TWD233452S - 電漿處理裝置用環 - Google Patents
電漿處理裝置用環 Download PDFInfo
- Publication number
- TWD233452S TWD233452S TW111303621F TW111303621F TWD233452S TW D233452 S TWD233452 S TW D233452S TW 111303621 F TW111303621 F TW 111303621F TW 111303621 F TW111303621 F TW 111303621F TW D233452 S TWD233452 S TW D233452S
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- plasma processing
- processing device
- item
- rings
- processing equipment
- Prior art date
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
Abstract
【物品用途】;本設計的物品是電漿處理裝置用環，為一種在製造半導體時所使用的電漿處理裝置中用來保護真空室之壁面的環。;【設計說明】;「使用狀態之參考圖」係藉由電漿處理裝置的局部示意圖來表示本物品之設置狀態的例子。;呈現在立體圖中但未呈現在其他六面圖中的細線，係用來表現立體表面之形狀的線條。
Description
本設計的物品是電漿處理裝置用環，為一種在製造半導體時所使用的電漿處理裝置中用來保護真空室之壁面的環。
「使用狀態之參考圖」係藉由電漿處理裝置的局部示意圖來表示本物品之設置狀態的例子。
呈現在立體圖中但未呈現在其他六面圖中的細線，係用來表現立體表面之形狀的線條。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022-002607 | 2022-01-11 | ||
| JP2022002607F JP1723359S (ja) | 2022-02-10 | 2022-02-10 | プラズマ処理装置用リング |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWD233452S true TWD233452S (zh) | 2024-09-11 |
Family
ID=83059462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW111303621F TWD233452S (zh) | 2022-02-10 | 2022-07-22 | 電漿處理裝置用環 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP1723359S (zh) |
| TW (1) | TWD233452S (zh) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWD186397S (zh) | 2017-01-20 | 2017-11-01 | Hitachi High Tech Corp | 電漿處理裝置用放電腔室 |
-
2022
- 2022-02-10 JP JP2022002607F patent/JP1723359S/ja active Active
- 2022-07-22 TW TW111303621F patent/TWD233452S/zh unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWD186397S (zh) | 2017-01-20 | 2017-11-01 | Hitachi High Tech Corp | 電漿處理裝置用放電腔室 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP1723359S (ja) | 2022-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWD217686S (zh) | 用於半導體處理腔室的沉積環 | |
| TWD222669S (zh) | 用於半導體處理腔室中的蓋環 | |
| TWD215402S (zh) | 用於基板處理腔室的沉積環 | |
| TWD235887S (zh) | 電漿處理裝置用保護環 | |
| TWD186394S (zh) | 電漿處理裝置用保護環 | |
| TWD207742S (zh) | 用於基材處理室的處理遮罩件 | |
| TWD210379S (zh) | 電漿處理裝置用保護環 | |
| TWD175852S (zh) | 電漿處理裝置用上腔室 | |
| TWD210894S (zh) | 用於基材處理室的處理遮罩件 | |
| JP1711119S (ja) | サセプタリング | |
| TWD175855S (zh) | 電漿處理裝置用下腔室 | |
| TWD193438S (zh) | Jet ring for plasma processing unit | |
| TWD175853S (zh) | 電漿處理裝置用罩環 | |
| TWD199479S (zh) | 半導體製造裝置用離子遮蔽器 | |
| TWD202287S (zh) | 半導體製造裝置用離子遮蔽板保持具 | |
| TWD186397S (zh) | 電漿處理裝置用放電腔室 | |
| TWD212726S (zh) | 基板處理裝置用晶舟之部分 | |
| TWD211225S (zh) | 排氣管 | |
| TWD213399S (zh) | 基座軸 | |
| TWD223413S (zh) | 耳機 | |
| TWD211584S (zh) | 用於基板處理腔室的下屏蔽件 | |
| TWD233452S (zh) | 電漿處理裝置用環 | |
| TWD218087S (zh) | 反應管 | |
| TWD234042S (zh) | 電漿處理裝置用保護環 | |
| TWD208042S (zh) | 等離子體處理裝置用容器 |