30 wt%時，因為上 層中的磷可捕捉鎳的d執域的未共用電子，使 工時不致破壞鑽石切削刀的鑽石鍵結且具有潤 可使用鑽石切削刀使上述鎳磷合金層的表面形 &面精度，從而提升模仁的可再生性。 Φ 之
1247728 五、發明說明（3) 而本f明的特徵之二，在於藉由鎳磷合金層作為模仁 底材上的停止層且磷含量大體為1 wt%至10 wt%時，採用 研^方式加工’使表面精度惡化的上述鎳磷合金層，仍可 以谷易並快速地修整其表面形狀，而具有優良的可再 並增加模仁的可再生次數。 而本發明的特徵之三，在於藉由鎳磷合金層作為模仁 的停止層’目為上述料合金層可在不傷及底材的 ίί: 1: 將其清除乾淨，而可以在上述底材上再生 ”鎳金層’更加提升上述模仁的可再生性與可再生 次數。 的磨：ii??特徵之四’在於藉由上述中間層及保護層 :ί ϊ ί 停止層的磨耗率不相㈤；因此，採用研磨 止研磨停止層。層後，便因磨耗率的不同而停 為了讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點 明顯易懂，下文特舉三較佳與 詳細說明如下：又佳只靶例，並配合所附圖示，作 實施方式 第一實施例 δ月參考苐1圖’為一剖面总月一 造之模仁的構造。其結構包含：？ 二本發明之玻璃模 人a 再匕5依序堆疊的底材100、鎳磷 e金層101、中間層1〇2、盘伴罐 上具有-模造面12。。 層°3。另外，保護層103 底材100，通常係使用碳化鎢。在鎳磷合金層1〇1的形
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Φ 成方面，先將底材1 〇 〇的表面研磨、拋光，再以例如無電 鍍法或真空濺鍍法形成於底材100上，其磷含量不大於 3 0 w t %，且其厚度較好為2 〇〜1 〇 〇 μ m。更佳的情況下，例如 在鎳磷合金層101中再添加重量百分比為〇·；[〜l〇wt%的鶴、 组、猛專南融點金屬、或上述之組合時，可更加改善錄碟 合金層1 0 1的硬度、耐磨耗度、與高溫穩定性等，而可以 增加鎳填合金層101的使用壽命乃至本發明之玻璃模造之 模仁的使用哥命。此外，當錄填合金層101中的麟含量大 體為1 wt%至10 Wt%時，可利用研磨或輪磨方式加工鎳碟 合金層101的表面形狀；當鎳磷合金層1〇1中的磷含量大體 為10 wt%至3 0 wt%時，可利用鑽石切削方式加工鎳磷合金 層1 0 1的表面形狀。 " 而形成於鎳磷合金層101上的中間層102，較好為亦含 有鎳的成分，以增加其與鎳填合金層1〇1之間的附著力。 又形成於中間層1 02上的保護層1 03較好為具化學鈍性的物 質’可避免使用本發明之玻璃模造之模仁來模造玻璃時， 與玻璃發生化學反應’以提昇產品良率並增加模仁的使用 壽命；又保護層1 〇 3更好為貴金屬，例如為銥、銖、鉑、 釕、铑、餓中的至少兩種以上元素之組合，其具有緻密的 組織，可防止在模造玻璃時，模仁内所含有具化學活性的 元素擴散至模仁表面與玻璃發生反應，而更加提昇產品良 率並增加模仁的使用壽命。因此，中間層丨〇 2更好為錶、 鍊、鉑、釕、鍺、锇中的至少兩種以上元素之組合與鎳的 合金，以增加中間層1 02與保護層1 〇3之間的附著力。如此
0757 - A20399TWF( N1);001 〇4〇〇5 ； dwwang. p td
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基材loo、鎳碟合金声]πι 103可以緊密地結合，可以二、中間層'與保護層 的使用壽命並延長其再生的曰週;本發明之玻璃模造之模仁 當中間層1 02為銥、鍊、紐、而降低製程的成本。 種以上元素之組合與鎳的合金4了、铑、餓中的至少兩 如多靶材共滅鍍的方式，將已二其形成方面’係使用例 材100置入一鑛膜反應室（未=)成肉有料合金層101的底 提供銥、銖、始、釕、』未：：)内，依照所需要的成分 金屬靶好、g说4、老餓靶材中的至少兩種以上的貴 例選定鲈膜功率：鎳合金靶材，在各靶材依所需成份比 間層102^镡/人’八照所需膜厚選定鍍膜時間，鍍製中 圍較==金。層101上。其中’中間層102的厚度範 、^保遵層103為銥、銖、鈿、釕、姥、餓中的至少兩 、=上凡素之組合時，可使用例如多靶材共濺鍍的方式， 連、矣链製中間層1 〇 2與保護層1 〇 3。例如在完成中間層1 〇 2 的鍍製後，較好使上述貴金屬靶材的鍍膜功率大致維持不 變’而關掉原本施加於上述鎳或鎳合金靶材的鎳或鎳合金 乾材上的鍍膜功率，從而鍍製保護層103於中間層102上Y 而完成本發明之玻璃模造之模仁的製作。其中，保護層 103的膜厚範圍較好為0.02〜0·3 //Π1。 第二實施例 請參考第2 Α〜2 F圖，為一系列之剖面圖，係顯示本發 明之玻璃模造之模仁的與生方法的流程。 當第1圖所示之本發明之玻璃模造之模仁的使用將
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屆、巧達其模造壽命、或其表面粗糙度（特別是Rms值）超出 規格範圍時，會從生產線上被換下來作再生的處理。請參 $第2A圖，首先，移除中間層1〇2與保護層1〇3，暴露鎳碟 合金層1 〇 1的表面。其方法例如使用如圖中所示的第一研 磨輪裝置’包含一大體為圓盤狀的研磨輪丨2、與連接研磨 · 輪12的圓心上而可以帶動研磨輪12轉動的旋轉軸n。研磨 ' 輪12具有作為研磨面的一圓周面13，而圖中的第一研磨輪 · 裝置較好為一第一鑽石研磨輪裝置，圓周面13上鑲嵌有複 數個具既定粒徑的鑽石顆粒丨4，鑽石顆粒丨4的粒徑與數量 -可決定上述第一鑽石研磨輪裝置的研磨速率與被研磨面的 · 粗糙度’熟悉此技藝者可視其需要任意選用。 ^第2A圖所示移除中間層102與保護層103的過程，係以 旋轉軸11帶動研磨輪1 2轉動，以圓周面丨3研磨中間層丨〇 2 與保護層1 03。由於鎳磷合金層丨〇丨具有高度的耐磨耗性， 其磨耗速率遠低於中間層102與保護層1〇3。因此，當依序 移除保護層103與中間層102，而使研磨輪12接觸鎳磷合金 層101的表面時，其對鎳磷合金層1〇1的磨耗速率會很明顯 地減緩’而使鎳磷合金層1 0 1扮演停止層的角色，而能夠 知到上述移除中間層1 〇 2與保護層1 〇 3的步驟的終點。 接下來清參考第2 B圖’視製程需要，可以額外加上一 拋光鎳磷合金層101的步驟，以使上述鎳磷合金層1〇1暴露 的表面的粗糙度合乎製程的要求。當磷含量大體為i wt〇/〇 至10 wt%時，則採用研磨方式對鎳磷合金層1〇ι表面進行 精密加工。其方法例如使用如圖中所示的第二研磨輪裝
0757-A20399TWF(N1);00104005;dwwang.ptd
1247728 五、發明說明（7) 置’包含一大體為圓盤狀的研磨輪22、與連接研磨輪2 2的 圓心上而可以帶動研磨輪22轉動的旋轉軸21。研磨輪22具 有作為研磨面的一圓周面23，而圖中的第二研磨輪裝置較 好為 第二研磨輪裝置，圓周面23上鑲嵌有複數個具既定 粒徑的類鑽石顆粒24，類鑽石顆粒24的粒徑較好為小於第 2 A圖之第一研磨輪裝置的鑽石顆粒1 4的粒徑。 、 請注意第2B圖所示之拋光鎳磷合金層丨〇 1的方法，僅 為f夕抛光方法中的一個範例，並不代表本發明就僅能使 ^第2B圖所示之方法拋光鎳磷合金層丨〇 1。熟悉此技藝者 T視’、本身的需求選擇其他已知的拋光方法。又，當鎳填 ^金層1〇ι中的磷含量為卜i〇wt%時，則較適用於使用上述 第一研磨輪裝置來拋光鎳磷合金層101。 請參考第2C圖，當鎳磷合金層1〇1中的磷含量為 4〜30wt%時，特別在磷含量為1〇~3〇wt%時，其較適用於使 用圖中所不的鑽石切削刀來拋光鎳磷合金層丨〇 i。因磷原 電子與鎳之未共用電子對配對，避免鎳之未共用電子 之碳―、碳鍵作用；以及，填本身可在鑽石表面形成 撼L 77^上述Ϊ石切削刀包含用來切削錄碟合金層1 01的 鑽 2與固定刀具的連動裝置31。在拋光過程中，係沪 著錄破合金層101原有的外觀形狀（面精度），使用鑽石刀η 32對鎳磷合金層丨01的暴露 使用鑽石刀 厣1 mI十主；认丄表面進灯切削，而使鎳填合金 層1 〇 1的暴路表面的粗糙度達到製程需求。 另外，在第2A圖中，如果移除中間 時，不慎使鎳磷合金層1〇1原右μ冰齙π#, ”保瘦層iU3 9 υ 1原有的外觀形狀（面精度）受損
0757-A20399TWF(Ν1)；〇〇104005;dwwang.p t d 第10頁
1247728 五、發明說明（8) " --- 或發生改變’且鎳磷合金層1〇1中的磷含量為4〜3〇忖％、特 別在碟含量為1〇〜3〇 wt%時，可使用第2C圖中所示的鑽石切 削刀來修整鎳磷合金層丨〇 1暴露的表面。在切銷的過程 ^ ’係使用鑽石切削刀32對鎳磷合金層丨〇 1的暴露表面進 2切削’切削量可控制約在5 # m，而使磷合金層丨〇 1的暴 露表面的外觀形狀（面精度）與粗糙度符合製程的需求。"、 接下來，以例如去離子水沖洗或其他不致傷害鎳磷合 金層1 0 1的清洗劑或清洗方法，清洗鎳磷合金層丨〇 1的暴^ 表面，而得到如第2D圖所示的底材1〇〇與其上之暴露的"鎳" 磷合金層1 〇 1。 接下來，請參考第2E圖，形成一第二中間層1〇2，於鎳 =合金層101上。第二中間層1〇2，較好為亦含有鎳的成 分，以增加其與鎳磷合金層1 〇 i之間的附著力。又後續第 2F圖中形成於第二中間層1〇2,上的第二保護層1〇3，較員好為 具化學鈍性的物質，可避免使用第二實施例所完成之已再 生的玻璃模造之模仁來模造玻璃時，與玻璃發生化學反 應，以提昇產品良率並增加模仁的使用壽命；又第二保 層103更好為貴金屬，例如為銀、銖、翻、釕、铑、^中 的至少兩種以上元素之組合，其具有緻密的組織，可防止 在模造玻璃時，模仁内所含有具化學活性的元素擴散至 仁表面與玻璃發生反應，而更加提昇產品良率並增加模吴 的使用壽命。因此，第二中間層1 0 2，更好為銥、銖、二y 釘、姥、餓中的至少兩種以上元素之組合與鎳的合金、，以 增加第二中間層1〇2,與第二保護層1〇3,之間的附著力。如
0757-A20399TWF(Nl);00104005;dwwang.ptd 1247728 五、發明說明（9) 此一來，基材100、鎳磷合金層1〇1、第二保護層1〇3，、與 ^ 一保濩層1 〇 3 ’可以緊密地結合，可以增加本發明之第二 貫施例所完成之已再生的玻璃模造之模仁的使用壽命，^ 延長其再生的週期，而降低製程的成本。又第二7間層’ 1 〇 2與第二保護層丨0 3 ’的材質可以分別與中間層1 〇 2盥9 護層103的材質大體相同或不相同，可視製9 ^ μ :第二中間謂，為銀、鍊、.、釘、錢'求鐵V的至 二兩種以上兀素之組合與鎳的合金時，其形成方面，t =共濺鑛的方式，將第2D圖所示之底材1。。及 上的鎳金層101置入一鍍膜反應室（未繪示）内， ^所需要的成分提供銀、銖、始、釘、姥、餓乾材 又 ^兩種以上的貴金屬靶材、以及鎳或鎳合金靶材，各 ，二中間議，於錄碌合二斤二膜上厚， 中，=9t間層1〇2,的厚度範圍較好為0.H心。 姥、ί ΓΙΐ 了，當第二保護層1〇3’為銀、銖、麵、針、 铑、鐵中的至少兩種以上元素 知釕、 材共濺鍍的方式，連續鍍製第二中間：可2例如多靶 103,。例如在完成第二中間層1〇 ; '弟二保護層 貴金屬靶材的鍍膜功率大致維持5鍍1後，較好使上述 上述鎳或鎳合金乾材的鋅吱镡人 而關掉原本施加於 而鍍製第二保護層材上的鍍膜功率，從 護層103,上具有一模造面12〇，，二^102上，並在第二保 之模仁的再生。其中，第二保護居二成亡發明二玻璃模造 曰 的膜厚範圍較好為
1247728 五、發明說明（10) 0·02〜0.3//m 〇 γ ；? ί 斗：下提供發明人所認為本發明之玻璃模造之掇 仁及其再生方法的工作例（相關於第一實施例"二•之Η 例）。'注意後續所提供的各項製程參數'條;牛，；二： :Ζ度、磨耗速率等的選擇係用來舉例說明，不成 本么明之限制，熟悉此技藝者可依其本身的製程條；成二 不脫離本發明精神的情況下’做出顯而易見的變形。在 工作例1 、將碳化鎢基材100，加工至近似球面；以無電鍍 方法鍍上低磷的鎳磷合金1〇1(3wt% ρ)，再將其研磨加工 成所需之表面精度；以真空濺鍍方式依次鍍上Pt —Ir —Ν· 及Pt-Ir分別作為中間層1〇2與保護層1〇3，而完成模1 製作。此模仁各層之膜厚依次為3〇 、〇1 、〇、3仁的 m 〇 · “ 上述模仁經使用，當粗糙度U 2〇 A時，可使 方式去除中間層102與保護層1〇3。因上述成分的鎳:么 層101、中間層1〇2、保護層1〇3三者之磨耗速率比約/金 6· 6: 7· 7，當研磨至鎳磷合金層1〇1時，其耐磨耗性與硕
鉻近似，磨耗速度降低而停止輪磨鎳磷合金層丨〇丨，因 磷含量約為3 wt%，故改用鑽石粒徑較細之研磨輪，办' 光鎳破合金層1 0 1得到所需之面精度及粗糙度。將上述j 仁洗淨再重新鍍上第二中間層1〇2,與第二保護層1〇3, 果 再度使用。 P T 工作例2
mm 0757-A20399TWF(Nl);00104005 ;dwwang. ptd 第13頁 1247728 五、發明說明（Π) 將碳化鐫基材1 0 0，加工至近似球面；以無電鎮錄的 方法鑛上高磷的鎳碟合金l〇l(12wt% P)，再將其切削加工 成所需之表面精度；以真空濺鍍方式依次鍍上Pt〜Ir〜Ni 及Pt-Ir分別作為中間層1〇2與保護層1〇3，而完成模仁的 製作。此模仁各層之膜厚依次為50 /zm、〇·1 、〇.3//
上述模仁經使用，當粗糙度Rms > 2 0 A時，可使用輪磨 方式去除中間層102與保護層103。因上述成分的鎳磷合金 層1 0 1、中間層丨〇 2、保護層1 〇 3三者之磨耗速率比約為 5·3: 6·6: 7.7，當研磨至鎳磷合金層101時，其磨耗速度 降低而停止輪磨鎳磷合金層1〇1，因為磷含量約為12 wt%，改用鑽石切削的方式，使用小於5 # m的切削量，切 削錄填合金層1 〇 1，即可得到所需之面精度及粗糙度。將 上述模仁洗淨再重新鍍上第二中間層1 0 2，與第二保護層 1 〇 3 ’即可再度使用。 工作例3
將碳化鎢基材1 〇 〇，加工至近似球面；以無電鍍鎳的 方法鍵上高磷且含鎳的鎳磷合金1 〇丨（丨5wt% p、7wt% W)， 再將其切削加工成所需之表面精度；以真空濺鍍方式依次 錢上Pt-Ir-Ni及Pt-lr分別作為中間層102與保護層103， 而完成模仁的製作。此模仁各層之膜厚依次為5 〇 " m、〇. i V m、0· 3 # m 〇 上述模仁經使用，當粗糙度I > 2 〇人時，可使用輪 磨方式去除中間層1〇2與保護層103。因上述成分的鎳磷合
1247728 五、發明說明（12) 金層101、中間層102、保護層103三者之磨耗速率比約為 3·4: 6·6: 7.7 ’當研磨至鎳磷合金層1〇ι時，其磨耗速度 降低而停止輪磨鎳碌合金層101，但填含量約為wt%， 故改用鑽石切削的方式，使用小於5 # m的切削量，切削鎳 麟合金層1 0 1 ’即可得到所需之面精度及粗糙度。將上述 模仁洗淨再重新鍍上第二中間層丨〇 2，與第二保護層丨〇 3，即 可再度使用。 第二實施例 為 系列之剖面圖，係顯示本發 請參考第3A〜3E圖 明之玻璃模造之模仁的再生方法的流程 當第1圖所示之本發明之玻璃模造之模仁，一再使用 本發明第二實施例所揭露的步驟進行再生時，鎳磷合金層 101的厚度會因一再的拋光或表面修整而逐漸變薄。當錄9 % a金層1 〇 1的厚度薄到不易研磨或低於安全可切削厚度 (+視使用者的製程需求與再生時所使用的工具等因素而 呀，就需要執行本實施例之玻璃模造之模仁的再生方法。 請參考第3A圖，依序移除第2F圖所繪示的玻璃模造 模仁的第二保護層103,與第二中間層1〇2，。其步驟的細 :大：相同於本發明第二實施例之第2 A圖及其相關敘 揭不者，在此便不重複敘述。 接下來，請參考第3B圖，移除底材1〇〇上的鎳磷合金 層1 〇 1，暴露底材1 ο 〇的一表面。此步驟較 二除：：合金層101，因為硝酸可在不傷及底材1〇〇石 下，快速、容易地將鎳磷合金層101清除乾淨。而只要育在兄
1247728 五、發明說明（13) -- 不傷及底材1 0 0、且大體不殘留鎳磷合金層i 〇 J的情形下， 鎳磷合金層101的移除亦可以使用其他已知的化學（例如鎳 磷合金層1 0 1對底材1 〇 〇具高選擇比的蝕刻方法）、或是機 械（例如研磨或切削等方法）、或是其他方法。 移除鎳罐合金層1 〇 1之後，以例如去離子水沖洗或其 他不致傷害底材1 0 0的清洗劑或清洗方法，清洗底材i 〇 〇的 暴露表面。接下來，可視需要對底材i 〇 〇的暴露表面施以 拋光、及/或表面修整等處理。
接下來’請參考第3C圖，形成一第二鎳磷合金層 101’’於底材100上。第二鎳磷合金層101，，可使用例如無 電鍍法或真空濺鍍法形成於底材i 〇 〇上，其磷含量不大於 30wt%，且其厚度較好為2〇〜1〇〇 。更佳的情況下，例如 在第二錄填合金層10P’中再添加重量百分比為〇· l〜1〇wt〇/〇 的鎢、组、猛等高融點金屬、或上述之組合時，可更加改 善第二鎳填合金層1 〇 1，’的硬度、耐磨耗度、與高溫穩定 性等，而可以增加第二鎳磷合金層1〇1，，的使用壽命乃至 使用第三實施例的方法所再生之玻璃模造之模仁的使用壽 命。其中’第二鎳磷合金層1〇1，，的材質可與鎳磷合金層 101的材質大體相同或不同，可視製程需求而定。
接下來，請參考第3D圖，形成一第二中間層102，’於 第二鎳填合金層101’’上。其步驟的細節及第二中間層 1 02’’的材質等，就大體相同於本發明第二實施例之第2E 圖及其相關敘述所揭示者，在此便不重複敘述。 最後’請參考第3E圖，形成一第二保護層103,，於第
0757-A20399TWF(Nl) ； 〇〇104005 ;dwwang. ptd 第16頁 1247728 五、發明說明（14) 二中間層102’’上’第二保護層1〇3’’並具有模造面 120，’，巾完成本發明之玻璃模造之模仁的再生。其步驟 的細節士第二保護層103’，的材質等，就大體相同於本發 明第-貫施例之第2F圖及其相關敘述所揭示者，在此便不 重複敘述。 如上所述本毛明藉由鎳磷合金層作為模仁底材上的 加工層’纟中’當填含量為1Q wt%謂wt%時，因為上述 錄磷合金層中的磷可捕捉鎳的4執域的未共用電子，使其 在再生加工時不致破壞鑽石切削刀之鑽石的鍵結，即使上 述錄構合金層的表面形狀（面精度）偏離，仍可以容易並快 速地修整其表面㈣’而具有優良的可再生性並增加模仁 的可再生i再加上上述錄鱗合金層可在不傷及底 情況下’“地將其清除乾淨，而可以在上 新的鎳填合金層，更加提升上述模仁的可 性盘 次數；係達成本發明之目的。 f 』丹生 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以 限定本發明丄任：热習此技藝者，在不脫離本發 和範圍内’當可作些許之更動與濁飾，因此本發明之保‘ 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 °
1247728 圖式簡單說明 第1圖為一剖面圖，係顯示本發明之玻璃模造之模仁 的結構。 第2A〜2F圖為一系歹U之剖面圖，係顯示本發明之玻璃 模造之模仁的再生方法的流程。 第3A〜3E圖為一系歹ij之剖面圖，係顯示本發明之另一 玻璃模造之模仁的再生方法的流程。 符號說明 11〜旋轉軸 1 2〜研磨輪 1 3〜圓周面 1 4〜鑽石顆粒 2 1〜旋轉軸 2 2〜研磨輪 2 3〜圓周面 24〜鑽石顆粒 3卜連動裝置 32〜鑽石刀 1 0 0〜底材 1 01〜鎳磷合金層 101’’〜第二鎳磷合金層 1 0 2〜中間層 1 0 2 ’〜第二中間層 102’ ’〜第二中間層 1 0 3〜保護層
0757-A20399TWF(Nl);00104005;dwwang.ptd 第18頁 1247728 圖式簡單說明 103’〜第二保護層 1 0 3 ’’〜第二保護層 1 2 0〜模造面 1 2 0 ’〜模造面 1 2 0 ’’〜模造面
0757-A20399TWF(N1);00104005;dwwang.p t d 第19頁

Claims (1)

1247728 I d厂 V I ,.(. ? , i... X ； ___案號931100B—5 」泠年/|1广修正系_ 六、申請專利範圍 1 · 一種玻璃模造之模仁，包含： 一底材； 一鎳填合金層，於該底材上，且填含量不大於 3 0 w t % ; 一中間層，於該鎳磷合金層上，該中間層為貴金屬； 以及 一保護層，於該中間層上，該保護層為貴金屬。 2. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃模造之模仁，其 中該底材為礙化鎢。 3. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃模造之模仁，其 中該鎳磷合金層更包含0 . 1〜1 0 w t %的鎢、鈕、錳或其合 金。 4. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃模造之模仁，其 中該鎳磷合金層的厚度為20〜100 //m。 5. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃模造之模仁，其 中該中間層為錶、鍊、翻、釕、姥、鐵中的至少兩種以上 元素之組合與鎳的合金。 6. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃模造之模仁，其 中該中間層的厚度為0.1〜1 //m。 7. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃模造之模仁，其 中該保護層為銀、銖、顧、釕、鍵、鐵中的至少兩種以上 元素之組合。 8. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃模造之模仁，其 中該保護層的厚度為0.02〜0.3 //m。
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9 · 一種玻璃模造之模仁的再生方法，包含： 提供一使用過的玻璃模造之模仁’具有一底材、 量不大於30wt%的一鎳磷合金層於該底材上、一第_ 3 層於該鎳磷合金層上、與一第一保護層於該第一中間層曰 上，該第一中間層為貴金屬、該第一保護層為貴金屬； 以该鎳磷合金層為停止層，以研磨方式移除該第— 護層與該第一中間層’暴露該鎳磷合金層的一表面； 清洗該鎳填合金層暴露的表面； 形成一第一中間層於該鎳碟合金層上，該第二中間層 為貴金屬；以及 形成一第二保護層於該第二中間層上，該第二保護層 為貴金屬。 I 0 ·如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之模仁的再 生方法，其中該底材為碳化鎢。 II ·如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之模仁的再 生方法，其中該鎳磷合金層更包含〇· 1〜1〇 wt%的鎢、担、 猛或其合金。 ^ /一的再 1 2 ·如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之扭广，更 生方法，其中當移除該第一保護層與該第一中間廣後’ 包括以研磨方式拋光該鎳磷合金層。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項所述之破璃模造之。 再生方法，其中該鎳磷合金層的磷含量為卜l〇wt%，^ 1 4 ·如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之、後，更 生方法，其中當移除該第一保護層與該第一中間曰
0757-A20399TWFl(N2);00104005;dwwang.ptc 第21頁 1247728 案號 93110035 Λ_ 曰 修正 六、申請專利範圍 包括以切削方式拋光該鎳磷合金層。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該鎳磷合金層的磷含量為4〜3 Owt%。 1 6.如申請專利範圍第1 5項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該鎳磷合金層的磷含量最好為1 0〜3 0 w t %。 1 7.如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之模仁的再 生方法，其中移除該第一保護層與該第一中間層後，更包 含修整該鎳磷合金層暴露的表面。 1 8.如申請專利範圍第1 7項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，更包含使用一鑽石刀具修整該鎳磷合金層暴露 的表面。 1 9.如申請專利範圍第1 8項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該鎳磷合金層的磷含量為4〜3 Owt%。 2 0 .如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之模仁的再 生方法，其中該第二中間層的厚度為0.1〜l//m。 2 1 .如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之模仁的再 生方法，其中該第一保護層與該第二保護層為銥、銖、 鉑、釕、铑、锇中的至少兩種以上元素之組合，且該第二 保護層的材質與該第一保護層大體相同。 2 2 .如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之模仁的再 生方法，其中該第一保護層與該第二保護層為銥、銖、 翻、釕、铑、锇中的至少兩種以上元素之組合，且該第二 保護層的材質與該第一保護層不同。 2 3 .如申請專利範圍第9項所述之玻璃模造之模仁的再
0757-A20399TWF1(N2);00104005;dwwang.p t c 第22頁 1247728 案號 93110035 曰 修正 六、申請專利範圍 生方法，其中該第二保護層的厚度為0 . 0 2〜0 · 3 // m ° 2 4 . —種玻璃模造之模仁的再生方法’包含： 提供一使用過的玻璃模造之模仁，具有一底材、碟含 量不大於3 Owt%的一第一鎳磷合金層於該底材上、一第一 中間層於該第一鎳磷合金層上、與一第一保護層於該中間 層上，該第一中間層為貴金屬、該第一保護層為貴金屬； 使用一鑽石研磨輪裝置移除該第一保護層與該第一中 間層； 以該底材為停止層，移除該第一鎳磷合金層’暴露遠 底材之一表面； 清 形 材上； 形 間層為 形 為貴金 25 再生方 26 再生方 27 再生方 包含0. 洗該底材暴露的表面； 成麟含量不大於3〇wt%的一第二鎳構合金層於遠底 成一第二中間層於該第二鎳磷合金層上，該第二中 貴金屬；以及 成一第二保護層於該第二中間層上，該第二保濩層 屬。 •如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 法，其中該底材為碳化鎢。 •如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 法，更包含使用硝酸移除該第一鎳磷合金層。 •如申請專利範圍第24項所述之玻璃模造之模仁的 法，其中該第一鎳填合金層與該第二鎳磷合金層更 1〜1 0 w t %的鎢、知、锰、戒上述之組合，且該第一
075 7-A20399TWF1(Ν2);00104005;dwwang.p t c 第23頁 1247728 案號93Π0035_年月日__ 六、申請專利範圍 鎳磷合金層的材質與該第一鎳磷合金層大體相同。 2 8 ·如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該第一鎳磷合金層與該第二鎳磷合金層更 包含0 · 1〜1 0 w t %的鎢、鈕、錳、或上述之組合，且該第二 鎳磷合金層的材質與該第一鎳磷合金層不同。 2 9 .如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該第二鎳磷合金層的厚度為20〜100//m。 3 0 .如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該第一中間層與該第二中間層為銥、銖、 翻、釕、姥、锇中的至少兩種以上元素之組合與鎳的合 金，且該第二中間層的材質與該第一中間層大體相同。 3 1 .如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該第一中間層與該第二中間層為銥、銖、 翻、釕、錄、锇中的至少兩種以上元素之組合與鎳的合 金，且該第二中間層的材質與該第一中間層不同。 3 2 .如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該第二中間層的厚度為0.1〜l//m。 3 3 .如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該第一保護層與該第二保護層為銥、銖、 翻、釕、姥、锇中的至少兩種以上元素之組合，且該第二 保護層的材質與該第一保護層大體相同。 3 4 .如申請專利範圍第2 4項所述之玻璃模造之模仁的 再生方法，其中該第一保護層與該第二保護層為銥、銖、 顧、釕、姥、锇中的至少兩種以上元素之組合，且該第二
0757-A20399TWF1(N2);00104005;dwwang.p t c 第24頁
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四、T又赞明邪I受、赞咧名稱：玻璃模造之模仁及其再生方法） 生方法，上述模仁包含：一底材 一鎳磷合金層，於上述底材上； 本电明揭示一易於加工再生的玻璃模造之模仁及其再 ;磷含量不大於30wt%的 一中間層，於上述鎳磷合 金層上；以及一保護層，於上述中間層上。 五、（一）、本案代表圖為：第一一 i____圖 (二）、本案代表圖之元件代表符號簡單說明： 1 0 0〜底材 1 0 1〜鎳磷合金層 1 0 2〜中間層 1 0 3〜保護層 1 2 0〜模造面 六、英文發明摘要（發明名稱：MOLDING DIE FOR MOLDING GLASS) A molding die for molding glass and renewing method thereof is provided. The molding die includes a substrate, a nickel-phosphorous alloy layer, with phosphorous content as large as 30 wt% or less, on the substrate, an intermediate layer on the nickel-phosphorous alloy layer, and a protect ion layer on the intermediate layer.
0757 - A20399TWF1 (N2); 00104005; dwwang. p t c 第2頁
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