587175 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種以一調製光束輻照一基板而描晝一 圖案之技術。 【先前技術】 習知的用以描晝一圖案在一具有抗蝕薄膜形成於其上之 印刷電路板的裝置,係經由調製一雷射光束且將之發射至 該板而形成圖案。例如,日本專利申請案公告號 2 0 0 1 - 2 6 4 6 5 4中揭示一雷射描晝裝置,依據印刷電路板之 膨脹或收縮校正雷射光束之掃瞄控制,以執行不會被膨脹 或收縮影響之描晝。 當以光線執行圖案描晝之圖案描晝裝置被應用以描晝一 半導體基板時,所產生之供圖案描晝用的資料數量係非常 之大,且花費太多時間來產生該資料。 進一步的,當僅有一相當粗略之圖案的一方塊(於後, 稱之為π圖案方塊")被描畫在全體基板上時,類似於印刷 電路板之情況,經由依據基板之膨脹或收縮一致地膨脹或 收縮圖案方塊,可描晝一妥適之圖案,但當描晝多數且非 常精細圖案方塊時,類似於半導體基板之情況,如果全部 圖案方塊被一致地膨脹或收縮,在某些非常精細之圖案 中,有可能因為光柵化中之離散化效應而導致顯微偏差。 【發明内容】 本發明之一目的係提供一種技術,可妥適地且輕易地在 一基板上描晝多數之非常精細的圖案方塊。 6 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 本發明之圖案描晝裝置,係經由以一光束輻照一基板而 執行圖案描晝。圖案描晝裝置包括一光束發射部位,用以 發射一調製光束;一掃瞄機構,用以掃瞄在基板上之來自 該光束發射部位之光束的輻照點;一描晝資料產生部位, 用以產生描晝資料;一描晝控制部位,經由依據描晝資料 控制光束發射部位與掃瞄機構,用以描晝多數之圖案方塊 的陣列;及一偵測器,用以偵測一基板的膨脹或收縮,且 在圖案描晝裝置中,描晝資料產生部位產生描晝資料,於 其中,依據來自偵測器之偵測結果,在鄰近的圖案方塊之 間的每一間隙之寬度被改變,而每一多數之圖案方塊的寬 度係被維持在至少一方向中。 依據本發明的一觀點,描晝資料產生部位產生描畫資 料,於其中,在鄰近的圖案方塊之間的每一間隙之寬度被 改變,而每一多數的圖案方塊之寬度係被維持在互相正交 的二方向中。 因而,無須複雜之控制便可妥適地描晝圖案方塊。 依據本發明之一較佳具體例,掃瞄機構掃瞄在主要掃瞄 方向與副掃瞄方向中之光束的輻照點,且在每一均延伸在 副掃目苗方向中之條狀區域的描晝’係被在主要掃目s方向中 被重複,每一單位區域包含多數的圖案方塊之一,且在每 單位區域之主要掃瞄方向中的一端部上之每一邊緣,係與 條狀區域之一的邊緣一致,且描晝產生部位分隔每一單位 區域成為多數之分隔區域,每一分隔區域具有在主要掃目s 方向中之預定寬度,以獲致在每一多數之分隔區域上的局 7 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 部描畫資料。 進一步的,描晝資料產生部位依據偵測結果校正局部描 晝資料,成為改變在副掃瞄方向中之一端部上的非圖案區 域之寬度的資料,及/或依據偵測結果校正相對應於在主要 掃瞄方向中之一端部上的分隔區域之局部描晝資料,成為 改變在主要掃瞄方向中之一端部上的非圖案區域之寬度的 資料。 因而可減少用以產生描晝資料的計算數量。 本發明亦提供一種圖案描晝方法,經由以一光束輻照一 基板而執行圖案描晝;及經由以此一圖案描晝方法描晝圖 案於其上之基板。 由下述聯合所附圖式之本發明之詳細說明,本發明之這 些與其他之目的、特色、觀點及優點將可更為清楚。 【實施方式】 圖1係一立體圖,顯示依據本發明之一較佳具體例的圖 案描晝裝置1。圖案描晝裝置1經由以一光束輻照基板9, 在一半導體基板 9 (於後簡稱為π基板π )上的抗蝕薄膜上 描晝,該光束係一束調製光束元件,且包括一卡匣座Π, 用以裝配容納基板9之卡匣9 1,一傳送機械手臂1 2,用以 自卡匣9 1取出基板9並傳送該基板9,一用以執行預校直 之預校直部位1 3,一級台1 4,用以安裝一描晝中的基板9, 及一輻照首部1 5,供以雷射光束輻照一基板9。 級台1 4被級台傳送機構1 41傳送在圖1的Υ方向中(在 光束的副掃瞄方向中),且輻照首部1 5被首部傳送機構1 5 1 8 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 傳送在x方向中(在光束的主掃瞄方向中)。在圖案描 置1中的組成元件之個別作業,均由在一電機架1 6中 制電路所控制,且電機架1 6設有一電路,用以產生供 描晝所需之資料。 圖2係顯示輻照首部1 5的主要内部結構之圖式。在 首部1 5中,一雷射21作用為一光源、一光束擴張器 一光束分離器23、及一多通道聲光調製器24(於後稱 π A Ο Μ π )均被以此一順序安排,且來自光束分離器2 3 數的雷射光束元件(即為多通道光束),均被聲光調 2 4分別調製。來自聲光調製器2 4的多通道光束係被 多數之透鏡與鏡的光學單位2 5所調節,被鏡2 6所反 被導引至一多邊形鏡27。 被多邊形鏡2 7所偏轉之光束,被換向鏡2 8導引朝 交於基板9之方向(圖1中的(一Ζ)方向)(在圖2 相同平面顯示來自換向鏡2 8之光束的路徑),且被經 有場透鏡與柱面透鏡之光學單位2 9發射至基板9。被 形鏡2 7所偏轉之光束之主要掃瞄係與圖1之X方向- 圖3係顯示一基板9之圖式,被圖案描晝裝置1經 光而於基板上描晝一圖案。在基板9上,被描晝之相 於L S I晶片的鑄模之多數圖案方塊,被以點陣配置排 互相正交之X與Υ方向中。在圖3中,每一區域包含 圖案方塊(其係做為供重複圖案用的一單位之區域, 稱之為”單位區域”)係由元件符號9 0 1代表。圖4係 一單位區域9 0 1之放大圖。一單位區域9 0 1係圖案方% 312/發明說明書(補件)/92-0刀92112927 晝裝 的控 圖案 輻照 22 ° 之為 之多 製器 具有 射且 向正 中的 由具 多邊 -致。 由曝 對應 列在 的一 於後 顯示 9 11 9 587175 與環境圖案方塊 9 1 1之做為界限的非圖案區域 9 1 2所組 成。因而,多數之圖案方塊被排列基板9上,且非圖案區 域9 1 2位於其之間。 圖案描晝係在每一條狀區域 9 2 1 (於後稱之為''條紋π ) 的主要掃瞄方向中重複地實施,如示於圖 3,條紋係延伸 在Υ方向中(副掃瞄方向)。多邊形鏡2 7之光束輻照點的 主要掃瞄(示於圖2 ),係在X方向中的每一條紋9 21内側 執行,經由級台傳送機構1 4 1在Υ方向中傳送級台1 4 (示 於圖1 )執行副掃瞄,當完成一條紋9 21之描晝時,輻照 首部1 5被首部傳送機構1 5 1傳送在主要掃瞄方向中,以開 始描晝下一條紋9 2 1。 條紋9 2 1之描晝係開始自參考號碼9 2 2所代表的描晝開 始位置。某些描晝開始位置9 2 2係在單位區域9 0 1中之(一 X )側與(_ γ )側上的隅角位置,且被一預定距離放置離 開此一位置。換言之,描晝開始位置9 2 2係被決定在一單 位區域9 0 1中的特定位置,且在單位區域9 0 1之主要掃瞄 方向中的一端部上之每一邊緣,係與條紋9 2 1之一的邊緣 一致。因而,每一單位區域9 0 1被條紋9 21相等地分隔, 且其因而可減少用以產生如後所討論的描晝資料所需要之 計算數量。 圖5係一方塊圖,顯示圖案描晝裝置1相關於描晝控制 之局部構造。電腦3 1與描晝控制部位3 2均被提供在電機 架1 6中,且一照相機1 5 a被提供在輻照首部1 5之内側, 用以執行在基板9上之校直標記的影像攝像(示於圖1 )。 10 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 電腦3 1具有一 C P U、一記憶體3 1 1及類似物,且光栅化部 位3 1 2,膨脹/收縮率計算部位3 1 3、資料校正部位3 1 4及 資料產生部位3 1 5,,均依據預定程式在電腦31中之CPU 的計算而達成功能。描晝控制部位3 2控制輻照首部15、 首部傳送機構1 5 1及級台傳送機構1 4 1,以因而執行多數 之圖案方塊9 1 1的描晝。 圖6係一流程圖,顯示圖案描晝裝置1在準備供圖案描 晝使用的光栅資料中之作業,且圖7與8均為流程圖,顯 示用以執行圖案描晝之圖案描晝裝置1的作業。於後,參 照圖1至8,將討論圖案描畫裝置1之作業。 在圖5與6的圖案描晝裝置1中,首先,相對應於一 LSI 的影像資料(其係代表包含一圖案方塊 9 1 1之單位區域 9 0 1,且可具有諸如何量格式之任何格式)被準備在記憶體 3 1 1中以做為L S I資料9 3 1 (圖6 :步驟S 1 1 )。L S I資料9 3 1 係由外部C A D系統等所產生之資料。光柵化部位3 1 2經由 分隔由L S I資料9 3 1所代表之單位區域9 0 1執行光栅化, 使產生光柵資料9 3 2並貯存資料在記憶體3 1 1中(步驟S 1 2 與 S13 )。 圖9係顯示光柵化部位3 1 2之作業的圖式。光柵化部位 3 1 2將L S I資料9 3 1所代表之單位區域9 0 1分隔成為分隔 區域9 0 1 a,每一該區域9 0 1 a具有在自(一X )側之主要掃 瞄光向中的預定寬度W1 (步驟S1 2 )。但是,在最(+ X ) 側上之分隔區域9 0 1 b的寬度W 2係不大於W1。然後,光栅 化部位3 1 2光栅化被分隔區域9 0 1 a與9 0 1 b,以產生光柵 11 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 資料9 3 2 (局部描晝資料)在每一分隔區域上(步驟S 1 3 )。 當光柵資料9 3 2己完成準備時,或與光柵資料9 3 2之準 備同時的,卡匣91被裝載在圖1之圖案描晝裝置1中,且 將之置於卡匣座1 1上(圖7 :步驟S 2 1 )。傳送機械手臂 1 2自卡匣91取出一基板9,且傳送基板9至預校準部位 1 3。預校準部位1 3經由預校準而粗略地決定基板9之位置 (步驟S 2 2 ),且傳送機械手臂1 2將基板9置於級台1 4上 (步驟S 2 3 )。 而後,經由級台傳送機構1 41與首部傳送機構1 5 1,在 基板9上之校準標記被順序地放置在輻照首部1 5下方,且 照相機1 5 a執行影像攝像。來自照相機1 5 a之影像資料被 電機架1 6中之影像處理電路(未示於圖5中)所處理,且 精確地獲致在級台1 4之校準標記的位置。一旋轉機構被提 供在級台1 4上,使繞著在Z方向中的軸線些微地旋轉基板 9,並由旋轉機構執行校準(定位),因此,基板9可具有 適合圖案描晝之定向(步驟S24)。 圖5之膨脹/收縮計算部位3 1 3獲取在基板9上之校準標 記的位置,及由影像處理電路所獲致之在基板9定向中的 校正數量(步驟S 2 5 ),並獲致在校準之後的校準標記之位 置,基板 9在主要掃瞄方向與掃瞄方向中之膨脹/收縮率 (即為,主要表面之膨脹/收縮率)(步驟S 2 6 )。 另一方面,資料校正部位3 1 4獲取在圖9之最(一X )側 上之分隔區域9 0 1 a上之光柵資料9 3 2 (步驟S 2 7 ),並根據 偵側膨脹或收縮之該膨脹/收縮率來修正資料(步驟 12 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 S 2 8 )。圖1 0係為用以解釋藉由資料校正部位3 1 4修正資料 之圖。在圖1 0中,該左側分隔區域9 0 1 a代表修正前之狀 態,中央分隔區域 9 0 1 a係對應於在副掃瞄方向之基板 9 膨脹之例子中之修正後資料,且該右侧分隔區域9 0 1 a係對 應於在副掃瞄方向之基板9收縮之例子中之修正後資料。 可由左側與中央分隔區域 9 0 1 a之比較看出,當基板 9 在副掃瞄方向中膨脹時,在分隔分域9 0 1 a内側之副掃瞄方 向(在(+Y)側)中的向前端部上之非圖案區域912的寬 度(在主要掃瞄方向中較長)增加,而圖案方塊91 1之形 狀被維持。可由左側與右側分隔區域9 0 1 a之比較看出,當 基板9在副掃瞄方向中收縮時,在副掃瞄方向中的向前端 部上之非圖案區域912的寬度減少,而圖案方塊911之形 狀被維持。在非圖案區域9 1 2之寬度中的每一改變數量△ L 1 1與△ L 1 2,可經由將副掃瞄方向中之單位區域9 0 1的長 度乘以在副掃瞄方向中之基板9的膨脹/收縮率而獲致。 接下來,當完成在一分隔區域9 0 1 a上之資料校正時,被 校正光柵資料9 3 2被傳送至資料產生部位3 1 5。資料產生 部位3 1 5經由在副掃瞄方向中重複改變分隔區域9 0 1 a產生 描晝資料,如示於圖1 1,換言之,相對應於圖3之一條紋 9 2 1的資料(步驟3 3 )。因此而產生之描晝資料被自資料產 生部位3 1 5傳送至描晝控制部位3 2,且描晝控制部位32 控制輻照首部1 5與級台傳送機構1 4 1,以執行供一條紋用 之描晝(步驟S 3 4 )。在資料產生部位3 1 5中,可產生具有 一格式之描晝資料,其包含在一分隔區域之資料上重複描 13 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 晝的指令。 當完成供一條紋9 2 1用之描晝時,在主要掃瞄方向中的 下一分隔區域9 0 1 a上執行相同作業,且因而系列地執行每 一條紋9 2 1用之描晝(步驟S 3 5 )。然後,開始圖9之最(+ X )側上之分隔區域9 0 1 b的作業,經由資料校正部位3 1 4 獲取分隔區域9 0 1 b (步驟S 2 7 ),且依據在副掃瞄方向中之 基板9的膨脹/收縮率,改變在副掃瞄方向中的一端部上之 非圖案區域912的寬度(步驟S28)。在單位區域901的最 後分隔區域9 0 1 b的情況中,進一步的執行改變在主要掃瞄 方向(在(+ X )側)中的向前端部上之非圖案區域 912 的寬度之資料校正。(步驟S 3 1與S 3 2 ) 圖 1 2係被使用以解釋在主要掃瞄方向中的向前端部上 之非圖案區域 9 1 2 (延伸在副掃瞄方向中)的寬度改變之 圖式。在圖1 2中,上部分隔區域9 0 1 b代表在校正之前的 狀態,中央分隔區域9 0 1 b相對應於在主要掃瞄方向中基板 9膨脹狀的情況中,在校正之後的資料,且下部分隔區域 9 0 1 b相對應於在主要掃瞄方向中基板9收縮的情況中,在 校正之後的資料。 可由上部與中央分隔區域9 0 1 b之比較看出,當基板9, 在主要要掃瞄方向中膨脹時,在分隔區域9 0 1 b内側之主要 掃瞄方向(在(+ X )側上)中的向前端部上之非圖案區域 9 1 2的寬度增加,而圖案方塊91 1之形狀被維持。可由上 部與下部分隔區域9 0 1 b之比較看出,當基板9在主要掃瞄 方向中收縮時,在主要掃瞄方向中的向前端部上之非圖案 14 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 區域9 1 2的寬度減少,而圖案方塊9 1 1之形狀被維持。在 非圖案區域912之寬度中的每一改變數量AL21與AL22, 可經由將主要掃瞄方向中之單位區域9 0 1的長度乘以在主 要掃瞄方向中之基板9的膨脹/收縮率而獲致。 當完成在主要掃瞄方向與副掃瞄方向中之分隔區域 9 0 1 b上之資料校正時,被校正之光柵資料9 3 2被傳送至資 料產生部位3 1 5,於此如圖1 3所示,產生經由在副掃目替方 向中重複改變分隔區域9 0 1 b所獲致的供一條紋9 2 1用之描 晝資料(步驟S 3 3 )。因此而產生之描晝資料被自資料產生 部位3 1 5傳送至描晝控制部位3 2,於此執行供一條紋9 2 1 用之描晝(步驟S 3 4 )。 而後,在被安排於相對應分隔區域9 0 1 b (示於圖3 )之 鄰近條紋9 2 1的副掃瞄方向中之多數單位區域9 0 1上執行 相同作業,且因而在基板9之每一條紋9 21上描晝。當完 成在基板9的全部條紋9 2 1上描晝時(步驟S 3 5 ),基板9 被傳送機械手臂12回送至卡匣91 (步驟S36),且下一基 板9被取出且開始於其上之描晝(步驟S 3 7 )。當完成在所 有被容納在卡匣9 1中之基板9上的描晝時,卡匣91被自 圖案描晝裝置1卸載(步驟S 3 8 )。 在前述之圖案描晝裝置1中,在主要掃瞄方向與副掃瞄 方向中的膨脹/收縮率,均被在每一基板9上偵測,且改變 在主要掃瞄方向中的一端部上及在副掃瞄方向中的一端部 上(僅有供每一分隔區域9 0 1 a之副掃瞄方向中的一端部上 之寬度)之每一非圖案區域912的寬度。於此時,因為圖 15 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 案方塊9 1 1之尺寸被維持,可改變在鄰近之圖 的每一間隙寬度(更正確言之,在主要掃瞄方 間隙寬度與在副掃瞄方向中之每一間隙寬度), 基板9上之每一圖案方塊911的寬度,在主要 副掃目苗方向中被維持。 因為在基板9上之一圖案方塊911的膨脹或 常非常小,經由維持在主要掃瞄與副掃瞄方向 塊9 1 1的寬度,可達成妥適之描晝。換言之, 據基板9之膨脹或收縮而膨脹或收縮之圖案方 晝,由於在光柵化或掃瞄控制之離散化誤差, 變形之可能性,但圖案描晝裝置1不會有該種 在描晝於全體基板9上之圖案係如習知情況 提取或收縮的情況中(即為,經由改變級台之 光束之掃瞄速率),需要複雜的控制,但在圖案 中,因為圖案方塊9 1 1之尺寸未被改變,可輕 在圖案描晝裝置1中,因為僅在相對應於一 上執行光柵化,故與光栅化在全體基板9上描 情況比較,其可顯著減少資料處理之時間。 圖1 4係一流程圖,顯示圖案描晝裝置1之另 案描畫裝置1的構造(結構)係相同於圖1、2 圖1 4係光栅化部位3 1 2事先光柵化全體L S I 1 被光栅化資料貯存記憶體3 1 1中以做為光栅資 況中的示範性作業。圖案描晝裝置1在此一流 同於圖7與8中之流程的作業,除了在圖7的 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 案方塊之間 向中之每一 而被描晝在 掃目运方向與 收縮數量通 中之圖案方 如果執行依 塊9 1 1的描 圖案有局部 問題。 的被機械地 傳送速率與 描晝裝置1 易控制。 LSI之資料 晝之圖案的 一作業。圖 與5所示。 p料9 3 1,且 料9 3 2之情 程中執行相 S26 與 S27 16 587175 之間添加地嵌入步驟S 4 1與S 4 2,且省略圖8中之步驟S 3 1 與 S32。 當在主要掃瞄方向與副掃瞄方向中之基板 9的膨脹/收 縮率,均在圖案描晝裝置1中獲放時(步驟S 2 6 ),資料校 正部位3 1 4在全體單位區域9 0 1上執行校正,使改變在主 要掃瞄與副掃瞄方向中之非圖案區域9 1 2的寬度,而如圖 1 5中所示的維持圖案方塊9 1 1之形狀(步驟S 4 1 )。圖1 5 顯示出在副掃瞄方向中之寬度L 1以△ L 1 3增加,且在主要 掃瞄方向中之寬度L2以AL23減少。 資料校正部位3 1 4依據多邊形鏡2 7的主要掃瞄方向中之 光束的掃瞄寬度,執行分隔所改變之單位區域 9 0 1 (步驟 S 4 2 )。以此一作業,產生相對應於圖 9之分隔區域 9 0 1 a 與9 0 1 b的光柵資料。而後,經由重複產生每一條紋用之描 晝資料(步驟S 2 7與S 3 3 )及描畫每一條紋(圖8 ··步驟 S34),執行在基板9之全體主要表面上之描晝。 在圖14之作業中,因為在每一單位區域901上執行光柵 化,光柵化不會被輻照首部1 5之主要掃瞄的寬度所抑制, 且其因而經由一般電腦3 1之處理,成為易於分離地準備光 柵資料9 3 2。 圖1 6係一方塊圖,顯示電腦3 1内側的另一功能性構造。 圖1 6顯示資料校正部位3 1 4自圖5的構造省略去除之構 造,且於此圖中,未顯示光柵化部位31 2等。至於光栅資 料9 3 2,在分隔之後的單位區域9 0 1上之資料係如圖4的 準備。 17 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 在圖1 6的資料產生部位3 1 5中,光柵資料9 3 2未被校 正,且產生供描晝控制部位3 2控制用的自輻照首部1 5發 射光束及傳送級台1 4之資料,由此,以在主要掃瞄與副掃 瞄方向中之每一非圖案區域912的寬度被改變且每一圖案 方塊9 1 1之尺寸未改變的情況下實行描畫。 精確言之,當基板 9在副掃瞄方向中膨脹時,級台 14 在每次完成描畫一分隔區域901a(或分隔區域901b)時空 缺地傳送,且光束之輻照點被移位至下一分隔區域的描晝 開始位置。在鄰近圖案方塊之間的間隙寬度因而被增加, 而在副掃瞄方向中之圖案方塊9 1 1的寬度被維持。另一方 面,當基板9在副掃瞄方向中收縮時,在完成一分隔區域 上的描晝之前,進行描晝下一分隔區域之處理,且在鄰近 圖案方塊之間的間隙寬度被減少,而在副掃瞄方向中之圖 案方塊9 1 1的寬度被維持。 當完成相對應於分隔區域9 0 1 b之條紋9 2 1上的描畫時, 依據基板9在主要掃瞄方向中之膨脹或收縮控制輻照首部 1 5之傳送,且下一條紋9 2 1之描畫開始位置被控制在主要 掃瞄方向中。其結果,圖案方塊之間的間隙寬度被增加或 減少,而圖案方塊9 1 1之寬度亦被維持在主要掃瞄方向中。 因而,可機械地改變在主要掃瞄與副掃瞄方向中的圖案 方塊9 1 1之間的每一間隙寬度,且該一方法亦允許妥適地 在基板9上描晝。 雖然己於前述中討論本發明之較佳具體例,本發明並不 侷限於前述較佳具體例,而係允許多種之變化。 18 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 光束不侷限於多通道光束,其亦可為單光束。做為光束 之光源,除了氣體雷射或半導體雷射外,亦可使用例如為 一燈、光發射二極體等。經由使用電流計鏡或傳送輻照首 部1 5,可執行光束之主要掃猫。 雖然於前述較佳具體例中經由電腦3 1產生描晝資料,示 於圖5中之所有或部份之功能,均可由一精細電路達成。 可由其他方法執行基板9之膨脹或收縮測量,例如,可 執行分離地發射之另一光束的無接觸測量。基板9上之測 量可在級台1 4以外的某些場地執行。 雖然在前述較佳具體例中的主要掃瞄方向與副掃瞄方向 中之單位區域9 0 1的每一非圖案區域9 1 2寬度被改變,但 仍有圖案方塊9 1 1之寬度被維持在主要掃瞄方向或副掃瞄 方向中,且其之在另一方向中的寬度經由主要掃瞄或副掃 瞄的控制而被膨脹或收縮之情況。尤其,在圖案描晝裝置 1的構造中,可經由控制多邊鏡27之作業與調製光束,妥 適地順序執行在主要掃瞄方向中之膨脹或收縮。 雖然在前述較佳具體例中於光柵資料9 3 2上執行校正, 但也可在LSI資料9 31上執行校正。換言之,僅有如果在 主要掃瞄與副掃瞄方向中之每一非圖案區域9 1 2的寬度可 被實質上地改變,資料校正之方法可妥適地改變。 圖案方塊9 1 1之陣列並不侷限於點陣(即為矩陣)配置, 但亦可使用圖案方塊被校準在副掃瞄方向而非校準在主要 掃瞄方向中的陣列。 適合以一光束在半導體基板上圖案描晝之圖案描晝裝 19 3Π/發明說明書(補件)/92_〇7/92112927 587175 置,亦可被使用在諸如一印刷電路板之其他基板上,於該 印刷電路板上描晝多數之圖案方塊9 1 1。 雖然本發明己被詳細顯示與描述,但前述說明之各態樣 乃僅供顯示而無任何限制性。因此吾人可知在不離開本發 明之範疇下,當可發展出多種修正與變化。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示圖案描晝裝置之立體圖; 圖2係顯示一輻照首部之主要内部結構的圖式; 圖3係顯示一基板之圖式; 圖4係顯示一單位區域之圖式; 圖5係顯示相關於描晝控制之圖案描晝裝置的局部構造 之方塊圖; 圖6係顯示圖案描晝裝置在準備光栅資料中的作業之流 程圖; 圖7與8係顯示圖案描晝裝置之執行圖案描晝用的作業 之流程圖; 圖9係顯示分隔區域之圖式; 圖1 0係被使用以解釋資料校正部位之資料校正的圖式; 圖1 1係顯示一條紋之圖式; 圖1 2係被使用以解釋資料校正部位之資料校正的圖式; 圖1 3係顯示一條紋的圖式; 圖1 4係顯示圖案描晝裝置之另一作業的流程圖; 圖1 5係被使用以解釋另一示範性資料校正的圖式;及 圖1 6顯示在一電腦中之另一功能性構造的方塊圖。 20
312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 (元 件符 號 說 明 ) 1 圖 案 描 晝 裝 置 9 基 板 11 卡 匣 座 12 傳 送 機 械 手 臂 13 預 校 直 部 位 14 級 台 15 輻 昭 首 部 15a 昭 4 相 機 16 電 機 架 21 雷 射 22 光 束 擴 張 器 23 光 束 分 離 器 24 聲 光 調 制 器 25 光 學 單 位 26 鏡 27 多 邊 形 鏡 28 換 向 鏡 29 光 學 單 位 31 電 腦 32 描 晝 控 制 部 位 91 卡 匣 141 級 台 傳 送 機 構 151 首 部 傳 送 機 構 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927 587175 31 1 1己 憶 體 31 2 光 柵 化 部位 313 膨 脹 /收縮率計算部位 314 資 料 校 正部 位 315 資 料 產 生部 位 90 1 單 位 區 域 90 1a 分 隔 域 901b 分 隔 區 域 91 1 圖 案 方 塊 912 非 圖 案 區域 921 條 狀 區 域 922 描 晝 開 始位 置 93 1 LS I 資: 料 932 光 柵 資 料 W1 寬 度 W2 寬 度 LI 寬 度 L2 寬 度 △ LI 1 寬度改變量 △ LI 2 寬度改變量 △ LI 3 $力口量 △ L21 寬度改變量 △ L22 寬度改變量 △ L23 減少量 312/發明說明書(補件)/92-07/92112927
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