1225973 Α7 Β7 五、發明說明（1 ) 碧1明範園 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係關於顯影和/或去除殘留物（或淤渣）含量降低之 水性可顯影的光敏性組合物之方法。更特定言之，所關於 的方法中的光敏性組合物包括六芳基咪唑光引發劑。 登明背景 光敏性組合物已爲習知並在印刷電路材料形成、平版印 刷版形成及校樣應用中作爲光阻劑之用。在這樣的系統 中，照射在含有光活組份的材料上的光化射線引起材料的 物理或化學變化。藉此製得的潛在影像之後可以顯影成有 圖案的遮蔽物或影像。此光敏系統可爲正效（positive-working)或負效（negative-working)系統。在爯效系統中， 暴於光化射線的區域在曝光加工步驟之後被移除；在負效 系統中’未暴於光化射線的區域被移除。特別有用的組合 物是負效光可聚合和/或光可交聯的組合物，下文中將它 們統稱爲π光可聚合者’’。在這樣的系統中，以光化射線照 射’引發聚合反應和/或交聯反應，使得材料不會溶解於 適當的顯影溶劑中。以顯影液處理而顯現出潛在的影像。 此光可聚合的組合物通常含有黏合劑、能夠聚合和/或交 聯的單聚合或低聚合材料及光引發劑。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 近年來，越來越強調水性可顯影或水性可加工的組合 物。這樣的組合物有著成本較低和較不損及環境的顯著優 點。水性可顯影的系統通常使用有酸基團的黏合劑，這些 酸基團可以在鹼性水溶液中被移走。在製造印刷電路材 料、平版印刷版和校樣材料的連續法中，顯影溶液循環及 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1225973
五、發明說明（2 ) 重覆用於顯影步驟中。一個問題是會在循環的顯影液中累 積殘留物（統稱爲"於渣"）此㈣。未清除此於逢將會縮短 顯影液的使用壽命及因而降低效能。此外，此淤渣會有交 互作用並難移除。 通常，在光阻劑達到其使用目的之後，自.底質中將其移 除’將這樣的步驟稱爲剥除步驟。剝除液中也會累積淤 希望能夠提出可減少淤渣累積之用於水性可顯影之光可 聚合組合物的顯影方法。 發明概1 本發明係關於-種在底質上製造圖案的方法，該方法製 造出的淤渣量較少。此方法包含下列步驟： (a) 將水性可顯影的光阻劑用於第一個底質表面上，該光 阻劑包含光引發劑； (b) 以光化射線照射以在光阻劑中製造出曝光和未曝光的 區域； (c) 曝光的光阻劑以鹼性水溶液樣品處理，移除光阻劑的 曝光或未曝光區域；及 (d) 重覆步驟⑷至⑷至少五次，其中，每次重覆使用新 的光阻劑樣品和新底質及基本上相同的鹼性水溶液樣品； 其中，光引發劑包含至少一種具有至少一個親水性基團的 穴芳基二咪唑化合物，且其中，以1〇〇克鹼性水溶液處理3 克未曝光的光阻劑時，製造出的沉澱物少於〇〇5克。 第一個貫施例中，本發明係關於一種自底質移除經加工 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規‘_(21(} x 297公爱1 -----W^-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 A7
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（3 ) 的光阻劑的方法，該方法包含下列步驟： (a) 以剝除液樣品處理經加工的光阻劑，以移除光阻遮蔽 物；及 (b) 重覆步驟⑷至少五次，纟中，每次重覆使用新底質和 經加工的光阻劑及基本上相同的剝除液樣品； 其中，光阻劑包含至少一種具有至少一個親水性基團的 穴芳基二咪唑化合物，且其中，以1〇〇克剝除液處理3克經 加工的光阻劑時，製造出的沉澱物少於〇.〇5克。 梭佳實施例之描沭 本發明之方法是一種用於水性可顯影的光阻劑之顯影的 連續方法’其中製得的淤渣較少。所謂的"水性可顯影”是 指材料曝光或未曝光區域能夠使用以水爲基礎並含低於J 〇 重量°/❶有機材料的顯影液移除。所謂的"光阻劑"是指用以 形成印刷電路材料、平版印刷版或校樣產品的光敏性組合 物。所謂的”於渣”是指累積在顯影液中、不溶解於顯影液 中且因爲會使得物質再度澱積在已經顯影的底質上而降低 顯影液效能的物質。 本發明方法的第一個步驟是： (a)將水性可顯影的光阻劑用於第一個底質表面上，該光 阻劑包含光引發劑；其中，光引發劑包含至少一種具有至 少一個親水性基團的六芳基咪唑化合物。 六芳基二咪唑，縮寫成"ΗΑΒΓ，通常是2,4,5-三苯基咪 吐二聚體，是習知的光引發劑。HABI和使用HABI的光引 發劑系統曾揭示於，如·· Chambers，美國專利案第 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----—^-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 A7 B7 五、發明說明（4 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3,479，185號；Chang等人，美國專利案第3,549,367號； Cescbn，美國專利案第3,684,557號’· Dessauer，美國專利 案第4,252,887和4,311，783號；Chembers等人，美國專利案 第4,264,708號；Wada等人，美國專利.案第4,41〇,621號； Tanaka等人，美國專利案第4,459,349號；和Sheets，美國 專利案第4,622,286號。 常用於光可聚合系統（包括光阻劑）的HABI是2,2，-雙（鄰-氣苯基）-4,4|，5,5，-四苯基-1，2-二咪唑，一般稱爲”對_氣 HABI"(對-C1-HABI)。對-C1-HABI的另一種名稱是2,2，-雙 (2-氣苯基）-4,4|，5,5|-四苯基-1，2-二-1^1-咪峻。訏異及意外 地發現到：儘管具有親水性取代基的HABI通常實質上不 溶於水中，但使用具至少一個親水性取代基的HABI能夠 •明顯降低循環的顯影液中的淤渣量。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 可以使用任何親水性取代基，只要它不會明顯干擾HABI 的光敏性或對光阻劑的其他性質造成負面影響即可。所謂 的"親水性"是指取代基容易與水結合。適當的親水性取代 基的例子包括烷氧基（如：甲氧基和乙氧基）、羥基、二烷 基胺基（二乙基胺基和二丙基胺基）、羧酸基團及其烷基 酯、醯胺和鹽。可以使用一種類型以上的親水性取代基。 以烷氧基取代基爲佳，特別佳者是甲氧基。 較佳情況中，此HABI也具有至少一個氣取代基。沒有任 何氣取代基時，HABI的光敏度通常較差，所得光阻劑通 常須要比較長的曝光時間。更佳的情況中，此HABI有至 少兩個氣取代基。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（5) 適當的光引發劑的例子包括2,2·，5-參-(鄰_氣苯基卜4_ (3,4-一甲氧基尽基）-4’，5’-二本基-二味峻’縮窝成”丁0〇1^1-ΗΑΒΙ" ·’ 2,2·，4,4’-四（鄰-氯苯基）-5,5*_雙-(3,4-二甲氧基苯 基）-二咪唑，縮寫成"TCTM-ΗΑΒΓ ; 2,2，-雙-(鄰_氣苯基卜 4,4’，5,5*-四-(間-甲氧基苯基）-1，2-二咪唑，縮寫成„〇1：)1^ ΗΑΒΓ ; 2,2’_雙（二乙氧基苯基）_4,4，，5,5，-四苯基ί，-二味 唑，縮寫成'ΌΕ-ΗΑΒΙ"。也可以使用ΗΑΒΙ之混合物。較佳 的光引發劑是TCDM-HABI。 此ΗΑΒΙ光引發劑通常製自三苯基咪唑的氧化偶合反應。 經取代的二苯基咪峻之製備曾述於Cescon，美國專利案第 3,684,557號和〇688&\^1：，美國專利案第4,311，783號。氧化 偶合反應曾述於Hayashi等人，Bull.Chem.Soc.Japan 33,565(1960)和 Zimmerman等人，Angew.Chem，73,808(1961)。TCDM- HABI之製備曾述於Sheets，美國專利案第4,622,286號。有 時製彳于之一種以上的HABI反應混合物可以在未經完全分 離和純化的情況下使用。如Sheets，美國專利案第 4,622,286號中所述者’可以使用含有丁〇〇]^1-11八61的11八31 混合物’特別是2,4,5-三苯基咪唑二聚體之混合物（其爲2_ (鄰-氣苯基）-4,5-二苯基咪唑和2,4-雙-(鄰-氣苯基）_5- [3，4 -二甲氧基苯基]咪唑的氧化偶合反應產物，一種反應 產物是2,2’，5-參（鄰-氣苯基）_4-(3,4-二曱氧基苯基）-4，，5，-二苯基二咪吐。 通第’ ί疋供虱的化合物和HABI光引發劑一起用於光可聚 合系統中。適當之提供氫的化合物包括有機硫赶（如：2 _ -8- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱) " ---------------------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 A7 B7 五、發明說明（6 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 鏡基苯並p塞嗤、2 -競基苯並嗔咬和2 -鏡基苯並咪峻）；三 級胺；N-苯基甘油；1，1-二甲基-3,5-二酮基環己燒；醚； 酯；醇；含晞丙系或芊系氫的化合物；縮酸；趁類；和疏 胺。這樣的材料曾揭示於MacLachlan的美國專利案第 3,390,996 號。 此HABI光引發劑的最大吸收通常位於光讀的255-275毫 微米處，其他吸收出現於300-375毫微米範圍内。可以添 加敏化劑來提高光譜頻率響應。敏化劑以光化射線活化， 使得引發劑製造出自由基。 多種敏化劑揭示於，如：美國、專利案編號3,554,753、 3,563,750、3,563,751、3,647,467、3,652,275、4，162，162、 4,268,667、4,351，893、4,454,218、4,535,052 和 4,565,769。 較佳光敏劑包括Baum等人於美國專利案第3,652,275號中 提出的雙（對-二纟克基胺基苯亞甲基）酮及Dueber於美國專 利案第4,162,162號中提出的亞芳基烷基酮。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 也可以使用他種光引發劑來構築特別最終用途所須之光 阻劑顯影影像。這些其他的光引發劑可包括，但不限定 於，Michler式酮和乙基Michler式酮；二苯甲酮；對-二烷 基胺基苯甲醛；對-二烷基胺基苯甲酸烷基酯；多核醌； 環己二晞苯偶因和苯偶因二院基醚；乙酿苯衍生物； 硫代二苯並吡喃酮；和嫻於此技藝者已知的他種光引發 劑。也可以使用化合物。 除了光引發劑以外，光阻劑通常含有至少一種能夠與因 爲光引發劑暴於光化射線而生成的物種反應之化合物，以 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1225973 Δ7 Β7 五、發明說明（7) 此改變光阻劑的物性。較佳系統是光可聚合系統，含有％ 引發劑、乙烯系不飽和化合物和黏合劑。雖然未限定於負 效光可聚合系統，但本發明以這樣的系統作進一步之描 述。 乙晞系不飽和化合物是一種能夠趨使自由基引發之聚合 反應和/或交聯反應的化合物。這樣的化合物通常是單體 或低聚物，但也可以使用具有反應性懸垂基團者。此技藝 熟知這樣的化合物並曾揭示於，如·· ’’Light-Sensitive Systems: Chemistry and Application of Nonsilver Halide Photographic Processes(光敏系統：非鹵化銀照相程序之化 學和應用）”，J.Kosar (John Wiley & Sons，Inc.，1965); ’’Imaging Processes and Materials - Neblitte’s Eight Edition(成像法和材料-Neblitte 第 8 版），，，J.Sturge， V.Walworth和 AShepp編輯（Van Nostrand Reinhold，1989);及 "Photoreactive Polymer - The Science and Technology of Resists(光反應性聚合物·光阻劑的科學和技術）”， A.Reiser (John Wiley & Sons，1989)。典型的單體有··醇的 不飽和酯類，以多元醇和丙晞酸或異丁晞酸的酯爲佳， 如：丙烯酸第三丁酯、丙晞酸環己酯、羥基-c 1-C10-丙烯 酸烷基酯、二丙晞酸丁二醇酯、二丙烯酸乙己二醇酯、三 羥甲基丙烷三丙晞酸酯、三丙烯酸甘油酯、二異丁烯酸乙 二醇酯、五季戊四醇三-和四丙烯酸酯及異丁烯酸酯；雙 酚A的丙晞氧基-和異丁晞氧基-烷基醚，如：雙酚A的二-(3-丙缔乳基-2 -技基丙基）酸和四漠雙紛a的二-(3-丙缔氧基 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公爱） --------^-------------訂---------線 < (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 A7 B7 五、發明說明（8) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -2-經基丙基）醚；不飽和酿胺，如：1，6_六伸甲基雙兩少希 酿胺；乙晞基g旨類，如：二乙晞基丁二酸酉旨、二乙埽基酉太 酸酯和二乙晞基苯-1，3-二磺酸酯；苯乙晞和其衍生物；及 N -乙締基化合物，如：N -乙晞基叶峻。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此黏合劑是成膜材料，其含有反應性基團。就水性顯影 性而言，此黏合劑可以用鹼性水溶液展開。所謂的”可展 開π是指黏合劑能夠溶解、溶脹或分散於顯影液中。較佳 情況中’此黏合劑可溶解於顯影液中。特別佳的黏合劑是 酸性、聚合型有機化合物。可以使用單一或多重黏合劑化 合物。可用於本發明之方法中的一種黏合劑類型是含有自 由叛酸基團的乙晞基加成聚合物。這些係製自30-94莫耳％ 一或多種丙晞酸烷基酯和70-6莫耳％ —或多種α，卢-乙晞系 不飽和羧酸；更佳者製自61 -94莫耳。/〇兩種丙烯酸烷基酯和 39-6莫耳％從，点·乙晞系不飽和致酸。用以製備這些聚合型 黏合劑之適當的丙婦酸抗基醋包括丙缔酸甲g旨、丙缔酸乙 酯、丙烯酸丙酯、丙晞酸丁酯和異丁烯酸酯同系物。適當 的江，点乙烯系不飽和幾酸包括丙烯酸、異丁烯酸、衣康 酸、馬來酸或馬來酸酐之類。此類型黏合劑及其製備述於 1973年1 1月8日印行的德國專利申請案〇s 2,32〇,849。亦適 用者是苯乙晞和經取代的苯乙烯與含不飽和羧基單體之共 聚物’此詳述於英國專利案第1，361，298號。 可以有傳統添加於光可聚合組合物中的他種組份存在， 以修飾膜的物性。這樣的組份包括··塑化劑、熱穩定劑、 亮光劑、紫外光吸收材料、成色劑、黏合修飾劑、塗覆助 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱) 1225973 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（9) 劑和脱模劑。此外，視應用而定地，可以使用他種惰性添 加物，如：染料、顏料和填料。這些添加物通常少量存 在，以免干擾光阻劑的曝光。 用於光可聚合光阻劑的典型組份有， j 以重量计：光引發 劑’（U至薦，以爲佳；乙缔系不飽和化合物，5 至6〇%，以15至50%爲佳；黏合劑，25至9〇%，以45至 75%爲佳；所有他種組份，〇至5 %，以〇至4 %爲佳。 多種底質可用於本發明之方法中。所謂的,，底質"是指任 何天然或合成載體，以能夠以可彎曲或堅能 佳。例如’此底質可以是金屬片或羯、合成有 膜、纖維紙、纖維板之類，或這些材料的二或多者之複合 物0 此特別的底質通常由所欲應用來決定。例如，製造印刷 電路板時，底質可以是經銅塗覆的纖維玻璃環氧板、鍍銅 膜或在板或膜上的印刷電路板圖案。用於平版印刷板時， 此底質可以是陰極化的链。用於校樣應用時，此底質可以 是聚酯膜或經聚酯塗覆的紙。 此光阻性組合物可藉由自適當溶劑（如：二氣甲烷、甲 醇或丙酮）塗覆的方式施用於底質上。可以使用任何慣用 的塗覆技巧。或者，此光阻的組合物可以塗覆或壓在聚合 物膜載體（如：聚對酞酸乙二酯膜載體）上。此可於之後再 度使用慣用的技巧層疊於底質上。可以保護此載體膜直到 已經準備以脱模膜（如：聚乙晞或聚丙烯，於層疊於載體 之前移除）形式備用爲止。 -12 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----,---f-------------訂---------線^^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（1〇) 在底質上的光阻劑的最終乾膜厚度視所欲用途而定。此 厚度通常是0.2至0.4密耳（5至100微米），以0·5至2密耳（13 至5 0微米）爲佳。 本發明方法的第二個步驟是：（1))以光化射線照射以在光 阻劑中製造出曝光和未曝光的區域。 任何能夠提供含括光引發劑和/或光敏劑之吸收帶範圍 波長之慣用的一或多種光化射線可用以活化光引發劑。所 謂的"光化射線”是指能夠使光引發劑引發改變光阻劑之物 性之反應的射線。用於光可聚合的系統時，光化射線引發 自由基（其爲引發乙晞系不飽和化合物之自由基聚合反應 必需者）之產製。此射線可以是天然或人工、單色或多 色、不同步或同步者，欲達到高效率時，應接近引發劑系 統的吸收波長。傳統燈源包括螢光燈、汞、金屬添加和電 弧燈。同步燈源是氙、氬離子和離子化的氖雷射，及可調 式染色雷射和頻率雙钕：YAG雷射，其發散範圍居於或含 括敏化劑的可見光吸收帶。 本發明方法的第三個步驟··⑷曝光的光阻劑以驗性水溶 液樣品處理，移除光阻劑的曝光或未曝光區域。在光可聚 合系統中，移除未曝光區域。 顯影液通常是0.01至2重量％的水溶性鹼的水溶液。適當 的驗包括驗金屬氫氧化物，如：氫氧化鋰、鈉和卸；合I 鹼反應的弱酸的鹼金屬鹽’如：碳酸和碳酸氫鋰、二 鉀；氫氧化銨和經四取代的氫氧化銨，如：四甲基和四苯 基氫氧化銨；銃鹽，包括氫氧化物、碳酸鹽、碳二氮鹽和 -13 - , Γ- --------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 適 度 尺 張 紙 本 (CN 準 標 家 國 國 Μ 公 97 2 X 110 (2 格 規 1225973 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（) 硫化物；鹼金屬磷酸鹽和焦磷酸鹽，如：三嶙酸和焦磷酸 鋼和神；四取代的鱗、珅和銻氫氧化物，如··四甲基氫氧 化鳞。此顯影組合物亦可含有界面活性劑。但是，有機物 總含量應低於1 〇重量％，以低於5重量％爲佳。較佳的顯 影液是1重量％碳酸鋼溶液。 此顯影步驟可以使用任何慣用的技巧（如；浸泡或嘴霧） 以分批或連續方式實施。此顯影水溶液可處於室溫或加熱 至鬲至約8(TC。許多市售顯影液亦可用於此顯影程序。 本發明方法的下一步驟是以新的底質和光阻樣品重覆前 三個步驟，但使用基本上相同的顯影樣品。換言之，此顯 影液循環及重覆使用以使更多的光阻劑顯影。更多的光阻 劑以顯影液樣品顯影時，即使沒有淤渣形成，顯影液也會 因爲被溶解的光阻劑所飽和而使得效果越來越差。最後， 即使沒有於渣形成，也必須要重新補充顯影液，將大量的 新落液加至使用過的溶液中，或者完全以新的顯影液更 換。一些顯影程序中，移除少部分的顯影液，每次對光阻 劑作顯影處理之後，添加等量的新顯影液。這些系統在工 業中稱爲’’補充和消耗”系統。通常，連續偵測物性（如： pH、導電性或u V吸收性）。當此性質落到預定限度之外 時’移除少量顯影液及添加新的顯影液以便將性質調整至 所欲的設定點。因爲每次循環僅移除和更換少量顯影劑， 所以顯影液基本上維持相同。所謂的"基本上相同，，是指在 任何一次顯影過程中，原顯影樣品被新顯影液更換的量低 於20體積％。 本紙張尺度適用中國國豕標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公髮） ----_—^-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 A7 B7 五、發明說明（12 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 基本上，顯影液循環直到美加侖（3 · 8升）的顯影液使高 至約8-10平方英呎（〇74至〇92平方米）的光阻劑厚爲1密耳 (25微米）顯影。有時最多可使5〇平方英呎（46平方米）顯 :’但此情況相當罕見。通常，重新補充或更換顯影液之 則，1升顯影溶液使約30_50克光阻劑顯影。重新補充或更 換.、”員〜液之則，在顯影液中形成過量於渣會大幅降低能夠 被顯影的光阻劑量。本發明之方法中，將形成的於潰量降 低，使得在標準試驗中，則00克顯影液處理3克未曝光光 阻劑時所產生的沉㈣量低於⑽克。較佳情況中，沉殿 物量低於〇·〇ΐ克。 本發明ι光敏性組合物能夠減少顯影時形成的淤渣量， 重要的是不能損及光_的其他性質。特別地，必須不 顯著降低感光速率。有時’使用光阻劑來形成印刷電路材料時，光阻劑的 加工邵分成爲電路構造的永久部分。所謂的"哩加工者" 指在曝光和顯影步驟之後，留在底質上的光阻劑部分。 tt!:无Γ經加工的光阻劑代表光阻劑的未曝光區域 二系，經加工的光阻劑代表光阻劑之經曝光區域 二’：情況中，在經加工的光阻劑用於，如··電 別：本：：驟/之後，在剝除步驟中移除經加工的光 :成的二：弟二個實施例是一種移除經加工的光阻劑 开/成的於}查！較少的方法。 第二個實施例中，自底質移除經加工的 (a)以剝除液樣品處理經加工 ·术 以移除經加工的 -15· 本紙張尺度適財國X 297公爱） 會 經是在 鍍 阻 且 -------^-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（13) 光阻物；及 (b)重覆步驟（a)至少五次，其中，每次重覆時，使用新底 質和經加工的光阻劑及基本上相同的剝除液樣品；其中， 光阻劑包含至少一種具有至少一個親水性基團的六芳基二 咪唑化合物，且其中，以1〇〇克剝除液處理3克經加工的光 阻劑，製造出的沉澱物少於0.05克。 光阻性組合物、六芳基二咪唑光引發劑和基質基本上與 前述者相同。此光阻劑暴於光化射線下並以前述方式顯 影。 此剝除組合物通常必須強烈至足以移除經加工的光阻劑 且不會損及底質或在底質上的任何零件。此技藝已熟知剝 除組合物，可參考，如："Printed Circuits Handbook(印刷 電路板手册）M ’ D.F.Coombs編輯，第二版（McGraw_Hill， Inc.，1979)和"Photoresist-Materials and Processs(光阻劑材 料和程序）’’，W.S.DeForest(McGraw-Hill，Inc.，1975)。 用於正效系統時，在剝除步驟中移除光阻劑的未曝光區 域，剝除劑通常與將光阻劑塗覆在膜或底質上所用的溶劑 落液相同。適當》谷劑包括一氣甲坑、丙明、醇和二醇醚。 也可以使用溶劑混合物。 用於負效系統時，在剝除步驟中移除光阻劑的曝光區 域，此剝除劑通常比較強烈。用於水性可顯影光阻劑的剝 除液通常是鹼性溶液，如：氫氧化鉀或鈉溶液；膽驗的水 溶液；有機胺的水溶液。此剝除液可以包括他種組份 (如：氣化的酚或甲酚）以提高剝除力。也可以有他種添加 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公爱〉 ----·---^-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
1225973 五、發明說明（14) 物(、如··㈣舌性劑或抗沫劑)存纟。較佳的剝除液是鹼性 水溶液。#別佳者是线化鋼溶液和氫氧化却溶液。 此剝除步驟可以使用任何慣用的技巧（如··浸泡或噴霧） 乂刀批或連續方式貫施。此剝除液可處於室溫，但通常加 熱至高至約12(M5〇T(50_65cC)，以 佳。許多市售品亦可用作爲剝除劑。 。本發明方法的下一步驟是以新的底質和經加工的光阻樣 品重覆剝除步驟，但使用基本上相同的剝除樣品。換言 之，此剥除液循環及重覆使用以移除更多經加工的光阻 劑。越來越多光阻劑被剥除液移除的同時，即使沒有淤渣 形成，剝除液也會因爲被溶解的光阻劑所飽和而使得效果 越來越差。最後，即使沒有淤渣形成，也必須要重新補充 剥除溶液，將大量的新溶液加至使用過的溶液中，或者完 全以新的剝除液更換。與顯影方式相同地，一些剝除程序 使用"補充和消耗系統"。所謂的"基本上相同”是指在任何 一次剝除過程中，低於2 0體積❶/。的原剝除樣品被新剝除液 所更換。 剝除液所能移除的光阻劑量隨著光阻劑類型、剝除液類 型和所用的設備而顯著不同。重新補充或更換剝除液之 前，在剝除液中形成之過量的淤渣會大幅降低能夠剥除的 光物量。本方法之方法中，形成的淤渣量降低，使得在標 準試驗中，以100克剥除液處理3克未曝光光阻劑時所產生 的沉澱物量低於0 · 0 5克。較佳情況中，沉澱物量低於〇.〇 ! 克。 -17· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ,—^-------------訂---------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1225973 A7 B7 五、發明說明（15) 實例 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以下列實例説明本發明，但不欲因此造成限制。除非特 別聲明，否則所有的百分比皆以重量計。 縮寫 化學名稱 C AS# BP 二苯甲酮 119-61-9 CBT 50 : 50混合物，4-和5-羧基苯並三唑 60932-58-3 5C1-BT 5-氣苯並三吐 94-97-3 CD-541 乙氧化的雙酚A二異丁晞酸酯（6莫耳伸乙 化氧） 41637-38-1 CM-HABI 2,2’-雙（2-碳甲氧基-苯基)-4,4’，5,5’-四 冬基-二1^ 口坐 DBC 2,3-二溴-3-苯基苯丙酮 611-91-6 DEHA N，N-二乙基羥基胺 3710-84-7 E-2627 聚（異丁烯酸甲酯/丙晞酸乙酯/異丁烯 酸）（50/30/20) 25133-97-5 EDAB 對-二甲基胺基苯甲酸乙酯 10287-53-3 EMK 乙基Michler酮 90-93-7 ITX 異丙基硫代二苯並吡喃酮 5495-84-1 LCV 無色晶體紫 603-48-5 MEK 丁酮 NPG 甘油正-丙酯 103-01-5 NK Ester 丙二醇400二異丁晞酸酯（7莫耳伸丙化 25852-49-7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（16) 9PG 氧） o-Cl-HABI 2,2’-雙（2-氣苯基）-4,4’，5,5’-四苯基-124354-60-1，2-二·1Η_ 咪唑 5 ODAB 2_乙基己基-4-(二甲基胺基）苯甲酸酯 21245-02-3 OE-HABI 2,2’-雙（2-乙氧基苯基）-4,4，，5,5’-四苯 基-二咪咬 P-31R 伸丙化氧和伸乙化氧的3 1/1團聯共聚物9003-1 1-6 S-661 聚（馬來酸一異丁酯/苯乙晞）(42/58) 28571-95-1 SR604 一異丁晞酸丙二醇酯（5莫耳伸丙化氧） 39420-45-6 SR9036 乙氧化的雙酚A二異丁晞酸酯（30莫耳伸41637-3 8-1 乙化氧） TCDM- 2,2,4’-參(2-氣苯基)-5-(3,4-二甲氧基苯 10〇486-97- HABI 基)-4’，5’-二苯基-二-1H-咪唑 3 TCTM- 2,2，’5,5’-肆(2-氣苯基)-4,4’-雙（3,4-二 71002-23-8 HABI 甲氧基苯基)-雙-1H-咪唑 TMCH 4-甲基-4-三氣甲基-2,4-環己二晞酮 VGD 維多利亞綠染料 569-64-2 XPD-2470 丙晞酸正丁酯/丙烯酸乙酯/異丁晞酸甲酯 /異丁烯酸共聚物（20/13/42/25) 所有的膜係藉由使組份溶解於指定溶劑中並使用1 〇密耳 (254微米）刮片塗覆於〇·75密耳（19微米）厚的聚酯膜上而 製得。此塗層於25°C風乾，得到厚爲1.2密耳（30.5微米）的 乾光阻膜層。 -19 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----_— ^-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973 A7 B7 五、發明說明（17) 淤渣試驗 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以於淹試驗定出形成的淤渣量。使20克碳酸鈉溶解於2 升水中並添加 1·5 毫升 piur〇nic\31IU BASF，Mt.01ive，NJ)(其 爲聚氧乙缔/聚氧丙晞共聚物塑化劑），以此製得顯影液。 1.2密耳（30.5微米）厚的12英吋見方（3〇·5 X 30·5公分）未 曝光光阻膜樣品（光阻劑重3·4克）置於1〇〇克顯影液中。樣 品靜置直到光阻劑樣品溶解，根據下列標準定出沉澱物 量： 0 =無黃色沉澱物。 1 =少量細粒黃色沉澱物。 5 =中等量黃色物質，通常非細粒。 10 =大量黃色物質密實層位於底部；物質通常成薄 片狀測定結果顯示各級沉澱物量爲： 〇 ··低於0.005克。 1 : 0.005至 0.01 克。 5 : 0.05至 0.08克。 10 :超過0.1克。 感光速率 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 製得光聚合物膜/銅層疊物，以測定顯影時間及感光速 率。使用熱滚筒層疊器於1.5米/分鐘、滾筒溫度105°C的條 件下，將1.2密耳（30.5微米）光阻劑膜層疊於1盎司（28克） 經刷洗的銅FR-4層疊物上。 將使用Chemcut CS2000顯影劑中之85°C的1.5%碳酸鈉水 溶液，喷灑壓力爲28 psi時，完全移除銅層疊物上的光聚 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 1225973 A7 B7 五、發明說明（18) 合物所須的時間認定爲顯影時間。 使用4 1級Stouffer密度錠測定感光時間。使用Dup〇nt pc_ 暴光單元（E.I.du Pont de Nemours and Company， Wilmingt〇n，DE)，使此膜暴於丨〇至8 〇毫焦耳/平方公分 下，顯影室的使用時間是顯影時間的至少1.5倍。最後一 個步驟中’測定留下之至少50%的光聚合物。將此階級稱 爲π靜止階段M，將此視爲感光速率。就市售品而言，其要 求是於1 0毫焦耳/平方公分曝光時感光速率至少爲1 4級， 於40毫焦耳/平方公分曝光時感光速率至少爲28級。每降 低5級，感光速率降低50〇/〇。 實例1 此實例説明不同光引發劑系統之使用。實例1-1、1-2和 1-3説明本發明，其中，TCDM-HABI與或不與二苯甲酮併 用。比較例C-lA至C-1C説明使用與或不與二苯甲酮併用的 鄰-C1-HABI的組合物。比較例C-1D至C-1F説明未使用 HABI光引發劑之組合物。 製得組成如下的光敏性溶液： ----;---U-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 --樣品 ，以重量計之份數-- -- 組份 1-1 1-2 1-3 C-1A C-1B C-1C XPD-2470 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 TMPEOTA 12 12 12 12 12 12 SR9036 9 9 9 9 9 9 NK Ester 9PG 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 1225973 B7 五、發明說明（19 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 SR604 3 3 3 3 3 3 o-Cl-HABI - - - 3 1 0.9 TCDM-HABI 0.5 1 0.5 - - - EMK 0.06 0.06 0.15 0.06 0.06 - ITX 0.4 0.4 0.4 0.4 - nPG 0.5 0.5 - 0.5 0.8 - TMCH - - - - - 0.25 ODAB - - - - - EDAB - - - - - BP - 2 - 5 LCV 0.3 0.3 0.35 0.3 0.3 0.25 VGD 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 DBC - 0.25 - - - CBT 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 5-C1-BT 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 DEHA 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 總計 97.5 98 99.49 100 98.03 102.59 樣品， 以重量計之份數 組份 C-1D C-1E C-1F XPD-2470 65.7 65.7 65.7 TMPEOTA 12 12 12 SR9036 9 9 9 •22- ----;---τ------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 A7 B7 五、發明說明（2〇 ) NK Ester 9PG 6.4 6.4 6.4 SR604 3 3 3 o-Cl-HABI - - TCDM-HABI - - -· EMK 0.14 0.14 0.16 ITX - 0.5 - nPG - 0.5 - TMCH - - ODAB - 2 - - EDAB - - 1.7 BP 5 3 4 LCV 0.35 0.35 0.35 VGD 0.04 0.04 0.04 DBC 0.15 0.15 - CBT 0.02 0.02 0.02 5-C1-BT 0.01 0.01 0.01 DEHA 0.02 0.02 0.02 總計 104.8 100.13 102.4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 50%固體於丙酮中之溶液經塗覆而形成膜。以此膜進行 淤渣形成和感光速率試驗。其結果列於下面的附表中。 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 A7 B7 五、發明說明（21 ) 淤渣 感光速率 10毫焦耳/平方公分 20毫焦耳/平方公分 40毫焦耳/平方公分 80毫焦耳/平方公分
1-1 L·! L·! 1C C-1D C-1E C- 0 2 0 10 3 2 0 0 0 11 16 12 15 10 9 10 4 9 16 21 18 21 16 16 16 10 15 23 28 25 28 23 23 24 18 23 29 34 32 34 29 29 30 24 29 1F 由前述數據清楚知道：感光速率程度可被接受，使用鄰_ C1-HABI時所形成的淤渣量多得多。與使用〇dab、edab 和B P光引發劑的組合物比較，其淤渣量不會比較多，但 感光速率非常低。 實例2 此實例説明使用不同的光引發劑系統和不同黏合劑。實 例2-1、2_2和2-3代表本發明，使用TCDM-HABI。比較例C-2A至C-2C説明使用鄰-C1-HABI之組合物。 製得組成如下的光敏性溶液： ----^---J-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
組份 XPD-2470 S-661 E-2627 TMPEOTA ----樣品，以重量計之份數---- 2-2 2-2 2-3 QzIA C-2B C-2C_ 65 J - · 65.7 - - - 65.7 - - 65·7 - - - 65.7 - - 65·7 12 12 12 12 12 12 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） 1225973 A7 B7 五、發明說明（22 ) SR9036 9 9 9 9 9 9 NK Ester 9PG 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 SR604 3 3 3 3 3 3 o-Cl-HABI - _ 癱 - 3 . 3 3 TCDM-HABI 1.5 1.5 1.5 - - 義 EMK 0.06 0.06 0.15 0.06 0.06 0.06 ITX 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 nPG 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 LCV 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 VGD 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 總計 99.95 98.45 99.95 98.45 99.95 98.45 50%固體於丙酮中之溶液經塗覆而形成膜 :。以 此膜進行 淤渣形成和感光速率試驗。其結果列於下面的附表中。 —樣品· — 2-1 2-2 2-3 C- 2A C-2B C-2C 淤渣 0 4 2 10 3 10 ----.---1-------------訂---------線^^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 同樣地，含有TCDM-HABI的組合物所形成的淤渣少得 多。應注意到：選擇鄰-C1-HABI和TCDM-HABI的用量使 得塗層的感光速率與市售品相同。事實上，此TCDM-HABI塗層的感光速率約比使用鄰-C1-HABI快25%。 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公f 1225973 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（23 ) 實例3 此實例説明使用含不同單體的不同光引發劑系統。實例 3-1代表本發明，使用TCDM-HABI。比較例C-3A説明使用 鄰-C1-HABI之組合物。 製得組成如下的光敏性溶液： 樣品，以重量計之份數 組份 3-1 C-3A XPD-2470 65.7 65.7 TMPEOTA 18 18 NK Ester 9PG 6 6 CD541 6 6 o-Cl-HABI - 3 TCDM-HABI 0.25 - EMK 0.12 0.06 ITX 0 0.4 nPG 0 0.5 TMCH 0.3 EDAB - 2 - BP 4 - LCV 0.4 0.3 VGD 0.04 0.04 DBC 0.15 - CBT 0.02 0.02 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----·—^-------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1225973
5-C1-BT 0.01 0.01 DEHA 0.02 0.02 P-31R1 2.44 - 總計 106.02 99.17 50/。固flaS丙_中之溶液經塗覆而形成膜。以此膜 於逢形成和感光速率試驗。其結果躲下面的附表中。订 閱 背 面 之 /i 項 再 填 寫 本 頁 f -樣品· _ 3-1 C-3A 0 3 14 18 20 24 26 30 淤渣 I I 訂 感光速率 10毫焦耳/平方公分 20毫焦耳/平方公分 40毫焦耳/平方公分 線 雖然此光敏性組合物所形成的淤渣量皆較少，但顯然 TCDM-HABI組合物的淤渣量比鄰C1HABI更少。因爲 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 HABI含量非常低’所以稍微提高habi濃度，便能夠改善 TCDM-HABI組合物。 實例4 此實例説明不同含量的HABI光引發劑對於淤渣形成之影 響。實例4-1至4-3代表本發明之組合物，使用TCE)Me HABI。比較例C-4A至C-4E説明使用鄰-C1-HABI之組合 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（25) 物。 製得組成如下的光敏性溶液： 樣品’以重里計之份數---- 組份 4-1 4-2 4-3 C-4A C-4B C-4C XPD-2470 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 TMPEOTA 12 12 12 12 12 12 SR9036 9 9 9 9 9 9 NK Ester 9PG 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 SR604 3 3 3 3 3 3 o-Cl-HABI - - - 3 1 0.5 TCDM-HABI 3 1 0.5 - - - EMK 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 ITX 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 nPG 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 LCV 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 VGD 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 總計 99.95 97.95 97.45 99.95 97.95 97.45 樣品’以重量計之份數 組份 C-4D C-4E XPD-2470 65.7 65.7 TMPEOTA 18 30.4 -28- ----·---------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（26 SR9036 3 • NK Ester 9PG 6.4 _ SR604 3 讎 o-Cl-HABI 3 3 TCDM-HABI - 細 EMK 0.06 0.06 ITX 0.4 0.4 nPG 0.5 0.5 LCV 0.3 0.3 VGD 0.04 0.04 總計 99.95 99.95 50%固體於丙酮中之溶液經塗覆而形成膜。以此膜進行 於流形成和感光速率試驗。其結果列於下面的附表中。除 了以肉眼觀察淤渣分級，樣品亦經離心並收集固體。剛定 乾燥的淤渣量（以克表示）。 -----樣品-----
4^2 4^3 C-4A C-4B C-4C C_4D C-4R 淤渣 -分級 3 〇 〇 10 6 1 5 9 重量（克） 0.029 0.004 0.005 0.141 0.068 0.047 0.054 0.082 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------J-------------訂--------- ί請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 1225973 Α7 Β7 五、發明說明（27) 由則述數據可以明顯看出：可以使用大量TCDM—HABI來 降低淤渣形成量。前述塗層的感光速率中，樣品4_2的感 光速率與比較例樣品C-4A相仿。鄰·d-HAB〗量如比較例c — 4B中者時，能夠達到市售樣品無法達到的感光速率。即使 使用此量，淤渣量仍比由樣品4-2得到者高出許多。 實例5 此實例説明本發明的他種^^則光引發劑之使用。實例5_ 1和5-2代表本發明，使用TCDM_HAm。實例弘3和5_4代表 本發明，使用TCTM_HABI。實例5-5和5-6代表本發明，使 用碳曱氧基HABI(CM-HABI)。比較例（：_5八和C-5B説明使 用鄰-C1-HABI之組合物。 製得組成如下的光敏性溶液： (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ----樣品，以重量計之份數_ 組份 5-1 5-2 5-3 5r5_ 5^4 XPD-2470 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 TMPEOTA 12 12 12 12 12 12 SR9036 9 9 9 9 9 9 NK Ester 9PG 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 6.4 SR604 3 3 3 3 3 3 EMK 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 TCDM-HABI 1 0.75 - - 麵 轉 TCTM-HABI - - 1 0.75 • CM-HABI - - - - 1 0.75 -30- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公β ' ' ------ IT--------- 1225973 A7 B7 五、發明說明（28) ITX nPG LCV VGD CBT 5-C1-BT DEHA 總計 0.4 0.5 0.3 0.04 0.02 0.01 0.02 99 0.4 0.4 0.4 0.4 0.5 0.5 0.5 0.5 0.3 0.35 0.3 0.3 0.04 0.04 0.04 0.04 0.02 0.02 0.02 0.02 0.01 0.01 0.01 0.01 0.02 0.02 0.02 0.02 98.88 99 98.88 100 0.4 0.5 0.3 0.04 0.02 0.01 0.02 99 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 樣品’以重量計之份數 C-5B 組份 C-5A ( XPD-2470 65.7 65.7 TMPEOTA 12 12 SR9036 9 9 NK Ester 9PG 6.4 6.4 SR604 3 3 EMK 0.06 0.06 o-Cl-HABI 3 1 ITX 0.4 0.4 nPG 0.5 0.5 LCV 0.3 0.3 VGD 0.04 0.04 CTB 0.02 0.02 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 A7 B7 五、發明說明（29) 5-C1-BT 0.01 0.01 DEHA 0.02 0.02 總計 100 99 50%固體於丙酮中之溶液經塗覆而形成膜。以此膜進行 淤渣形成和感光速率試驗。其結果列於下面的附表中。 -----樣品----- ----「JJI----—--------訂---------秦 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 樣品 C-5A C-5B 於逢 7 3 感光速率 20毫焦耳/平方公分 20 11 40毫焦耳/平方公分 26 17 80毫焦耳/平方公分 3 0 24 -32- 5-1 5-2 5-3 5-4 5-5 5-6 於渣 1 1 NA 1 1 1 感光速率 20毫焦耳/平方公分 19 17 18 16 14 8 40毫焦耳/平方公分25 23 24 23 20 14 80毫焦耳/平方公分3 1 29 3 0 29 26 20 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明（30 ) 由前述數據可以明顯看出：感光速率可被接受，但用鄰_ C1-HABI之組合物的淤渣形成量多得多。 實例6 此實例説明本發明的他種HABI光引發劑之使用。實例6_ 1至6·4代表本發明，使用TCDM-ΗΑΒΙ。實例6-5和6-8代表 本發明，使用鄰-乙氧基-HABI (ΟΕ_ΗΑΒΙ)。比較例C-6A至 C-6D説明使用鄰-ci-HABI之組合物。 製得組成如下的光敏性溶液： -- --樣品 ，以重量計之份數- 爾雜· 組份 6-1 6-2 6-3 6-4 6-5 6-6 XPD-2470 66.95 66.95 66.95 66.95 65.7 65.7 TMPEOTA 13 19 19 31.4 12 18 SR9036 9 6 - - 9 6 NK Ester 9PG 6.4 6.4 6 細 6.4 6.4 SR604 3 - 4 - 3 - CD-541 - 6 - - - EMK 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 TCDM-HABI 0.75 0.75 0.75 0.75 - - OE-HABI - - - - 3 3 ITX 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 nPG 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 LCV 0.3 0.3 0.35 0.3 0.3 0.3 VGD 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 -33- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----.11.,----賢------- —訂--------- 2请先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 1225973 B7 五、發明說明（31 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 CBT 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 5-C1-BT 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 DEHA 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 總計 100 100 100 100 100 100 一 一 -_樣品 ，以重量計之份數… — 組份 6-7 6-8 C-6A C-6B C-6C C-6D XPD-2470 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 65.7 TMPEOTA 18 30.4 12 18 18 30.4 SR9036 _ - 9 6 - - NK Ester 9PG 6.4 麵 6.4 6.4 6.4 - SR604 - - 3 - - - CD-541 6 - - - 6 - EMK 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 OE-HABI 3 3 - - - - o-Cl-HABI - - 3 3 3 3 ITX 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4 nPG 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 LCV 0.3 0.3 0.35 0.3 0.3 0.3 VGD 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 CBT 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 5-C1-BT 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 DEHA 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 -34- ----一—^ J------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1001225973 A7 B7 五、發明說明（32 總計 100 100 100 100 100 50°/〇固體於丙酮中之溶液經塗覆而形成膜。以此膜進行 淤渣形成和感光速率試驗。其結果列於下面的附表中。 於潰 感光速率 40毫焦耳/平方公分 淤渣 感光速率 40毫焦耳/平方公分 •—才表品--- 6-1 6-2 6-3 6-4 6^5 6^6 1 1 1 1 3 2 24 21 6-7 6-8 C-6A C-6B C-6C C-6D 2 2 8 8 6 6 24 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---- 訂----- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由前述數據可以明顯看出：但用鄰-C1-HABI之組合物的 於〉查形成量多得多。 實例7 將1 5克氫氧化鉀溶解於1升水中，製得剝除液。於其中 添加1.5毫升？1111*〇1^(：\31111(3八8?，]\11;.01卜6，1^)(其爲聚氧乙 烯/聚氧丙晞共聚物塑化劑）。經加工（即，曝光和顯影）的 1.2密耳（30.5微米）厚的1 2英吋見方（ 30.5 X 30.5公分）未曝 -35- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1225973 Α7 Β7 五、發明說明（33 ) 光光阻膜樣品（光阻劑重3.4克）置於100克顯影液中並維持 於12 0 -13 0 F (5 0 - 5 5 C)。樣品靜置直到經加工的光阻劑樣品 溶解，根據用於顯影液中之樣品的相同標準測定沉澱物 量。 使用前述實例1的組合物在銅FR-4底質上製得光阻膜。 使其全面暴於使用DuPont PC-530照光單元的光化射線下， 之後以前述剝除溶液處理。含有鄰-C1-HABI之樣品的淤邊 等級是5-10，而含有TCDM-HABI之樣品的淤渣等級是ο- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ΐ- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）