TW527520B - Method of preserving photosensitive composition - Google Patents

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photosensitive composition
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hpa
preserving
photopolymerization initiator
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Koji Baba
Toshiya Inoue
Shigeo Hozumi
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Sumitomo Chemical Co
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Description

527520 A7 B7 五、發明説明（1 ) 發明背景 本發明係關於保存光敏性組合物之方法，例如適合作 爲阻劑等的光敏性樹脂組合物，其係用以製造彩色液晶顯 示裝置、影像元件等的濾色器。 傳統上，光敏性組合物係置於遮光容器中保存，例如 棕色玻璃瓶等。然而，在其保存於遮光容器的期間，有時 候會發生光敏性組合物的黏度隨時間而改變，並有聚集物 的生成。此種黏度的變化及聚集物的生成經常會使此組合 物的塗覆線停頓。 鑑於該等問題，發明人曾針對光敏性組合物之保存安 定性的改善做過廣泛的硏究。結果發現光敏性組合物的保 存安定性可藉裝有此組合物之容器中的孔隙率與氧氣分壓 的控制而得到顯著的改善。本發明亦因此得以完成。 發明槪述 本發明提供實務上極佳的光敏性組合物之保存方法， 組合物含有光聚合起始劑和光可聚合單體及/或低聚物，而 該方法包含將光敏性組合物置於容器內，其中容器內孔隙 率（％)和孔隙部中氧氣分壓（hPa)的乘積爲1 500(%-hPa)或以 上。 較佳實施例的詳述 本發明之光敏性組合物含有光聚合起始劑和至少一個 選自光可聚合單體及光可聚合低聚物中的化合物。此領域 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） IU——r----1#11 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4- 527520 A7 B7 五、發明説明（2 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 中經常使用的光聚合起始劑即可作爲光聚合起始劑。其實 例包括基於苯乙酮的起始劑、基於苯偶姻的起始劑、基於 二苯甲酮的起始劑、基於噻噸酮的起始劑、基於三嗪的起 始劑、及其他的起始劑。 基於苯乙酮的光聚合起始劑之特定實例包括二乙氧基 苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、苯甲基二甲基縮酮 、2-羥基-2-甲基-1-[4·(2-羥基乙氧基）苯基]丙-1-酮、1-羥 基環己基苯基酮、2-甲基-2-嗎啉代-1-(4-甲硫基苯基）丙-酮、2-苯甲基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉代苯基）丁 -1-酮或者2-羥基-2-甲基- 甲基乙烯基）苯基]丙-1-酮的低聚物。 基於苯偶姻的光聚合起始劑之特定實例包括苯偶姻、 苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻 異丁基醚等。 基於二苯甲酮的光聚合起始劑之特定實例包括二苯甲 酮、鄰位-苯甲醯苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯-4’-甲基二苯硫、3,3'，4,4'-四（第三丁基過氧羰基）二苯甲酮 、2,4,6-三甲基二苯甲酮。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 基於噻噸酮的光聚合起始劑之特定實例包括2-異丙基 噻噸酮、4-異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二氯噻 噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮等。 基於三嗪的光聚合起始劑之特定實例包括2,4-雙（三氯 甲基）-6-(4-甲氧苯基）-1,3,5-三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-(4-甲氧萘基）-1,3,5-三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-胡椒基-1,3,5-三 嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-(4-甲氧苯乙烯基）-1,3,5-三嗪、 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -5- 527520 A7 B7 五、發明説明（3 ) 2,4·雙（三氯甲基）-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基）乙烯基]-1，3,5-三嗪 、2,4-雙（三氯甲基）-6-[2-(呋喃-2-基）乙烯基]-1，3,5-三嗪、 2，4-雙（三氯甲基）-6-[2-(4-二乙胺基-2·甲基苯基）乙烯基]- 三嗪、2,4-雙（三氯甲基）-6-[2-(3,4·二甲氧苯基）乙烯基 三嗪等。 其他的光聚合起始劑之特定實例包括2,4,6-三甲基苯甲 酸二苯基膦化氧、2,2，-雙（鄰位-氯苯基）-4,4，，5,5，-四苯基· 1，2'-二咪唑、ίο-丁基-2-氯基吖啶酮、2-乙基蔥醌、苯甲基 _9，1〇_菲醌、樟腦醌、苯基二羥基醋酸甲酯、tltanocenet 合物等。該等光聚合起始劑亦可以單獨使用或者兩或多種 組合使用。 在本發明中，光起始助劑亦可以和光聚合起始劑倂用 ^基於胺的光起始助劑及基於烷氧基蒽的光起始助劑可以 作爲光起始助劑的範例。 其特定實例包括三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三異丙醇 胺、4-二甲胺基苯甲酸’甲酯、4-二甲胺基苯甲酸乙酯、4-二甲胺基苯甲酸異戊酯、苯甲酸2-二甲胺基乙酯、4-二甲 胺基苯甲酸2-乙基己酯、N，N-二甲基對位-甲苯胺、4,4'-雙 (二甲胺基）二苯甲酮（俗名：米蚩酮）、4,V-雙（二乙胺基）二 苯甲酮、9，Ί0-二甲氧基蒽、2-乙基-9,10-二曱氧基蔥、 9,10-二乙氧基蒽、2-乙基-9，10_二乙氧基蒽等。該等光起始 助劑亦可以單獨使用或者兩或多種組合使用。 本發明之光敏性組合物中的光聚合起始劑及光起始助 劑的總量通常爲3至30重量份，並以5至25重量份爲較佳 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） L--------#1 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -6- 527520 A7 B7 五、發明説明（4 ) ，以上係基於100重量份的總固體內容物而言（當使用溶劑 時，溶劑不計入）。 光可聚合單體及/或低聚物係藉光及光聚合起始劑的作 用而引發聚合作用的化合物。一般而言，具有可聚合之碳-碳不飽和鍵的化合物可以作爲其實例。 除了單官能基單體之外，此種光可聚合單體可以選自 雙官能基單體及其他多官能基單體。單官能基單體的特定 實例包括壬苯基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸2_羥基-3-苯氧基 丙酯、2-乙己基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸2-羥基乙酯、N-乙烯基吡咯烷酮等。雙官能基單體的特定實例包括1，6·己 二醇二（甲基）丙烯酸酯、乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二 醇二（甲基）丙烯酸酯、三甘醇二（甲基）丙烯酸酯、雙酚A的 雙（丙烯醯氧乙基）醚、3-甲基戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、三 環癸烷二甲醇二（甲基）丙烯酸酯等。 其他多官能基單體的特定實例包括三羥甲.基丙烷三（甲 基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲 基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇 六（甲基）丙烯酸酯、參（異丁烯醯氧乙基）異氰脲酸酯等。該 等光可聚合單體亦可以單獨使用或者兩或多種組合使用。 光可聚合低聚物可以選自具有丙烯醯基、異丁烯醯基 、乙烯基或類似基團的低聚物。丙烯酸胺酯系例如丙烯酸 胺酯及異丁烯酸胺酯，環氧丙烯酸酯系例如環氧丙烯酸酯 及環氧異丁烯酸酯，多元酯丙烯酸酯系例如多元酯丙烯酸 酯及多元酯異丁烯酸酯，蜜胺丙烯酸酯系例如蜜胺丙烯酸 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---i--------— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ’訂 線‘ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527520 A7 B7 五、發明説明（5 ) 酯及蜜胺異丁烯酸酯，丙烯酸系樹脂丙烯酸酯，不飽和多 元酯，多元酮等均可以作爲範例。 丙烯酸胺酯的實例包括藉有機聚異氰酸酯、多元醇及 基於羥基丙烯酸酯之化合物的反應而製得者，及藉有機聚 異氰酸酯與基於羥基丙烯酸酯之化合物的反應而製得者。 環氧基丙烯酸酯的實例包括藉丙烯酸及/或異丁烯酸與 環氧樹脂（例如雙酚A型環氧樹脂或者酚醛淸漆型環氧樹脂） 之反應而製得者。多元酯丙烯酸酯的實例包括藉丙烯酸及/ 或異丁烯酸與多元酯多元醇（其由多元醇和多價羧酸合成而 來）之反應而製得者。 蜜胺丙烯酸酯的實例包括藉丙烯酸/3 ·羥基乙酯與蜜胺 樹脂（其係藉蜜胺、脲素、苯並醌胺等和甲醛水行聚縮反應 而得）之脫醇反應而製得者。丙烯酸系樹脂丙烯酸酯的實例 包括藉丙烯酸及/或異丁烯酸與內含於丙烯酸系樹脂中的官 能基（例如羧基、羥基、縮水甘油基等）之反應而製得者。 不飽和多元酯的實例包括藉多元醇與α，-不飽和二羧 酸（例如富馬酸、馬來酐等）之反應而製得者。多烯烴的實例 包括藉烯丙醇、乙烯醇等與有機聚異氰酸酯之反應而製得 者。光可聚合低聚物亦可以單獨使用或者兩或多種組合使 用。 光可聚合單體及/或低聚物係以5至90重量％(基於固體 組份的總重量）的量內含於光敏性組合物中。 如有需要’本發明之光敏性組合物可以再包含著色劑 、黏著樹脂、塡料、其他聚合物、界面活性劑（顏料分散劑 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ---------#1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -8- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 527520 A7 B7 五、發明説明（6 ) '抗靜電劑）、附著促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、 聚集抑制劑、溶劑、均化劑、中和劑、著色改善劑等。 無機或者有機著色劑常用來作爲著色劑。無機著色劑 的範例有金屬化合物，例如金屬氧化物及金屬螯合鹽。明 確言之，金屬氧化物或金屬氧化物的複合物例如鐵、鈷、 鎳、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等均可以作爲 範例。明確言之，述於 Color Index(The Society of Dyers and Colunsts發行）中的化合物均可以作爲有機著色劑。該等著 色劑可以單獨使用或者兩或多種組合使用。其更特定的實 例包括藉以下比色指數（C.I.)表示的化合物。 C.I. Acid Red 73, C.I. Direct Red 1，23，89 C.I. Acid Orange 7, 8, 28, 56, 88，140, C丄 Pigment Yellow 20, 24，31，5 3, 8 3，86，93，94，109, 110, 117，125，137，138，139，147，148，150，152，153，154， 1 55, 1 66，173，180 及 185， C.I. Pigment Orange 1 3, 3 1, 36, 38, 40, 42, 43, 5 1, 55, 59，61，64, 65 及 71， C.I· Pigment Red 9, 97，105，122，12.3，144，149，166， 168，176，177，180，192, 2 1 5, 2 1 6, 224, 242 及 254， C.I· Pigment Violet 14，1 9, 23, 29，32，33，36，37 及 38, C.I. Pigment Blue 15(C.I. Pigment Blue 15:3, 15:4, 15:6 等）2 1, 22, 28, 60 及 64， C.I· Pigment Green 7，10，1 5, 25, 36 及 47， 本紙張尺度適用中國國家標準(〇抑）六4規格（210父297公釐） I:---：----------訂------00— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -9 - 527520 Α7 Β7 五、發明説明（7 ) C.I. Prigment Brown 28, C.I· Pigment Black 1 及 7,等。 當內含著色劑時，著色劑基於總固體內容物的量通常 爲約3至70重量％。 一或多種具有可聚合碳-碳不飽和鍵之化合物的均聚物 或共聚物可以作爲黏著樹脂的範例。具有可聚合碳-碳不飽 和鍵之化合物的實例包括芳族乙烯基化合物例如苯乙烯、 α-甲基苯乙烯及乙烯基甲苯，不飽和羧酸烷酯例如（甲基） 丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲 基）丙烯酸2-羥基乙酯及（甲基）丙烯酸苯甲酯，不飽和羧酸 胺基烷酯例如丙烯酸胺基乙酯，不飽和羧酸縮水甘油酯例 如（甲基）丙烯酸縮水甘油酯，羧酸乙烯酯例如乙酸乙烯酯及 丙酸乙烯酯，乙烯基氰化物例如（甲基）丙烯腈及α -氯基丙 烯腈，不飽和羧酸例如（甲基）丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、馬 來酸及富馬酸等。 當內含黏著樹脂時，黏著樹脂基於總固體內容物的量 通常爲約5至70重量％。· 塡料的明確範例有玻璃、氧化矽、氧化鋁等。其他聚 合物的明確範例有聚乙烯醇、聚丙烯酸、聚乙二醇一烷醚 、丙烯酸多氟烷酯等。多種非離子、陽離子或陰離子界面 活性劑可以作爲界面活性劑（顏料分散劑、抗靜電劑）。附著 促進劑的明確範例有乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧 基矽烷、乙烯基參（2-甲氧乙氧基）矽烷、Ν-(2-胺乙基）-3-胺 丙基甲基二甲氧基矽烷、Ν-(2-胺乙基）-3•胺丙基三甲氧基 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） IU---^------舞丨 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -10· 527520 Α7 Β7 五、發明説明（8 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 石夕烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲 氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4_環氧環己基）乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧 基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-異丁烯醯氧丙基三甲 氧基矽烷、3-巯丙基三甲氧基矽烷等。 抗氧化劑的明確範例有2,2〜硫代雙（4-甲基·6-第三丁基 酚）、2,6-二-第三丁基-4-甲基酚等。紫外線吸收劑的明確範 例有2-(3-第三丁基-5-甲基-2-羥苯基）-5·氯基苯並三唑、烷 氧基二苯甲酮等。聚集抑制劑的明確範例有聚丙烯酸鈉等 。溶劑的明確範例有酯類例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸 丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、乙酸異丁酯、丙酸甲酯、
I 丙酸乙酯、丙酸丙酯、丙酸丁酯，丙酮酸乙酯、3 -甲氧基 丙酸甲酯、及3-乙氧基丙酸乙酯；酮類例如丙酮、甲乙酮 、甲戊酮、二異丁酮、環戊酮及環己酮；乙二醇醚的酯類 例如乙酸3-甲氧基丁酯及丙二醇一甲醚乙酸酯；芳族烴例 如苯、甲苯、鄰位、間位或對位-二甲苯。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外，均化劑的範例有直鏈矽酮油例如二甲基矽酮油 、甲基苯基矽酮油、及甲基氫矽酮油；經有機改質的矽酮 油例如甲基苯基矽酮油、經烷基改質的矽酮油、經氟改質 的矽酮油、經聚醚改質的矽酮油、經醇改質的矽酮油、經 胺基改質的矽酮油及經環氧基改質的矽酮油；含有多氟基 團的聚合物；多氟烷基羧酸鹽等。中和劑的範例有硬脂酸 鈣、水滑石等。著色改善劑的範例有9,10-二氫-9-氧雜-10-碟菲-10-氧化物等。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -11 - 527520 Α7 Β7 五、發明説明（9 ) 當多種組份溶解及分散均勻後，即將本發明之光敏性 組合物置於玻璃、塑膠、金屬等製成的容器中，並在密封 的容器內保存。容器最好是遮光容器，或者容器係置於遮 光處。 在本發明中，其係於以下的條件下保存，即其中容器 內孔隙率（％)和孔隙部中氧氣分壓（h P a)的乘積爲1 5 0 0 (% -hPa)或以上。乘積最好爲2000(%-hPa)或以上。 孔隙率（％)係指以百分比表示的容器中孔隙之體積對容 器之內體積的比率。孔隙的體積係由容器的內體積減掉欲 保存之組合物的體積而得。 較低的保存溫度爲較佳的做法。 以下的實例將進一步對本發明做詳細的例舉說明，但 是其並不限制本發明的範圍。在實例中，代表組合物中之 含量及用量的％及份數係以重量計，並且代表組合物裝入容 器後之孔隙率的％係以體積計。 製備例 f 作爲著色劑、光可聚合單體、光聚合起始劑及溶劑的 以下組份係以表1中所示的配合比製成組合物。 <著色劑> 彦頁料分散劑係藉 C.I. Pigment Green36/C.I. Pigment Yellow 150/分散劑/丙二醇一甲醚乙酸酯以 9·75/5·25/5·1/79.9的重量比混合而製得。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） L"11 舞— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 527520 A7 B7 五、發明説明（1〇 ) <光可聚合單體> 六丙烯酸二季戊四醇酯 <光聚合起始劑>
Irgacure 3 69 : 2-苯甲基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉代苯基） 丁-1-酮[Chiba Specialty Chemicals Co.，Ltd.製造] TAZ-PP : 2,4-雙（三氯甲基）-6-胡椒基-1，3,5-三嗪[可由 Nippon Sievel Hegunner Co., Ltd.購得] <黏著樹脂> 異丁烯酸/異丁烯酸苯甲酯共聚物=35/65 (莫耳比，重 量平均分子量：29,200 )的34.8%丙二醇一甲醚乙酸酯溶液 〇 〈溶劑〉 丙二醇一甲醚乙酸酯 i l·-----#! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 -線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -13- 527520 A7 B7 五、發明説明（11 ) 表1 <配合比> 著色劑（分散劑的量） 43.46 份 光可聚合單體 4.85 份 光聚合起始劑= Irgacure 369 0.87 份 TAZ-PP 0·68 份 黏著樹脂（溶液的量） 13.94 份 溶劑 36.20 份 L 01— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 實例1 在氧氣分壓爲204hPa的空氣壓下，將上述組合物置於 褐色潔淨玻璃瓶（遮光）中並密封而使得孔隙率爲1 〇 %， 然後，將其保存於溫度控制在40 °C的遮光培養器中。十天 之後，將玻璃瓶自培養器中移出，並觀察瓶中的溶液是否 維持在起始狀態並且無黏度的增加及聚集物的生成。 實例2 將組合物置於密封瓶中並依據等同於實例1中的方式 保存但是孔隙率改爲15%。十天之後，觀察瓶中的溶液是 否維持在起始狀態並且無黏度的增加及聚集物的生成° 實例3 光敏性組合物係於不使用表1配合例中的著色劑之{1条 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14- 527520 A7 B7 五、發明説明（12 ) 件下製得。此組合物係置於密封瓶中並依據等同於實例1 中的方式保存。十天之後，觀察瓶中的溶液是否維持在起 始狀態並且無黏度的增加及聚集物的生成。 比較例1 將組合物置於密封瓶中並依據等同於實例1中的方式 保存但是孔隙率改爲5 %。十天之後，觀察瓶中的溶液是否 有黏度的增加及聚集物的生成。 比較例2 組合物係依據等同於實例1中的方式保存，此處組合 物係置於氮氣壓下而非實例1中之空氣壓下的密封瓶中。 兩天之後，觀察瓶中的溶液是否有黏度的增加及聚集物的 生成。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表2 孔隙率 氧氣分壓 孔隙率X氧氣分 保存安定 (%) (hPa) 壓（％-hPa) 性* 實例1 10 204 2040 〇 實例2 15 204 3060 〇 實例3 10 204 2040 〇 比較例1 5 204 1020 X 比較例2 10 0 0 X 〇表示保存安定性良好。X表示保存安定性差。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29?公釐） -15- 527520 A7 B7_ 五、發明説明（13 ) 依據本發明，光敏性組合物之黏度隨時間的改變’聚 集物的生成等得以避免。即’保存安定性可藉裝有組合物 之容器內的孔隙率及氧氣分壓的控制而得到顯著的改善。 利用此方法，光敏性組合物的製造成本得以降低。同時， 此組合物的使用者可以降低接收檢驗的頻率並且可使製造 計劃有效率地實施，因而得以降低成本。 n n frl I— n .1 —I 卜· ϋ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -16-

Claims (1)

  1. 527520 A8 B8 C8 _ D8六、申請專利範圍 Γ ' 1. 一種含有光聚合起始ή及光可聚合單體及/或低聚物 之光敏性組合物的保存方法，其特徵爲此方法包含將光敏 性組合物置於容器中，其中容器內之孔隙率（％)和孔隙部中 之氧氣分壓（hPa)的乘積爲l500(%-hPa)或以上。 2. 如申請專利範圍第1項之光敏性組合物的保存方法 ，其中，容器內之孔隙率（％)和孔隙部中之氧氣分壓（hPa)的 乘積爲2000(%-hPa)或以上。 3. 如申請專利範圍第1項之光敏性組合物的保存方法 ，其中，容器爲遮光容器。 4·如申請專利範圍第1項之光敏性組合物的保存方法 ，其中，光聚合起始劑爲基於三嗪的光聚合起始劑。 5.如申請專利範圍第1項之光敏性組合物的保存方法 ，其中，尙包含著色劑。 6·—種含有光聚合起始劑及光可聚合單體及/或低聚物 之光敏性組合物的製造方法，其特徵爲此方法包含將光敏 性組合物置於遮光容器中保存的步驟，其中容器內之孔隙 率（％)和孔隙部中之氧氣分壓（hPa)的乘積爲1500(%-hPa)或 以上。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T- 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -17-
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI660973B (zh) * 2014-09-29 2019-06-01 Ｌｇ化學股份有限公司 丙烯酸漿料的製備方法及丙烯酸漿料

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW583506B (en) * 2001-09-03 2004-04-11 Sumitomo Chemical Co Preserving method for color resist
JP5211423B2 (ja) * 2004-10-07 2013-06-12 日立化成株式会社 光学材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂フィルム及びこれを用いた光導波路
EP1818366A4 (en) * 2004-10-07 2009-03-04 Hitachi Chemical Co Ltd RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIAL, RESIN FILM FOR OPTICAL MATERIAL AND LIGHT WAVE GUIDE THEREWITH
JP2007283753A (ja) 2006-03-20 2007-11-01 Seiko Epson Corp インク収容体及び保存方法
JP5716118B1 (ja) 2014-07-29 2015-05-13 株式会社松風 ペースト性状の劣化を軽減した複合材料
JP7228121B2 (ja) * 2018-04-25 2023-02-24 エア・ウォーター・パフォーマンスケミカル株式会社 光重合増感剤組成物

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3850675A (en) * 1970-11-30 1974-11-26 Weyerhaeuser Co Use of ultraviolet light to cure uncured surface layer resulting from air inhibition in preceding high energy ionizing radiation curing process
DE2607962A1 (de) * 1976-02-27 1977-09-01 Henkel & Cie Gmbh Bei sauerstoffausschluss erhaertende klebstoffe und dichtungsmassen
DE2607961A1 (de) * 1976-02-27 1977-09-01 Henkel & Cie Gmbh Bei sauerstoffausschluss erhaertende klebstoffe und dichtungsmassen
DE2607959A1 (de) * 1976-02-27 1977-09-01 Henkel & Cie Gmbh Bei sauerstoffausschluss erhaertende klebstoffe und dichtungsmassen
DE2714538C3 (de) * 1977-04-01 1979-11-15 Henkel Kgaa, 4000 Duesseldorf Methacrylsäureester von auf tricyclischen Decanolen aufgebauten Verbindungen
JPS53144727A (en) * 1977-05-24 1978-12-16 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photographic product
DE3116489A1 (de) * 1981-04-25 1982-11-11 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur stabilisierung pyrophorer, im wesentlichen aus eisen bestehender ferromagnetischer nadelfoermiger metallteilchen
DE3330767A1 (de) * 1983-08-26 1985-03-14 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Handhabungsstabile im wesentlichen aus eisen bestehende magnetpigmente, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung
US4814260A (en) * 1986-06-20 1989-03-21 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Method of storing photographic processing solution in a package having specific oxygen permeability
US5239016A (en) * 1989-01-26 1993-08-24 Cmb Packaging (Uk) Limited Process for production of a wall for a package
JP2663033B2 (ja) * 1990-02-22 1997-10-15 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀乳剤
JPH09204052A (ja) 1996-01-26 1997-08-05 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フォトレジストの長期保存方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI660973B (zh) * 2014-09-29 2019-06-01 Ｌｇ化學股份有限公司 丙烯酸漿料的製備方法及丙烯酸漿料

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