TWD222669S - 用於半導體處理腔室中的蓋環 - Google Patents

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processing chamber
semiconductor processing
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TW110306065F
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阿比錫 喬德亨瑞
哈里沙 薩蒂亞納拉亞納
愛德恩C 隋瑞茲
四清 路
納塔拉吉 巴斯卡爾饒
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美商應用材料股份有限公司
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【物品用途】;本設計所請求係用於半導體處理腔室中的蓋環。;【設計說明】;圖式所揭露之虛線部分,為本案不主張設計之部分。

Description

用於半導體處理腔室中的蓋環
本設計所請求係用於半導體處理腔室中的蓋環。
圖式所揭露之虛線部分,為本案不主張設計之部分。
TW110306065F 2020-11-18 2021-05-05 用於半導體處理腔室中的蓋環 TWD222669S (zh)

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US29/758,812 2020-11-18

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