TW573234B

TW573234B - Lithographic projection apparatus and integrated circuit device manufacturing method

Info

Publication number: TW573234B
Application number: TW90125915A
Authority: TW
Inventors: Matthieu Frederic Bal; Florian Bociort; Josephus Johannes Maria Braat
Original assignee: Asml Netherlands Bv
Priority date: 2000-11-07
Filing date: 2001-10-19
Publication date: 2004-01-21
Also published as: JP2002196242A; KR100588112B1; JP2005258457A; DE60137301D1; US6556648B1; KR20020035751A

Description

573234 A7 ____________ B7 五、發明説^~i~)' ~·-—-- 本發明係關於一微影投影設備，包含：库田射系統用以供給一輻射的投影光束； ——支撐結構用以支撐一圖樣化構件，此圖樣化構件適合用以根據希望的圖樣圖樣化投影光束；口 -一基板平台用以容納一基板；及 ' 一投影系統用以投射此圖樣化的光束至此基板的一目楞邵分上。項目“圖樣㈣件，，像在此使用的應該廣義地解釋為稱為. 可以用以給予一帶有圖樣化橫截面的進入輕射光束，相當於一被產生在此基板之目標部分的圖樣；項目“光閥，，也可以用在上下文中。通常，該圖樣會相當於在一產生在目標口P刀足兀件中特別的功能層，像一積體電路或其他元件（見下文）。此圖樣化構件的例子包括： _ 一光罩。一光罩的概念已熟知於微影中，且其包括光罩型式，像二元的，交替的相移，和衰減相移，以及各種不同混合的光罩型式。此-在輕射光束中之光罩的放置造成石亚扣在此光罩上足輻射選擇性的透射（在一透射型光罩的情況中）或反射（在一反射型光罩的情況中），根據在此光罩上的圖樣。就一光罩而言，此支撐結構通常是一光罩台，其確保此光罩可以被維持在此入射輻射光束中希望的位置處’且如果想要的話其可以相對於此光束移動。 _ 一可私式化的反射鏡陣列。此一元件的一例是一具有纖 •維彈性控制層之可定址矩陣表面和一反射表面。在此一裝置後面的基本原理是（例如）此反射面的被定址區域反射入 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)

裝玎

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射先成為繞射光，然而，未定址區域反射入射光成為非姑射光。使用-適當的遽光片，該非繞射光可以自反射光束濾除，僅留下繞射光在後面；在此方法中，此光束變成根據此可疋址矩阵表面的定址圖樣被圖樣化。此要求的矩陣定址可以使用適當的電子構件來完成。在此反射鏡陣列上可以收集更多m例如，由美國專利us 5,296,削和 5二523，193，其在此併入參考。就—可程式化的反射鏡陣列而言’孩支撐結構可以被實施如同一框架或平台，例如，其可以依要求被固定或可移動。 _ 一可程式化LCD陣列”匕—結構的-例子給予在美國專利仍5,229,872中，其在此併入參考。如上所述，在此情況中此支撑結構可以被實施如同一框架或平台，例如，其可以依要求被固定或可移動。為了簡化的目的，本文的剩餘部分在特定位置可以特別地指出其本身為包括一光罩和光罩台的例然而，討論在這些例子中的一般原則應該在此圖樣化構件之較廣上下文中看到，像上文中敘述的。微影投影裝置可以使用，例如，在積體電路（iCs)的製造。在此一情況中，此圖樣化構件可以產生一相當於此… 之個別層的電路圖樣，而此圖樣可以成像至一在一已經鍍有一輻射敏感材料（防染劑）之基板（矽晶片）上的目標部分 (例如，包含一個以上的晶粒）。通常，一單一的晶片包含 •相鄰目標部分的整個網路，其經由投影系統連續地發光，一次一個。在目前的裝置中，在一光罩台上使用一光罩圖本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公爱) 573234 五、發明説明（3 ) 樣化，可以造成-差別在二不同型式的機哭之投影裝置之-型式中，每一目標部分被二在微影光罩圖樣至此目標部分上在一趟中；此—3由暴露整個片分節器。在一替換的裝置中裝置一般稱為晶 —每-目標部分被在投影光束下„給定的 W 田装置方向）中逐漸地掃描此光罩圖樣來照射，而，同+万掃描” 板台平行或反平行於此方向；因為，通常，二以田此基具有-放大因子Μ(通常。），此速产 &影系統會處:是:™增罩台被崎的=== 兀仆的貝讯像這裏描述的可以被收集卿92在此併入參考。…例如’從美國專利 —在—使用微影«彡裝置的製造過程中，—圖樣（例如，在先罩中)被成像至一基板上’其至少部分地被一輻射敏感科（防染劑）層覆蓋。在此成像步驟之前，此基板可能遭 2種的程序，像底漆，防染劑塗佈和-溫和的烘烤。曝後，此基板可能受到其他的程序，像後曝光供烤 (ΡΕΒ) ’顯影，一猛烈的烘烤和此成像特徵的測量/檢查。序的陣歹J被用作一基礎以圖樣化—元件的個別層，例如—IC。然後此圖樣化層可以遭受各種程序像蝕刻，離子培植（摻雜），金屬化，氧化，化學機構拋光，等等，所 :的都想要完成一個別層。如果一些層被要求，則整個過程，或一由此的變化，對於每一新的層將必須被重複。最 .f ’兀件的一陣列將出現在基板（晶片）上。然後這些元件 "*由像切塊或蘇開的技術來彼此分開，因此，此個別的長尺反適用中國國家標準(CNs) Μ規格㈣X撕公酱） -8 573234 A7 B7 五、發明説明（4 ) 元件可以架設在一載體上，連接至針，等等。關於此程序《進一步資訊可以獲得，例如，自書“Microchip Fabrication:A Practical Guide to Semiconductor Processing ’’（微晶片製造：半導體製程的實用指南），第三版，Peter van Zant著，McGraw Hill出版公司，1997年，ISBN 0-07-067250-4，在此併入參考。為了簡化起見，此投影系統在下文中可以被稱為“透鏡”；然而，此名詞應該廣泛地解釋為包含各種型式的投影系統，包括折辦光學系統，反射光學系統，反射折射系統，例如。此輕射系統也可能包括，根據這些用以指向，成形或控制此輕射之投影光束的任何設計型式操作的元件，而此元件也可能如下，共同地或單獨地，稱為一 ‘‘透鏡’’。此外，此微影裝置可以是一具有兩個以上基板台（及/ 或兩個以上光罩台）型式的。在此“多階段的”的元件中，此額外的平台可以用於平行，或預備的步驟可以被實行在一個以上的平台，而一個以上其他的平台正被用於曝光。雙重階段的微影裝置被描述，例如，於美國專利5,969,441和 W0 98/40791中，在此併入參考。沒有適合用以製造可用於E UV輻射之折射透鏡的材料是已知的。因此，用於一利用EUV輻射當作投影光束之投影系統必須基於反射光學系統，通常具有多層鍍膜的反射鏡。用於EUV輻射的投影系統已經提出，例如在：“用於 E U V微影之投影照相機的設計方法和比較’’，Lemer等人， .光學工程 39(3)，792-802 頁，2000 年 3 月；W099/57596 (Braat); WO99/57606 (Braat)，美國專利 5,686,728 (Shafer)和美國專利 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）

裝訂

線 573234 A7 B7 iw] 五、發明説明（ 5,815,31〇 (Willi画on)。這些系統有各種的缺點，像遠離遠程计算中心的或具有非常小的工作距離，和一需求存在於替換的系統。在一描述於下的分類系統中，此Braat六反射鏡系、、、先落在等級4 1 ( + )中，而Williamson的六反射鏡設計落在等級45(-)中。由Lemer等人敘述的四反射鏡系統落在等級9( + ) 和1 〇(-)中。由Shafer敘述的六和八反射鏡系統落在等級 41( + )和 165( + )中。本發明的一個目的在於提供用於Ευν輻射之替換及改良的投影系統和設計此系統的方法論。根據本發明的第一個方面，提供一微影投影裝置，包含：一輕射系統用以提供輕射的投影光束；一支撐結構用以支撐圖樣化構件，此圖樣化構件用於根據希望的圖樣圖樣化此投影光束；一基板平台用以支持一基板；投影系統用以投射此圖樣光束至此基板的一目標部分上，其特徵為：居投影系統具有精確地四成像反射鏡在此投影光束的光路徑中且具有一 2(-)，6(-)，或9(-)的入射角分級，c，其中： i=l ai = 1如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是負值 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)

裝訂

線 573234 A7 B7 五、發明説明（ Μ是此投影系統的放大率，及指標i是從物體至影像之反射鏡的編號。根據本發明的第二個方面，提供一微影投影裝置，包含：一輻射系統用以提供輻射的投影光束；一支撐結構用以支撐圖樣化構件，此圖樣化構件用於根據希望的圖樣圖樣化此投影光束；一基板平台用以支持一基板；一投影系統用以投射此圖樣光束至此基板的一目標部分上，其特徵為： S技影系統具有精確地六成像反射鏡在此投影光束的光路從中且具有一 5⑴，6(-)，9(+)，13⑴，18㈠，21(+)，22㈠， 25⑴’ 29㈩’ 34㈠’ 37㈩’ 38(-) ’ 42(-)，或54〇的入射角分級， C，其中： c=iX··2 (6-〇 ί=1 ΜW[ a i = 1如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是負值， apO如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是正值， Μ是此投影系統的放大率，及指標i是從物體至影像之反射鏡的編號。根據本發明的第三個方面，提供一微影投影裝置，包一輻射系統用以提供輻射的投影光束；此圖樣化構件用於根一支撐結構用以支撐圖樣化構件據希望的圖樣圖樣化此投影光束；

573234 A7 _____ B7 五、發明説明（7 ) 一基板平台用以支持一基板；一投影系統用以投射此圖樣光束至此基板的一目標部分上，其特徵為：該投影系統具有精確地八成像反射鏡在此投影光束的光路控中且具有一 2(+)，5(+)，9(+)，12(+)，13(+)，18⑴，18〇， 19(+)，20(+)，21(+)，22(+)，23(+)，25(+)，26(+)，34㈠，36(+)， 37⑴，38㈠，45⑴，46(+)，49(+)，52(+)，53(+)，54(+)，54㈠， 55㈠，58(-)，68(+)，69(+)，73(+)，74(+)，77(+)，82⑴，82(-)， 85(+)，88(+)，89(+)，90(-），92(+)，93(+)，97(+)，100㈠，101(+)， 102(-)，104(+)，105(+)，106(+)，106(-)，107(+)，108(+)，109(+)， 109㈠ ’ 110(+) ’ 11〇㈠，iii(+)，113(+)，116(+)，117(+)，118(+)， 118(-)，120(+)，121(+)，122㈠，123(-)，132(+)，133(+)，134㈠， 137(+)，138(+)，141(+)，145(+)，145(-)，146(+)，146(-)，147(+)， 148(+)，148㈠，149(+)，150(+)，150㈠，151(+) ’ 151 ㈠，152(-)， 153(+)，154(+)，154(-)，155(+)，155(-)，156(+)，157(+)，159(+)， 161(+)，162(-)，163㈠，164(+)，165(+)，166(+)，166(-)，167(+)， 168(+)，169(+)，170(+)，170(-)，171(+)，172(+)，173(+)，174(+)， 175(+)，176(+)，177(+)，178㈠，179(+)，180(+)，180(-)，181(+)， 181(-)，182(+)，182(-)，183(+)，183(-)，184(+)，185(+)，185(-)， 186(-)，187(+)，187㈠，188(-)，189(+)，196(+)，197(+)，201 ⑴， 203(+)，205(+)，209(+)，214(-)，216(+)，217(+)，218(+)，218(-)， 225(+)，228(+)，229(+)，230(+)，232(+)，233(+)，235(+)，236(+)， 237(+)，238(-)，243(+)，246(+)，247(+)，248(+)，250㈠的入射角分 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) Ή

裝

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級，c，其中： 8

C=Z i=l 如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是負值， a二〇如果在第〖個反射鏡之主光線的入射角是正值， Μ疋此投影系統的放大率，及

裝指標i是從物體至影像之反射鏡的編號。明的一貫施例可以包含一四反射鏡投影系統在6(_) 、·及π有0 · 1 5的數值孔徑，一在影像侧介於_228 mm和 -23.8 mm之間的環狀場，和一在波長13 11爪為_〇.2的橫向放大率。此一系統可以具有一 0.972之最小的Strehl比率，一最大0.0266個波的波前誤差，和一 12 nm的最大扭曲。本發明，在第四個方面也提供一使用微影裝置之元件製造方法，包含：

線一知、明系統建構和安排以供給一輕射的投影光束；一第一物鏡平台建構以維持一光罩；一第二物鏡平台建構以維持一基板；及一投景〉系統建構和安排以將此光罩的發光部分成像至此基板的目標區域上；此方法包含以下步驟：提供一包含一圖樣的光罩給該第一物鏡平台；提供一至少部分地被一輻射敏感材料層覆蓋的基板給該第二物鏡平台；發光此光罩的部分和將該光罩之發光的部分成像至該基板的該目標區域；其特徵為： -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 573234 A7

在此成像步驟中，一如描述於上之第一，方面之任一個定義的投影系統被使用。弟二種在一使用-根據本發明之微影投影裝置的製造在一光罩中的圖樣被成像至―基板上，其至少部分’ 輻射敏感材料(防染劑)層覆蓋。此成像步驟之前，

裝可能遭受各種程序，像底漆，防染劑塗怖和一溫心曝先f ’此基板可能受到其他的程序，像後曝光烘烤 (PEB)，顯影，一猛烈的烘烤和此成像特徵的測量/檢查。此程序的陣列被用作一基礎以圖樣化一元件的個別層，例

::一1C。然後此圖樣化層可以遭受各種程序像蝕刻，離卞培植（摻雜），金屬化，氧化，化學機構拋光，等等，所有纟都心要；^成一個別層。如果一些層被要求，則整個過 _或由此的變化，對於每一新的層將必須被重複。最後，兀件的一陣列將出現在基板（晶片）上。然後這些元件筹曰由像切塊或銀開的技術來彼此分開，因此，此個別的兀件可以架設在一載體上，連接至針，等等。關於此程序 ^ v貝p凡可以獲仔’例如，自書“ Microchip Fabrication:A

Practical Guide to Semiconductor Processing”（微晶片製造：半導體炎程的男用才曰南）’第三版，Peter van Zant著，McGraw Hill出版公司，1997 年，ISBN0-07-067250-4。雖然特別的參考可以適合在本文中之ICs製造中根據本發明之裝置的使用，應該明確地暸解此一裝置具有許多其他可能的應用。例如，其可以用於積體光學系統的製造，用於磁場範圍記載體的導引和偵測圖樣，液晶顯示板，薄膜 -14- ^紙張尺度關家標準(CNS) ϋ規格297公釐） 573234 玉、發明説明（10 ) s -- 磁頭，等等。有技術的技工會知道，在此替換之應用的上下又中，任何在本文中名稱“十字線，，，“晶片，，或“晶粒，，的使用應孩考慮為被更普遍的名稱個別地是“光罩，，，“基板，，和“目標邵分”取代。在本文件中，名稱“輕射”和“光束，，被用來包含所有裂式的電磁輕射，包括紫外線輕射（例如，具有—3 6 5，248， 193，157或126 nm的波長）和Euv(超紫外線，例如，具有一波長在5-20 nm的範圍内），和粒子光束，像離子束或電子束。 …本是明_口其伴隨的優點將描述於下關於範例的實施例及伴隨的圖例，其中·· 、圖1描述一根據本發明之第—實施例的微影投影裝置；圖2為一用以解釋本發明之入射角分級系統的圖；圖3為—顯示用於本發明之厚度及曲率定義的圖；圖4為-用以解釋在—反射鏡設計中光束障礙是如何決定的圖；、圖5為-用以解釋料的限制如何應用於設計根據本發明 (反射鏡系統的圖；至19是根據本發明的各種實施例之反射鏡系統的圖。在各種的圖中’相同的元件用相同的參考數字。元件符號說明 α 入射角 ΑΜ 調整構件 c 基板w之目標部分 -15- I紙張尺度適標準(CNS) X 297公釐） 573234 A7 B7 五發明説明（11 ) C 曲率 CO 冷凝器 CR 主光線 d 距離 G 限制條件 I 反射鏡 IF 干涉量測構件 IL 照明系統（集光鏡） IN 積分器 J 反射鏡 LA 輻射光源 M 反射鏡 MA 光罩 MT 光罩平台〇A 光軸 PB 輻射的投影光束 PL 投影系統（“透鏡”） PM 定位構件 PW 定位構件 W 基板 WT 基板平台實施例1

裝訂

圖1圖解地描述一根據本發明之一特別實施例的微影投影裝置。此裝置包含： -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐） 573234 A7 B7 五、發明説明（l2 ) •一輻射系統E X，IL，用以供給一輻射的投影光束P B (例如’ Ε ϋ V輻射），其在此特別的情況中也包含一輻射光源 LA ； • 一第一物平台（光罩平台）ΜΤ備有一光罩支架用以支持一光罩ΜΑ(例如，一十字線），並連接至第一定位構件？… 用以相對於項目p L精確地定位此光罩； • 一第二物平台（基板平台）WT備有一基板支架用以支持一基板W(例如，一防染劑覆蓋的矽晶片），並連接至第二定位構件PW用以相對於項目Pl精確地定位此基板； •一投影系統（“透鏡”）p L (例如，一反射鏡群）用以將此光早ΜΑ的照射部分成像至此基板w的一目標部分c (例如，包含一個以上的晶粒）。如在此所描述的，此裝置是一反射型式的（亦即，具有一反射光罩）。然而，通常，其也可以是透射型式的，例如（具有一透射光罩）。選擇地，此裝置可以使用其他種的圖樣化構件。像一如參考上述之一型式的可程式化反射鏡陣列。光源LA(例如，一放電或製造雷射電聚光源）產生-輻射光束。此光束被送進一照明系統(集光鏡)il，不是直接就是之後穿過調節構件’例如像—光束擴增器Εχ。此集光鏡 IL可以包含調整構件ΑΜ用以設定在此光束中強度分佈的外及/或内徑的寬度（通常個別地稱為。外和心内）。此外，其通常包含各種其他的元件 1干像一積分器IN和一冷凝器 C 0 0在此方法中，擔名亦宮w Λ 罩Μα上的光束ρβ具有一希望的一致性和強度分佈在其橫截面中。本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格 m 裝線 -17- 573234 A7

力广須注意關於圖i，光源…以在此微影投影裝置的框 ^里面（像通常的情況，例如當光源LA是-水銀燈時），但是其也可以是遠離此微影投影裝置，此輻射光束產生被送、安裝置中（例如，用適合之指向反射鏡的幫助）；後者的木疋通^的N況，當光源L A是一以dmer雷射時。目前的發明和專利申請範圍這兩種方案。光束PB隨後截取光，其維持在—光罩平上。已經被光罩MA選擇地反射，光束pB通過透鏡^，其將光束PB聚焦至此基板w的—目標部分c。用此第二定位構件 pw(和干涉量測構件IF)的f㈤，此基板平台wt可以精確地被移動，例|，以至於定位不同的目標部分〇在此光束 PB中。類似地，此第一定位構件pM可以㈤以精確地定位光罩MA相對於光束PB的路徑，例如，此光罩“八自一光罩庫之機械的取回後，或在一掃描中。通常，物平台mt， WT的移動會藉由—長沖程模組（粗定位）和—短沖程模組 (細定位）的幫助而實現，其未明確地描述於圖丨中。然後，就一晶片的分節器（像不同於一步驟及掃描裝置）而言，此光罩平台ΜΤ剛好可以被連接至一短沖程啟動器，或可以被固定。此描述.的裝置可以被用於兩個不同的模式： 1·在步進模式中，此光罩平台ΜΤ實際上保持固定，而一整個光罩影像被投影在一處（亦即，一單一的“閃光”）至一目標邵分C上。然後此基板平台▽丁被移動在乂及/或^方向使彳于一不同的目標邵分C可以被光束ρ β照射； -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(21〇X 297公酱） 14 五、發明説明 .2·在掃描模式中，實際上應用相同的方案，除了一給定目標部分c未曝光在一單一的“閃光，，中。替代地，此光罩平σ Μ T可移動在—給足的方向（所謂的“掃描方向”，例 t二万向)用-速度ν ’使得此投射光束ΡΒ造成以掃描涵盅-光罩影像’·同時地，此基板平台资同時地以—速度 V = Mv被移動在相同或相反方向，纟中m是透飢的放大率（典型地’ 1/4或1/5)。在此方法中，—相當大的目標邵分C可以被曝光，而不必妥協於解析度。反射鏡系統分級象不1月，一 11個反射鏡的反射鏡系統藉由參考反射光束的万向相較於入射光束在每一反射鏡表面來分級。已經定義此物冋度沿γ轴是正的和一適當的參考平面，例如，此平面包含投影系統的光軸2和丫軸（如圖丨中所示），在一反射釦處的王光線CR被定義為具有一正的入射角α，如果介於此表面的法線和入射線之間的角度是反時鐘的（如圖2中所π )和一負的入射角如果法線和入射線之間的角度是順時鐘的此外，應違檢視此沿一正X方向的參考平面，此X， Υ，Ζ方向組成一右手直角座標系統，如圖丨中所示。此主光線被足義為形成自此物點的光線，其通過光圈的中心而因此也通過入瞳和出瞳的中心，亦即，在一距光軸高度等於零。（NB此分配是任意的，此方案可以用任一被認為是正之反射的相對方向來實現，提供此分配是一致的。）藉由分配二進位數字“1”為此主光線之一負的入射角和“ 〇，，為一正的入射角，一反射鏡系統被分配一二進位數字由此分配 -19- 573234 A7 B7 五、發明説明（15 ) 至此系統中每一反射鏡之二進位數字的序列所定義沿著自物體至光源之光束的光路徑。為了方便，這個二進位數字表示為小數點的記號法。此入射角分級系統的各種等級更具有特徵為顯示此系統之放大率的符號。在此處，藉由自分級數字後的括弧内之適當符號來表示，例如，6 (-)。此符號藉由放大率M除以其絕對值| Μ I而獲得。一系統具有正的放大率如果物和像在光軸的相同側，和一負的放大率如果其是在相反側。此小數點的入射角分級，c，因此可以表示為： c=ih.2 ⑴ 其中· a i二1如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是負值， ai二0如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是正值， Μ是此投影系統的放大率，及指標i是從物體至影像之反射鏡的編號。圖2表π入射主光線CR和反射鏡“的四種可能的安排。在A中入射主光線由左至右移動且有一入射角以〉〇，所以 ai二〇。在Β中入射主光線由右至左移動且有一入射角α<()，所以ael。在c中入射主光線由右至左移動且有一入射角 α>〇，所以ai = 0。在D中入射主光線由左至右移動有一入射角α<0，所以ai引。注意，雖然顯示凸面反射鏡，相同的分配適用凹面或平面反射鏡。田此入射角分級C未完全地定義一反射鏡系統時，一系統的基本佈局是固有地在其入射角分級。藉由參考是否在一 -20-

573234 A7 _____ B7 五、發明説明（16 ) 給足反射鏡處的反射是正或負，該反射鏡的方向和此之後反射鏡的位置，此光束之上或下，可以被決定。因此一給定的分級數字可以被一反射鏡系統的設計者使用以在該系統的最佳化之㈤開始此系統，例如，商業上可應用的光線追跡軟體像CODE V(TM)由光學研究協會，Pasadena，Calif〇mia， USA。應該注意先前反射鏡系統的分級基於是否在此系統中之反射鏡的曲率，和由此的功率是正或負，未給予任何關於一反射知系統佈局的資訊。也應該注意，一給定反射鏡系統之入射角分級可以輕易地由此光束路徑的簡單檢查來決定。使用上面的分級系統和數值的模擬，本發明者已經決定只有特定等級包含反射鏡系統可使用作一微影投影系統中的投影系統。對於四反射鏡系統，可行的投影系統存在於等級2(-)，6㈠，9(+)，9㈠和10㈠。對於六反射鏡系統，可行的投影系統存在於等級5(+)，6〇，9(+)，13⑴，18㈠，21 (；+；)，22〇· )’ 25(+) ’ 26(-)，29(+)，34(-)，37(+)，38(-)，41(+)，42(-)，45(+)，和 54㈠。對於八反射鏡系統，可行的投影系統存在於等級 2(+)，5(+)，9(+)，12(+)，13(+)，18〇)，18㈠，19(+)，20(+)，21(+)， 22⑴，23(；+)，25(+)，26(+)，34㈠，36⑴，37⑴，38㈠，45(+)， 46(+)，49.(+)，52〇f)，53(+)，54(+)，54(-)，55(-)，58(-)，68(+)， 69(+)，73⑴，74(+)，77⑴，82(+)，82㈠，85(；+)，88(+)，89(+)， 90(-)，92(+)，93(+)，97(+)，100(-)，101(+)，102(-)，104(+)，105(+)， 106(+)，106(-)，107(+)，108(+)，109(+)，109(-)，110(+)，110(-)， 111(+)，113(+)，116(+)，117(+)，118(+)，118(-)，120(+)，121(+)， -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）

裝訂

573234 A7 B7 五、發明説明（17 ) 122(-)，123㈠，132(+)，133(+)，134(-），137(+)，138(+)，141(+)， 145(+)，145㈠，146(+)，146(-)，147(+)，148(+)，148㈠，149(+)， 150(+)，150㈠，151(+)，151㈠，152(-)，153(+)，154(+)，154(-)， 155(+)，155(-)，156(+)，157(+)，159(+)，161(+)，162(-)，163㈠， 164(+)，165(+)，166(+)，166(-)，167(+)，168(+)，169(+)，170(+)， 170(-)，171(+)，172(+)，173(+)，174(+)，175(+)，176(+)，.177(+)， 178㈠，179(+)，180(+)，180(-)，181(+)，181(-)，182(+) .，182(-)， 183(+)，183㈠，184(+)，185(+)，185(-)，186(-)，187(+)，187(-)， 188(-)，189(+)，196(+)，197(+)，201(+)，203(+)，205(+)，209(+)， 214(-)，216(+)，217(+)，218(+)，218(-)，225(+)，228(+)，229(+)， 230(+)，232(+)，233(+)，235(+)，236(+)，237(+)，238(-)，243(+)， 246(+)，247(+)，248(+)，250(-)。設計方法論如上所述，一給定的等級定義一對於反射鏡系統的輪廓佈局，為此一功能性的投影系統可以被設計。根據本發明之方法論用於此一設計程序描述於下。在此根據本發明的設計程序，在一系統中的反射鏡被“厚度”和曲率所定義，定義如圖3所示。（NB項目“厚度”被類似的折射系統所使用，其通常根據表面曲率來定義，表面之間的厚度和表面之間媒體的折射率。）因此，厚度d〇是物，在一微影裝置中投影系統之本情況中的光罩ΜA，和具有光軸Ο A之（擴大成像的）第一反射鏡M i之交叉點之間的 •距離。此（擴大成像的）第一反射鏡Μ !和此具有光軸Ο A之 (擴大成像的）第二反射鏡M2之交叉點之間的距離是d丨。注 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） 573234 A7 B7 五、發明説明（is ) 意，因為此第二反射鏡位於第一反射鏡和物（光罩“八）之間，厚度h是負值。通常，厚度di是具有光軸〇A之反射鏡M i和反射鏡Μ丨+ i之交叉點之間的距離。對於—n個反射鏡的系統，厚度dn是最後一個反射鏡Mn和像平面之間的距離，其中基板W置於一微影投影裝置中。在描述於下之特定的實施例中，給定一額外的厚度dn +】，此表示使用一第一階近似計异和使用一真實光線追跡運算法則之影像的位置之間的距離。在一第一步驟中，此設計方法在若干限制下藉由使用一描述於下的近抽趨近來識別可能的系統。那些系統應該不會出現黑暗化，也進一步說明於下。此近軸趨近和限制產產生一限制的變數數目，其被取樣以識別解決方法。在進一步的步驟中，那些解決方法使用一真實光線追跡法來檢驗，參考上文’其中此近軸假設不會出現，且其中反射器的多層鍍膜也可以被模仿。近轴趨近 . 本發明已發展一趨近於設計反射鏡系統其開始於一使用矩陣形式主義之反射鏡系統的軸向近似。自一軸向近似中，一角度的正弦函數近似為此角度，亦即，sina = a，且是考慮此反射鏡是平的，而一反射鏡的真實曲率僅考虞影響一入射光線的角度，不是其具有被認為“平的，，表面的交叉點。 5，Frank 和，在此併入在一矩陣的形式主義中，像描述於“光學介紹

LenoPedrotti 著，Prentice Hall 1993 ; ISBN : 0135015456 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公 573234 五、發明説明（19 射和反射(及/或在—異折射光學中的繞射或續一…積所組成之光學系統的描述’ Μ' trans Μ refl' d. • 2.c. 其中，h是至下一表面的距雖、 7跑雊而此表面的曲率Ci，如果此球的中心是在此表面右側的 1 , " 八為正。一光線的路徑由一尚度（距光轴的距離）和一角广彡& 、 ^ 月度組成的向量：[高度，角度]所給予。此向量與一個以上矩束兜|早的乘法在相關的透射和反射後給予此光線。此系統矩陣是此系統中所有矩陣的乘積。第—矩陣是第 :表面的反射矩陣，倒數第二的矩陣是在最後反射表：：前厚度的透射矩陣和最後.的矩陣是最後反射表面的反射矩陣。此等效焦距，後焦距，I焦距和近抽像距可以由以下的系統矩陣導出。如果此系統矩陣定義為： Μ system: d (4 則等效焦距為： efh 後焦距為： -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） (5 573234 A7 B7 五發明説明（2〇 bfi=-- c前焦距為： ⑹ ⑺ 和近軸像距，亦即，最後反射表面和像平面之間的距離為： u .d + b ο d 二 n cJo+d其中， ⑻ 率 ,_ad—cb—magn .d a〇 ------：- magn . c 而m a g n是此系統的放大對於此系統之第一部分的系統矩陣，從物平面至光圈（光瞳）可以表示為：使得此距離 kst] (9) clst ^lst

Le叩up，至入瞳由下式所給予·· ΐ5ί ^ d Γ1 L _ 0 (ct .L + b ).yi K 1st enpup 1st enpup 0 67lpUp •〇1 L 」 A (c L d \A v 1st enpup 1st enpup— A _ enptip_ L '卿」 (10) 此系統的第二邵分，從光圈至像表面可以表示為 Mind a2nd ^2nd _c2nd ^Ind.

使得此距離 L L expup，至出瞳由下式所給予： Ο (11) expup 〇 2nd 2nd C ά 2nd 2nd

A stop {b +L d \A · 2nd expup lndJ stop D，a.A 2nd stop "0 " A _ exp«p_ (12) -25 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） 573234 A7 B7 五、發明説明（21 ) 至入瞳和出瞳的距離，如果Aenpup#〇，則被給予

L b 1st enpup

and L b 2nd 1st exP«P d 2nd (13) 限制條件以上所給的，各種必須應用於此系統中的限制條件可以用以決定用於此系統之特定表面的曲率和厚度的方程式，像此限制條件和其他曲率和厚度的函數。某些舉例的限制條件G 1至G 4顯示於圖5中。一第一限制條件G1是來自在物側遠心的最小偏差其仍然能夠使物體的照明不晦暗，其可以決定此第一表面的曲率或反射鏡1和2之間的厚度。另一個限制條件，在影像側疋凡美的逆心，其可以決定最後表面的曲率或最後及倒數第二個反射鏡之間的厚度。此遠心的要求等於出瞳在無限遠的要求。物和像共軛和具有一規定之橫向放大率值的要求固定此物（G2)和像（G4)距的值。物距G2，第一厚度，可以被解為此系統之希望放大率的函數··近軸像距立即被插入在像平面之前表面的厚度中，且物距被修正以滿足：物高：、 (14) 在目前的微影裝置中，Μ通常設為±〇 2〇或±〇 25，亦即，由一個別地5或4的因子約分。一來自在物侧遠心的最小偏差在微影中是一重要的要 -26- 573234 五、發明説明（22 求。此反射物體（光罩MA)用一來自輻在物體處的主光線角必須是使得此入射照^ 議進入此投影系統的光束。此主光物：二，上物m起應該幾乎切且脚小於或大於零，以滿足此二要求。對於在影像側：迩心，此主光線相對於光轴的角度必須是零。此最後反射鏡的尺寸快速增加為此影像和最後反射鏡之間距離的函數’由於相當大的數值孔徑。一具有零或偶數個中間影像的系統具有一負的放大率。要有-帶有正放大率的整個系統，中間影像的數目必須是奇數。在物側的工作距離是物平面和最接近物體之表面之間的取小距離’大部分時是第二反射鏡。在影像側的工作距離是像平面和最靠近影像之平面之間的最小距離，經常是倒數第二個反射鏡。此工作距離提供空間給反射鏡支撐和給此物體及像的移動和必須不太小。應用上面限制條件在一六反射鏡系統的例子描述於下。此可以使用像 Waterloo Maple Inc.(57 Erb Street W. Waterloo，Ontario Canada N2L 6C2)生產的Maple(TM)軟體來實際上被實行。首先是用於一六反射鏡系統之公式的偏差，但是此公式也對於其他反射鏡數目有效，使用近轴趨近。在矩陣表示法中，一光線被一向量所定義：[高度，徑向角度]。在一距離七之後，此光線[y，a]會是： y + d{a (15) -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） m 裝線 573234 五、發明説明（23 A7 B7 使用方程式（2)所給的矩陣。一具有曲率q之反射鏡不同的角度：之後’光線[y，a ]會具有相同高度但 .-2 ay. 使用方程式（3)所給的矩陣。要導出以後用的公式’首先反射鏡5和6之間的距離藉由要求在光圈表面中通過光軸之光線的影像中的遠心來解出。 ϋ下矩陣A是自光圈表面至第五反射鏡之後，當我們並不知通光圈將位於何處時，我們得到一未知的2乘2矩陣： (16) A := 由第五反射鏡，我們行進一距離丨a至第六反射鏡是待解的變數。 (17) a現在 L6: la (18) 矩陣M C是弟穴反射鏡表面的 MC: 1 01 JLc6 -1 (19) 通過光圈中心具有任意角度ap的光線是 r：= 在第六反射鏡之後的該光線將會是本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） -28- (20) 573234 五 A7 B7 發明説明（24

Vjmage := (b + la d) ap ' (_2 c(5 6 + (_2 c6 la_\)d)ap 其中此角度等於零因為被要求遠心且對於反射鏡五和二間距離1 a的解〇 p 1現在是： / (21) 之 op/ := 一 1 2c6b + d 2 ~Τβά ~ 光圈表面至第六反射鏡之後現在是·· (22) \2c6ad—2c6bc—cd 1 τ β:= c6 d (d a 一 b c) (23) 下一個解是物和第一反射鏡之間的距離d和對於物和_ 射鏡之間之主光線（通過光圈中心）之角度的解乂 &。 ★反在冲有希望之角度ya之物點y〇b中的光線Ya由下向量所給 Υα: •yob ya 而由矩陣’物和第一反射鏡表面之間的距離1 L ：= 此第一反射鏡表面為·· MC:- 0Ί (24) (25)

Jlcl 此第—反射鏡和第二反射鏡之間的距離m為： (26) M- (27) -29- 573234 A7B7 五、發明説明（25 此由第二反射鏡表面至光圈位置之未知矩陣被 (e-2{em^C^y〇b+((e.2(em+J)cJ)l_em^j)ya -l^-2(sm + h)cl)y〇b^((g_2(gm + h)cJ)l^gm^h)ya在光圈表面中的主光線現在是：定義為 (29) A := 而在影像中的主光線是··

—ώ α bc~ rA\ F \ dhS {(\ {lc6 qJ-2<6 be- cd)e U^{2c6 ad^1(6 b c - c d) e X d , c6 d c6 d (28) cl \y^ c6 d 2 c6 (+ίί1_±^/~2 c6 be- c d)f <6 d \ dhy 2 <£ j (\ {2 c6 a d - 2 (6 b c ~ c d) e 1 J g ) I(2c6ad-2c6bc~cd)/ c6 ) 2 c6 {d a - b c) e f <£ {d a - b c) e m <£ {d a - b c) f c6 d c6 d (30) 此在影像中之主光線的鬲度是由定義m a g n *在物表、、 Y的高度（yob)，我們由方程式（3㈨解！以強制此減低至系统終予： 7; 一 [2yoh e$ad 一 2yob ec6bc 一 yob ecd—y〇b d2g 一今 yob cl mec6ad ^yώ cl me ώ b c + 2 yob cl me c d+ 2y〇b cl m d g^ yob cl f 〇6 a d ^ a. 1 r 2 ^ Clfc6bf + 2 γώ cl f c d + 2 yob cl d h - 2 ya m e c6 a d + 2 ya m e c6 b c + yz meed + 0 於 m d2。 2 g -2y^fc6ad+2yzfc6bc + yafcd + yid b - 2 rragn yob c6 d) / ^(2ec6ad-2ec6bc~"ecd-d g-4c/ mec6ad+4 cl m e c6 h c + 2 + 2 cl m d g'-A cl fcSad+A cl f c6 b c 2 cl f c d ^ 2 cl h) yt) cl e c d 30- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） (31) 573234 A7B7 五、發明説明（26 而在方程式（29)中我們強制在光圈表面中此主光線的高度為零，同樣地由定義其應該解此距離m : Y，pjn'= 一一 e+lyobfd 一 ya le+2ya Ifcl+yaf ~~ — e{2yobci + 2yacl l + ya)對於此第一和第二反射鏡之間距離m的解，現在變成： 1 f cl magn yob c6 +2 e magn yob c6 _ e ya d h + yaf d g (32) eel magn yob c6 (33) 對於物和第一反射鏡之間距離1的解現在是： y ima^P /.= 1 yafdS+ 2 dyob clfg_eyadh^2 d e yob cJ h + 2e magn yob c6 一 2 ~~ ya (f g- e h) cl d 一 (34) 我們在方程式（2 5)和（27)之矩陣L和m中替換剛導出的表示 Μ ：= \ 一4 fc! magn yob c6 + 2 e magn yob c6 一 eya d h + ya fd σ· 4 e cl magn yob c6 " 一 -- 1 yafdg+ 2 dyobclfg_ eya d 2d eyob cJ h 2 e ma^n vob c6 2 "" 1 (35) ya{fg—eh)cld 1 (36) 和像一檢查，我們用新的表示計算第六表面後的主光線。我們看到，角度總是零且高度是物高度乘以放大率。 "~magn yob' YJmage := 一 Ο (37) 最後的解是最後-個反射鏡表面和影像表面之間的距離η。在此影像表面中’所以來自於相同物點的光線一起進來至本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 573234 A7 B7 五、發明説明（27 ) 一點具有一高度=放大率*物高。首先，我們定義一來自於物點yob和任意角度yb的光線 Yb。

Yb- yob yb, (38) 0 η N：· (39) 在此影像中，此光線Yb會變成： Y_hm^ ：= 1 2 2 2 2 2 ? 2 2 ? [一 d y1 + g d ey^ h- d" e ya h + lybe ώ a d yi h - ^ φ rmgn yob c6 ^ e 22 22 22222 -^ φ e n c6 daytb+4ybe n c6 b c yt h + e c d yi h ~ 4 e n c6 b c ya b 2222 22 ? 2 + 4 f n c6 d a yt h + 2 e c6 b c yi h - 2 e ώ adyx 一 h— lyb e c6 b c yz h 2 2 2 -4 yt d cl ?mgn yob c6 e h + 4 yb d cl rm^i yvb ώ e h - -yb e c d yt h + f g ^d yt+fg^ecdyi 2 2 ? -A f g e n c6 d a yt + 2 f g e c6 b c yz - 2 f g e c6 b c yt ^ - 4 f. g yb d cl rm^n y^b c6 2 r 2 2 2 + 2 f g e c6 a d yt + 4 f g γι d d πηψ \ c6 + A f g e n c6 b c γι ~ f g e c d ya 2 2 / 2 + 4/g yb e nc6^ d a yt ~ 4 f g yb e n c6 bcyx~2fg^ec6adyx) / (yz mzgn e c6 ) (~yt + -yb ) [f g ~ eh) {da - be) - rra^i _ (40) 對於此影像距離n的表示是，給予此影像高度等於 magnyob : 1 2 2 2 2 Y imt^ η :=--(~d g e γι h + 2 e c6 a d ya b - 4 rm^i yob c6 e+2ec6 bcyifg 4 2 2 -A d g f cl rrn^i yob c6 - 2 e c6 b c ya b+ecdytfg + Adhc6 e cl rm^n yob - e c d yi h 2 9 / 2 + d -ya f - 2 e ώ a d yt f g) / ((-e d a h + e b c b + f g d a - f g b c) e c6 ya ) (41) -32- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐）

線 573234

光圈在及真現在我們用這迆衍生在、位置在反射鏡二：-Λ二解決一具有光圈一〜/、反射鏡系統的變數， 1二[如成似朮成牴必]和曲率疋我尽度為 / 卜 1、為· —[cl，c2，c3，c4，c55c6] 〇亦阴(先)位置是在第二表面上。先圈在匹兹瓦總和（亦即，系統中曲率 I自偶數表面的曲率減去，或反之亦然）上的=== ::可以被引入和使用以解出此光圈表面的曲率。然而疋巧總和不是必要的且-非零值可以被接受。反射率（偶數下標）現在我們足義在此系統中所有的矩陣和透射率（奇數下標）矩陣，由物至像。 d(n 「1〇· Jlcl r Λ/β ：= m5 ：= Μη ：- M9 ~

M 11::

M 13 := d! d2 d3 ά4Λ d5 1 d6 M4r- M6:= :=

M 10 ;= 12 : ' 1 0Ί 一2c2 · 1 〇l -2cJ · 1 01 Jlc4 -1 1 01 .2 c5 -1 1 〇- 2 c6 -1 (42) 此第一解是出瞳在無限遠或在影像中的遠心。在影像中逍過在此光圈表面中光軸之主光線的角度應該是零。由光

-33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公D 573234 A7 B7 五、發明説明（29 圈表面至第五反射鏡的矩陣產生自上面剛推導之適當Μ矩陣的乘積’給予自： C1 1^5(1 ί (_2^ (? ^^cS)2 l V/l3 d2~l) + Ci4 ('2 ^ ("2 (-2 ^ ^ - 1» - 2 Ci"2 - 1)] ~ ~ C + + +\)) + 2c4{d2 + d3{^cSd2_\))_2c3d2^\] (43) 從第二反射鏡表面至光圈表面的矩陣給予自： 0Ί _2c2 (44) 一要我們推導反射鏡5和6之間的距離，我們解此新發現的值在距離的適當矩陣和向量。 1 2( 4c6(i3c3ci2~2c6£i3~^c6d4ci<i2 + ^c6cl4c4Sc3e£2+-{〇6d4c4cO+^c6iUdct2+2c6cU-2c5cl2+^c5iDdd2+20S+A0d4c*ct2 :二^ 占-20“2以一…办-—…占- C d(i2^2c5{i3^A0ci4〇fct2^^cSdiciS0ct2^^c5cUad3^A0ci40ci2^20d4^2c4d2^^c4d}0d2^2c4S+2c3dl^i)) (45) 此反射鏡一和二之間的距離推導為： dl (-2c5 {d2+d3Ulc3 lc4 (d2+d3(^lc3 d2-l))+2d d2 + l)) + 2af (d2+S(-2c3 d2-l))-2d d2-l) cl rm^t 'yob c6 (46) 而物和第一反射鏡之間的距離是 2 (_2 d (Λ(_2 d ώ _ 1) +冶（j β (ώ(-2 d ώ ·_ 1))+2 c? ώ + 1))+2 β (ώ(-2 d Λ - 1)) _ 2d ώ _ 1) I +dJI<~^ ^-l)+d4{^2c4 {cQ +d3(-2c3 c^-\)) + 2d d2 + i))+2c4 (d2+d3(-2d d2-l))-2c3 d2-l)) 反射鏡六和影像表面之間的距離是： -34 - (47) 573234 A7 B7 五、發明説明（3〇 ) d6-^{2 angle (l d3 c3 + d4 {-2 c4 (l d3 c3)+ 2 c3)) c6 ( __2 c5 {d2 + d3 {Jlc3d2^\) + d4 (_2 c4 {d2 + d3 (_2 c3 d2 - 1))+ 2 c3 d2 + 1)) + 2 c4 [d2 + d3 [-2 c3 d2 — \ )) — 2 c3 d2 — V) — 2 angle {Jlc5{ \- 2d3 c3+ d4{Jlc4{\-2d3c3) + 2c3)) + 2c4{\-2d3c3)^2 c3) c6 {d2 ^.d3 (J2c3 d2 -l) + d4 (_2 c4 {d2 + d3 {J1 c3 d2 ^.1))+ 2 c3 d2+\)) ^ angle {Jlc5{\^2d3c3 + d4{Jlc4{\-2d3c3) + 2c3)) + 2c4{\-2d3c3)^2c3){ 一2 c5 [d2 + d3 [—2 c3 d2 — \ ) + d4 {—2 c4 {d2 + d3 [一2 c3 d2 — \ + 2 c3 d2 + I)、 + 2c4(d2 + d3 (_2 c3d2^.l))_2c3d2-\) + 2 angle ( _2 cJ (d2 + d3 (_2 c3d2^l) + d4 (_2 c4 (d2 + d3 (_2 c3 d2 ^ 1))+ 2 c3 d2 + l)) + 2c4{d2 + d3{Jl c3d2^.\))_2c3d2^\)2 c2 + 4cl ( _2 c5 (cI2 + d3 {J1 c3d2-\) + d4 {J1 c4 {d2 ^.d3 {J1 c3 d2 ^1))+ 2 c3 d2+l)) + 2c4(d2 + d3(^2c3d2^.l))_2c3d2-.l) magn yob c6 magn2 yob c62) ^ (( (-2 c5 (l - 2 d3 c3 + d4 (.2 c4 (l d3 c3) + 2 c3)) + 2 c4 (l d3 c3)-2 c3) (d2 + d3 (_2 c3d2-.l)^d4(^2c4(d2 + d3(J2c3d2^l)) + 2c3d2 + l))-( _2 (i/2 + 必（_2 — 1) + 必（—2 β (心 + 必（_2 c3 β — 1)) + 2 β β + 1)) + 2c4(d2 + d3 (_2 c3d2^\))__lc3d2-\){\^2d3c3 + d4{Jlc4{l^2 d3 c3) + 2 c3))) c62 angle) (48) 此可變的角度等於ya自上面的方程式（24)導出。 iAAAJ弟UL圈在反射鏡3上原始的推衍可以類似地用以解決一具有光圈位置在反射鏡二上之六反射鏡系統的變數，如現在將要顯示的。此第一解是光瞳在無限遠或在影像中的遠心。通過在此光圈表面中光軸之主光線的角度在影像中應該是零。由光圈表面至第五反射鏡的矩陣產生自上面剛推導之適當Μ矩 .陣的乘積，給予自： -35- 本紙張尺度適用中國國家標準楚） 573234 A7 B7 五、發明説明（31 \ _Ί d4 c4 d3 + d4(—2c4d3 一 \) \ _2d4c4) + 2c4 -^2 c5 (d3+ d4 (J1 c4 d3 ^1))+ 2 c4 d3 (49) 由弟一反射知衣面芏光圈表面的矩陣給予 \_2d2c2 J2 (50) _2 c3 (1 _ 2 d2 c2) + 2c2 2 c3 d2 +所以，如上推導的，反射鏡5和6之間的距離是，解此新發現的值在距離的適當矩陣和向量： -Llc6 d3 一 4 c6 d4 c4 d3 — 1 c6 d4 — 2 c5 d3 + 4 C5 d4 c4 d3 + 2 c5 d4 + 2 c4 d3 + \ 2 c0 (一2 c5 d3 + 4 c5 d4 c4 d3 + 2 c5 d4 + 2 c4 d3 + l)此反射鏡一和二之間的距離推導為·· 1 ,// :=--(-4 (!2 d ,naVt yob c6 - 2 ^ 2 c2) magn yob ( \ - 2 c2 ) angU (-2 c5 ((I3 + (U {-2 t4 H3 - \)) + 2 c4 d3 + 1) (2 c3 ^/2 + 1) d5 (51)

裝 (52) 訂 • αηφ d2 {-IcS (S + r/4 (-2 c4 S - i)) + 2a S + \ ) (-2 c3 { \ - 2 d2 c2 ) λ-2 c2 )) / {{ \ - 2 (12 c2 ) cl ma^n yob c6 ) 而物和第一反射鏡之間的距離是 d0 \ - 2 d2 c2 ) angle (-2 cS (d3 + 04 (~2 c4 rl3 - \)) + 2 c4 d3 + 1) (2 c3 d2 + \ ) + angle d2 (-2 c5 {d3 + d4 (-2 c4 ri3 ~ 1)) -l· 2 c4 d3 + \ ) (~2 c3 { \ - 2 d2 c2 ) + 2 c2 ) + 2 d job d2 (-2 c5 {d3 M (~2 c4 S-\))+2c4 d3 + \ ) {-2 c3 { \ - 2 d2 c2 ) ^ 2 c2 ) + 2 d job (ί - 2 d2 c2 ) (-2 (d3 + d4 (~2 c4 ^-1))+2^ d3 ^ \ ) {2 c3 d2 + \) -2 { \ — 2 d2 c2 ) magn job c6 ) I { angle ((~ 2 ri [ \ ~ 2 d2' c2 ) ^- 2 c2 ) d2 + (2 d d2 -^ \ ) { \ - 2 d2 c2 )) c1 (-2 {d3 + d4 {~2 c4 ci3 ~ \)) + 2 c4 ^5+1)) (53) -36- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）

573234 A7 B7 五、發明説明（32 ) 反射鏡六和影像表面之間的距離是·· d6 :=--(-2 4 angle ( \ -2d2c2)2( \ -2d4 c4)c6 (-2 c5{d3 + d4{-2 c4 d3 - \ )) + 2 c4 d3 + \ ) {2 c3 d2 + \ ) —2 angle (1 — 2 d2 c2) (l —2d4c4)c6{—2c5{d3 + d4{—2c4d3— \ )) + 2 c4 d3 + \) d2 (-2 c3(l -2d2c2) + 2c2)

+ 2 angle {\-2d2 c2)2 (-2 c5{\-2d4 c4) + 2 c4) c6 (d3 + d4 (-2 c4 d3 - 1)) (2 c3 d2 + l) + 2 angle ( \ - 2 d2 c2) (-2 c5 { \ - 2 d4 c4) c4) c6 (d3 + d4 (-2 c4d3 -\))d2 (-2 c3(\-2d2c2) + 2c2) + angle(\-2d2c2)2(-2 c5 ( \- 2 d4 c4)+ 2 c4) (-2 c5 (d3 + d4 {-2 c4 d3 - \ )) + 2 c4 d3 + \ ) (2 c3 d2 + \ ) + angle (1 ~2d2c2) (-2c5{\-2d4c4) + 2c4)(-2c5(d3 + d4(-2c4d3-\)) + 2c4d3+\)d2 (-2 c3 (1 - 2 心 c2) + 2 c2) + 撕g/e (-2 (必 + Λ (-2 M 必-1)) + 2 β 必 + 1 )2 裝 {-2 c3 ( \ - 2 d2 c2) + 2 c2) ( \ - 2 d2 c2) {2c3d2+\) + angle (-2 c5 (d3 -l· d4 (-2 c4 d3 - \ 2 c4 d3 -l· \ )2 (-2 c3 ( \ -2 d2 c2) + 2 c2)2 d2 ~ i (-2 c5 (d3 -l· d4 (-2 c4 d3 - 1)) + 2 c4 d3 + l) (-2 c3 ( \ -2 d2 c2) + 2 c2) d2 cl magnyob c6 ~ A cl (-2 c5 (d3 -f d4 (-2 c4 d3 ~ \ )) + 2 c4 d3 \ ) {2 c3 d2 + 1)(1 -2 d2 c2) magnyob c6 + 4magniyob c62 ( \ -2 d2 c2)) / (( (-2 c5{d3-rd4{-2 ο4ά3~\))^2ο4ά3+ l) (l-2 d4c4) d2 (-2 ci.(l - 2 d2 c2) Λ-1 c2) -(-2 d ({ - 2 Λ d) + 2 d)(必 + Λ (-2 β - 1))必（-2 c3 (1 — 2 心 c2) + 2 c2) -(2c3d2^\)(l~2d2c2)(-2c5{l-2d4 c4) + 2 c4) (d3 + d4 (-2 c4d3-^\))

+ (2c3d2^l)(\-2d2c2)(~2 c5 {d3-¥ d4 {-2 c4 d3 - \ )) + 2 c4 d3 + \ ) { \ - 2 d4 c4)) (l - 2 d2 c2) c62 angle) (54) 鏡4 上類似地，原始的推衍可以用以解決一具有光圈位置在反射鏡四上之六反射鏡系統的變數。再次地，此第一解是光瞳在無限遠或在影像中的遠心。 .通過在此光圈表面中光軸之主光線的角度在影像中應該是零。由光圈表面至第五反射鏡的矩陣產生自上面剛推導之 -37- i紙張尺度適用中國國家標準(CNS) --一----- 573234 A7 B7 五、發明説明（33 適當Μ矩陣的乘積，給予1 d4 -2 c5 一2 c5 d4 —由第二反射鏡表面至光圈表面的矩陣給予 [- 2d2c- + d3 (_2 cJ (1 _ 2 d2 c2) + 2 c2) Ic4(\_2d2c2 + d3(_2 c3 (\d2 c2)+2 c2))+ 2 c3 (l d2 c2) c, (55) ~^ + d3(2c3d2+ ί) ' °4 ^d2 + d3(2c3d2+\))_2c3d2_ 所以，如上推導的，反射鏡5和々ϋ <間的距離是，解在距離的適當矩陣和向量： 1 ^2c6d4 + 2c5d4+l(57) d5 : 2 c6 (2 c5 d4 + l)此反射鏡一和二之間的距離為： (56) 裝 (i!^-^4^i2^^(2c3d2+\))cImagnyobc6^2(\.2d2c2 + d3(_2c3(\_2d2c2) + 2c2))magnyobc6 ^{~2d^UdH-2c3{\.2d2c2)^2c2))angle^2c5d4_X)^lc4{_d2 + d3{lc3d2^))_2c3d2_x) ~^gle{_d2 + (i3{2c3d2+\))(_2c5d4_\){Jl d2 c2 + d3 {^.2 c3 ( \ d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 ( \ _2 d2 c2) _2 c2)) / ( (I -2 d2 c2 + d3 (J1 ci (1 ^.2 d2 c2) + 2 c2)) cl magnyoo c6) (58) 而物和第一反射鏡之間的距離是：線 :---((1 - 2 ^ c2 + (-2 d (1 - 2 Λ c2 ) + 2 c2 )) ^ (-2 ύ d4 - \) (-2 c4 (-d2 + d3 {2 ό d2 + 1)) - 2 ύ d2 - 1) -(~d2 + d3 (2d d2 + 1)) (~2 c5 d4 - \ ) {-2 c4 ( \ - 2 d2 c2 + d3 (~2d {\-2d2d) + 2d)) + 2c3 ( \ - 2 d2 c2)-2c2) ~ 2 ^ {~d2 + d3 {2 a d2 + \)) {~2c5 d4 - \) (-2 c4 2 d2 c2 + d3 {-2 c3 {l-2 ci2 c2) + 2 c2)) +2 ό {I - 2 ca c2)~ 2 cl) + 2 d ^ (l - 2 ^ d + β (-2 d (1 - 2 ώ c2 ) + 2 c2 )) (-2 c5 Λ - 1) (-2 d (一心 + 必（2 c? ώ 十 1)) - 2 d ώ - 1 ) ~ 2 ( \ - 2 d2 c2 + d3 {-2 ό (l ^ 2 d2 d ) + 2 c2)) τταψ yb c6 ) ! (αηφ (-(-2 c4 - 2 d2 d + cD (~2d (X-2d2c2) + 2d)) + 2c3 (\-2d2c2)-2c2) {-d2 ^ <β {2 ύ d2 + \ )) + (-2 c4 {~d2 ^ d3 (1 ό d2 \ ^ ^ {l- 2 d2 d + dj (-1 ό { \ - 2 d2 d)^ 2 cl ))) d {-2 ό d4 - 1)) (59) -38- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐） 573234 A7 B7 五、發明説明（34 ) 反射鏡六和影像表面之間的距離是： d6 := _ angle (l d2 c2 ^ d3 c3 -2 d2 c2)+ 2 c2)f c6 (JZc5d4-l) 4 (_2 c4 {^cl2 +cl3{2 c3 d2 + \)) _2 c3 d2 -\)+ 2 angle (1 _ 2 ^/2 c2 + d3 (_2 cJ (1 „ 2 d2 c2) + 2 c2))c6 (_2 c5 d4 ^\) {.d2 + d3 (2 c3 d2 +1)) (—2 1 — 2 β c2 + 必（」β (1 — 2 心 d) + 2 c2)) + 2 β (1 _ 2 β c2) 一 2 c2) 一 4 仰g/e (1 ^2d2 c2 + d3 (^.2 c3 (l d2 c2)+ 2 c2))2 c5 c6 d4 {J1 c4 {^d2 + cl3 {2 c3 d2 + \)) _2 c3 d2 .\) + A angle (1 _ 2 ^/2 c2 + (_2 cJ (1 _ 2 d2 c2) + 2c2))c5 c6 d4 (^d2 + d3 (2 c3 d2 + 1)) [一2 c4 [l — 2 d2 c2 + d3 c3 ( \ — 2 d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 ( \ — 2 d2 c2) — 2 c2) — 2 angle (l d2 c2 + d3 (J2 c3 (l _2 d2 c2) + 2 c2))2 c5 (_2 c5 d4 _\) (_2 c4 {^d2 + d3(2c3d2 + l))_2c3d2-l) + 2 angle {\^2d2c2 + d3{Jlc3{\^2 d2 c2) + 2 c2)) c5 (_2 c5 d4 -\) {^.d2 + d3 (2 c3 d2 + 1)) (」d (1 _ 2 心 c2 + 心（_2 β (1 _ 2 β c2) + 2 d)) + 2 β (1 _ 2 β c2) _ 2 c2) + (_2 c5d4-.\ )2 (_2 (1 _ 2 d2 c2 + (_2 ci (1 _ 2 d2 c2) + 2c2)) + 2 c3 (l d2 c2) ^.2 c2) (1 —2 d2 c2 + d3 (J2 c3 (1 一 2 d2 c2) + 2 c2)) c4 (一 d2 + d3 (2 c3 d2 + 1)) — 2 c3 d2 一 1) 一 angle [-2 c5 d4 — l)2 {Jlc4{\^.2d2c2 + d3{Jlc3{\_2d2c2) + 2c2)) + 2c3{\^2d2c2)^2 c2)2 {^d2 + d3{2c3 d2 +\)) + ^{Jlc5 d4 -.1) (_2 c4 (l d2 c2 ^d3 (J2 c3 (l d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 (,1 d2 c2) ^.2 c2) (一d2 + d3 [2 c3 d2 +1)) cl magnyob c6 — Λ cl (—2 c5 d4 一 \ ) (—2cn—d2 + d3(2c3d2 + l)) — 2c3d2-l)(Ud2c2 + d3(—2C3(\—2d2c2U2c2)) magnyob c6 + 4 magn2 yob c62 (l ^.2 d2 c2 + d3 (_2 c3 ( \ - 2 d2 c2) + 2 c2))) ^/((-(_2 c5d4-\)(_d2 + d3(2c3d2^l)) (-2c4{\^2d2c2 + d3{Jlc3{\_2d2c2) + 2c2)) + 2c3(\-2d2c2)^2c2)^2c5 d4 (-d2^d3{2c3d2 + l)) (_2 c4{ \ - 2 d2 c2 + d3 (J2 c3 (l d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 (l d2 c2) ^.2 c2) + 2 (_2 c4 (-d2 + d3 (2 c3 d2 + l)) c3 d2 ^\) (I d2 c2 +d3 c3 (l d2 c2) + 2c2))c5 d4 + (-2 c4 [一d2 + d3 (2 c3 d2 +\)) — 2 c3 d2 — 1) (\-2d2c2 + d3(^2c3{l-2d2c2) + 2c2)){Jlc5d4-\)) (1 _ 2 c2 + (_2 ci (1 - 2 d2 c2)m2 c2))c62 angle) 6反身3~鏡系、统，光圈在反身鏡5上再次地，我們使用原始推導以解一具有光圈位置在反射鏡五上之六反射鏡系統的變數。如以前的，此第一解是光 -39- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 573234

五、發明説明（35 卫在典限逆或在影像中的遠心。通過在此光圈表面中光軸之^光線的角度在影像中應該是零。由光圈表面至第五反射在兄的矩陣產生自i面剛#導之適當M矩$的乘積，汰自： ” 、口」 1 (Γ 〇 (61) 由第二反射鏡表面至光圈表面的矩陣給予 ^l^2d2d^+2d'j+d4(<-2c4 (l-2d2d {-^c3 (I_2d2d)+2c2))+2d (I_2d5c2) ^ c2) ^^(2c3d2 + l)+d4(^c4(^2+d3(2dd2 + l))_2ed2.l)] d +d3 d>) +2 +d4 ^X-2d2d (-2 ^ ^)+2 ^))+2 d (1^2 d2 c2) 2d)) + (1,2^ d+^(_2d(l_2^c2)+2c2))_2d(l_2^c2)+2c2, ^c2)_2c.)) __c； {^J2 +d3 (2d d2 + l)+d4 (^2 c4 (ui2+d3 {2c3 d2 + 1)) ^.2c3 d2 ^1))+2c4 (^d2 +d3 {2c3 d2 + 1))+2c3 d2 + 1] (62) 所以’如上推導的，反射鏡5和6之間的距離是，解在距離的適當矩陣和向量： J5 76 12 此反射鏡一和二之間的距離為： dl :---(4 (..cC +d3 (2ό d2 + 1) + d4 (_2 c4 (-J2 + ii3 (2 d ώ + 1)) _ 2 d di? - 1)) d πηψ yob <£ -2{\-2d2 c2 +d3 (^20 {1-2 d2 c2) +2 c2) + d4 (-2 c4 2 d2 d +d3 (^.20 (\-2 d2 d)+ 2 d)) + 2 c3 {1^2 d2 d)-2 ΰ))?τηξη yjb c6 + (\-2d2d +d3(，2c3 (l^.2d2c2) + 2c2) + d4{-2of (l-2d2c2 +d3(-2c3 {l-2d2c2) + 2d))+2c3 {1-2<ί2€2)-.2α2))ατφ (-2ύ {-d2 +d3 {2 ό d2 + 1) +d4 {-2 c4 {-d2 +d3 (2 c3 d2 + 1)) c3 d2 -1))+ 2 of {-d2 +S (2 ά d2 + 1)) + 2 β d2 + 1) -ατφ (.d2 +S {2d d2 + \) + d4 (-2^ {-d2+d3{2c3 d2 + l)).2c3 d2-1))( -2 0 (1-2 d2c2 +d3 {-2d {1-2 d2d) +2d)+ d4 {-2σ^ (1-2 d2d +d3 {-2 d {\-2 d2c2)+ 2 d))+ 2 c3 {1-2 d2d)-2 c2)) + 2c4 {\^2d2d +d3 {-2d {\-2d2 d) + 2c2))-2c3 (\-.2d2c2) + 2c2))/{ (l-2d2c2 +d3 (.2 β (\d2c2)+ 2 c2)^d4 (-2 c4 (1-2 d2c2 +d3 {.2d (l-2d2d) + 2c2)) + 2 ό (1-2 d2 (2)-2 c2)) cl rmsn yjb (64) -40 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 573234 A7 B7 五、發明説明（36 ) 而物和第一反射鏡之間的距離是： dO ： 1 --((1 - 2 ci2 c2 + d3 (~2c3 (l - 2 d2 cl ) ^ 2 c2 ) -H d4 (-2 c4 (1 - 2 d2 c2 + d3 (-2 ό (1 - 2 d2 c2 ) + 2 c2 )) +20(l-2d2c2)-2c2)) ατφ (-2 c5 (-A + 心（2 d ώ + 1) + 沿（-2 θ (-A + 心（2 d A + 1)) — 2 d ώ - 1)) + 2 c4 [~d2 + d3 (2c3 d2 + l)) + 2c5 d2 + 1) -an^e{-cl2 + S (2d d2 + 1) + d4 (~2 c4 [~d2 + cB (2d d2 + 1)) - 2 c3 d2 ~ 1)) (-2 0 (1 - 2 d2 c2 + d3 (-2 ό (l-2d2c2) + 2c2) + d4 (-2 c4{\-2d2d+S (-2 c3 (l-2d2c2) + 2c2)) + 20 (I~2d2c2)-2c2)) + 2c4 (l-2d2 d +d3 (-2 0 (l-2d2d) + 2c2))~2c3 (l-2d2c2) + 2c2) ~ 2 cl yob (~d2 + S (2 ό d2 + 1) + d4 (-2 c4 {-d2 + d3 (2c3 d2 + 1)) — 2 c3 d2 ~ 1)) (-2d (l-2c/2 c2 +d3 (-2 0 {I - 2 d2 c2) + 2 ά) + d4 (-2 c4 (l-2d2 c2 + cB (-2 0 (l~2d2c2) + 2c2)) + 20 (1 - 2 d2 c2 ) - 2 c2 )) + 2 c4 {1 ~ 2 d2 c2 + d3 (~2c3 (l — 2d2c2)+2c2)) — 2ό (l-~2d2c2) + 2c2) + 2cl yob (1 - 2 d2 c2 + d3 (~2c3 (l-2d2c2) + 2c2) + d4 (-2 c4 (1 - 2 d2 c2 + cB (~2 ύ (1 - 2 d2 c2) + 2c2))+2d (1 ~ 2 d2 c2)~2c2)) (-2 c5 [~d2 + d3 (2 c5 d2 + 1) + d4 (—2 (—ίώ + (2c3 ίΰ + l)) — 2c3 d2 — 1)) + 2 c4 (-d2 d3 (2d d2 + 1)) + 2 ό d2 + 1)-2(1-2^ c2 + d3 (~2c5 (1 — 2d!2 c2) + 2c2) + ^ [-2 c4 (1 - 2 d2 d2 + cB (~2 d (I~2ii2c2) + 2c2)) + 2d (I~2ii2c2)-2c2)) c6 ) I [αηφ (-(-2d (1 - 2 d2 c2 + d3 (~2d {1 - 2 d2 cl ) + 2 c2) + d4 (-2 c4 (1 - 2 d2 d + d3 (-2 d (I~2d2c2) + 2c2)) + 2c3 (1-2^ c2)-2c2)) + 2c^ (l-2^c2+^(-2d (I~2d2c2) + 2c2))-2c3 (l-2d2c2) + 2c2) (~d2 + S (2d d2 + 1) + d4 (-2 c1/ + d3 (2d ^ + 1)) - 2 ό d2 - 1)) + (~2 c5 (~d2 + d3 (2c? d2 + 1) + d4 (-2 (-ίΰ + i£3 (2 c3 d2 + l))~2c3 d2 - 1)) + 2 c4 [~d2 + d3 (2d d2 + 1)) + 2 c3 d2 + l){ \ — 2 d2 c2 + d3 (~2 ό (1 - 2 d2 c2 ) + 2 c2 ) + d4 {-2c4 {l-2d2 d + d3 (~2d (l - 2 d2 c2 ) + 2 c2 )) + 2 ύ (1 - 2 c2 ) - 2 d ))) cl ) (65)

裝

-41 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐） 573234 A7 B7 五、發明説明反射鏡六和影像表面之間的距離是： 1 angle ^ - ^^2c2 + d3(_2c3( \ _2d2c2) + 2 c2) + d4 (_2 c4 (\ _ 2 d2 c2 + d3 (_2 c3 (l _ 2 d2 c2) + 2 c2)) + 2c3(\_2d2 c2)_2 c2))2 c6 (-2 c5 (_d2 + d3(2c3d2 +\) + d4 (_2 c4{_d2 + d3 (2 c3d2+1)).2 c3 d2 _\)) + 2c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2 + \ ))+ 2 c3 ci2 + \ )+ 2 angle - 2 d2 c2 + d3 (_2 c3 ( \ _2 d2 c2) + 2 c2) + d4{_2c4{\_l dl c2 + d3 (_2 c3 ( \ _2 d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 (\ _2 d2 c2) _2 c2)) c6 (-d2 + d3 (2 c3d2+\) + d4 (_2 c4 {_d2 + d3 {2 c3 d2 ^. \)) c3 d2 _ \)) { -2 c5 (l _ 2 d2 c2 + d3(^.2c3(\_2 dl c2)+ 2 c2)+ d4 {J1 c4 { \ _1 dl c2 ^.1(3 {J1 c3 { \ _2 d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 { \ d2 c2) c2)) + 2c^(] _2ci2c2 + d3(_2c3( \ _2d2c2) + 2 c2)) _2 c3 (\ _2 d2 c2)+ 2 c2) + angle ( -20(1^2 (12 c2 + d3(_2c3(\_2d2c2) + 2 c2) + d4{_2c4{ \ _2 d2 c2 + ^ (_2 ci (1 „ 2 d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 {\ _2 d2 c2) c2)) + _2d2c2 + d3(_2c3(\ _2(i2c2) + 2c2))_2c3(l _2 dl c2) + 2 c2) (1 _ 2 r/2 c2 + r/3 (_2 ci (1 _ 2 i/2 c2) + 2 c2) + d4 (_2 c4 (\ _2 d2 c2 + d3 (_2 c3 (\ _2 d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 { \ _2 d2 c2) _2 c2)) (_2 c5(_d2^ci3(2c3d2+ \ ) + d4(_2 c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2 + \)) c3 d2 _ \)) c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2 + 1))+ 2 c3 d2 + \) _ angle ( _2 ci (1 _ 2 d2 c2 + d3(_2c3(\_2 d2 c2) + 2c2) + d4 {Jlc4{\ _2 dl c2+ d3 {Jl c3 {\ _2 d2 c2)+ 2 c2))+ 2 c3 {\ _2 dl c2) _ 2 c2)) + 2 c4 ( \ d2 c2 + d3 (_2 c3 ( \ _2 d2 c2) + 2 c2))_ 2 c3(l^2d2 c2) + 2 c2)2 ， {-^2 + (i3(2c3d2^\) + d4(_2 c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2 + 1)) _ 2 ci i/2 _ 1)) + 4 ( _2 c5 { \ d2 c2 + d3 (_2 c3 ( \ _2 d2 c2) + 2 c2) + d4 {J1 c4 {\ _2 d2 c2+ d3 {_2 c3 {\ _2 d2 c2)+ 2 c2))+ 2 c3 {\ _2 d2 c2) c2)) + 2 c4 ( \ _2 d2 c2 + d3 (_2 c3 ( \ _2 d2 c2) + 2 c2)) c3 ( \ _2 d2 c2) + 2 c2) (-d2 + d3(2c3d2+\) + d4 (_2 c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2 + 1)) _2 c3 d2 _ l)) cl magn yob c6_4d (_2 c5(_d2 + d3(2c3d2+\) + d4(_2 c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2 + \ )) _2 c3 d2 _ \ )) + 2 c4 (^.d2 + d3 {2 c3 d2 + \ )) + 2 c3 d2 + \ ) { \ - 2d2 c2 + ci3(^2c3( \ _2d2c2) + 2 c2) + d4(_2c4(\_2 d2 c2 + d3(_2c3(\_2 dl c2) + 2 c2)) + 2 c3 (\ _2 d2 c2) _2 c2)) magn yob c6 2 2 + 4 magn yob c6 (\ ci2 c2 + d3 (_2 c3 ( \ .2 d2 c2) + 2 c2) + d4(_2c4(\_2 d2 c2 + (_2 ci (1 _ 2 d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 (\ _2 d2 c2) _2 c2))) ^ ((_( -2c5( \ _2d2c2 + d3(_2c3( \ _2d2c2) + 2c2) + d4{_2c4( \ _2 d2 c2 + d3{Jlc3{ \ d2 c2) + 2 c2)) + 2 c3 { \ _2 d2 c2) _2 c2)) ..2 (1 _ 2 i/2 c2 + i/5 (_2 c3 (1 _ 2 c2) + 2 c2)) _ 2 ci (1 _ 2 c2) + 2 c2) i-d2 + d3{2c3d2+\)^ d4 (_2 c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2 + \ )) _2 c3 d2 _ \ )) + (_2 c5 (.d2^d3(2c3d2+\) + d4 (_2 c4 (_d2 + d3 (2 c3 d2+\)) c3 d2 ^ \))+ 2 c4 (^d2 + d3 (2 c3 d2+\)) c3 d2 + \) (\ ^2d2c2 + (i3(_2c3(l _2d2c2)4.2c2) + d4(_2c4(l _2d2 c2 + d3(_2c3(l .2d2c2) + 2c2)) + 2c3(\_2d2c2)_2 c2))) [\ ^.2d2c2 + d3{_2c3{\_2d2c2) + 2 c2) + d4 (_2 c4 (l _2 d2 c2 + d3 {^2 c3 (I ^ 2 d2 c2) c2)) + 2 c3 ( \ _2 d2 c2) _2 c2)) c6^ angle) (66) 4反射鏡系統，光圈在反射鏡2卜推導來解一具有光圈位變數。通常，此第一解。通過在此光圈表面中是零。由光圈表面至第之適當Μ矩陣的乘積，仍然再次地，我們可以使用這些置在反射鏡二上之四反射鏡系統的是光瞳在無限遠或在影像中的遠心光軸之主光線的角度在影像中應該三反射鏡的矩陣產生自上面剛推導給予自： -42 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐） 573234 A7 B7

五、發明説明 1 d2 c3 _2 c3d2 由第二反射鏡表面至光圈表面的矩陣給予自： _ 1 0] -1 % 、 4 (68) 以’如上推導的，反射鏡3和4之間的距離，解在距離的適當矩陣和向量是： ,=I -2c4d2 + 2c3d2+l • 一2 —V4[l7id2^\)— (69) 此反射鏡一和二之間的距離為： dl .= ' 一2 magn yob c4 一 angle [一2 c3 d2 — \、 4 cl magn yob c4 而物和第一反射鏡之間的距離是：（7〇) jxngle [—2 c3 d2 一 \ ) — 2 cl yob [—2 c3 d2 一 \ ) — 2 magn yob c4 (71) angle cl (一2 c3 d2 — V) ~ 及反射鏡四和影像表面之間的距離是·· —1 ^ ~ - single (_2 ci J2 _ 1) + 4 angle c3 c4 d2 + 2 angle c3 (_2 c3 d2 ^.1) + 2 angle (_2 c3 d2 ^\)2 c2 + 4 cl {J1 c3 d2 _ 1 ) magn yob c4 magn1 yob c42) ^ (c^2 angle) 統，光圈在反射鏡3上再次地，我們使用原始推導以解一具有光圈位置在反射鏡三上之四反射鏡系統的變數。此第一解是光瞳在無限遠 .或在影像中的遠心。通過在此光圈表面中光軸之主光線的角度在影像中應該是零。由光圈表面至第三反射鏡的矩陣 -43- 本紙張尺度巾g家標準(CNS) Α4規格(21QX297公董) ' ---- 573234 五、發明説明（39 產生自上面剛推導之適當M矩陣的乘 01 積，給予由第二= 表面至光圈表面的矩陣給予 (73) J2 c3 { \ _2 d2 c2) + 2 c2 2 c3 d2 . 因此我們推導反射鏡3和4之間的距離e (74) 177 112 I := 而我們解此新發現的值在適當的矩陣和距 ,、 & 句音 Ψ。:卜反射鏡一和二之間的距離是： (1_2ώ c2)cT^r^5-(1-2^2 c2)+2c2)

(76) c2 ) + 2 c2 ) 而物和第一反射鏡之間的距離是： 1 do - (1 - 2 d2 d ) ατφ (2d ίί2 + 1) + ατφ d2 (~2 d (1 - 2 d2 線 + 2d ^ £ (-2d (1-2^2 c2) + 2c2) + 2d ^ (l-2^ £ + 1) 2 (1 - 2 ίβ c2 ) πηψ yob c4 ) f (ατφ ((~2d {1- 2 d2 c2") + 2 c2 ) ^ + (2 d d2 + l) (χ ^ 2 d2 c2 )) cl ) 且反射鏡四和影像表面之間的距離是：（77) 1 , = (1^2d2 d)2 c4 (20 d2 + 1) -2 ατφ {1^2d2 ύ) c4 d2 {-2ό {l-2d2 ά) + 2c2) + ατφ (-2d (1-2 c2 )+2 c2) (1-2^2 c2 )(2 d ^2 + 1) + αηφ [J10 {I 一 2 d2d2)飞2 [一2 0 [Ud2d2U2d2、d2 cl — yob c4 cl (2d £ + 1)(1- T'dl'd ) rmgn yob c4 +4 rm^fi 2 yob c42 (^1 d2 c2)) ^/( ((-2d {l-2d2 c2)+2 c2)ct2+(2ύ d2 + 1) {1^2 d2 c2))(i^2 d2 c2)c42 ατφ ) -44- (78) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 573234 A7

B7 遮敝二在折射透_中連續的反射鏡斤1+1之間丄山礙在光路徑上之至少一個i^ 又間仃進時，在許多情況中，會通過 …:：鏡J。因此，對於-不會被遮蔽的光學保此干擾的反射鏡;的位置和寬度使其不姆看光束的任何部分交叉。此顯示於圖4中， ^^ 射❸完全位於1和1+1之間的光束之下，炊 Γ射鏡厂部分地與光束交又。反她的安排是不允；在一可能的投影系統之模刑 # 驟來偵測：土中、敝可以藉由以下的步於在光路徑上每—對連續的反射鏡ί，⑷，檢杏

Iltr反射鏡川不等於1,1+1)具有—在1和…之間光軸（Z抽）上的位置 '山存S彳异在與光軸上反射鏡j之位置處從I至 1+1义極端光線之光軸（γ位置）的距離。、3.檢查反射鏡】的上和下是都在從⑴十】的二極端光線之上⑽，具有較大的Y位置)或之下(亦即，具有較小的 Υ位置）。如果在⑺中的檢查失敗’則反射鏡J至少部分地遮蔽從α I + 1的光束，而反射鏡系統必須修正或退回。 -45- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4i^i_〇X297公楚) 573234 五、發明説明 A7 B7

較佳的四反射鏡系統圖6顯示-反射鏡系統在等級9( + )，其可以用於圖顺影裝置中。在此等級中’光圈可以位圖6的系統中，光圈位置是在表面2。此系統的定Ϊ 在物側，在Ϊ 14和11 8任意單元之間，具有一〇·25的數值孔徑(0.05在物側）。放大率是0.2，而一中間影像形成在反射鏡3和4之間。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表1中。對於曲率和厚度找到的值可以使用一比例因子重新定比例。如果厚度是乘上此因子，曲率應該除以它，反之亦然。圖7也顯示一等級9( + )的反射鏡系統。在此情況中，光圈在反射鏡3上且中間影像在反射鏡丨和2之間。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表2中。圖8顯示一具有光圈位於第三反射鏡之等級2 (_)系統的例子。從物（光罩Μ A，表面〇 )所有的光線行進，具有一負的角度（零的角度是平行於光軸），至第一凸面反射鏡Μ 1。此凸面反射鏡Μ!反射光束向上至一大的凹面反射鏡μ2。此第二反射鏡Ms的位置必須在物（光罩μα)和反射鏡Μ !之間的光束之上。然後此光束在反射鏡下行進至光圈表面反射鏡Μ 3。從光圈表面，此光束被反射至凹面反射鏡Μ 4。反射鏡Μ4關心此影像的遠心照明（表面5)。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表3中。一等級6 (-)系統，顯示於圖9中，由二反射鏡對組成，為一對稱設計。從物（光罩Μ A，表面〇)所有的光線行進，具 -46- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐）

裝玎

線 573234 A7 B7 五、發明説明（42 ) 有負的角度（令的角度是平行於光軸），至第一凸面反射鏡Μ〗。此物被照明儘可能的遠心，此對於微影是一要求。此凸面反射鏡Μ】反射光束向上至一大的凹面反射鏡M 2。此反射鏡的位置必須在物和反射鏡M〗之間的光束之上。到目前為止’此設計類似於等級2(_)設計（顯示於圖8中）。然後此光束通過反射鏡至在光圈表面上的反射鏡m3，由反射鏡M1的頂端所限制。從光圈表面，此光束被反射至凹面反射鏡M4。反射鏡M4關心此影像的遠心照明（表面5)。此系統的環狀場被定義在像側，在_ 2 2 · 8和-2 3 . 8之間，造成邛有數值孔徑0 . 1 5之至少〇 · 9 7 2的S t r e h 1比率。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表4 中〇一具有光圈在第二表面上的等級9(-)系統顯示於圖i0 中。此系統的環狀場被定義在物侧，在1 1 4和1 1 8任意單元之間，具有0.2的數值孔徑（0.05在物側上）。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表5中。圖1 1頒π —等級1 〇 (_)的系統。此系統的環狀場被定義在物側，在114和118任意單元之間，具有〇 2的數值孔徑 (0 · 0 5在物側上）。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中’給丁在以下的表6中。較佳的六反射鏡系統所有發現是可行的六反射鏡系統都具有，當它們有正的 •放大率時，一中間影像。圖12顯示一等級9( + )的六反射鏡系統，其中光圈可以置 -47- 573234

义反射鏡2 ’ 3 ’ 4和5上。此系統具有中間影像位於反射鏡間。此系統的環狀場被義在物側，在114和118任間’具有〇·24的數值孔徑（〇()6在物側上）。此系統的第-階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表？一寺級3 7 ( + )的六反射鏡系統可以具有光圈置於反射鏡 2 3 4和5上且具有中間影像位於反射鏡2和$之間。此系統的環狀場被定義在像側，在27和3〇任意單元之間，具有 0.24的數值孔徑。 ’、顯示於圖13的系統具有光圈在表面2上。此系統由一靠近物的反射鏡對和靠近像之成群的四反射鏡所組成。從物（光罩ΜΑ，表面〇)所有的光線行進，具有一負的角度，至第一凹面反射鏡。此凹面反射鏡“丨反射此光線向下至反射鏡 Μ?其幾乎是平的。反射鏡％2的頂端被限定低於物和反射鏡 M i之間光束。反射鏡Μ2和Μ;之間的光束限制小反射鏡的底邵，而反射鏡Μ#和Ms之間的光束限制小反射鏡Μ#的頂端。最後，在最後一個反射鏡乂6和影像之間的光束限制反射鏡Μ5的頂端。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表8中。為了比.較，圖14顯示一具有光圈在表面5上之等級37( + ) 的a反射鏡系統。此系統的環狀場被定義在像側，在2 7和 3 0任意單元之間，具有〇 · 2 4的數值孔徑。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表9中。幸父佳的八反射鏡系統 -48- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 573234

一了具有光圈在表面3上之等級165( + )的八反射鏡系統顯 ’r方；圖1 5中。此系統的環狀場被定義在物側，在工1 6和1 2斗任意單元之間，具有〇·24的數值孔徑（〇〇6在物側上）。此系統的第一階曲率和厚度，在任意單元中，給予在以下的表1 0中。等級169( + )的八反射鏡系統顯示於圖丨6中，其元件的曲率和厚度顯示於表:Π中。此系統具有一環狀場在物側中，在1 14和1 1 8任意單元之間，一〇·4的數值孔徑，歪曲u n m和一 r m s波前誤差< 〇 . 3入。等級181( + )的八反射鏡系統顯示於圖丨了中，其元件的曲率和厚度顯示於表12中。再次地，此系統具有一環狀場在物側上是114和Π 8任意單元之間，而此數值孔徑是〇4。然而，歪曲是<1.9 nm和rms波前誤差〈〇·5λ。等、’及1 5 0 (-)的八反射鏡系統顯示於圖丨8中，其元件的曲率和厚度顯示於表13中。此系統提供一歪曲<2·6 nm和一 rms波前誤差<〇.ΐ9λ。等級1 82(-)的八反射鏡系統顯示於圖丨9中，其元件的曲率和厚度顯示於表14中。此系統同樣地具有一環狀場在物侧上介於114和Π 8任意單元之間，一〇·4的數值孔徑，— rms波前誤差<1λ和一歪曲<2.18 nm。我們已經描述本發明之上述特定的實施例，但必須知迢，本發明可以被實行不同於描述的。描述並不意圖限制 •本發明。 -49 ~ t張尺度適用中國國家標準⑴^八^^忉^^一 573234 A7 B7 五、發明説明（45 ) 表1 表4 曲率厚度曲率：厚度 do 834.233264 d〇 767.692000 Cl -0.00014266 d, -599763693 C1 0.00300902 山 -642.472629 C2 0.00088498 d2 684.179623 C2 0.00095506 d2 1445.239615 C3 -0.00998244 d3 -83.415929 C3 0.00407728 4 -78.092188 C4 0.01918223 d4 61.797248 C4 0.00607760 d4 94.620253 d5 16.018048 ds -1.961967 表2 表5 曲率厚度曲率厚度 - d〇 616.993869 449.444384 C1 -0.00243396 -633.892913 C1 -0.00042724 d, -396.786263 C2 0.00190431 d2 636.600251 C2 -0.00168067 d2 403.457960 C3 0.00025705 d3 -69.291720 C3 -0.00659922 d3 -67.000191 c4 0.00724502 d4 64788741 C4 -0.01721598 d4 54.629940 d5 4.467388 d5 4.695013 表3 表6 曲率厚度：曲率厚度 d〇 359.695357 do 444.844414 Cl 0.00152836 d, -274.181525 Ci -0.00256672 d. -83.893940 C2 0.00259323 d2 261.925120 C2 -0.00023614 d2 80.638988 C3 0.01867917. d3 -26.735917 C3 0.01329749 d3 -42.956528 C4 0.01765947 d4 48.776080 C4 0.01099286 d4 93755560 ds -0.416277 d5 -0762586 -50- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐）

573234 A7 B7 五、發明説明（46 ) 表7 曲率厚度 4 131.380868 C1 0.00289128 di -113.331683 c2 0.00499283 d2 146.579813 C3 0.00863830 d3 -93.218415 c4 0.01007555 d4 88.970994 C5 0.01220780 d5 -93.941281 0.00873868 d6 116.487572 -0.127679 表9 曲率：厚度 do 405.798032 Cl -0.00475154 -64.654405 c2 -0.00852932 d2 487.659410 C3 -0.00286217 d3 -202.163489 c4 -0.00307574 d4 230.915333 C5 0.00000503 七5 -116.766023 0.00422514 d6 189.881646 d7 〇.〇〇〇〇〇〇

裝表8 ''曲率丨厚度 4 828.570000 Ci -0.00111627 . d, -304.777604 c2 -0.00007435 d2 680.858425 C3 -0.00238747 d3 -160.275601 c4 -0.00019501 d4 124.017066 C5 0.00719636 d5 445.964808 0.00467166 d6 231.541247 1 1 1 1 d7 0.075648 表1 0 曲率 _厚度 322.380000 Ci -0.00178490· di -108.516829 c2 -0.00245113 d2 174.110025 c3 -0.00202694 d3 -168.774787 C4 -0.00124407 d4 983.268141 C5 -0.00183868 d5 -213.604816 C6 -0.00200081 d6 274.820705 C7 0.00126629 -197.754689 c8 0.00476144 4 160.164412 〇.〇〇〇〇〇〇

線 -51 -本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 573234 A7 B7 五、發明説明（47 ) 表1 1 表13 曲率：一厚度· 曲率厚度 d〇斗20.601299 4 713.868812 Ci -0.00323603 di -125.470789 Ci -0.00187689 di -225.978195 c2 -0.00902233 d2 110.112590 C2 -0.00045910 d2 871.620787 C3 -0.00206939 -160.044449 C3 -0.00138063 d3 -601.119900 〇·〇0〇36641 山 258.697858 C4 -0.00002434 d4 269.267756 c5 0.00126054 d5 -279.043974 C5 0.00166695 d5 -342.201234 c6 0.00146300 d6 905.704090 C6 0.00162141 d6 807.574290 C7 0.00275699 d7 -111.254872 C7 0.00773514 -167.796714 C8 0.00673385 d8 112.775777 C8 0.00506893 ds 169.913678 d, 〇 d, 〇表12 表14 曲率1 厚度 ^曲率. .:厚度 do 455.886404 do 84702306 Cl -0.00355263 d, -116.531978 Cl -0.00487728 -49.028673 c2 -0.00563559 d2 515.664329 -0.01142777 d2 677.956498 C3 -0.00151867 -282.841809 C3 -0.00154677 d3 -710.120744 C4 0.00151480 d4 89.911348 C4 0.00369184 d4 305.647599 C5 0.00127162 d5 -49.006196 c5 0.00218954 d5 -323.556990 c6 -0.00070814 152.535737 c6 0.00163258 878.491460 c7 0.00667355 d7 -82.044394 C7 0.00460099 d7 -136.990287 C8 0.00867329 98.259942 c8 0.00616448 137.341290 0.267746 〇 -52- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐）

Claims

一支撐結構用以支撐一圖樣化構件，此圖樣化構件適合用以根據希望的圖樣而圖樣化投影光束；一基板平台用以容納一基板；一投影系統用以投射此被圖樣化的光束至此基板的一目標部分上，其特徵為：琢投影系統具有精確地六成像反射鏡在此投影光束的光路徑中且具有一 5⑴，6㈠，9(+)，13(+)，18(_)，21(+)， 22㈠ ’ 25(+) ’ 29(+)，34㈠，37(+)，38(-)，42(-)，或 54(-)的入射角分級，C，其中： Μ Wy i=l 心叫如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是負值， ai = 〇如果在第丨個反射鏡之主光線的入射角是正值， Μ是此投影系統的放大率，及指標i是從物體至影像之反射鏡的編號。 5·根據申請專利範圍第4項的裝置，其中，該投影系統具有光圈位於第二，第三，第四或第五反射鏡上。 6·根據申請專利範圍第4或5項的裝置，其中，該投影系統具有一中間影像在第二和第五反射鏡之間。 Ί · 一種微影投影裝置，包含：库田射系統用以提供一輕射的投影光束； '一支撐結構用以支撐一圖樣化構件，此圖樣化構件適合用以根據希望的圖樣而圖樣化投影光束； -2 - 573234 8 8 8 8 A BCD 申請專利範圍一基板平台用以容納一基板；一投影系統用以投射此被圖樣化的光束至此基板的一目標部分上，其特徵為：該投影系統具有精確地八成像反射鏡在此投影光束的光路徑中且具有一 2(+)，5(+)，9(+)，12(+)，13(+)，18(+)， 18㈠，19(+)，20(+)，21(+)，22(+)，23(+)，25(+)，26(+)，34㈠， 36(+)，37(+)，38㈠，45(+)，46⑴，49(+)，52(；+)，53(；+)，54⑴， 54㈠ ’ 55㈠ ’ 58(_) ’ 68(+)，69(+)，73(+)，74(+)，77(+)，82(+)， 82(-)，85(+)，88(+)，89(+)，90(-)，92(+)，93(+)，97(+)，100(-)， 101(+)，102㈠，104(；+)，105⑴，106(+)，106㈠，107(+)， 108(+)，109(+)，109㈠，110(+)，110(-)，111(+)，113(+)， 116(+)，117(+)，118(+)，118㈠，120(+)，121(+)，122(-)， 123㈠ ’ 132(+) ’ 133(+)，134(-)，137(+)，138(+)，141 ⑴， 145(+)，145㈠，146(+)，146(-)，147(+)，148(+)，148(-)， 149(+)，150⑴，150(-)，151(+)，151(-)，152(-)，153(+)， 154(+)，154㈠，155(+)，155(·)，156(+)，157(+)，159(+)， 161(+)，162㈠，163㈠，164(+)，165(+)，166(+)，166㈠， 167(+)，168(+)，169(+)，170(+)，170㈠，171(+)，172(+)， 173(+)，174(+)，175(+)，176(+)，177(+)，178(-)，179(+)， 180(+)，180㈠，181(+)，181(-)，182(+)，182(-)，183(+)，183(_)， 184(+)，185(+)，185(-)，186(-)，187(+)，187(-)，188(-)，189(+)， 196(+)，197(+)，201(+)，203(+)，205(+)，209(+)，214(-)， 216(+)，217(+)，218(+)，218㈠，225(+)，228(+)，229(+)， -3 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐） m 裝 573234 8 8 8 8 A BCD 、申請專利範圍 23〇(+)，232(+)，233(+)，235(+)，236(+)，237⑴，238㈠ 243(+)，246㈩，247㈩，248(+)，250㈠的入射角分級，c 其中： c=Xar2 (8-i) ΜWi 、 a i = 1如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是負值， a i = 0如果在第i個反射鏡之主光線的入射角是正值， M是此投影系統的放大率，及指標i是從物體至影像之反射鏡的編號。 8·根據申請專利範圍第1，2，4，5或7項之任—項的裝置’其中’該投影系統具有自遠心之最小的偏差而仍然能夠使光罩的照明不被遮蔽，使得，對於物上的每一點，在離開物的光線中，與光軸形成最小角度的光線形成一至光軸的角度不大於1 〇。。 9 ·根據申請專利範圍第丨，2，4，5或7項之任—項的裝置其中’遠投影在影像側實際上是遠心的，使得對於在物上的每一點，通過光圈中心的光線在影中與光軸形成一不大於丨。的角度。二 1 〇 ·根據申請專利範圍第丨，2，4，5或7項之任—項的裝置，其中，該投影系統内之每一反射鏡實際上是繞一光軸成旋轉對稱的。 11.根據申請專利範圍第i，2，4，5或7項之任一項的裝置，其中，該投影系統具有一放大率其絕對值在1/3至 1 /1 0的範圍中。 :297公釐） -4 - 573234 申請專利範圍 12:據::專利，圍第…’…或巧之任 ^其:。’"投影系統具有-放大率其絕對值實際上 13·根據申請專利範圍第】，2 , 置，复士、、机 5次7員〈任—項的裝等於出又影系統具有—放大率其絕對值實際上 14·=中請專利範圍第卜2,4,5或7项之任—項的裝 ’其中，喊影光束包含超紫外線輕射，例如，且有一波長在從8至20 nm的範圍中。，、根據申請專利範圍第丨，2,4’5或7項之任—項的裝置，其巾’該投影光束包含超紫外線輕射，例如，具有一波長在從9至I6nm的範圍中。 16. ，據中請專利範圍第卜2，4 ,⑷項之任—項的裝且，其中，此支撐結構包含一光罩平台用以容納—光罩。 17. 根據申請專利範圍第丨，2，4，5或7項之任—項的裝置其中’此％射系統包含一輕射光源。 18 A8 B8 C8 —種積體電路元件製造方法，包含以下步驟： k供一基板，其至少被一輻射敏感材料層部分地苫· 设 TTTT ，使用一輻射系統提供一輻射的投影光束；使用圖樣化構件以給予此投影光束一圖樣在其橫截面；投射此被圖樣化的輻射光束至此輻射敏感材料層的本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇X297公釐) -------- 573234 8 8 8 8 A B c D 六、申請專利範圍一目標部分；其特徵為：在成像的步驟中，使用一種根據申請專利範圍第1、 2、4、5或7項之任一項中定義的微影投影裝置。 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐）