TW511219B - Alignment apparatus - Google Patents

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511219 五、發明說明（1) 技術領域 本發明係有關一種對準裝置，可將定位對象物以高精準 度定位於目標精準度範圍内，特別是有關晶圓等之安裝裝 置或曝光裝置中較佳之裝置者。 背景技#t 例如，使晶圓與晶圓接合之安裝裝置中，或將晶圓定位 於指定位置之對準裝置，藉以針對晶圓施以加工或安裝晶 片及其他元件之安裝裝置中，或者，於晶圓上施以指定曝 光之曝光裝置中，必須將晶圓以高精準度定位於指定之位 置者。習知之此類將定位對象物予以定位之對準裝置，例 如有：將可調整X、γ軸方向（水平方向）及0方向（旋轉方 向）之位置調整台堆積，並視其需要搭配可調整Ζ軸方向 (上下方向）之位置調整台或調整頭，藉以分別調整、控制 各軸方向或旋轉方向，以提升其定位精準度者。 然而，此類習知之對準裝置，由於必須依次分別調整各 方向（例如，X、Υ軸方向、0方向），即使可對某一方向作 較精密之定位，但調整另一方向時，可能使已調整方向之 位置精密度發生誤差，其結果，.常使最後定位精準度產生 極限。而且，定位時通常使用機械性導引器（g u i d e )，而 導引器本身有其極限，這一點也使最後定位精準度產生極 限。具體上，習知之對準裝置，其精率度無法達到次微米 水準（s u b m i c r ο η 1 e v e 1)範圍之Γ精密定位，更不可能達到 數十毫微米或數毫微米級之精密定位。 而且，如前述，習知之對準裝置，由於其係堆積X、Υ軸

C:\2D-CODE\90-ll\90120835.ptd 第5頁 五、發明說明（2) ί向= 台：成，調整最上面之軸以外之軸 動、控制ί;;;::;上：之轴，以致發生定位之驅 之位置調整△堆=:若將χ]軸方向及θ方向 方向之尺寸;成，會使對準裝置之整個高度（上下 器至最上ΐίϋ 著變成大型之η。而且，導引 該誤差增;:離變Λ，會使導引器之誤差增幅， ㈢巾田之部分又會影響到定位之精準 另外，0方向之定位，係於七 位置調整台， 你曰疋之中心軸周圍來調整其 其外周位度與晶圓之半徑成正比，會發生在 北，=，本發明之目的在於提供一種對準# ¥ ^ :如習知裝置將各轴方向或旋轉方向二裝置並 ^而係使保持定位對象物之一活動：位^周,台堆積而 二二Θ方向於同—平面上同時得:> JX、Y軸方 :3位置調整機構而一舉將定 =僅猎特定之 :::各方向及定位對象物之外周4=目標位置， 者。’ 置之結構簡便化 位；象物之$二ϋ ’本發明之對準裝置’係、為呈備伴持— 複數活私ΐ ί 於複數位置分別支持該、、舌叙、/持疋 '支持機構；讀取前述定位對象％ /動口移動之 物或活動台上所附 第6頁 五、發明說明（3) _ 制前述活動支i=ϊ ^以及根據該識別機構之資訊控 :之前述象:;準 者其4寺徵為：各活動支 疋，於目“精準度範圍内

Plez〇)驅動體，該壓電驅動邮^具備2個一組之壓電 與之接觸/脫離之支持，= 設於前述活動台而可 上於水平方向互以及連接於該支持組件 元件及實質上於上下可伸縮活動之第！、第2星貝電 件者，且’該2個-也之嚴雷伸而可伸縮活動之第3壓電元 件與前述活動台互相交：電驅：：係使2個-叙之支持組 動台行使行走(walking)妾觸離’藉以使其對前述活 換言之’上述對準裝置：:構者。 動體，係藉第3塵電元件之各活動支持機構之各塵電驅 脫離活動台，並且藉 9、、S動作而使支持组件接觸或 持組件向水平方向之二f壓電元件之伸縮動作而使支 搖動者。第3壓電元件‘：：移動’隨之使第3壓電元件 台之動作，隨之重複搖動;1， 持組件重複接觸/脫離活動 電驅動體之各壓電驅動雕六=j動作係針對2個一組之壓 現宛如針對活動台作相二二一用，使2個第3壓電元件呈 行走動作。該行走動作係二：：？之狀態，此即上述所稱 上，係藉複數之活動支持活動台之相對性動作，實際 藉由控制複數之活動支接、之驅動而使活動台移動者。 一平面上得以同時調整叉、、γ之驅動，至少使活動台在同 广旋轉方向）之位置，而 方向（水平方向）及6>方向 也了任思控制其旋轉中心之位 ____ 第7頁 c· ^D-C〇DH\9〇. 11 \9〇l2〇835. ptd 川219 五、發明說明（4) _ _ 置’可藉由使用壓電驅重轉 、 移^位對象物至精準之月;標位=動支持機構，-舉而 〆又位方法中，由於其 構，故不會產生起因於g 而要具備機械性之導引機 =而且，由於可藉複數之：位精準度之極限問 Q在同一平面上同時向Χ、γ ^ 夺機構之驅動而使活動 ^持機構之驅動面到活\、方向驅動，使得複數活動 =物之定位對象面之；广持在活動台上的定位對 動面至定位對象面之距離=$，於像習知裝置，因驅 生控制誤差之增幅。因乂 定位對象面之驅動面產 即，藉由複數之活動支持機構確保定位之高精準度。也 構，可高效率且精準地二f :不必使用機械性導引機 :區動之誤差，可獲得高精。之二故不易發生起因於定位 軸方向之複數活動支持^者=位。又，藉由X、Y、Θ ^，可使定位驅動獲得良好之上：驅動面在同-平面 動支持機構，實質上传 /革而且，該等複數之活 機構，故與習知裝置以各=於同-平面上之-組定位 幅度的小型化。 /、 +準衣置之上下方向可作大 本ί明構之活動台嶋 下，： = 之L相力在埃(―·Α)水準以 12⑽左右之解；i;件；器之測量、控制系中為 又更控制結構，則更可提升解像 第8頁

丄V 五、發明說明（5) 能力至5nm以下，κ 象物之尺寸大型化也Λ 位）。x，若將定位對 構布置於與諸iUm用壓電元件之各活動支持機 夠古^2 物之外周部相對應之位置，μ & 夠回度維持0方向之解像能力。 i尤其旎 而且’本發明之對準裝置， 設置於一妒呈古、典^ 基本上不具備滑動部，始可 =置：乂又具有滑動部者所不易設置之』故可 又，如上述，本發明之對準 ^ ^ , μ ι至中。 結構，可將中央部开^ Ρ^衣置’可形成上下方向薄型之 Τ天口丨形成開口結構，在中央開口卹山主 之位置’設置對準用之$ σ或相對應 設置附帶加壓動作之備例如對準用攝影機），或 :二本發明，’也可省略活動台而直接以 支持疋位對象物。也即，太π ηΒ 動支持機構 定位對象：分別支持於複數：位ΐϋίί支2為具備將 取附圮於前述定位對象物 j、 持機構；讀 據該識別機構所得資 二動记k之識別機構；以及根 構，且，藉由該控；㈣象物之控制機 目標精準範圍内者，盆特 則述疋位對象物定位於 係具備2個 '祖之壓電驅動體為，:=之$活動支持機構 述活動台而可盥之接_ / ^ ^電驅動體具備設於前 支持組件實質工；；：方脫:，Λ持組件… 第1、第2壓電元件及實質上於延伸而可伸縮活動之 之第3壓電元件者，且，你下方向延伸而可伸縮活動 -組之支持組件與前述活動台：：t f:f動體係使2個 使其對前述活動台行使行走觸/… 第9頁 五、發明說明（6) 在上述本發明之對準裝置中 定定位對象物之粗略 ，也可藉由前述彳 藉各壓電元件之伸：：：決匕止行走動作之:ί = =電元件之伸縮動作量物之精準二； 咼的精準度内，故於广土心身並不太大，但vr 4 精準度之調整，可將:，作之粗略調整後，每f制在極 升至毫微米水準餘所不能達到之次ΐΐ此種高 〆+之精準定位。 人彳政米水準提 上述疋位對象物之精準定位，田辟 =施，由此’上述粗略調整；好2走動作!步之範 :電元：ί使高精準度調整得以確實執行用壓電元件之伸 前述第1、第2星電元件Κι;又，前述第3 動位置’取好是在前述 ^動作所促 設(-⑴於行走動作之丨步』準定位之前，從重 綱電元件之伸縮動作位置，由此，可 之方向實現。 阿精準度調整得以在任意 又，壓電元件係具有一特徵， 驅動履歷之影響。因此， 八沖程之決定易受前次 不良影響，最好能夠在精密定位之匕對定位精準度之 履歷之影響。也即，上述定位對# :重以免受到以前 好：之前各塵電元件的伸縮動作Ϊ之；前，最 以校準（calibration)。藉此，可^寺/，琅好能夠事先予 制。校準之時序，可作適度保:控制機構之精準控 動作特性有變動之可能，;，但若壓電元件之伸縮 動之叮月匕則雖然不必太頻繁，最好能定期

.S C:\2D.CODE\90-ll\90120835.ptd 第10頁

511219 五、發明說明（7) 予以實施，並將校準值更新為最新數值。 上述本發明之對準裝置，尤其適合 宗々r驻罢。為，丨丄 、男问槓半度需求之 疋位衣置。例如，將其裝配到接合晶圓盥θ = 鱼Β Η ，為曰y彳 /、日日圓之間或日日圓 一日日片 或日日片與晶片之安裝裝置中，用—壯莊 中之祜接人必7宁A 用从使该女叙裝置 干之被接口物疋位。又，可將晶圓等當作 元件定位之直線對準器。而且還可用於針對：丄;:二 曝光之曝光裝置中被曝光物之定位。 曰疋 發明之最佳實施飛能 以下將參照圖示說明本發明之最佳實施形離。 圖1為顯示本發明之一實施形態中裝配對準裝置， 晶圓與晶圓相接合之安裝裝置。該安裝裝置（1),係用= 接合作為被接合物之晶圓（2 a)及曰m r 9 k Λ ' 日日mzaJ及日日® (2b)者，本實施形能

Ut裝i己有ΐ發明之對準裝置(3) ’藉以使定位對象物。 曰曰圓（2 a )付以定位者。 晶圓（2a)及晶圓（2b)之接合，在本實施形態中，係於接 合反應室（chamber) (4)中進行，唯反應室（4)可視需要而 設置。本實施形態中，接合反應室（4)設有可開關之閘門 (5 )，在開放閘門（5 )之狀態下，藉由作為搬運機構之機器 人（6)，將被接合物晶圓（2a)及晶圓（2t〇引進接合反廍室 (4)。 〜 被接合物之間的接合部中，圖1上方之直接保持晶圓 (2a)之機構，在本實施形態中係由靜電吸盤（chuck)(7)所 組成，該靜電吸盤（7)係裝設於可升降之頭部（8)下端。頭 部（8 )之下部，配置有複數之可控制伸縮之支柱（9 )。藉由

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控制各支柱（9 )之伸縮量’可調整靜電吸盤（7 )之平行产 甚至可調整保持於上部端靜電吸盤（7)之上端晶圓（2b)x針 Λ 對下端晶圓（2a)之平行度。為控制各支柱（9)之伸縮量， · 例如可利用壓電元件。 - 又，頭部（8)之下部，設有後述之引光機（Hght宮幻心）· (1 〇)，該引光機（1 〇)係導引針對紅外線攝影機方向照射之 . 光源（未圖示）者。該引光機（10)係將介由光纖等引導'而來 . 之光線，向垂直下方照射者。來自引光機（丨〇)之光所透過 之靜電吸盤（7)之部位，係由可透光之透明體所構成或開 有透光用之孔者。 頭部（8)之上方，設有升降機構（11)，其上方，則設有 _ 具備氣缸等加壓氣缸（1 2)之加壓機構（丨3 )。加壓氣缸（丨2 ) 中，設有加壓琿（14)，藉以控制向下方之加壓力；及平衡 埠（15)，藉以控制加壓力並產生向上之移動力。升降機構 (Π)，將頭部（8)及靜電吸盤（7)所保持之上端晶圓（2b)向 下=移動，同時於移動及調整平行度之後，可使上端晶圓 (2b)接觸於下端晶圓（2a)並暫行接合。又，加壓機構（13) 於其暫行接合時，可介由升降機構（π)加上押壓力，並於 m合後’將更仃下降之上端晶圓(2b)更押壓於下端晶 圓（2a)上，再加壓而予以正式接合。 本员形悲中，為了下端晶圓（2々）之定位，設有本發明 之對準裝置⑻。該對準裝置（3)，係具備··透明體所組成 之f動台（1 6 )，其係藉以保持定位對象物晶圓（2 a )者；及 * 活支持機構（17)，其係於複數部位（本實施形態中，為

511219 五、發明說明（9) 得以之周方向3個部位）分別支持而使該活動台（16) 者。各活動支持機構(17)，係設於上下方向延伸 相對應二：2;(18)係與各活二支持機構(17) = 實施形態中，如後述，下方設有= 玻璃板）所V/攝影機’故活動台（16)係由透明體（例如 到達红外拷冓爲成④精以使來自前述引光機（10)之光線得以 社構、。上i t機，但也可以採取中央部開設透過用孔之 i置（πΜ j持台（18)，也可由上下方向（2方向）調整 可針對下端曰圓有靜電吸盤（7),如有需要，也 般，：¾ # β ΐ 0S =a)，例如於中央開設環狀延伸之靜電吸 I ，好疋透明體形成之靜電吸盤。 本"貫施*形能Φ ，y么ία 設於活動台（1、6)下ί將作為識別機構之紅外線攝影機（20) 外線摄与:0m 方且設於接合反應室之外部位置。該紅 (1〇)之^射光，丄係ΐ由分光裝置（21)利用來自引光機 (7)上之針準用υ刀別碩取附記於上端晶圓（2 b)或靜電吸盤 台（16)上之嘴別^別記號以及附記於下端晶圓（2a)或活動 (⑴之位置：也;己線攝影機(2〇)及分光裝置 制。 ；|由位置洞整機構（2 2 )而加以調整、控 對準裝置（3 )之 ，如圖2所示，係 合計設有3個活動 結構，如圖2及圖3所示。本實施形態中 於圓盤狀活動台（1 6)之周方向3個部位， 支持機構（1 7)。各活動支持機構（〗7)

C:\2D-C0DE\90-lI\90120835.ptd 第13頁 511219 五、發明說明（10) 中’以2個一組之形態，設有壓電驅動體（2 3 )、（ 2 4 )。該 壓電驅動體（2 3 )、（ 2 4 )，如圖3所示，係具備··設於活動台 (1 6)上之可接觸/脫離之支持組件（23d)、（24d);連接於該 支持組件（23d)、（24d)而實質上向水平方向互相交又延伸 (延向X、Y方向）之第！壓電元件（23a)、（24a)及第2壓電元 件（23b)、（24b);連接於支持組件（23d)、（24d)而實質上 向上下方向延伸（延向z方向）之第3壓電元件（2 3c)、（2 4c) 藉由控制第1壓電元件（23a)、（24a)及第2壓電元件 23b)、（24b)之伸縮動作量，使連接於其上之支持组件 (23d)、（24d)，如圖3所箭示，可任意向活動台（16)之面 =向j即’ f質上向水平方向之任—方向任意移動。因 支持組件（23d)、（24)中有一方會接觸活動台（16)之 ^ 而將違接觸之支持組件移動，即可隨之將活動台 r 9 q ^向支持組件之移動方向移動。此時，第3壓電元件 L 、（24C)會隨著支持組件之移動而搖動，從下方支持 =括介由該支持組件支持活動台（16)。然後，使 主、、且件（23d)、（24d)交替接觸/脫離活動（）， ;持組件⑵d)、(24d)之移動及第3壓電元件⑵〇、猎由 m'之二fV而使壓電驅動體（23)、（24)之第3壓電元件 7相)對:生步Γ動，也即，作行走㈣。各活動2 =係…相對應之各支持台(18)上，故藉由 走動作’貫際上使活動台(16)之移動量相當 ：：

511219 五、發明說明（lj〇 ' "" ' 之距離。 活動支持機構（1 7 )，係設置於圓盤狀之活動A 方個部…計設有3個，可使各活動支持 ^、^兀件同步驅動，如圖4A〜4C所示，可使活動台（16) ° Θ方向任意移動。圖4 A，係顯示將活動台（丨6 )向 °移動時之各活動支持機構（丨7 )之各壓電元

Sc圖U系顯示將活動台（16)向Y方向移動時之動作例； 兮耸叙：將活動台（16)向0方向移動時之動作例。將 作組合’可使活動台(16)向χ、γ、0方向之任意方 向、=動，也使保持於活動台（16)上之晶圓（2a)得以定位於 —Θ方向之任意方向。而且此時0方向之旋轉中心， 也可稭由控制各壓電元件之動作，驅動至任意之位置。 如此，本發明、之對準裝置（3 )，係至少可同時調整X、γ 、^軸方向之位置，可將晶圓（2a)_舉而定位於目標位置 上疋位之IV、，係藉紅外線攝影機（2 〇 )讀取識別記號，可確 w日曰圓（2a)或活動台（16)是否以目標精準度範圍内到達目 標位置而定位。若未到達目標精準度範圍内時，可繼續上 述打走定位之動作，直至到達目標位置。此類一系列動作 之払制至少可從紅外線攝影機（2 0 )輸入位置識別資訊， 根據該輸入資訊，使控制各活動支持機構（17)之驅動方 向、驅動置之控制機構，利用例如微電腦之控制機構來進 行。再者，讀取識別記號之識別機構方面，並非限於紅外 線攝影機（20)，也可使用通常之可視光攝影機或利用雷射 之識別機構。

C:\2D-CODE\90-ll\90120835.ptd 第15頁 五 、發明說明（12) 上述定位用之各、、去# 元件之伸縮動作所 f機構（17)之驅動，係由各壓電 可作極為微細之控制。因0所周知，壓電元件之伸縮動作 先予以校準，μ據各』m壓電元件之伸縮動作事 之定位，可達到極為高精準乂^動2 =定晶圓（2a) 晶圓(2a)與上端 ；結果’使下端之 合精準度大幅提升。再侍精準之定位，將兩者之接 第3壓電元件（23c)、（24胃於^方向之定位，也可利用 又’於行走動作終了後 ？縮動作，、加以微調整。 之壓電驅動體（23)、1 f由控制各活動支持機構（17) 尚可分別進行X、;袖方動7，除2方向之定位以外’ 上端晶圓（2b)相對於端:方向之微調整，故針對 精準度之微調整。、而曰曰圓（2a)之平行度，也可進行高 又’本發明對準裝置（3)中 決定X、y、θ方向 上述，可於同一平面上 積各軸方向用之==二不：再像習知對準裝置，堆 薄型之裝置…4置；：：,，而可將對準裝置本身做成 方向宗付，尬=果。由於在同一平面上同時使各 : 使疋位驅動效率也變得良好。而且，由於a、壬 較大型之守叙a ,，、布置於動口 1 6)之周邊部，故針對比 不必0(1 6)和保持於其上的晶圓（2a)，也可因 應而不必特別降低θ方向之精準度。 本發明對準裝晋（q > + 、菩-Γ $ 度。例如，如前Ϊ 一般Λ電元進件一步//其定位精準 叙之&電7G件，具有一種特徵，即 第16頁 C:\2D-CODE\90-ll\90120835.ptd 511219 五、發明說明（13) 其軌跡係根據前次之驅動沖程而決定下一步之驅旦， 了除去該特徵之對定位精準度之不良影響，最好处二二 前之動作履歷不發生影響。為此，最好在行走動:^ 1 内之精密定位之前，予以重設，藉以將以前之動/

去。也即，第3壓電元件（23c)、（24c)之外’針第土楚 2壓電元件（23a)、（24a)、（23b)、（24b)之伸縮動=旦、弟 履歷，也宜在精準定位之前予以重設。 里I 又’本發明對準裝置(3)中，若欲再進一步求 度之提升，則可於上述行走動作中作某種程度之 \ 位，在该狀悲下基本上停止上述之行走動作，在停 _ 動作之狀態下，利用各壓電元件本身之伸縮動作了二j 對晶圓（2a)進仃更高度之精密定位。由於該項精宓^筏 在停止行走動狀態下進行，|本上必須纟^ & 1步以内之位置調整範圍内進行。又，為了能夠對任動作之 向之精密定位之微調整發生效力，宜於精密定位之 刻，將行走動作之腳部，即第3壓電元件（23c)、一 之，其因第1壓電元件（23a)、（24a)及第2壓電元件（^ 、（2 4 b )之伸縮動作所促成之搖動位置，在行走動 範圍以内之中央位置予以重設。該中央位置之重μ ν 前述履歷之重設同時進行。 了與 上述精密定位之前之一系列控制，係根據例如圖5 之;W私來進行。圖5所示控制中，係由步驟$ 1實行士 、， 之粗略定位為目的之行走動作，判斷其與經由$識^刚述 測知之目標位置之誤差5，是否已進入行走動作之丨^^色所

C:\2D-OODE\90-ll\9O120835.ptd 第17頁 511219 五、發明說明（14) 園以内（步驟S2)，若未進入行走動作之j步範圍以内， 梦範圍以内 (2 4 C)之位置 置（步驟S3)， 電元件（23a) 回到步驟S1，繼續行走動作。若判斷其已進入行走動作之 ，則腳部之位置，即，第3壓電元件（23c)、 ，被重設在行走動作之丨步範圍以内之中央位 藉由該i步内之各壓電元件，《其藉由第；壓 、（24a)及第2壓電元件（23b)、（24b)之 動作，精密定位，達成高精準度之對準（步驟54)。献後， 確忍！由識別機構所測知之目標位置之誤差5， 入行1動作之i步範圍以内（步驟S5)，若未進人 進 步驟S 3重複精密定位之動作。甚 、 到 内時為該控制就會結束。藉由此類精密：：：精 置加以說明，但本發明之對準裝 ^圓之間的女I裝 …裝裝置或晶片與晶片之間：安=用晶 適用於直線對準器（aligner)，更 、而且，也可 光物，例如晶圓，或可曝光之曝光裝置少上’。可適用於被曝 又，上述實施形態，係顯示利。 中也可直接使用活動支持機構來支掊^ 〇之形態，本發明 省略前述活動台（16)，直接以複數之==對象物。此時， 持定位對象物即可。其他基本結構支持機構⑴）支 同。 構則與上述實施形態相 產業利用的可行性 本發明之對準裝置中 可達成過去 云所不能達成之毫微米

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五、發明說明（15) 水準之對準精準度。而且’由於不必堆積位置調敕么 使對準裝置本身乃至裝配該對準裝置之整個壯¥ : 口、’可 度之薄型化、小型化。此種本發明對準梦菩 ^ 田 丁私1，可適用於所 有需要將定位對象物以南精準度定位於目標精準度Μ圍内 之對準裝置，尤其適合於安裝裝置及曝光裝置。X乾 ϋ牛編號之說明 1 安裝裝置 2a 下端晶0 2 b 上端晶圓 3 對準裝置 4 反應室（chamber) 5 閘門 6 機器人 7 靜電吸盤（chuck) 8 頭部 9 支柱 10 引光機（1 ight guide) 11 升降機構 12 加壓氣缸 13 加壓機構 14 加壓埠 15 平衡埠 16 活動台 17 活動支持機構

511219 五、發明說明（16) 18 支持台 20 紅外線攝影機 21 分光裝置 2 3、2 4 壓電驅動體 23a、24a 第1壓電元件 23b、24b 第2壓電元件

23c 、24c 第 3壓電元件 23d 、24d 支 持 組 件 51 步 驟 52 步 驟 53 步 驟 54 步 驟 55 步 驟 誤 差 X 水 平 方 向 Y 水 平 方 向 Ζ 上 下 方 向 θ 旋 轉 方 向 C:\2D-CODE\90-11\90120835.ptd 第20頁 511219 圖式簡單說明 圖1為本發明之一實施形態中裝配對準裝置之安裝裝置 之概略結構圖。 圖2為圖1之裝置中對準裝置部之放大立體圖。 圖3為圖2之裝置中壓電驅動體部之放大立體圖。 圖4A〜4C為顯示圖2之裝置中各動作例之俯視圖。 圖5為顯示圖2之對準裝置之控制例之流程圖。

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Claims (1)

1. J

   六、申請專利範圍 於複數：::：u ^具有保持定位對象物之活動台； 構;讀取前述定位對夕象物支持該：動台之複數活動支持機 識別機構;以及根據來自；所附記之識別記號之 活動支持機構之驅動之控=另f構之貨訊，控制前述 特徵為：各活動支持機構Hi標精準度範圍内者；其 壓電驅動體具備設於前述、壬*有么2個一組之壓電驅動體’該 持組件，以及連接於該Φ姓動口而可與之接觸/脫離之支 交又延伸而可伸縮活動之第組件二貫質上於水平方向互相 下方向延伸而可伸縮活 、；2壓電元件及實質上於上 組之壓電驅動體係使2個—《弟3£電兀件者，且，該2個一 相交替接觸/脫離，萨 =之支持組件與前述活動台互 構者。 精乂使其對前述活動台行使動作之機 2. —種對準裝置，係 持該活動台之複數活動支盖數之部位分別移動性支 活動台上所附記之識別記卢、^; §買取前述定位對象物或 識別機構之資訊，控制.別機構，以及根據來自該 段，且，藉由該控制支：機構之驅動之控制夺 Φ 2個-組之壓電驅動體，該各f動支持機構，具有 台而可與之接觸/脫離之 紐具備設於前述活動 件實質上於水平方向互相支以件’以及連接於該支持組 第2壓電元件及實質上於上 可伸縮活動之第1、 __ σ L伸兩可伸縮活動之第3 W312\2d-code\90-]]\90J20835.pid 第22頁 六、申請專利範圍 壓電元件者，且，該2個一組之壓電 支，與前述活動台互相交替接電二係J2個1之 丽述活動台行使動作之機構者。 隹错Μ使其對 、3:如申請專利範圍第1或2項之對準 ，行走動作而使前述定位對象物得以^略—ς ，藉由前 走動作之狀態下，藉由前述各 疋，在停止行 述定位對象物進行精密定位者。件之伸縮動作而使前 申請專利範圍第3項之對準裝置，苴中^ ί象物之精密定位，係於前 \ 月1J述定位 者。 走動作之1步範圍内進行 5. 如申請專利範圍第3項之對 =件由前述第i、第2壓電元件之；動、中’前述第3壓 =動：於前述定位對象物之精密定位：：所促成之搖動 動作之1步乾圍内之中央位置 ⑴，重設於前述 6. 如申請專利範圍第3 詈 :位對象物之精密定位之前，：丰衣/’其中，係於前述 作量履歷予以重設者。 、則的各壓電元件伸縮動 7 ·如申請專利範圍第1 、 其係用以使 8.如申請專利範圍 =仅旱者。 裝裝置中之被接合物：？定2 =對準裝置 9·如申請專利範圍第 者。 係由晶圓所組成者。、之對準裝置，其中，被接合本 1〇·如申請專利範圍第 " 或2項之對準裝置，其係用㈣ 511219 六、申請專利範圍 光裝置中之被曝光物之定位者。 11.如申請專利範圍第1 0項之對準裝置，其中，被曝光 物係由晶圓所組成者。

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