TW520346B - Reactor for generating moisture - Google Patents

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520346 A7 B7 五、發明説明（1 ) 【發明所屬之技術領域】 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係關於主要是在半導體製造裝置所使用之水分 產生用反應爐的改良，特別是關於極力減低利用氫與氧之 強制的混合提高反應效率所生成的水分氣體中之未反應氣 體量，且在需要較少量的水分之製程所使用的水分產生用 反應爐。 【先行技術】 在半導體之製造製程，例如需要流量爲從數十 s c cm至數千s c cm之廣大範圍的高純度水分。必要 的水分流量之大小係在每個製造製程上不同。在此，作爲 流量單位所使用之s c c m係意味著在於標準狀態之 c c / m i η 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以往，本發明者等係專注於1 Ο Ο 0 s c c m以上的 大流量型水分產生用反應爐之開發，已經公開如第6圖所 示的反應爐作爲日本特開2 0 0 0 - 1 6 9 1 1 0號及如 第7圖所示的反應爐作爲日本特開2 0 0 〇 -2 9 7 9 0 7 號。 第6圖係大流量型水分產生用反應爐的第1以往例之 縱剖面圖。圖中，9 1係入口側爐本體構件，9 1 a係入 口側爐本體構件之內壁面，9 1 b係原料氣體供給口， 9 2係出口側爐本體構件，9 2 a係出口側爐本體構件之 內壁面，92b係水分氣體取出口，93係反應爐本體， 9 4係入口側內部空間，9 5係圓盤狀反射板，9 5 a係 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -4- 520346 A7 _B7____ 五、發明説明（2) 反射板之周緣部，9 6係在反射板9 5與出口側爐本體構 件9 2之間所形成的微小間隙空間。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在入口側爐本體構件之內壁面9 1 a ，形成τ i N等 之阻擋膜C，在出口側爐本體構件之內壁面9 2 a形成白 金塗裝觸媒層D。此白金塗裝觸媒層D係在T i n等的阻 擋膜上層積形成白金塗裝膜而構成，白金塗裝膜是露出於 空間部。 其次，說明此大流量型水分產生用反應爐。預定比率 之氫氣與氧氣朝箭形圖號G方向供給，這些原料氣體係由 原料氣體供給口 9 1 B進入到入口側內部空間9 4。原料 氣體係邊朝箭形圖號Η方向呈流線形流動，邊進入到在反 射板9 5背後之微小間隙空間9 6。 反應爐全體係受到未圖示之加熱器調整至3 5’ 〇〜 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 0 0 °C，設定成促進水分生成反應的溫度條件。在此中 ，原料氣體之氫氣與氧氣係與形成在內壁面9 2 a的白金 塗裝觸媒層D接觸而被游離基化。被游離基化之氫與氧係 呈高活性狀態，在較起火溫度低的溫度下瞬間結合，不會 產生高溫燃燒，而生成水分氣體。 反應係由於分子間的衝突率越高越激烈，故在空間容 積被極小化的微小間隙空間9 6，水分產生反應是急速地 進行。已經生成的水分氣體與未反應原料氣體之混合體I 係由水分氣體取出口 9 2 b被供給到下~個製程。 第7圖係大流量型水分產生用反應爐的第2以往例之 縱剖面圖。圖中的圖號9 1〜9 6及G、c、D、I係與 本&張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） Γ" ； ' 520346 Α7 Β7 五、發明説明（3) 第6圖相同。此大流量型水分產生用反應爐係在第6圖之 以往反應爐上追加裝備有入口側反射體9 9及過濾器 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 0 0。入口側反射體9 9係由盒體9 9 a、入口側反射 板9 9 b及透過孔9 9 c所構成，被噴射在盒體9 9 a之 原料氣體係邊與入口側反射板9 9 b衝突而擴散，邊由透 過孔9 9 c進入到整個入口側內部空間9 4。 過濾器1 0 0係由於由不銹鋼製的網狀體等所形成， 故具有流體透過性，且具有將擴散在入口側內部空間9 4 之原料氣體平均化的同時且使其安定化之功能。因此，被 平均化且安定化之原料氣體是透過過濾器1 〇 〇 (箭形圖 號下），進入到形成在反射板9 5背後之微小間隙空間 9 6，藉由前述游離基反應，生成水分氣體。 【發明欲解決之課題】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 這兩種類之水分產生用反應爐的共通點係在於大流量 型。圓盤狀反射板9 5被配置在內部空間，原料氣體由其 周緣部9 5 a進入到微小間隙空間9 6。當反射板9 5的 半徑爲r時，由於原料氣體係從周緣部9 5 a的全周 2 a r之全區域進入到微小間隙空間9 6，故使大流量之 原料氣體流入至微小間隙空間9 6而使其產生游離基反應 ，將此大流量的水分氣體能夠供給至後段製程。 由於從第6圖及第7圖可看出原料氣體係在周緣部 9 5 a的外側比較平緩地朝箭形圖號η呈流線形流動，故 原料氣體係在比較層流之狀態下進入微小間隙空間9 6。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） : — 520346 A7 B7 五、發明説明（4) 特別是在小流量之情況下，由於氣體分子間之相互作用變 弱，雷諾數變小而容易變成層流狀態。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 當原料氣體變成層流狀態時，由於氫分子與氧分子的 衝突率降低，故水分生成率係較亂流狀態更低。此事係意 味著在生成的水分氣體中，殘留有未反應之原料氣體。由 於當可燃性之氫氣殘留較多時在後段的製程會產生爆炸的 危險性，故經常偵知未反應氣體量，一旦形成預定以上之 殘留率，則採取停止供給原料氣體等之緊急措施。 因此，本發明者等係爲了使此以往反應爐的反應機率 提昇，而謀求各種手段。例如，進行改良白金塗裝觸媒層 ，或謀求反應爐全體的內部溫度之平均化，或調整在原料 氣體中之氫氣與氧氣之比率等的改良。但，僅以如此的改 良，在於提昇反應機率上產生了限度。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又，由於前述以往反應爐係大流量的水分產生用反應 爐，故因反應爐全體之容積大，而爲了生成水分氣體需要 消耗多的時間，在立即需要水分的情況，無法迅速地對應 。又，在不需要水分氣體時迅速地置換惰性氣體之事也很 困難。 因此，本發明者等係爲了將水分產生反應高效率化， 而到達創作與上述不同之技術思想。即，在反應室內，強 制地攪亂原料氣體作成亂流狀態。藉由亂流化，氫分子與 氧分子之衝突率暴增，其結果使水分生成率提昇。特別是 在於易層流化的小流量型水分產生用反應爐若導入強制亂 流方式的話，水分產生率則一定提昇。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 520346 A7 B7_ 五、發明説明（5 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此，本發明之目的係在於藉由在反應室內開發將原 料氣體強制亂流化之構造，達到水分生成反應之高效率化 而使殘留在水分氣體中之未反應氣體量劇減化，達到特別 是適合小流量型之水分產生用反應爐。 【用以解決課題之手段】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍第1項之發明係，一種水分產生用反應 爐，其特徵爲：由從原料氣體供給口將原料空氣供給至入 口側空間部之入口側爐本體構件；與將已經生成的水分氣 體從水分氣體供給路輸送到水分氣體取出口之出口側爐本 體構件；與在入口側爐本體構件與出口側爐本體構件之間 挾持固定成密封狀態並且連通於前述入口側空間部般地在 .其重要部分形成複數個吹入孔之反射體；與在此反射體與 前述出口側爐本體構件之間形成具有微小間隙之反應室； 與連通此反應室與出口側爐本體構件的水分氣體供給路般 地在出口側爐本體構件上形成噴嘴孔；與在與前述反射體 相對之反應室壁面上形成塗裝觸媒層所構成，在由前述原 料氣體供給口所供給之氫與氧從反射體的吹入孔流入到反 應室內時，利用前述塗裝觸媒層的觸媒作用，氫與氧在非 燃燒狀態下反應而使水分氣體產生。 申請專利範圍第2項之發明係在於申請專利範圍第1 項之水分產生用反應爐，其中在前述入口側爐本體構件的 端部形成入口側凸緣部，且在出口側爐本體構件的端部形 成出口側凸緣部，利用入口側凸緣部與出口側凸緣部挾持 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ297公釐） 7« _ 一 520346 A7 B7 五、發明説明（6 ) 固定前述反射體之周緣。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 申請專利範圍第3項之發明係在於申請專利範圍第1 項之水分產生用反應爐，其中前述入口側爐本體構件與出 口側爐本體構件係各自由入口側爐本體管及出口側爐本體 管所構成，前述反射體是由反射板所構成。 申請專利範圍第4項之發明係在於申請專利範圍第1 項之水分產生用反應爐，其中在前述反射體之反應室側表 面及/或前述噴嘴孔之表面也形成塗裝觸媒層。 申請專利範圍第5項之發明係在於申請專利範圍第1 項之水分產生用反應爐，其中前述塗裝觸媒層係在阻擋層 皮膜上層積固定塗裝膜所構成。 申請專利範圍第6項之發明係在於申請專利範圍第5 .項之水分產生用反應爐，其中以白金構成前述塗裝觸媒層 ，且由 TiN、TiC、TiCN、TiAlN、 A 1 2〇3、C I· 2〇3、S i〇2、C r N中的任何一種構 成阻擋膜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 且申請專利範圍第7項之發明係作成利用在前述入口 側爐本體構件的外周面插著螺帽或連結器與在出口側爐本 體構件的外周面插著聯結器或螺帽之螺合，在入口側凸緣 部與出口側凸緣部之間挾持固定反射體之周緣部的水分產 生用反應爐。 又申請專利範圍第8項之發明係作成使軸承介於插著 螺帽側之凸緣部背面與螺帽之間，使與聯結器螺合的螺帽 之旋轉變得圓滑的水分產生用反應爐。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ""~ 520346 A7 B7 五、發明説明（7 ) 【發明之實施形態】 以下，依據圖面詳細地說明關於本發明之小流量型水 分產生用反應爐之實施形態。 第1、2、3圖係顯示本發明的實施形態之水分產生 用反應爐。第1圖係該實施形態的剖面圖，第2圖係被使 用之反射體的立體圖，第3圖係說明作用的重要部分剖面 圖。 在於第1〜3圖，2係水分產生用反應爐，4係入口 側爐本體構件，6係原料氣體供給管，6 a係原料氣體供 給口，8係入口側內部空間，1 〇係入口側凸緣部，1 2 係反射體，1 2 a係反射體之內側端面，1 2 b係反射體 之外設端面，1 4係周緣部’ 1 6係吹入孔，1 8係反應 室，2 0係出口側爐本體構件，2 0 a係出口側爐本體構 件，2 1係塗裝觸媒層，2 1 a係阻擋膜，2 1 b係塗裝 膜，2 2係出口側凸緣部，2 2 a係出口側凸緣部之內周 面，2 4係噴嘴孔，2 6係擴散部，2 8係水分氣體供給 路，3 0係水分氣體取出管，3 0 a係水分氣體取出口， 3 2係聯結器，3 4係螺帽，3 6係軸承。 更詳細地說明這些構件之相互關係。在端部具有入口 側凸緣部1 0之大直徑的入口側爐本體構件4係與小直徑 的原料氣體供給管6相連接，由原料氣體供給口 6 a，供 給預定比之氫氣與氧氣的混合氣體之原料氣體0 在大直徑的出口側爐本體構件2 0之端面2 0 a的周 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) _裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 520346 A7 B7 五、發明説明（8) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 緣，形成出口側凸緣部2 2，且在端面2 0 a的中央具有 呈開口狀的微小剖面積支噴嘴孔2 4。此噴嘴孔2 4係藉 由被擴徑成喇叭狀之擴散部2 6而連接於氣體供給路2 8 。且，此水分氣體供給路2 8係水分取出管3 0之水分氣 體取出口 3 0 a相連，供給所產生的水分氣體到後段製程 〇 在入口側凸緣部1 0與出口側凸緣部2 2之間配置著 反射體1 2，其周緣部是受到兩凸緣部1 0、2 0所挾持 固定著。藉由根據此兩凸緣部1 〇、2 2之反射體1 2的 挾持固定構造，密封反射體1 2的圓周區域而確保密封性 。且，此反射體1 2係圓盤狀，在周緣部1 4之內側於圓 周上以一定的間隔穿設著複數個微小吹入孔1 6。此吹入 孔1 6係與入口側空間部8相連通著。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 前述吹入孔1 6之穿設位置係不被限定於圓周上者。 射入到吹入孔1 6之氣體是在到達噴嘴孔2 4前能產生水 分產生反應即可。因此，也有圓周狀的鋸齒狀配置與放射 狀配置等。爲了使反應機率增大，由於儘可能地將從吹入 孔1 6到噴嘴孔2 4爲止的路線延長是非常有效果的，故 在此實施形態，於最外周的圓周上穿設著。 在出口側爐本體構件2 0的外周面，抵接於出口側凸 緣部2 2的位置爲止，外嵌著聯結器3 2。且在入口側爐 本體構件4的外周面，抵接於入口側凸緣部1 0之位置外 嵌著軸.承3 6，更且在其外周側外嵌著螺帽3 4。螺帽 3 4與前述聯結器3 2相螺合，將此小流量型水分產生用 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ w _ 520346 A7 B7 五、發明説明（9) 反應爐2堅固地一體化。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如此，藉由螺帽3 4與聯結器3 2的螺合構造，將反 射體1 2與兩凸緣部1 0、2 2強力地一體化，而保證本 發明的水分產生用反應爐2之耐久性。且，利用導管形成 入口側爐本體構件4與出口側爐本體構件2 0，若作爲入 口側爐本體管與出口側爐本體管的話，鎖緊螺帽3 4與聯 結器3 2也僅以旋轉就可簡單地進行，而可容易地組裝小 流量型水分產生用反應爐2。 再者，在第1圖，在入口側爐本體4的外周面插著著 螺帽3 4，且在出口側爐本體2 0的外周面插著著聯結器 3 2，但亦可作成將螺帽3 4與聯結器3 2的位置交換， 在入口側爐本體4的外周面插著著聯結器3 2，在出口側 爐本體2 0的外周面插著著螺帽3 4。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次，說明關於本發明的重要部分之反應室1 8。參 照第3圖，前述反射體1 2的內側端面1 2 a與出口側爐 本體構件2 0的端面2 0係僅分離著微小間隙d而相對著 ，形成反應室1 8。即，反應室1 8的入口側周緣係藉由 複數個吹入孔1 6連通於入口側空間部8，而反應室1 8 的出口側中心部係藉由噴嘴孔2 4連通於水分供給路2 8 〇 在本實施形態使用著第2 ( A )圖之反射體1 2，在 此反射體1 2於圓周方向上隔著等間隔形成8個吹入孔 1 6。第2 ( B )圖之反射體1 2係其他例，於圓周方向 上隔著等間隔形成4個吹入孔1 6。可適宜地變更吹入孔 本紙張尺度適用巾關家縣（CNS ) A4規格（210X297公釐) ~ ' 520346 A7 B7 五、發明説明（10) 1 6的數量。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 反射體1 2的周緣區域係由於受到凸緣的挾持固定所 緊閉，故不易大量供給原料氣體。唯一的供給口係吹入孔 1 6 ’根據吹入孔的數星及其直徑能夠增減供給量。由於 吹入孔1 6的數量越少則原料氣體的供給量越小而形成小 流量型，吹入孔1 6的數量越多則原料氣體的供給量越大 而形成大流量型之水分產生用反應爐。 吹入孔1 6與噴嘴孔2 4的剖面直徑係可任意調整， 但從水分氣體的小流量控制之觀點來看，〇 · 1腿〜3腿 爲適當，特別是0 · 5 mm〜2腿最合適。若將直徑設定在 此範圍內的話，則容易平均地混合原料氣體。 本實施形態的小流量型小流量型水分產生用反應爐2 係從耐久性、耐蝕性及耐熱性的觀點，以不銹鋼來形成。 詳細而言，入口側爐本體構件4、出口側爐本體構件2 0 、反射體1 2、聯結器3 2及螺帽3 4係以 S U S 3 1 6 L所形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在出口側爐本體構件2 0的端面2 0 a之表面，形成 有塗裝觸媒層2 1。且，在出口側凸緣部2 2的內周面 2 2 a也形成有此塗裝觸媒層2 1。相同地亦可在反射體 1 2的內側端面1 2 a與噴嘴孔2 4的表面適宜地形成塗 裝觸媒層，但內側端面1 2 a與噴嘴孔2 4的表面之塗裝 觸媒層2 1係亦可不需要。如此，在圍繞反應室1 8的壁 面，形成有塗裝觸媒層2 1 ，而強化在於反應室1 8之水 分產生力。 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 520346 A7 B7 五、發明説明（11) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 這些的塗裝觸媒層2 1係在不銹鋼的胎子表面形成阻 擋膜2 1 a後，在此阻擋膜2 1 a上層積形成塗裝膜 2 1 b，而塗裝膜2 1被形成在最外的表面使原料氣體活 性化。阻擋膜2 1 a係具有防止基礎之不銹鋼材料的流通 氣體之氧化及擴散，並且防止塗裝膜2 1 b剝落之作用。 塗裝膜2 1 b係具有助長原料氣體的水分產生反應之 觸媒作用。貴金屬（I r、Ru、Rh、Pd、Ag、 P t、A u )作爲具有耐熱性的觸媒金屬爲適宜的，其中 白金（P t )係作爲觸媒金屬，在耐熱性/安定性/效率 性上最優良。因此，多數使用白金塗裝膜作爲塗裝膜 2 1 b。在使用白金塗裝膜之情況下，塗裝觸媒層2 1係 被稱爲白金塗裝觸媒層。但不限於白金，也能夠使用前述 貴金屬、且這些的組合。 塗裝膜2 11)的厚度係〇.1//111〜3//111爲適當的 ，在本實施形態，形成約1 // m厚度之塗裝膜2 1 b。且 阻擋膜2 1a係0 . l//m〜5//m最適當，在本實施形 態，形成約2 // m的厚度之T i N製的阻擋膜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在形成阻擋膜2 1 a時，首先在入口側爐本體構件4 與出口側爐本體構件2 0、反射體1 2等之所需表面施行 適宜的表面處理，除去自然形成在不銹鋼表面的各種金屬 之氧化膜與鈍態膜。其次形成T i N之阻擋膜2 1 a。在 本實施形態，根據離子電鍍法形成厚度約2 // m之T i N 製阻擋膜2 1 a。 除了 T i N以外也能夠使用多數之氮化物、碳化物、 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 〇 520346 A7 B7 五、發明説明（12) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 氧化物作爲前述阻擋膜之材質。在這些之中特別是能夠使 用丁 iN、TiC、TiCN、TiAlN、Al2〇3、 Cr2〇3、Si〇2、CrN等。因這些爲非觸媒性，並 且具有優良之耐還原性及耐氧化性。且，阻擋膜的厚度係 如前所述，0 · l#m〜5//m爲適當的。其原因是由於 當厚度爲0 . 1 # m以下時，阻擋功能無法充分地發揮， 又相反地一旦厚度超過5 //m時，在形成阻擋膜上費時且 造成加熱時的膨脹差，產生阻擋膜的剝離之虞。 更且，除了前述離子電鍍法以外也能夠使用離子濺射 法、真空蒸著法等之PVD法、化學蒸著法（CVD法） 、熱衝壓法、熔射法等作爲阻擋膜之形成方法。 當阻擋膜2 1 a的形成結束時，接著在其上形成塗裝 膜2 1 b。在於本實施形態，根據離子電鍍法形成厚度約 1 // m之塗裝膜2 1 b。此塗裝膜2 1 b的厚度係〇 . 1 //m〜3 //m爲適當的。其原因係由於在厚度爲〇 . 1 // m的情況下長期發揮觸媒活性是困難的，又相反地一旦 厚度爲3 時，塗裝膜的成本增高並且即使作成3 //m 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以上的厚度在觸媒活性度與其保持期間上幾乎沒有差，並 且有由於在加熱時膨脹差等所產生的剝離之虞。 又，塗膜2 1 b的形成方法係除了前述離子電鍍法以 外也能夠使用離子濺射法、真空蒸著法、化學蒸著法、熱 衝壓法等，更且在阻擋膜2 1 a爲T i N等的導電性物質 時能夠使用電解電鍍法，但不管導電性，也可以使用無電 解電鍍法。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X297公釐） 7Z ~ 520346 A7 B7 五、發明説明（13) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次’根據第3圖說明水分產生之機構。由以預定比 所混合的氫氣與氧氣所構成的原料氣體係由原料氣體供給 口 6 a所供給。原料氣體（箭形圖號a方向）係流入到入 口側空間部8，衝突於反射板1 2的外側端面1 2 b。以 此衝突，原料氣體係朝箭形圖號a方向擴散流動，由吹入 孔1 6吹入到反應室1 8。當原料氣體係流入到反應室時 ，衝突於端面2 0 a而被強烈地攪亂，在反應室1 8內強 制地形成亂流狀態。由於在反應室1 8內的多重反射，亂 流化係更激烈’原料氣體的混合是被充分地進行。 在圍繞反應室1 8的壁面（端面2 0 a、內周面2 2 a )形成有塗裝觸媒層2 1 ，已經呈亂流狀態之混合氣體 係經過多數次強烈地與塗裝觸媒層2 1接觸。藉由此接觸 ，氫分子與氧分子係被迅速地游離基化，移至活性化狀態 。並且被游離基化的氫與氧係在亂流狀態下相互地反覆衝 突，在此衝突反應中會合而形成水分子。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之要點係將原料氣體在反應室1 8內強制地亂 流化，而將氫與氧的游離基化反應與水分生成反應高效率 化且高速化。爲了促進此亂流化，以微小間隙d的寬形成 反應室1 8。此微小間隙d係0 _ 1 mm〜5 mm爲適當的， 但最適宜設定在0 _ 5腿〜3腿。這些値係依存於水分之 生成量。 如此，當在反應室1 8內的水分氣體的生成率提昇時 ，在水分氣體中未反應而殘留之原料氣體係被劇減化。即 ，因未反應而被放出的氫氣與氧氣被劇減化，所以被送至 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ _ 520346 A7 B7 五、發明説明（14) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 後段製程的水分氣體之安全性格外提昇。並且，爲了確保 安全性經常進行偵知未反應氣體，由於未反應氣體的劇減 化可解除停止供給原料氣體之事態。 生成的水分氣體與非常微量之未反應原料氣體係由噴 嘴孔2 4介由擴散部2 6朝箭形圖號c方向擴散流出，朝 箭形圖號d方向行進在水分氣體供給路2 8。然後，由水 分氣體取出管供給到後段製程。 爲了在反應室1 8內促進游離基化反應與水分產生反 應，亦可在反射體1 2的內側端面1 2 a形成塗裝觸媒層 2 1。又，亦可在氣體流被縮流化之噴嘴孔2 4的內面形 成塗裝觸媒層2 1。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第4圖係此小流量型水分產生用反應爐連結隔板型氣 體濃度偵知器4 0之剖面圖。使原料氣體1 0 0 ‘％地進行 水分產生反應而未反應原料氣體爲0係最佳的，但實際上 在流出氣體中含有未反應氣體。特別是當氫氣殘留時，在 後段製程具有起火爆發之危險。因此，特別以偵知氫氣爲 目的連結氣體濃度偵知器4 0，偵知殘留氫氣到達一定濃 度以上之事，採取停止供給原料氣體等之緊急措施。 此氣體濃度偵知器4 0係由水分氣體導入管4 2、在 內部具有測定用空間4 6之感知器軀體4 4、挾持固定隔 板偵知體5 0之支撐部4 5及鎖緊凸緣部5 2、堅固地鎖 緊全體之鎖緊螺栓5 4以及水分氣體導出管4 8所構成。 已被生成的水分氣體係由水分氣體導入管4 2朝箭形 圖號e方向進入到測定用空間4 6，利用隔板偵知體5 0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 17 _ 520346 A7 B7 五、發明説明（15) 偵知出殘留氫濃度後，由水分氣體導出管4 8朝箭形圖號 ί方向供給到後段製程。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第5圖係隔板偵知體5 0的剖面圖。在以隔板基部 5 0 a所包圍的中央，形成薄板狀的隔板5 〇 b ，而固定 此隔板基部5 0 a於熱電偶保持體B。在熱電偶保持體b 的中央部穿設著透過孔，在此透過孔插入著內裝熱電偶 50e之套體50f 。此套體50f係受到鍔部50g所 固定在熱電偶保持體B。 熱電偶5 0 e係由2種的熱電偶用金屬A 1、A2所 構成，例如有鉻鎳合金一鎳鋁合金、銅一康銅、鐵一康銅 等。熔著這些熱電偶用金屬A 1、A 2的一方之接點而在 隔板5 0 b的內側以點熔接，另一方的接點係配設成測定 室溫。在溫度偵知進行溫度補正。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在與水分氣體接觸的隔板5 0 b之表面形成由基礎膜 之阻擋膜5 0 c與露出的塗裝膜5 0 d所構成之塗裝觸媒 層。當水分氣體衝突於塗裝觸媒層時，水分氣體中的微量 氫氣與氧氣產生游離基化，產生水分生成反應。當生成水 分時，由於產生熱隔板5 0 b被加熱而溫度上升。以熱電 偶5 0 e偵知此上升溫度，而偵知水分氣體中之未反應氣 體濃度。 如前述般，在預定濃度以上的未反應氣氣殘留在水分 氣體中之情況下，發生警報，停止供給原料氣體。當藉由 修正使未反應氣體濃度降至預定濃度以下時，開始進行水 分生成反應，而將生成的水分氣體供給至後段製程。. -18- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 520346 A7 B7 五、發明説明（16) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係在適用於小流量型水分產生用反應爐的情況 ，能充分地發揮前述效果。但若將吹入孔1 6的數量增多 的話也就可以作成大流量型水分產生用反應爐，在此情況 下也能充分地發揮在反應室1 8之亂流化與混合作用，達 到提昇水分生成率。 關於本發明之小流量型水分產生用反應爐係不被限定 於上述實施形態者，當然只要不偏移本發明之技術思想範 圍內之所有的變形例、設計變更也包含在其技術範圍內。 【發明效果】 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 若根據申請專利範圍第1項之發明的話，由於從在反 射體1 2的所需部分之複數個吹入孔1 6將原料氣體吹入 到微小間隙的反應室1 8，在反應室1 8內原料氣體係形 成亂流而被平均地混合，加速根據塗裝觸媒層2 1之游離 基化反應，同時也促進水分生成反應。其結果，即使爲小 流量的原料氣體供給也能以高效率進行產生水分，且可以 達到殘留未反應氣體的劇減化。該效果係在大流量型也能 夠達到。 若根據申請專利範圍第2項之發明的話，由於利用入 口側凸緣部1 〇與出口側凸緣部2 2挾持固定反射體1 2 的周緣，故能夠確實地將入口側爐本體構件4與出口側爐 本體構件2 0組裝成密封狀態，而可以提昇反應爐全體的 耐久性。 若根據申請專利範圍第3項之發明的話，由於由入口 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X撕公釐） 520346 A7 _ B7______ 五、發明説明（17) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 側爐本體管與出口側爐本體管所構成，故反射體1 2的挾 持固定與聯結器3 2及螺帽3 3之結構係僅爲鎖緊構造’ 能夠簡單地進行。 若根據申請專利範圍第4項之發明的話，由於在反射 體.1 2的反應室側表面1 2 a及/或在噴嘴孔2 4的表面 也形成塗裝觸媒層2 1 ，故能夠高效率地進行游離基化反 應與水分產生反應，且可以將殘留未反應氣體劇減化。 若根據申請專利範圍第5項之發明的話，由於在阻擋 膜2 1 a上層積固定塗裝膜2 1 b而構成塗裝觸媒層2 1 ，故因不會有塗裝膜2 1剝落，且藉由阻擋膜2 1 a基礎 金屬不會被氧化，且無朝白金內之擴散，所以能夠提供具 有耐久性之水分產生用反應爐。 若根據申請專利範圍第6項之發明的話，由於由 TiN、TiC、TiCN、TiAlN、Al2〇3、 C r 2〇3、S. i〇2、C r N中的任何一種構成阻擋膜， 故可提升塗裝膜2 1 b之耐久性，基礎金屬不會產生氧化 /擴散，能提供長壽命之水分產生用反應爐。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印y 且若根據申請專利範圍第7或8項之發明的話，僅以 螺合螺帽3 4與聯結器3 2能夠組裝水分產生用反應爐， 可大幅度地降低水分產生用反應爐之製造成本。 本發明係可達到上述的優良實用效果。 【圖面之簡單說明】 第1圖係本發明的實施形態之小流量型水分產生用反 -20- \尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 520346 A7 五、發明説明（18) 應爐的剖面圖。 第2圖係用於本發明之實施形態的反射體之立體圖。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 弟3圖係本發明之貫施形態的重要部分剖面圖。 第4圖係在小流量型水分產生用反應爐連結隔板型氣 體濃度偵知器之剖面圖。 第5圖係隔板偵知之剖面圖。 第6圖係大流量型水分產生用反應爐的第1以往例之 縱剖面圖。 第7圖係大流量型水分產生用反應爐的第2以往例之 縱剖面圖。 【圖號說明】 2…小流量型水分產生用反應爐， 4…入口側爐本體構件， 6…原料氣體供給管， 6 a…原料氣體供給口， 8…入口側空間部， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 〇…入口側凸緣部， 1 2…反射體， 1 2 a…反射體內側端面， 1 2 b…反射體外側端面， 1 4…周緣部， 1. 6…吹入孔， 1 8…反應室， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2i〇x297公釐） -21 - 520346 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（19) 2 0…出口側爐本體構件， 2 0 a…出口側爐本體構件之端面， 2 1…塗裝觸媒層， 2 1 a…阻擋膜， 2 1 b…塗裝膜， 2 2…出口側凸緣部， 2 2 a…出口側凸緣部之內周面， 2 4…噴嘴孔， 2 6…擴散部， 2 8…水分氣體供給路， 3 0…水分氣體取出管， 3〇a…水分氣體取出口， 3 2…聯結器， 3 4…螺帽， 3 6…軸承， 4 0…氣體濃度偵知器， 4 2…水分氣體導入管， 4 4…感知器軀體， 4 5…支撐部， 4 6…測定用空間， 4 8…水分氣體導出管， 5 0…隔板偵知體， 5〇a…隔板基部， 5 0 b…隔板， (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -22- 520346 A7 B7 五、發明説明（2() 5〇c…阻擋膜， 5〇d…塗裝膜， 5 0 e…熱電偶， 5 0 f…套體， 5 0 g…鍔部， 5 2…鎖緊凸緣部， 5 4…鎖緊螺栓， A 1、A 2…熱電偶用金屬， B·…熱電偶保持體， C、D…白金塗裝觸媒層。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -23-

Claims (1)

1. 52Q3m 公舌本 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 . 一種水分產生用反應爐，其特徵爲：由從原料氣 體供給口將原料空氣供給至入口側空間部之入口側爐本體 構件；與將已經生成的水分氣體從水分氣體供給路輸送到 水分氣體取出口之出口側爐本體構件；與在入口側爐本體 構件與出口側爐本體構件之間挾持固定成密封狀態並且連 通於前述入口側空間部般地在其重要部分形成複數個吹入 孔之反射體；與在此反射體與前述出口側爐本體構件之間 形成具有微小間隙之反應室；與連通此反應室與出口側爐 本體構件的水分氣體供給路般地在出口側爐本體構件上形 成噴嘴孔；與在與前述反射體相對之反應室壁面上形成塗 裝觸媒層所構成，在由前述原料氣體供給口所供給之氫與 氧從反射體的吹入孔流入到反應室內時，利用前述塗裝觸 媒層的觸媒作用，氫與氧在非燃燒狀態下反應而使水分氣 體產生。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 .如申請專利範圍第1項之水分產生用反應爐，其 中在前述入口側爐本體構件的端部形成入口側凸緣部，且 在出口側爐本體構件的端部形成出口側凸緣部，利用入口 側凸緣部與出口側凸緣部挾持固定前述反射體之周緣。 3 .如申請專利範圍第1項之水分產生用反應爐，其 中前述入口側爐本體構件與出口側爐本體構件.係各自由入 口側爐本體管及出口側爐本體管所構成，前述反射體是由 反射板所構成。 4 .如申請專利範圍第1項之水分產生用反應爐，其 中在前述反射體之反應室側表面及/或前述噴嘴孔之表面 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 520346 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 2 也形成塗裝觸媒層。 5 _如申請專利範圍第1項之水分產生用反應爐，其 中即述塗裝觸媒層係在阻檔層皮膜上層積固定塗裝膜所構 成。 6 .如申請專利範圍第5項之水分產生用反應爐，其 中以白金構成前述塗裝觸媒層，且由T i N ' T i C、 TiCN、TiAlN、Al2〇3、Cr2〇3、 Si〇2 、C r N中的任何一種構成阻擋膜。 7 .如申請專利範圍第2或3項之水分產生用反應爐 ，其中利用在前述入口側爐本體構件的外周面插著螺帽或 連結器與在出口側爐本體構件的外周面插著聯結器或螺帽 之螺合，在入口側凸緣部與出口側凸緣部之間挾持固定反 射體之周緣部。 8 .如申請專利範圍第7項之水分產生用反應爐，其 中作成使軸承介於插著螺帽側之凸緣部背面與螺帽之間， 使與聯結器螺合的螺帽之旋轉變得圓滑。 Γ in «ϋϋ 11 —^ϋ I ι_ι— m ϋϋ an·— «-HI ·.1_1_1 —ϋ ϋ m I— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25-