TW531682B - Process and materials for imagewise placement of uniform spacers in flat panel displays - Google Patents

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TW531682B
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TW
Taiwan
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transferable
spacer layer
receiver
layer
spacer
Prior art date
Application number
TW86108205A
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English (en)
Inventor
John Scott Staral
Claire Anne Jalbert
William Alden Tolbert
Martin Benson Wolk
Allan Richad Martens
Original Assignee
Minnesota Mining & Mfg
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Description

531682 A7
發明領域 本發明係有關一種安置間隔物在一承接體（recept〇r)上的 万法及材料，其可於平板顯示器中提供均一間隔（unif〇rm spacing)以及結構性支撐（support)。本發明尤其關於利用一 種熱轉移授體平板（thermal transfer donor Sheet)以及一成像輕射源（imaging radiation source)，而能精確安置該間隔 物。 技術背景 在平板顯示器（例如液晶顯示器、電照明顯示器、真空勞 光顯示器、場射顯示器、及電漿顯示器）中控制間隔物以及 機械力，經常是影響相關裝置性能的關鍵因素，並且由間 隔物與相關裝置的結合情形所決定。例如，在液晶顯示器 (LCD)中，離開顯示器之光線的極化作用，部分是由該顯 示器光線的光程所控制。目前的顯示器技術中，液晶顯示' 器的厚度係由間隔物所決定’而該間隔物可以是粒子的^ 慼（圓球或纖維）、長條狀（圓柱或長柱狀）、或是微管狀等。 對輕型顯示器而言，間隔物變得益形重要，為了達到重量 輕的目的，便常使用比玻璃還輕的透明聚合物基板。然 而’聚合物基板太柔軟，需要較密集的間隔物，以保持整 個顯示板具有均一厚度。最常用且較不昂貴的方式是，在 整個基板或對齊層的表面上沉積一群散亂棑列的粒子，續 粒子具有狹窄的尺寸分佈。該方法具有一明顯的缺點，即 典法fe制粒子的排列，導致大部分的粒子集中在顯示器的 顯示窗，因而降低穿透該顯示器的光量大小。在許多麻用 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（21〇x 297公釐）
裝 玎 •緣
P 531682 A7 B7
中，粒子並不固定在該基板上，而會平移或遷移，造成顯 示器上出現斑點。在噴霧應用中，會產生另一製造上的問 題。該顯示器在第1 0級至第1 〇 〇級的無塵室中組裝，以便 符合液晶顯示器的光學要求。將粒子噴霧飛散沾附在表 面，會使得該粒子在空氣中傳播，因此很難保持第丨〇級至 第1 0 0級無塵室的標準。基板愈薄，則粒子變愈小而愈難控 制以及應用。 一美國專利（U.s· Patent No· 4,720，173)以及三日本專利（Jp 7325298、JP 5203967、及JP 2223922)便企圖克服上述液晶 顯示器之缺點，其中一光阻材料貼附在基板上，予以成像 及顯影，以產生間隔物。此方法能讓間隔物更精確的安置 在基板上；然而，需要使用顯影步騾使得該方法多出一額 外的步騾。液體顯影方式也會產生耗廢的顯影劑溶液而需 另作處理。許多顯影劑包含溶劑或具有高{)11值，因此需要 特殊的處理，以符合聯邦環境法規以及州環境法規針對安 全及/或處置方面的要求。當使用光阻時，該方法也很難保 持一均句的間隔物厚度，例如，部分表面會被顯影劑蝕刻 掉較^ ’而其它部位則被姓刻掉較少。 另一解決控制液晶顯示器中間隔的方法係描述於美國專利 第5,268,782號中；其中一顯微構造的基板用來同時當作基板 與間隔物的單-結構體。為了極小化顯示窗區域的干涉程 度，該顯微表面一般包含一組平行凸緣（微脊背、 microribs)即使在光學窗範圍内的間隔物比例已經被極小 化，但是在顯示器上還是會產生剥離效應（Μη—叫 -5- 丨X 297公釐） A7
531682 五、發明説明（4 ) 可轉移間隔層可以是一非複合有機物或是—複合物，並 包含所具有之間隔尺寸小於或大於可轉移間隔層厚卢之未' 子。當粒子的的間隔尺寸小於或等於可轉移間隔 時，則可轉移間隔層厚度便控制了承接體與—連結二間二 元件以形成平板顯示器裝置之額外基板之間的間隔距=。 當粒子的間隔尺寸大於可轉移間隔層厚度時，則粒子間隔 尺寸便控制了平板顯示器裝置内的間隔距離。 ^ 在另一具體實施例中，一種於承接體上選擇性的安置間 隔兀件以使孩承接體用於平板顯示器中的方法，係包八五 個’步驟··⑴提供-種上述之熱轉移授體平板；⑺二緊:接 觸”地安置孩承接體與熱轉移授體平板的可轉移間隔層；（ 於成像圖樣中以成像輕射對熱轉㈣體平&或承接體:至少 一者進行照射，以使得承接體或熱轉移授體平板結構中的 輕射吸收劑吸收部份的成像輕射，並將該赛射轉換成熱； ⑷將經照射區域中的可轉移間隔層轉移到轉體上；以及 (5)移除熱轉移授體平板，以便形成對應於承接體上經照射 區域的間隔元件。 。。於再另-具體實施例中，係描述一種用於建構液晶顯示 器裝置之方法，其除上述步騾外，另進一步包括以下步 驟：⑹將該間隔元件連結到_基板上，以在該基板以及該 承接體之間形成多個空穴；⑺用液晶材料填滿該空穴；以 及（8)密封該基板邊緣至該承接體。 本文中所使用的緊密接觸，，乙語係指二表面能充分的接觸 子使得材料的轉移可在成像過程令完成，以在加熱區中提 :297公釐） 五、發明説明（5 ) 供充分的材料轉移 裝置失效之缺陷。 也就是說，在成像區中沒有會使得該 二平行基板（或支撐體 或二者提供結構性支 ) ”間隔物”或"間隔元件,,是指能隔開 的裝置，同時能對該二平行基板之一 撐。 、疋旨介於二平行基板之間、由該間隔元件所 的間隔：隔距離。對於由非複合有機物或複合材料所構成 ::兀件’其中複合物包含的粒子，其大小比可轉移間 隔曰的厚度小’則間隔尺寸等於可轉移間隔層的厚度。如 、複口物所包3粒子的間隔尺寸大小比可轉移間隔層的 厚度還大’制隔尺寸等於該粒子的直徑，或是#粒子垂 f排列於«板時，則間隔尺寸等於該粒子的高度。也就 是說如不粒子是圓球形，則圓球的直徑便是間隔尺寸。 如果粒子疋圓柱形（圓棒狀），則當該圓柱的排列使得圓形 尺寸垂直於孩基板時，圓柱的直徑便是間隔尺寸。如果圓 柱的排列使得圓柱粒子的長垂直於該基板時（亦即介於基板 之間的圓棒），則圓柱的高度便是間隔尺寸。 成像輻射’，是指得自一輻射源的能量，其會造成一主轉 移層的影像轉移，從一熱轉移授體平板到一承接體（或基 板）。 發明詳細說明 本發明是有關於一種在一用於平板顯示器中之承接體上 放置間隔元件之方法，該間隔元件係利用選擇性的照射一 熱轉移授體平板而被安置在該承接體上，該熱轉移授體平 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） A7 B7 531682 五、發明説明（6 板桉順序包含：（a)—支撐體、（b) —選擇性光熱轉化層、（c) 、、擇〖生非轉移中間層、（句一可轉移間隔層、及（e) 一選擇 性黏著層。孩方法包括以下步驟：（i)，，緊密接觸”地安置一 祆接把與上述之熱轉移授體平板；（ii)以成像輻射對熱轉移 授體平板或承接體（或其一部份，亦即，基板、間隔層、中 間層光熱轉化層、及/或黏著層）之至少一者進行照射， 以於孩經照射區域中提供足夠的熱以將該間隔層轉移至該 承接體上；及（iii)將該經照射區域中之可轉移間隔層轉移 至該承接體上。 本發明熱轉移授體平板可以藉將上述（b)、（c)、（d)及/或（e) 層/儿積在一支撑體上而製得，該支撐體可由已知可使用作 為熱轉移授體平板支撐體的支撐材料所構成。該支撐體可 以疋硬貝平板材料，例如玻璃或柔性薄膜。該支撐體可 為平滑或粗糙、透明、半透明、不透明、平板狀或非平板 狀。適當的薄膜支撐體包含聚酯類，例如聚對苯二甲酸乙二 酯（polyethylene terepthalate)以及聚茶酸乙二酯 (polyethylene naphthalate)、聚石風（p〇iysuifone)、聚苯乙烯 (polystyrene)、聚碳酸酯（p〇lycarb〇nate)、聚醯亞胺 (polyimide)、聚醯胺（p〇iyamide)、纖維酯〇ellui〇se ， 例如纖維醋酸酯以及纖維丁酸酯（cellul〇se butyrate)、聚氯 乙烯（polyvinyl chloride)、其衍生物、以及一或多種上述物 質的共聚物。支撐體的一般厚度約為1至2〇〇微米。 可轉移間隔層可以包含有機材料或複合物，該複合物包 含其中捧入粒子或纖維之有機材料。適當的材料包括已知 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐）
裝
531682 A7 _________B7 五、發明説明（7 ) 的聚合物、共聚物、寡聚物及/或單體。適當的聚合物結合 劑（binder)包含諸如熱固性、可熱固性或熱可塑聚合物，包 含酚醛樹脂（亦即，線型酚醛清漆樹脂"novolak，，及可熔酚醛樹 月曰resole”）、聚乙烯醋酸酯（p〇iyvinyiacetate)、聚偏二氯乙 烯（polyvinylidene chloride)、聚丙醯酸酯（p〇iyacryiate)、纖 維酸、纖維酯、硝化纖維、聚碳酸酯、聚砜類、聚酯類、 苯乙缔/丙烯腈聚合物（styrene/acrylonitrile polymer)、聚苯 乙婦、聚縮醛（p〇lyacetal)、（甲基）丙烯酸酯聚合物、α -氯 丙烯腈、蘋果酸樹脂及共聚物、聚醯亞胺、聚醯胺酸、聚 醯胺酸酯以及其混合物。 當可轉移間隔層包含一熱固性結合劑時，熱固性結合劑 可以在轉移到承接體後進行交聯反應。該結合劑可藉由任 何適用於該特定熱固性結合劑之方法予以交聯，例如將該 熱固性結合劑曝露於熱中、以合適的輻射源照射、或化學 交聯劑交聯。 可轉移間隔層中可添加粒子或纖維，以形成一複合物。 可以利用已知的粒子或纖維作添加物，只要其間隔尺寸小 於或等於特定顯示裝置所需的間隔大小。添加粒子可具有 小於可轉移間隔層之厚度的間隔尺寸，或具有大於可轉移 間隔層之厚度的間隔尺寸。當粒子尺寸較小時，則可轉移 間隔層的厚度便控制該顯示裝置内的間隔。而當使用較大 的粒子時’則所使用粒子的尺寸便控制該顯示裝置内的間 隔。最好有至少5 %的粒子具有比可轉移間隔層厚度還大的 尺寸，而能到10%是更好。任一方法都能用來在顯示器中達 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210χ297公釐） 531682 A7 __ _ B7 五、發明説明（8 ) 成基板之均一分隔及支撐的要求。適當的粒子包括有機的 及/或無機的材料（實心或中空），可以具有任何適當的形狀 (即，球形、短棒、柱狀、三角形、及梯形）以及粒徑分 佈’只要能保持所需的間隔大小。較佳的粒子包括現今的 LCD間隔圓球、短棒等，其係由玻璃或塑膠所構成，例如 於Japanese Kokai Patent Application No· HEI 7[1995]-28068 及U. S. Patent Nos，4,874,461、4,983,429、及5,389,288 中所 提及者。在LCD顯示器中，粒子尺寸分佈的標準偏差最好是 在+或-20%的平均粒子間隔尺寸（也就是說，圓球或圓柱形 粒子的平均直徑，或是圓柱形粒子的平均高度）。更佳的標 準偏差為平均值的+或_10%，而標準偏差最佳是+或_5%的 平均間隔尺寸。當使用纖維持，間隔尺寸一般是以纖維的 丹尼（denier，或細度）為量度單位。纖維的長度最好是小於 可轉移間隔元件的直徑。 分散劑、表面活性劑以及其它添加劑（即，抗氧化劑、光 安定劑及塗佈助劑）可以用來幫助粒子以及/或纖維的分 散，或賦與可轉移間隔元件其它技藝人士所熟知的有利特 性到。 顯π裝置中容忍拉力的元件壓縮性（也就是說，可轉移間 隔元件所包含的粒子，其粒子間隔尺寸大於可轉移間隔^ 件的厚度，以及可轉移間隔元件中並不包含有間隔尺寸大 於可轉移間隔元件厚度的粒子）必須足夠大，以便在顯示裝 置中保持均一間隔的空隙^ 熱轉移授體平板可以包含其它的已知可用在主熱轉移授 -11 -
531682 A7 ------ ---B7 五、發明説明（9 ) 平板上的成份’如輪射（或光）吸收性材料，其能吸收成 像輻射並轉化該輻射能為熱能，因此可幫助可轉移間隔層 由該授體平板轉移到承接體。輻射吸收性材料可以使用任 何已知的習用輻射吸收性材料，只要能吸收一部分入射的 成像輻射，並將該成像輻射能轉化成熱能即可。合適的輻 射吸收性材料包括吸收性染料（即，能吸收紫外光、紅外光 或可見光波長的染料）、結合劑或其它聚合物材料、有機或 换機顏料（其可為一黑體（black-body)或非黑體吸收劑）、金 屬或金屬膜、或其它適當的吸收性材料。 特別有用的輻射吸收性材料的例子為紅外線吸收性染 料。有關此染料種類的說明可見於Matsu〇ka，M.，/n/Vared Absorbing Materials, Plenum Press, New York, 1 9 9 0、M ats uo ka，M . ? Absorption Spectra of Dyes for 之 Bunshin Publishing Co·，Tokyo，1990，美國專 利第 4,772,583 、4,833，124 、4,912,083 、4,942，141 、 4,948,776、4,948,777、4,948,778、4,950,639、4,940,640、 4,952,552、5,023,229、5,024,990、5,286,604、5,340,699、 5,401，607號，以及歐洲專利第321,923及568,993號。其它的 染料則描述於 Bello，K. A.等人之 J. c/ι·. Soc., C/zem. Comm肋.，45 2 (1993)以及美國專利第5,360,694號0也可以 使用美國專利第5,156,93 8號所揭露、由American Cyan amid 或 Glendale Protective Technologies所販售命名1反-99、1反-126、IR-165的紅外光吸收劑。除了傳統的染料外，美國專 利第5,351，617號描述使用IR -吸收性導電聚合物當作輕射吸 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210X 297公釐）
裝 訂 % 531682 A7 B7 五、發明説明（1〇 ) 收性材料。 其它較好的輻射吸收性材料包含有機以及無機吸收性材 料，如碳黑、金屬、金屬氧化物或金屬硫化物。代表性的 金屬包括週期表 lb、lib、Ilia、IVa、IVb、Va、Vb、Via、 VIb以及VIII族的金屬元素，及其合金或其與Ia、IIa及nib族 元素的合金，或其混合物。尤佳的金屬包括A卜Bi、Sn、In 或Zn，或其合金，或其與週期表Ia、Ha&inb族元素的合 金，或其化合物或混合物。此等金屬的適合化合物包括
Al、Bi、Sn、In、Zn、Ti、Cr、Mo、W、Co、Ir、Ni、Pd、
Pt、Cu、Ag、An、Zr及Te的金屬氧化物及硫化物，以及其 混合物。 輻射吸收性材料可存在於熱轉移授體平板中作為一隔離 層，一般稱之為”光熱轉化層，，（LTHC)，其係位於支撐體以 及可轉移間隔層之間。典型的光熱轉化層包括一個或多個 有機或無機材料層，其能吸收成像輻射而且較佳係具熱穩 定性者。在成像過程中，光熱轉化層較佳係實質上保持完 整。當使用金屬膜作為光熱轉化層時，金屬層的厚度較佳 疋在0.001到1 〇微米之間，更佳係介於〇 〇〇2到i 〇微米之 間。 或者，光熱轉化層可由光吸收性粒子（即碳黑）分散於結合 劑中所構成。適當的結合劑包括膜形成聚合物，如熱固 性、可熱固性、或熱塑性聚合物，諸如酚醛樹脂（即，線型 酚醛清漆樹脂”n〇v〇lak，，及可熔酚醛樹脂，，res〇le”）、聚乙烯醋酸 酉曰、聚偏二氯乙烯、聚丙醯酸酯、纖維酸及酯、硝基纖維 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐） 531682 A7 _______B7 五、發明説明（11 ) 素、聚碳酸醋、及其混合物。當使用此類型光熱轉化層 時’塗佈層的乾厚度較佳是在〇05到5.〇微米之間，更佳是 在0.1到2.0微米之間。 當使用LTHC層時，在可轉移間隔層以及該LTHC層之 間’還可以視需要使用一非可轉移間層。加入可轉移間層 的處理，能減少由於光熱轉化層轉移影像所引起的污染程 度’並降低被轉移影像的變形程度。該間層可為有機的或 無機的材料。為使轉移間隔元件的損壞以及污染降到最 低’該間層最好是一連續性的塗佈層，該塗佈層具一高熱 阻’同時在成像處理過程中，保持實質上的完整以及與該 L T H C層接觸。適當的有機材料包括熱固性（經交聯的）以及 熱塑性材料。該間層對成像輻射的輸出波長，可以是透光 性的或反射性的。 可用於間層中的適當熱固性樹脂包括熱交聯以及輻射交 聯材料，諸如經交聯的聚（甲基）丙烯酸酯、聚酯、環氧樹 脂及聚胺基甲酸酯。為了方便使用，熱固性材料通常以熱 塑性前驅體（precursor)形式塗佈到光熱轉化層上，接著加以 交聯以形成所需的經交聯間層。適當的熱塑性材料種類包 括聚颯、聚酯、及聚醯亞胺。熱塑性間層可以使用傳統的 塗佈技術（即’溶劑塗佈、噴霧塗佈或壓出塗佈）而應用到 光熱轉化層上。該間層的理想厚度取決於能去除光熱轉化 層的轉移以及能去除經轉移間隔層變形所需的最小厚度， 其基本上在0.05微米到10微米之間。 使用作為間層材料的適當無機材料包括金屬、金屬氧化 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐） 五、發明説明（12 ) 物、金屬硫化物以及無機4以斗，該等材料在幻象福射波 長下，具有鬲穿透性，而且可以使用傳統的技術（如真空濺 鍍真芝蒸鍍或電漿噴射）施用到光熱轉化層上。最佳厚产 取決於能去除光熱轉化層的轉移以及去除經轉移間隔^二 形所需的最小厚度，基本上在0.01微米到10微米之間。曰又 熱轉移授體平板可包含一塗在可轉#間層I面上之視需 要使甩的黏著層，黏著層藉由熱活化黏著劑的方式，可改 善可轉移間層到承接體的轉移處理。黏著劑外層最好是無 色的，然而在一些應时，半透明或不透明的黏著劑可以 ，來t強顯示器的對比或其它特殊效果。黏著層在室溫下 ，好是非黏性的（n〇n-tacky)。黏著層可包含一光吸收物 質，以進一步加強成像的效率。較佳的黏著劑包括具有約 3〇°C到not熔點的熱塑性材料，適當的熱塑性黏著劑包 括諸如聚酿胺類、聚丙婦酸酉旨類、聚酉旨類、聚胺基甲酸酉旨 類、4烯fe類、聚苯乙埽類、聚乙婦樹脂類、其共聚物及 其：合物之材料。黏著劑也可以包括熱或光化學交聯劑， 以提供熱穩定性以及對經轉移影像的溶劑抗性。交聯劑包 括單體、S聚合體及聚合㉟，其可以利用外部起始劑系统 或内部自身謗發性基團進行熱交聯或光化學交聯反應。敎 交聯劑包括能在接收熱能時進行交聯反應的材料。 或者，輻射吸收材料可摻入承接體中或於一沉積在承接 體表面上的各別頂塗層中（亦即一在承接體上的黑基質、一 儿積在承接組表面上的黏著劑頂塗層），以幫助間隔層轉移 到承接體上。如果該輻射吸收材料係存在於承接體中，或 -15- 本紙張尺度it财S 3家標準(CNS) A4規格(210! 297公釐） 531682 A7
存在於在成像過程中轉移到承接體上之一部分的熱轉移授 體平板中時，輻射吸收材料較佳係不會影響成像承接體的 表現特性（亦即，所需的光學特性）。 承接體可以是任何可因利用間隔物而獲得好處的平板顯 示器元件。該等間隔物係精確地安置在所需的位置上，^ $免顯示裝置的顯示窗產生光學干涉作用。該承接體可視 需要塗佈一層黏著性外層，以幫助可轉移間隔層轉移到承 接體上。承接體表面亦可沉積一黑色基質，以加強視覺對 比。可以藉由沉積無機材料（亦即，金屬及/或金屬氧化物 及金屬硫化物）或有機材料（即，於有機結合劑中的染料）或 ^者的結合物（即，分散於結合劑中的碳黑）形成黑色基 質，黑色基質一般具有〇.〇〇5到5微米的厚度。基本上，承 接體具有1到2000微米之間的厚度。 在實施本發明時，熱成像元件係經定位，使得在應用成 像輻射（或光）時，LTHC層會吸收成像輻射，並於該經輻射 照射區域中，將輻射轉化成熱能，以促進經輻射照射區中 可轉移間隔層的轉移，而在承接體上形成間隔元件。 間隔物的形成可藉由成像輕射源的適當調變或藉由光罩 曝光而完成。間隔物可精確地安置在所需的位置上，以避 免顯示裝置的顯示窗產生光學平涉作用。有許多的光射出 源（hght-enuttiiig source)可以用在本發明中，包括閃光燈、 高功率氣體雷射、紅外線雷射、可見光雷射及紫外光兩 射。在一類比系統中，係使用光罩以選擇性地過滤對應= 需間隔物位置之成像圖案中的輻射。於該類比系統中，可
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使用具有足夠能量輸出之閃光燈以轉移該可轉移間隔層。 在數位系統中，基本上係使用雷射或雷射二極體以將間隔 層成像轉移到所需間隔物位置的基板上。較佳的雷射包括 高功率（大於100 mW)單模態雷射二極體、光纖偶合雷射二 極體及二極體灌注固態雷射（即，Nd : YAG及Nd : YLF)，而 最佳的雷射則是極體灌注固態雷射。在類比以及數位系統 中間隔物均可精確地安置在所需的位置上，以避免顯示 裝置中顯示窗的光學干涉效應。由於間隔物係選擇性地從 熱轉移元件轉移到基板上，所以無需液體加工程序來進行 顯影處理。直接的成像製程可去除為了顯影及處理廢棄顯 影劑所需的額外設備及額外製程步騾的需求。 雷射曝光期間，最好使成像材料的多重反射所形成的干 涉圖案降到最低。有多種方法可以達成上述目的。最普遍 的万法是如U.S. Patent No· 5,089,372所揭露的技術，以入 射成像輕射的規格，使可熱成像元件的表面有效地粗糙 化。另一方法是在會產生入射照明度的第二介面上使用抗 反射塗層，抗反射塗層的使用，係技藝中所熟知者，如u s PatentNo. 5，171，650所敘述的，可包括1/4波厚度的塗層， 諸如默化鎂塗層。由於費用及製造上的限制，在許多應用 中，上述表面粗燥化方式係為較佳的方式。 本發明方法使用熱轉移授體平板以選擇性的安置間隔物 到基板上的一代表性應用，係用於液晶顯示裝置的製造 中。扭曲向列顯7JT裝置為一種液晶顯示器的典型例子，其 包含藉由將一對透明的平面基板，以互相對準、彼此重 -17- 本紙張尺度it财㈣家標準(CNS) A4規格(21GX297公复) 531682 A7 B7 五、發明説明（15 ) 疊、並使用間隔物元件加以區隔之方式安置所形成的胞室 或封包，該等基板的周邊，通常是使用一種過蒒印刷技術 使之連結並用黏著性封合劑加以密封，以提供一封閉狀的 胞室。待最終密封處理之前，始將基板上間隔物元件之間 的淺空間或空穴以液晶材料填滿。將透明的導電電極排列 在基板的内表面，以片段或X - Y矩陣式排列，以形成複數 個圖像元件。於液晶顯TF器胞室的部分内表面施用配向塗 料，以使液晶材料在其與顯示器表面的介面上產生所需的 定向，此定向作用可確保液晶會以與胞室聯結之偏振器之 對齊方向的互補角度旋轉光線。是否使用偏振元件，係視 顯示器的類型而定，且當使用時，偏振元件可與一個或多 個顯示器表面聯結。當需要一反射式而非一透射式顯示器 時，在底部基板上可聯結一反射器元件，在此情況下，該 底部基板可以是不透明的。視需要，承接體可包括一塗覆 在表面上的配向層，在此情況下，間隔物係施用至該配向 層上。間隔物係使用之前所述方法，藉由選擇性地對與承 接體作緊密接觸的熱轉移授體元件進行輻射照射，而予以 安置在承接體（或配向層）上。 上述所提的液晶顯示器組件以及組裝技術，皆是眾所熟 知的，例如，一般性的組裝技術細節可見於”Materials and Assembling Process of LCDs” Liquid Crystals-Applications and Uses, Bitendra Bahadur, Ed., World Scientific Publishing Co. Pte. Ltd·，Volume 1，Chapter 7 (1990) o 以下的非限定性實例將對本發明作進一步之說明。 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐） 531682 A7 B7 五、發明説明（16 ) 實例 以下所使用的材料，除非特別說明，均得自Aldrich Chemical Co. (Milwaukee，WI) 〇 以下實例說明間隔物在玻璃基板上的形成過程。將熱轉 移授體元件的塗佈侧與一真空架構上的玻璃基板作緊密的 接觸，以於玻璃基板上形成間隔物，然後使用一平面場掃 描組態的單模Nd : YAG雷射對間隔物作成像處理。該雷射 照射在該熱轉移元件的基板侧，並且與該轉移元件/玻璃承 接體表面垂直。利用一線性電位計，將一 f-theta掃描透鏡聚 焦到成像平面上，以進行掃描處理。成像平面上的功率為8 瓦特，而雷射光點大小（以Ι/e2的強度量測）為140 X 150微 米。在成像平面上量測的線性雷射光點速度為4.6 m/s，。 實例1 製備一碳黑光熱轉化層，其製法為：將下列的命 溶廣/，用#9塗佈棒塗佈到0·1 mm(3.88 mil)厚的PET基板 上。 LTHC塗佈溶液1 ： 成份 重量份數
Raven 760超級碳黑顏料（得自 3.78
Columbian Chemical,Atlanta, GA)
Butvar B-98(聚乙婦醇縮丁酸樹脂 0.67 得自 Monsanto, St. Louis，MO)
Joncryl 67(丙晞酸樹脂，得自 2.02 S. C. Johnson & Son, Racine, WI)
Disperbyk 16 1(分散助劑，得自 0.34
Byk Chemie, Wallingford, CT) FC-430(氟化物表面活性劑，得自 0.01 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐）
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線 531682 A7 B7 五、發明説明（17 ) 3M, St. Paul, MN) SR 454(季戊四醇-四丙烯酸酯， 22.74 得自 Sartomer，Exton，PA) Duracure 1173(2-#垔基-2-甲基-1 - 1.48 苯基-1 -丙酮光起始劑，得自 Ciba-Geigy, Hawthorne, NY) 1 -甲氧基-2_丙醇 27.59 甲基乙基酮 41.38 將塗層於80°C下乾燥3分鐘，接著於配備了 300 w/inch的H-電燈炮及使用22.9 m/min(75 ft/min)的網傳送速度之Fusion UV Curing Model MC-6RQN上進行UV固化處理。固化後的 塗層，其厚度為3微米，而光學密度在1064 nm的波長下為 1.2。 將以下的获護從澇詹#命溶廣/，使用#4的塗佈棒，塗佈 在光熱轉化層的碳黑塗層上。 保謹性間層塗佈溶液1 ： 成份 重量份數 Neorad NR-440(50%於水中之非揮發物， 38.00 得自 Zeneca Resins，Wilmington, MA) Duracure 1173 1.00 水 61.00 將塗層於80 °C下乾燥3分鐘，接著於配備了 300 w/inch的Η-電燈炮及使用22.9 m/min( 7 5 ft/min)的網傳送速度之Fusion UV Curing Model MC-6RQN上進行UV固化處理。固化後的 塗層具有1微米之厚度。 上述間層上再塗覆以下所提供的#澇腐麖#命溶旋 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐） 531682 A7
塗佈浣汸1 ： 成份
20.00 76.00
Elvacite 2776(丙烯酸樹脂，得自 ICI Acrylics, St. Louis, MO) N，N -二甲基乙醇胺 水 4.00 使用#4、#6、#8與#1〇的金屬纏繞棒分別製作四個塗層， 有的塗層均於60t下乾燥3分鐘。四個樣品上的經乾燥塗屉 厚度範圍為1到2微米。 太曰 使用上述的雷射成像系統，將熱轉移元件成像在75 mmx 5〇 mmXi mm的玻璃片上。間隔層成功的轉移到該破璃片 上二提供約95微米寬的平行線。藉由轉移额外的間隔層到 (前已經轉移的間隔層±，可增加轉移間隔物的厚度，因 而可生成為原來已轉移間隔線高度好幾倍高度的間隔線， 藉由重覆額外熱轉移元件的成像步騾（該等額外熱轉移元件 所具有的轉料位置係與&前已轉移㈣物之轉移線位置 相互對準）可達成此一目的。 實例2 本實例係用於說明具有複合轉移間隔層的熱轉移元件， 該複合轉移間隔層係包含顆粒間隔尺寸小於轉移間隔層厚 度之矽石顆粒。 製備一碳黑光熱轉化層，其製法為··將下列的命 冷廣2 ’ 使用 Yasui Seiki Lab Coater，Model CAG-150以及微 凹印輥（每一直線cm具有228 6個螺旋胞室或每一直線⑺仏具 -21 - 本紙張尺度適财_家標準(CNS) A4規格(21GX297公 531682 A7 B7 五、發明説明（19 ) 板 有90個螺旋胞室），塗佈到0.1 mm(3.88 mil)厚的PET基 上 LTHC塗佈溶液2 : 重量份數 3.78 0.67 2.02 0.34 0.01 22.74 1.48 27.59 41.38 成份
Raven 760(碳黑顏料）
Butvar B-98 Joncryl 67 Disperbyk 161 FC-430 SR 351(三甲基醇丙烷-三丙烯酸酯， 得自 Sartomer，Exton，PA)
Duracure 1173 1 -甲氧基-2-丙S?· 甲基乙基酮 所得塗層於4 0 °C下線上乾燥，並以配備了 η -電燈炮之
Fusion Systems Model 1600 (400 watts/inch)UV固化系統，以 6.1 m/min(20 ft/min)之速度進行u V固化處理。固化後的塗 層，其厚度約為3.5微米，而光學密度在1064 ηιη的波長下 為 1.2。 於該光熱轉化層的碳黑塗層上，以Yasui Seiki Lab Coater， Model CAG-150塗佈以下的获讀V4席層坌命溶廣2。所得塗 層於線上乾燥（40 X：)，並以配備了 H-電燈炮之Fusion Systems Model 1600 (600 watts/inch)UV 固化系統，以 6.1 m/min(20 ft/min)之速度進行UV固化處理。所得的間層塗層 厚度約為1微米。此LITI授體元件以"LITI"授體元件Γ’代 表。 22 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4规格(210X297公釐） 531682 A7 B7 五、發明説明（2〇 ) 保讀性間層塗佈溶液2 '· 成份 重量份數 Butvar B-98 0.99 Joncryl 67 2.97 SR-351 15.84 Duracure 1173 0.99 1-甲氧基-2-丙醇 31.68 2-丁酮 47.52 LITI授體元件I的保護性間層上面，再以# 1 0的繞線棒塗 佈以下的席腐##命溶廣2，並於60°C下乾燥2分 鐘。固化後的塗層厚度以輪廓測定儀（Profilometry)測量得 2.7微米。 可棘移間隔層塗佈溶液2 '· 成份 重量份數 Elvacite 2776 9.62 EMS-American Grilon Primid XL-552 0.39 (得自 EMS-American Grilon，Sumter，SC) Nalco Chemical 2327(40%於水中之二氧化 25.00 碎，得自Nalco Chemicals，Chicago，IL) N，N-二甲基乙醇胺 3.96 水 76.04 將所得熱轉移元件的間隔層（有機結合劑/二氧化矽塗層） 與75 mm X 50 mm XI mm的玻璃片承接體緊密接觸，並使用 上述的程序進行成像處理，以轉移約60微米寬、2.7微米 厚、以及中心到中心的間隔為400微米的間隔線。成像後， 成像玻璃承接體，在氮氣中加熱到250°C 1小時，以進行間 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 x 297公釐） 531682 A7 B7 五、發明説明（21 ) 隔線的交聯反應。 實例3 此實例係用於說明具有複合轉移間隔層的熱轉移元件， 該複合轉移間隔層包含間隔尺寸大於可轉移間隔層厚度的 顆粒。 使用實例2所述用於塗佈可轉移間隔層塗佈溶液2的方 式，於實例2中之LITI授體元件I的保護性間層上塗覆下列 可轉移間隔層塗佈溶液3。 可轉移間隔層·塗佈溶液3 ： 成份 重量份數
Elvacite 2776 14.42 EMS-American Grilon Primid XL-552 0.58
Zr02，4-8微米直徑的顆粒* 5.00 N，N-二甲基乙醇胺 4.00 水 76.00 *以如U.S. Patent No· 5,0 15,3 73實例5製備A之方式製備 將所得熱轉移元件的間隔層（有機結合劑/Zr02塗層）與75 mm X 50 mm X 1 mm的玻璃片承接體緊密接觸，並使用上述 的程序進行成像處理，以轉移約105微米寬、3.0微米厚、 以及中心到中心的間隔為300微米的間隔線。成像後，成像 玻璃承接體，在氮氣中加熱到250°C 1小時，以進行間隔線 的交聯反應。 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐）

Claims (1)

  1. --- - D8 六、申請專利範圍 1.種於承接體上選擇性的安置間隔物以使該承接體用於 平板顯示器中的方法，其包括以下步驟： (1)提供一承接體以及一熱轉移授體平板，該授體平板 依序包含： (a) —支撐體； (b) —可轉移間隔層；以及 (0 —視需要使用之黏著層； 其中該承接體、該支撐體、該間隔層或該視需要選 用之黏著層中至少一者包含一輻射吸收劑； (η)安置該承接體，使其與該熱轉移授體平板的可轉移 間隔層緊密接觸； (iii) 於成像圖樣中以成像輻射對該熱轉移授體平板或該承 接體之至少一者進行照射，該成像輻射被該輻射吸 收劑所吸收，並轉化成足夠的熱，以將熱轉移授體 平板上可轉移間隔層的經照射區域轉移到該承接體 上； (iv) 將該經照射區域之該可轉移間隔層轉移到該承接體 上；及 (v) 移除該熱轉移授體平板，以便形成與該承接體上該 經照射區域相對應的間隔元件。 2 . —種於承接體上選擇性的安置間隔物以使該承接體用於 平板顯示器中的方法，其包括以下步驟： (i)提供一具有第一表面以及第二表面的承接體以及一 熱轉移授體平板，該授體平板依序包含： -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS) A4規格（210X297公釐） 申請專利範圍 (a) —支撐體； (b) 光熱轉化層，其包含第一輕射吸收劑； (c) 一可轉移間隔層；以及 (d) 一視需要使用的黏著層； (11)安1啟承接體的孩第一表面，使之與該熱轉移授體 平板的可轉移間隔層緊密接觸； (m)於成像圖樣中以成像輻射對該熱轉移授體平板或該承 接體 < 至少一者進行照射，該成像輻射被該第一輻 射吸收劑所吸收，並轉化成足夠的熱，以將該熱轉 移授體平板上可轉移間隔層之經照射區域轉移到該 承接體的第一表面上； (iv)將該經照射區域的可轉移間隔層轉移到該承接體的 第一表面上；及 (V)移除該熱轉移授體平板，以便形成與該承接體第一 表面上之遠經照射區域相對應的間隔元件。 3 .根據申請專利範圍第2項之方法，其中該承接體、該支 撐體、該可轉移間隔層或該視需要使用之黏著層中，至 少一者包含可吸收該成像輻射的第二輻射吸收劑σ 4，根據申請專利範圍第2項之方法，其進一步於該光熱轉 化層以及該熱轉移授體平板的可轉移間隔層之間包含一 非可轉移間層。 5.根據申請專利範圍第4項之方法，其中該承接體、該支 撐體、該非可轉移間層或該可轉移間隔層中，至少一者 包含會吸收$亥成像藕射並將該輕射轉化成熱的第二輕射 -26- 本紙張尺度適用中國®家梯準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐）
    531682 A8 B8 C8 -- —___ D8 六、申請專利範圍 吸收劑。 6 .根據申請專利範圍第2項之方法，其中該承接體進一步 包含一沉積於該第一表面上之黏著劑頂塗層。 7 .根據申請專利範圍第2項之方法，其中該可轉移間隔層 係一複合體，其包含具有小於該間隔層厚度之間隔尺寸 的顆粒。 8 .根據申請專利範圍第2項之方法，其中該可轉移間隔層 係一複合體，其包含具有大於該間隔層厚度之平均間隔 尺寸的顆粒。 9 .根據申請專利範圍第2項之方法，其進一步包括以下步 騾： (vi) 將該間隔元件連結到一基板，以於該基板以及該承 接體之間形成空穴； (vii) 用液晶材料填滿該等空穴；及 (viii) 密封該基板邊緣至該承接體。 10· —種適合用於選擇性地將間隔物安置在平板顯示器中之 承接體上的熱轉移授體平板，其包含： (0 —支撐體； (II) 一包含第一輻射吸收劑的光熱轉化層，該輻射吸收 劑會吸收第一部分的成像輻射，並將該第一部分的 成像輕射轉化成熱； (III) 一包含複合體的可轉移間隔層，該複合體係為經分 散於結合劑中之顆粒，該顆粒具有大於該可轉移間 隔層厚度的平均間隔尺寸；及 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董） 531682 8 8 8 8 A BCD 申請專利範圍 :1V) —視需要使用的黏著層 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210 X 297公釐） 公告本 申請曰期 —--- -ί-- 號 別 086108205 S ^ T /l 5 3 以上各欄由本局填註） A4 C4 中文說明書修正本（91年6月）
    專利説明書 531½2 畴·· !—Η.·Ι—Ι··Ι.·Ι ! I 丨 用於平板顯示器均一間隔物全影像放置之方法及材料 發明
    一、發明 中 文 名稱 英 文 姓 名 國 籍 -、發明 人 住 、居所 PROCESS AND MATERIALS FOR IMAGEWISE PLACEMENT OF UNIFORM SPACERS IN FLAT PANEL DISPLAYS" 1·约翰史考特斯泰拉 2.克拉爾安尼傑伯特 3.威廉亞當多伯特 4.馬丁班生瓦克 5.亞倫里查馬丁斯 6.湯瑪斯亞瑟斯依斯伯格 1-6.均美國 1-6.均美國明尼蘇答州聖保羅市3Μ中心 美商孟尼蘇泰礦務及製造公司 i 裝 姓 么 (名稱? 國 锖 美國 線 三、申請人 美國明尼蘇答州聖保羅市3M中心 2表 名 泰瑞·K·夸烈 本紙張尺心請中® 11家標準(CNS規格(21G x
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Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1137405C (zh) * 1996-08-31 2004-02-04 三星电管株式会社 平板显示装置制造方法
JP3903130B2 (ja) * 1997-03-11 2007-04-11 フジコピアン株式会社 ドットスペーサ形成用感熱転写材料
JPH1135893A (ja) * 1997-05-22 1999-02-09 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd シート状ホットメルト接着剤、および半導体装置
GB2336443B (en) * 1998-04-17 2002-05-29 Sharp Kk Liquid crystal device manufacturing methods
GB9808221D0 (en) 1998-04-17 1998-06-17 Sharp Kk Liquid crystal device manufacturing methods
WO2000041893A1 (en) 1999-01-15 2000-07-20 3M Innovative Properties Company Thermal transfer element and process for forming organic electroluminescent devices
US6114088A (en) 1999-01-15 2000-09-05 3M Innovative Properties Company Thermal transfer element for forming multilayer devices
AU4200299A (en) * 1999-01-15 2000-08-01 3M Innovative Properties Company Thermal transfer element with novel light-to-heat conversion layer
US6461775B1 (en) 1999-05-14 2002-10-08 3M Innovative Properties Company Thermal transfer of a black matrix containing carbon black
US6221543B1 (en) * 1999-05-14 2001-04-24 3M Innovatives Properties Process for making active substrates for color displays
US6228543B1 (en) 1999-09-09 2001-05-08 3M Innovative Properties Company Thermal transfer with a plasticizer-containing transfer layer
US6521324B1 (en) 1999-11-30 2003-02-18 3M Innovative Properties Company Thermal transfer of microstructured layers
US6228555B1 (en) 1999-12-28 2001-05-08 3M Innovative Properties Company Thermal mass transfer donor element
US6284425B1 (en) 1999-12-28 2001-09-04 3M Innovative Properties Thermal transfer donor element having a heat management underlayer
TW525305B (en) * 2000-02-22 2003-03-21 Semiconductor Energy Lab Self-light-emitting device and method of manufacturing the same
US6855384B1 (en) 2000-09-15 2005-02-15 3M Innovative Properties Company Selective thermal transfer of light emitting polymer blends
US6358664B1 (en) 2000-09-15 2002-03-19 3M Innovative Properties Company Electronically active primer layers for thermal patterning of materials for electronic devices
KR100779777B1 (ko) * 2000-11-02 2007-11-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 직시형 방사 디스플레이의 휘도 및 대비 증대
US6730376B2 (en) 2001-02-09 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Thermally transferable compositions and methods
US6852355B2 (en) 2001-03-01 2005-02-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thermal imaging processes and products of electroactive organic material
US6485884B2 (en) 2001-04-27 2002-11-26 3M Innovative Properties Company Method for patterning oriented materials for organic electronic displays and devices
KR100798308B1 (ko) * 2001-05-11 2008-01-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시소자의 스페이서 형성방법
JP2002343565A (ja) * 2001-05-18 2002-11-29 Sharp Corp 有機ｌｅｄ表示パネルの製造方法、その方法により製造された有機ｌｅｄ表示パネル、並びに、その方法に用いられるベースフィルム及び基板
EP1417866A1 (en) * 2001-08-16 2004-05-12 3M Innovative Properties Company Method and materials for patterning of a polymerizable, amorphous matrix with electrically active material disposed therein
US6699597B2 (en) * 2001-08-16 2004-03-02 3M Innovative Properties Company Method and materials for patterning of an amorphous, non-polymeric, organic matrix with electrically active material disposed therein
US20030124265A1 (en) 2001-12-04 2003-07-03 3M Innovative Properties Company Method and materials for transferring a material onto a plasma treated surface according to a pattern
KR100595306B1 (ko) * 2001-12-29 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 백라이트 장치
US7241512B2 (en) * 2002-04-19 2007-07-10 3M Innovative Properties Company Electroluminescent materials and methods of manufacture and use
AU2003221969A1 (en) * 2002-04-19 2003-11-03 3M Innovative Properties Company Materials for organic electronic devices
US20040004433A1 (en) * 2002-06-26 2004-01-08 3M Innovative Properties Company Buffer layers for organic electroluminescent devices and methods of manufacture and use
US7094902B2 (en) * 2002-09-25 2006-08-22 3M Innovative Properties Company Electroactive polymers
US20040062947A1 (en) * 2002-09-25 2004-04-01 Lamansky Sergey A. Organic electroluminescent compositions
US6975067B2 (en) * 2002-12-19 2005-12-13 3M Innovative Properties Company Organic electroluminescent device and encapsulation method
US20040198892A1 (en) * 2003-04-01 2004-10-07 Cabot Microelectronics Corporation Electron source and method for making same
US7271406B2 (en) * 2003-04-15 2007-09-18 3M Innovative Properties Company Electron transport agents for organic electronic devices
US7192657B2 (en) * 2003-04-15 2007-03-20 3M Innovative Properties Company Ethynyl containing electron transport dyes and compositions
KR100611156B1 (ko) * 2003-11-29 2006-08-09 삼성에스디아이 주식회사 레이저 전사용 도너 기판 및 그 기판을 사용하여 제조되는유기 전계 발광 소자
US7229726B2 (en) * 2003-12-02 2007-06-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thermal imaging process and products made therefrom
KR100579174B1 (ko) * 2003-12-22 2006-05-11 삼성에스디아이 주식회사 레이저 전사용 도너 필름 및 그 필름을 사용하여 제조되는유기 전계 발광 소자
US20050196530A1 (en) * 2004-02-06 2005-09-08 Caspar Jonathan V. Thermal imaging process and products made therefrom
KR20050105571A (ko) * 2004-04-30 2005-11-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 컬러필터 기판의 제조 방법
US7317577B2 (en) * 2004-05-14 2008-01-08 Eastman Kodak Company Methods for producing a black matrix on a lenticular lens
JP2008506547A (ja) * 2004-06-21 2008-03-06 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 半導体ナノ粒子のパターン形成および配列
US7645478B2 (en) * 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
KR100712215B1 (ko) 2005-08-25 2007-04-27 삼성에스디아이 주식회사 레이저 열전사용 마스크 및 그를 이용한 레이저 열전사방법
US7670450B2 (en) * 2006-07-31 2010-03-02 3M Innovative Properties Company Patterning and treatment methods for organic light emitting diode devices
KR20080057584A (ko) 2006-12-20 2008-06-25 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법
US20080233404A1 (en) * 2007-03-22 2008-09-25 3M Innovative Properties Company Microreplication tools and patterns using laser induced thermal embossing
JP2008262225A (ja) * 2008-07-14 2008-10-30 Fujifilm Corp カラーフィルターの形成方法及びカラーフィルター並びに液晶素子
JP5320976B2 (ja) * 2008-10-23 2013-10-23 富士ゼロックス株式会社 表示装置、及び情報処理システム
CN102213857A (zh) * 2010-04-07 2011-10-12 上海广电富士光电材料有限公司 一种彩色滤光基板及其制作方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60188925A (ja) * 1984-03-09 1985-09-26 Canon Inc 光学変調素子の製造法
DE3580514D1 (de) * 1984-05-30 1990-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Waermeuebertragbare schicht und verfahren zur herstellung.
CA1268808A (en) * 1985-07-23 1990-05-08 Alan G. Macdiarmid High capacity polyaniline electrodes
DE3687977T2 (de) * 1985-11-28 1993-08-05 Nissha Printing Farbfilter hoechster genauigkeit mit ausgezeichneten eigenschaften und dessen herstellung.
JPS6350817A (ja) * 1986-08-20 1988-03-03 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶電気光学装置作製方法
EP0258836B1 (en) * 1986-09-01 1992-08-12 Tomoegawa Paper Co. Ltd. Transfer recording medium and method of transfer recording using the same
JPS6418127A (en) * 1987-07-13 1989-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd Production of cell for liquid crystal display element
US4772583A (en) * 1987-09-03 1988-09-20 International Flavors & Fragrances Inc. Beta-alkylidene phenethyl alcohol esters and ethers, organoleptic uses thereof and processes for preparing same
JPH0196626A (ja) * 1987-10-07 1989-04-14 Sharp Corp 液晶表示パネル
US4833124A (en) * 1987-12-04 1989-05-23 Eastman Kodak Company Process for increasing the density of images obtained by thermal dye transfer
DE3872854T2 (de) * 1987-12-21 1993-03-04 Eastman Kodak Co Infrarot absorbierende cyaninfarbstoffe fuer farbstoff-donorelemente zur verwendung bei de laserinduzierten thermischen farbstoffuebertragung.
US4877697A (en) * 1988-05-26 1989-10-31 Hoechst Aktiengesellschaft Color filter array for liquid crystal display device
JPH02223922A (ja) * 1989-02-27 1990-09-06 Hitachi Ltd 液晶ギヤツプ用スペーサの形成方法
US5156938A (en) * 1989-03-30 1992-10-20 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
US5171650A (en) * 1990-10-04 1992-12-15 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
US4950639A (en) * 1989-06-16 1990-08-21 Eastman Kodak Company Infrared absorbing bis(aminoaryl)polymethine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4948777A (en) * 1989-06-16 1990-08-14 Eastman Kodak Company Infrared absorbing bis(chalcogenopyrylo)polymethine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4942141A (en) * 1989-06-16 1990-07-17 Eastman Kodak Company Infrared absorbing squarylium dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4912083A (en) * 1989-06-20 1990-03-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing ferrous complexes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4948778A (en) * 1989-06-20 1990-08-14 Eastman Kodak Company Infrared absorbing oxyindolizine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US4952552A (en) * 1989-06-20 1990-08-28 Eastman Kodak Company Infrared absorbing quinoid dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
US5024990A (en) * 1990-10-31 1991-06-18 Eastman Kodak Company Mixture of dyes for cyan dye donor for thermal color proofing
US5023229A (en) * 1990-10-31 1991-06-11 Eastman Kodak Company Mixture of dyes for magenta dye donor for thermal color proofing
US5401607A (en) * 1991-04-17 1995-03-28 Polaroid Corporation Processes and compositions for photogeneration of acid
JPH0527223A (ja) * 1991-07-03 1993-02-05 Ace Denken:Kk 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
US5268782A (en) * 1992-01-16 1993-12-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Micro-ridged, polymeric liquid crystal display substrate and display device
JP3109218B2 (ja) * 1992-01-28 2000-11-13 カシオ計算機株式会社 液晶表示装置の製造方法
DE69320241T2 (de) * 1992-05-06 1999-04-29 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd., Tokio/Tokyo Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung
US5351617A (en) * 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
JP3197687B2 (ja) * 1992-08-20 2001-08-13 積水化学工業株式会社 液晶表示装置
US5278023A (en) * 1992-11-16 1994-01-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Propellant-containing thermal transfer donor elements
US5286604A (en) * 1992-11-25 1994-02-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Single layer dry processible photothermal-sensitive element
US5372915A (en) * 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
JP3271029B2 (ja) * 1993-07-09 2002-04-02 大日本印刷株式会社 液晶セル用のスペーサ付き電極フィルム及びその製造方法。
JP3685821B2 (ja) * 1993-10-07 2005-08-24 富士写真フイルム株式会社 液晶パネル用スペーサーの形成方法
US5360694A (en) * 1993-10-18 1994-11-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal dye transfer
KR100215532B1 (ko) * 1994-04-11 1999-08-16 후지이 코오조 가교 수지 피복 실리카 미립자 및 그의 제조 방법
JPH07325298A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Hitachi Chem Co Ltd カラー液晶表示装置

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