TW562825B - Near infrared-cutting material and process for production thereof - Google Patents

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Description

562825
【發明領域】 本發明係有關於一種近紅外線 法，1盔拉成斗、、台人A %卞刀害J材料及立製造方 次其為積層或複合化合物結構，句人女7叶及” ^ 電磁遮波材料）、抗反射材料或是顯有工程材料（如： 面板，PDP)的正面濾光片材質。本不疋件（如··電漿顯示 紅外線切割材料及其製造方法，心月=別有關於-種近 近紅外線吸收色素，而殘留於樹月脂薄膜包含有- 导飞法 由於树月日溥膜内的溶劑量係達到 fl, . ^ Γ細，專膜在回溫下時近紅外線吸 收色素之長時間穩定性。 【發明背景】 ^習知第一種技術在JP — A-2000 - 2275 1 5專利說明書中揭 露’近紅外線吸收濾光片之製造是於一基底上製作一化合 物積層，其中一枯者樹脂内含有近紅外線吸收色素懸浮 體’而存留於積層中的溶劑量的重量百分比等於或小於5. 〇°/〇 ’適當的溶劑量重量百分比為〇· 05〜3· 〇%。習知第二種 技術在JP-A-9-3306 1 2專利說明書中揭露，近紅外線吸收 面板之製造是積層一近紅外線吸收積層（其乃將近紅外線 色素分散於一透明高分子樹脂中，再以溶融擠壓法處理這 些刀政體）、一具有近紅外線遮蔽功能以及/或電磁遮蔽功 能的電磁遮波層。 然而，上述之濾光片以及面板之製作會遭遇以下困 難。有關於第一種近紅外線吸收濾光片之製造技術中，文 獻中已經指出：當殘留溶劑量的重量百分比控制在〇. 〇 5%
2039-4687-PF(N);cherry.ptd 第5頁 562825 五、發明說明（2) 以下時，當近紅外線吸收色素長時間儲存於高溫度、高溼 度的環境下，可減緩近紅外線吸收色素之變質情形，但是 當加溫至溶劑溶融程度時，則會使近紅外線吸收色素之產 生變質。也就是說，藉由在基底上塗佈形成一化合物層 (包含有粘著樹脂與近紅外線吸收色素懸浮體），再使其乾 燥化所形成之模具材料，樹脂薄膜内的色素的穩定性較 高，而樹脂薄膜内的溶劑態的穩定性較低，因此目前致力 於降低樹脂薄膜内的殘·留溶劑量，最適當為使殘留溶劑量 的重量百分比低於0· 05%。不過，在長壓下乾燥化此化合 物層時’會使近紅外線色素產生熱劣化情形。 口 由此可知’於第一種近紅外線吸收濾光片之製造技術 中，由於近紅外線色素的熱分解現象會使模具材料之樹脂 薄膜的近紅線吸收性降低且變質，因此藉由增加乾燥化= 溫度或是延長乾燥化的時間仍無法使殘留溶劑量的重量百 分比低於0· 〇5%。而且，目前仍無法提供具有高近紅外1線 吸收性、低熱阻性的色素，因此色素之材料可選擇性很 窄。 ~ 有關於第二種近紅外線吸收面板之製造技術，由於在 長壓下進行溶融擠壓時，近紅外線吸收色素會產生熱劣化 (分解）的現象’而且色素分解現象會降低面板之近=外線 吸收性，因此相較前述之近紅外線吸收濾光片，第- " 紅外線吸收面板沒有使用溶劑’可具有較佳之色素穩—、 而且，要使色素中的懸浮體均勻分布並不容易達成，
2039-4687-PF(N);cherry.ptd 第6頁 562825
板之色彩與近紅外線吸收性需趨向於不均勻性。甚 就黛由於長溫之熱擠壓需於高達24〇°C溫度下進行，因此 提：：：？紅外線吸收面板之製造技術而言，目前仍無法 之ϋ ΐ向近紅外線吸收性、低熱阻性的色素，因此色辛 之材枓可選擇性很窄。 畜 【發明概要】 其製ΐ::之主要目的在於提出一種近紅外線切割材料及 線切割材料為：二：知技術產生之問題，㊣中近紅外 減低至最小，以提供長時間穩定性。 線切割材料，禆糸π 4 、I在；^供一種近紅外 膜，透明樹脂ϊί=;:ί明基ΐ上之-透明樹脂薄 樹脂薄長為550〜620-之色素；其中，透明 劑:;:::分比為5~ 外線切割材料，係為ίί二提：-種近紅 膜，透明樹脂薄膜包括右··小一土 &上之一透明樹脂薄 及一透明樹脂粘著層，苴勺人^二近紅外線吸收色素；以 55 0〜62〇nm之色素/日/、〇 s有一具有最大吸收波長為 之最外層；1中、，、#彡明樹脂㈣層係為透明樹脂薄膜 比為5〜500卿。明樹脂薄膜之殘留溶劑量之重量百分 康述目@，纟發明之再一特徵在於提供一種近紅
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卜線切割材料的製作方法，包括下列步驟： 其中透明樹脂 具有最大吸收 ^ ★於一透明基底上塗佈一透明樹脂薄膜， 薄暝包括有至少一近紅外線吸收色素以及一 波長為550〜620nm之色素； 進行一大氣壓乾燥化製程，直至使透明樹脂薄膜之殘 留溶劑量之重量百分比小於或等於3% ;以及 、 、 進行一低壓乾燥化製程，直至使透明樹脂薄膜之殘留 溶劑量之重量百分為5〜5〇〇ppm。 【發明之詳細說明】 ’ ◊ 本發明提供一透明基底，其種類、厚度、形狀等等不 又特殊限制，只要具有透明性、足夠之熱阻性以及機械強 度可抵抗本發明之薄膜形成步驟，如：塗佈步驟以及乾燥 步驟。舉例而言，透明基底可為玻璃片、塑膠膜、塑膠 片、塑膠板等等’特別是一種強化玻璃片、聚乙晞對笨二 曱酸醋（polyethyl ene ter epht ha late，PET)薄膜、多晶 碳酸鹽（poly-carb〇nate，PC)薄膜、三醋酸纖維速 (triacetyle cellulose，TAC)薄膜、壓克力樹脂片、聚 碳酸6旨片、共聚體型之樹脂片以及原冰片烯（n〇rb〇rnene) 樹脂片。 本發明之透明樹脂薄膜的樹脂，其種類不受特殊限 制’只要具有透明性，且當製作成一樹脂溶液或樹脂薄膜 時可均勻地分散或溶解色素。舉例來說，樹脂的材質可選 用··多晶碳酸鹽（p〇 1 y — carb〇nate)、聚丙烯酸酯
2039-4687-PF(N);cherry.ptd
562825 五、發明說明（5) (polyacrylate)、聚碳乙醯胺（p〇iyCarb〇diiniide)、環氧 树月曰（epoxy resin)、聚乙烯縮酸（p〇iy 一 vinyi aCetai)、 丙烯樹脂（acrylic resin)以及聚脂（p〇iyester)，且可將 上述之兩種以上混合製作成本發明之透明樹脂薄膜。至於 樹脂的型式不受特殊限制，舉例來說，可為粉末、丸狀或 其他型式。 本發明之透明樹脂粘著層的樹脂，其種類不受特殊限 制，只要具有透明性與粘著性，且可均勻地分散或溶解色 素。舉例來說，樹脂的材質可選用：多晶碳酸鹽、聚碳乙 醯胺（fdycarbodiimide)、環氧樹脂（epoxy resin)、聚 乙烯縮醛（poly-vinyl acetal)、丙烯樹脂（acrylic resin)以及聚脂（polyester)，且可將上述之兩種以上混 合製作，最佳方式是混合聚碳乙醯胺 (polycarbodiimide)、環氧樹脂（ep〇xy resin)、丙烯樹 脂（acrylic resin)。至於樹脂的型式不受特殊限制，舉 例來說，可為粉末、丸狀或其他型式。 本發明亦提供各種添加物於上述之透明樹脂薄膜盥透 明樹月曰:2著層的樹脂内，以預製一透明樹脂溶液。而、：透 明樹脂溶液可塗佈於前述之透明基底i，以 脂薄膜與一透明樹脂粘著層。 风透月树 有關於上述之添加物，可先描述近紅 其不具任何限制，只要其具有最大吸收波長達收色素 800〜12〇0nm，且可分散或溶解於前述之透明樹脂溶 明樹脂薄膜與透明樹脂粘著層。 透 q 舉例來說，雙硫醇金屬錯
562825 五、發明說明（6) 體系化合物（dithiol - metal complex compound)、戴易莫 尼安化合物（diimonium compound)、氰光化合物 (pat ha 1 ocy an i ne compounds )、奈氫化合物 (naphtha 1 ocy an i ne compound)、偶氮化合物（azo compound)、多次曱基化合物（polymethine compound)、 蔥昆化合物（anthraquinone compound)，且可將上述之兩 種以上混合製作，較佳方式是混合雙硫醇金屬錯體系化合 物、戴易莫尼安化合物。雙硫醇金屬錯體系化合物 (di thiol-metal complex compound)之最佳化學式如第 (1)化學式所示：
戴易莫尼安化合物（diimonium compound)之一般化學气 第（2)化學式所示： 》
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其中，&〜r8可視為相同或不同的一個氫原子、烷基 (alkyl)族、芳基（aryl)族、烧氧基（alkoxy)族、苯塵基 (phenoxy)族或經基（hydroxyl)族，而X -是一個鹵素陰離 子（halogen anion)、過氣酸陰離子（perchloric acid anion)、六氟化錄陰離子（antimony hexafluoride anion)或氮化酸陰離子（nitric acid anion)。 雙硫醇金屬錯體系化合物（dithiol-metal complex compound)之一般化學式如第（3)化學式所示：
2039-4687-PF(N);cherry.ptd 第11頁 562825 五、發明說明（8) 其中&〜R12可視為相同或不同的一個具有1〜4個碳原子的環 烯（alkylene)族、烷基（alkyl)族、烷基苯（alkylamino) 族、烧氧基（alkoxy)族、經基（hydroxyl)族或氫原子。 有關於添加物，其可為具有最大吸收波長達 550〜620 nm之色素，也就是一種含有氖光之橘色光區域， 且可分散或溶解於前述之透明樹脂溶液、透明樹脂薄膜與 透明樹脂粘著層中。舉例而言，色素材質可為：氰化素化 合物（cyanine compound)、史誇寿4黎安 匕合物 (squarylium compound)、西弗鹼化合物（azomethine compound)、三苯喃化合物（xanthene compound)、歐克松 4匕合物（oxonol compound)以及偶氣 匕合物（&ζο compound)。最佳使用者為氰化素化合物（cyanine compound)，其化學式如第（4)式所示： o2n, CH3CHCH2CH2 ch3 CIO, N〇2 N I CH2CH2CHCH3 CH3 ⑷ 其他種類之添加物，如··調色彩之色素或染劑、超音
2039-4687-PF(N);cherry.ptd 第12頁 562825 五、發明說明（9) 波吸收材質、交聯劑（crosslinking agent)、阻止聚合劑 (Polymerization retarder)以及其他類似可溶解於前述 之透明樹脂溶液、透明樹脂薄膜與透明樹脂粘著層中的材 質。其中’調色彩之色素或染劑最佳使用為氰光化合物 (pathalocyanine compounds)。 除此之外，可將有機或無機之金屬粒子散佈於透明名 脂溶液、透明樹脂薄膜以及/或透明樹脂粘著層之内，則 對於透明樹脂薄膜以及/或透明樹脂粘著層而言，具有應 力鬆弛、硬度控制、防止平滑以及提供導電性等優點。
本發明之近紅外線切割材料之主要功能係為提供近袭 外線切割。一般而言，近紅外線切割材料之製作係為少^ 種且大篁生產的方式，且其透明樹脂薄膜需提供所有需屋 的，能，包含有主要的功能（例如：橘光切割）以及其他含 功此（例如：調色）。而且，當近紅外線切割材料之製作令 ίίί種且少量生產的方式，須於透明樹脂薄膜上方製七 ，月树脂粘著層，則透明樹脂薄膜僅提供主要的功能， 、明树脂粘著層僅提供其他的功能。不
長在橘光區域内，則透明樹脂薄膜以 層均需提供適當的功能。 以树月曰枯笔 別的t明之透明樹脂溶液之溶劑的種類、沸點並沒有本 八H，只限制此溶劑必需要分解溶液内的樹脂且可^ 月欠/分解溶液內& &主 伽, 』73 ^(tetrahydr〇furan THn y tUran，THF)、乙醚（diethyl ether)、
2039-4687-PF(N)；cherry.ptd 第13頁 562825 五、發明說明（ίο) 1,4-二氧陸圜（1，4-dioxne)、1，3-二氧五圜 (1，3- dioxolane)、三氣曱院（chloroform)、一氣曱燒 (dichloromethane/methylene chloride)、乙基醋酸鹽 (ethyl acetate)、甲基醋酸鹽（methyl acetate)、丁基 醋酸鹽（butyl acetate)、曱醇（methanol)、乙醇 (ethanol)、異丙醇（isopropyl alcohol)、二曱基甲酿胺 (dimethylformamide，DMF)、二甲亞楓（dimethyl sulfoxide ，DMS0) 、NMP(N-methylpyrrolidone)、兩綱 (acetone)以及過氧化丁酮（methyl ethyl ketone)。上述 這些材質可單獨使用或是混合使用。 & 本發明應用於透明樹脂薄膜以及透明樹脂粘著層之 明樹脂溶液之製作係為前述之材質，並未加以限制其 方法與製作環境。不過，一般來說有以下幾種方 獲得均勻的溶液或懸浮液：（1)混合樹脂、w可以 劑；（2)混合樹脂溶液與色素；（3)混合樹脂與色 (，素懸洋液> ;⑷混合樹脂溶液與色素溶液（色素: 液）。就製作方法而言，可依據色素與樹、^，子 效率選擇上述之一種混合方式。就製作辰度^以及操作 溫下進行，直至獲得-均句的溶液或懸浮；可於室 環境中進行，只要不會使色素產生分 ’也可於加熱 對於透明樹脂溶液而言，並未加以限：复 脂，只要能夠獲得-均勾的溶液或懸浮液S色素與樹 當製作完成上述之透明樹脂溶液之：：。 溶液塗佈於一透明基底上， =而將透明樹脂 子“ “化以形成—透明樹
562825 五、發明說明（11) 脂薄膜或-透明樹脂粘著層。塗佈方法可採用習知的任一 種方式’例如：浸泡法、旋塗法、印臈法 輪塗佈、喷塗法等等。 π狀文师滾 2後’先進行第-階段乾燥化’將此塗佈基底置於一 大氣壓下進行乾燥處理，直至殘留溶劑量的重量百 於或低於3% ’接著再進行第二階段乾燥化，將此塗佈 J = 下進行乾燥處理，直至殘留溶劑量的Ϊ量 百分比範圍在5ppm〜50 0ppm。 >在此並未限制第一階段乾燥化之一大氣壓下的操 度範圍，只要不會使色素產生分解即可。另外， : 二階段乾燥化時’係將降低幻卜1G4pa，最佳的壓第 圍為10-〜l〇3pa。這是因為當壓力低於1〇_5pa時，需 更大、更高花費的機台’而當壓力高於1〇4pa時，不易 殘留溶劑量的重量百分比低於500ppm以内，所以第二阡 乾燥化之壓力條件不宜採用1 〇_5pa與丨〇4Pa。 白又 第二階段乾燥化之操作溫度範圍要低於第一階段 ί之=溫度、，，例如：5〜5Gt，最佳的溫度範圍為UM00、 。攻疋因為當第二階段乾燥化在高溫下或長時間内 的情況下，即使採用一大氣壓的傳統乾嫦化處理，添加 ^會產生产解，而若是第二階段乾燥化的操作溫度低， ;c，則乾燥化時間需縮短以避免添加的色素產生分-解，但是仍無法完全確保色素不會產生分解。另外，者 二階段乾燥化之溫度低於第一階段乾燥化之溫度150 上，即使操作壓力低於1 〇_5Pa，仍不易使殘留溶劑量的重 第15頁 2039-4687-PF(N);cherry.ptd 562825 發明說明（12) 量百分比低於500ppm以内。 本發明並未特別限制透明樹脂薄膜或透明樹脂粘著層 内的色素含虿’只要色素能夠均勻地溶解或懸浮於透明樹 脂薄膜或透明樹脂粘著層内，且可顯現出足夠之可見光穿 透度、近紅外線切割性質、橘光切割性質等等即可。雖然 色素含量可隨著透明樹脂薄膜或透明樹脂粘著層之厚度增 加而減少，但是一般來說，色素之最適當含量需依照透明 樹脂薄膜或透明樹脂粘著層之厚度決定。 - 至於透明樹脂薄膜或透明樹脂粘著層之厚度，並未加 以限制。不過，其最適當的厚度取決於色素含量、樹脂溶 液的性質、樹脂薄膜的缺陷（例如··斷面或皺皮表面）、薄 膜成品之曲翹度（例如：薄膜或片狀）。舉例而言，其厚度 範圍可為卜100#m，最佳之厚度範圍為2〜5〇#m。這是因 為當其厚度小於1 # m時，很容易產生斷裂，當i 1。〇_時’很容易產生皺皮表面。 ”厚度為 透明樹脂薄膜或透明樹脂粘著層之殘留溶劑量的重量 百分比範圍必須控制在5ppm〜5〇〇ppm範圍内，最佳的範圍里 為l〇:50 0ppm。這是因為當殘留溶劑量小於5ppm時，透明 樹脂薄膜或透明樹脂粘著層之色素的穩定性變得跟習知 f 一樣，且須耗費相當高的加工製作成本。而當殘留溶 _ 篁大於500ppm時，透明樹脂薄膜或透明樹脂粘著層之 無法提供足夠之長時效穩定性。 、- 透明樹脂薄膜或透明樹脂粘著層之殘留溶劑量的量 方式如下列所述。首先，利用氣體層析術準確量測一樣品
562825
之重量，其中 膜’且此樣品 樣品之任一預 算平面基底材 下列式子計算 附帶一提 全地計算出薄 厚度增加而縮 可為正方形、 下文特舉 明如下： 此樣品包含有一平面 所包含之殘留溶劑量 期面積内，於去除溶 料重量B(g)以及層薄 出殘留溶劑量：殘留 的’所謂的「預期面 膜重量的區域，而且 小。另外，平面基底 長方形、圓形或其他 出較佳實施例，並配 基底材料以及一層薄 為A(ppm)。然後，於此 劑之前與之後，分別計 膜重量C(g)，則可依據 溶劑量（p p m) = A * B / C。 積」是指可以準確且安 此預期面積可隨著薄膜 之輪廓並未加以限制， 便於切割之形狀。 合所附圖式，作詳細說 【第一實施例】 近、工外線色素採用1，3-一氧五園（1，3 - dioxolane)之 重量為1〇〇，當鎳金屬錯體系化合*(dithi〇1—nickei complex)之重量為〇· 〇7時，係如同第（1)化學式所示。而 當戴易莫尼安化合物（diimonium compound)之重量為 0 · 2，係如第（2，）化學式所示：
2039-4687-PF(N);cherry.ptd 562825 五、發明說明（14) 當鎳金屬錯體系化合物（dithiol- nickel complex)之重量 為0· 2時，係如同第（3’）化學式所示
(3!) 當色素之最大吸收波長位於橘光區域内時，氰化素化合物 (cyanine compound)係如同第（4)化學式所示，可用以°製 備色素溶液。上述中係添加重量1 8之聚碳酸自旨 、 (Polycarbonate)，隨後再加以混合以製備成為一塗佈溶 利用一條桿塗佈器，將此塗佈溶液塗抹於— (一種透明基底）jL，厚度為t日= :-阳段乾燥化，其操作條件為“ 1〇_3p :進订 知，便可製成—樹脂薄膜，用以作為 〇 C :25分 切割材料。去+ 士哲 ^ 夺腸狀之近紅外線 ^田凡成第一階段乾燥化之後，殘& ^ 殘留溶劑的重量 第18頁 2039.4687.PF(N)；cherry.ptd 562825
百分比為2. 5% ’當完成第二階段乾燥化之後，殘留溶劑的 重s百分比為0.01%(相當lOOppui的重量）。 上述之薄膜狀的近紅外線切割材料具有良好之起始性 質，例如··起始近紅外線切割性質，且提供良好之長4效 穩定性。尤其是進行長時間的熱阻測試（80它x 1 0 0 0小時） 之後，仍可使其光分離性質維持不變。 【第一比較例】 相同於第一實施例之塗佈條件下，將一相同成分之塗 佈溶液塗抹於基底上。然後，進行第一階段乾燥化，盆操 作條件為一大氣壓、80 t、30分鐘，便可製成一薄膜ϋ 近紅外線切割材料，其殘留溶劑的重量百分比為〇丨％。此 薄膜狀的近紅外線切割材料具有良好之起始性質，例如· 起始近紅外線切割性質，但是無法提供良好之長時效穩定 性。尤其是進行中期熱阻測試（8〇 t χ 5〇〇小時）之後，豆 光分離性質會稍微減弱，而進行長時㈣熱阻測試⑻ς X 1 00小時）之後’其光分離性質會明顯降低，而導致無法
【第二比較例】 相同於第-實施例之塗佈條件下，將一相
佈溶液塗抹於基底上。秋诒，4 I ^ &上然後，進行第一階段乾燥化，其 作條件為一大氣壓、1 Π V Ο Π ,ν βt . 1ϋϋ C、30分鐘，便可製成一薄膜片; 之近紅外線切割材料，盆森、—十丨 J W科，其殘留溶劑的重量百分比為
562825 五、發明說明（16) 生此Λ膜狀，近紅外線切割材料在乾燥化過程中， 便會發生色素分解現象，使其起 ：： 外線切割性質）遠不如第一實施例與第一 工 因此也不需額夕卜進行長時間的熱阻測試。之〜果， 【第二實施例】 "塗備大致如同第一實施例所述，不同的是 1，3 —乳五圜（1，3-dloxo lane)改由二氣甲烷 (diChl〇romethane)所取代，而聚碳酸醋改^全芳香族飽 ，聚醋（P〇iyarylate)所取代。然後，使用與第一實施例 =同之塗佈與乾燥條件’便可製成—薄膜狀之近紅外線切 d材枓。t完成第-階段乾燥化之後，殘留溶劑的重量百 :t匕為2. 0%，當完成第二階段乾燥化之後，殘留溶劑的重 量為5Oppm。 上述之薄膜狀的近紅外線切割材料具有良好之起始性 質，例如：起始近紅外線切割性質，且提供良好之長時效 穩疋性。尤其是進行長時間的熱阻測試（8 〇。匚X丨〇 〇 〇小時） 之後，仍可使其光分離性質維持不變。 【第三實施例】 塗佈浴液之製備大致如同第二實施例所述，不同的是 全芳香族飽和聚醋（polyary late)改由聚甲基丙烯酸甲酷 (polymethyl methacrylate)所取代。然後，使用與第 一、第二實施例相同之塗佈與乾燥條件，便可製成一薄膜
562825 五、發明說明（17) 狀之近紅外線切割材料。當穿士势 留溶劑的重量百分比為段乾燥化之後，殘 後，殘留溶劑的重量為50ppm。 I自扠钇烁化之 上述之薄膜狀的近紅外線切割材料具有良好之 質，例如：起始近紅外線切割性質，始性 穩定性。尤其是進行長時間的熱阻測；長時效 之後’仍可使其光分離性質維持不變。、Cx 1 000小時) 【第三比較例】 相同於第三實施例之塗佈條件下，將一 、 佈溶液塗抹於基底上。然後’進行第焊1塗 此薄膜狀的近紅外線切割材料具有良好之起始性暂〇9j ::起始近紅外線切割性質，但是無法提供 之稃： 性。尤其是進行中期熱阻測試（80 t χ 5〇〇小 之^疋 光分離性質會明顯降低，而導致無法使用。 後，，、
由上述可知，對於包含有色素之透明樹脂薄膜 其殘留溶劑量被控制在一個最小程度内，尤其是、而曰， 10〜500ppm範圍以内，則可明顯提高近紅外線色I :之長時效穩定度。舉例來說’ &進行長期熱阻、二=
Cx 1 000小時）之後，其近紅外線切割性質仍可、j/(8〇 變。 、疼夺寻不 同時，當殘留溶劑量超過上述之1〇〜5〇〇ppm範圍時， 第21頁 2039-4687-PF(N);cherry.ptd 562825 五、發明說明（18) 其光分離性質會逐漸下降。雖然在500小時内，下降之光 分離性質仍在可容許範圍内，但是在1 0 0 0小時之後，則無 法再提供使用，其色相會產生大幅變化。 而且 ---y p 祀固 時，可以使用其他原本無法使用的色素，例如：因為具有 長效穩定度不佳的色素。所以，色素/樹脂材質組合範圍 相當大，使得具有光分離性之近紅外線切割材料之設計自 由性更咼’進而可提供多樣性之近紅外線切割材料。 另外，於習知技術中無法採用高沸點溶劑的原因是， 第一、第二階段乾燥化皆為一大氣壓下操作。相較之下， 本發明係於於一大氣壓乾燥化（第一階段乾燥）之後 真空乾燥化（第二階段乾燥）中’因此亦可使用高沸點溶 ，二：此-來，透明樹脂溶液内之色素/樹的 J合，相…而且使用高沸點溶劑 ：負 易於控制塗佈條件以及所製成之薄膜厚度。 第一 受限於透明樹脂溶液之使用壽 ς 費的時間需盡量縮短 '然而，太狢日曰+因此進仃塗佈所耗 材質組合範圍相當大，因 色素/樹脂/溶劑的 透明樹脂溶液，如此一來由長使用壽命之 液，並加以儲存，進而大曰广 里的透明樹脂溶 與操作效率。 田什透明樹脂溶液的使用效率 以限定本發明，任何熟習此技：:揭；如1，然其並非用 孜食者’在不脫離本發明之精
2039-4687-PF(N);cherry.ptd 第22頁 雖然本發明已以一較佳眚 562825 五、發明說明（19) 神和範圍内，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 mm 2039-4687-PF(N);cherry.ptd 第23頁 562825 圖式簡單說明 2039-4687-PF(N);cherry.ptd 第 24 頁

Claims (1)

  1. 562825 六
    1 · 一種近紅外線切割材料，係為形成於一透明基底上 之一透明樹脂薄膜，該透明樹脂薄膜包括有： 至少一近紅外線吸收色素；以及 一具有最大吸收波長為550〜620nm之色素； 其中，該透明樹脂薄膜之殘留溶劑量之重量百分比為 5〜500ppm 〇 2 · —種近紅外線切割材料，係為形成於一透明基底上 之一透明樹脂薄膜，該透明樹脂薄膜包括有： 至少一近紅外線吸收色素；以及 一透明樹脂粘著層，其包含有一具有最大吸收波長為 55 0〜62Onm之色素，且該透明樹脂粘著層係為該透明樹脂 薄膜之最外層； 其中’該透明樹脂薄膜之殘留溶劑量之重量百分比為 5〜500ppm 〇 3 ·如申請專利範圍第1或2項所述之近紅外線切割材 料，其中該透明樹脂薄膜之樹脂為聚碳酸酯 (polycarbonate)或全芳香族飽和聚醋（polyary late)。 4.如申請專利範圍第1或2項所述之近紅外線切割材 料，其中該近紅外線吸收色素為金屬錯體系化合物 (dithiol - metal complex compound 乂或戴易莫尼安化合物 (di imonium compound) 〇 5 ·如申請專利範圍第1或2項所述之近紅外線切割材 料，其中具有最大吸收波長為550〜620nm之該色素為氰化 素化合物（cyanine compound) °
    562825
    案號 91103930 六、申請專利範圍 驟· 6· -種近紅外線七刀割材料的製作方法 *於一透明基底上塗佈一透明樹脂薄 脂薄膜包括有至少一近紅外線吸收色素以其中該透明樹 收波長為550〜62〇nm之色素； 、及一具有最大吸 進行一大氣壓乾燥化製程，直至使哕 殘留溶劑量之重量百分比介K5ppm〜3% = 2明樹脂薄犋之 進行一低壓乾燥化製程，直至使該透;执以及 留溶劑量之重量百分為5〜5〇〇ppm。 对脂薄膜之殘 、7:如申請專利範圍第6項所述之一種近紅外線切割材 料的製作方法，其中於該低壓乾燥化製程之壓力為 10』〜104Pa，溫度為5〜15(rc，且該低壓乾燥化製程之操作 溫度低於該一大氣壓乾燥化製程之操作溫度。
    2039-4687-PFl(N);cherry.ptc 第26頁
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