JPS60214361A - 微動回転装置 - Google Patents
微動回転装置Info
- Publication number
- JPS60214361A JPS60214361A JP59072224A JP7222484A JPS60214361A JP S60214361 A JPS60214361 A JP S60214361A JP 59072224 A JP59072224 A JP 59072224A JP 7222484 A JP7222484 A JP 7222484A JP S60214361 A JPS60214361 A JP S60214361A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine
- elastic
- fixed base
- micromotion
- column
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N Cloperastine hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(Cl)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)OCCN1CCCCC1 UNPLRYRWJLTVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈発明の技術分野〉
本発明はマスク、ウェハーの露光装置、精密測定器、精
密加工機、半導体製造装置等に適用する微動回転装置に
関する。
密加工機、半導体製造装置等に適用する微動回転装置に
関する。
〈発明の背景〉
従来、この種の微動回転装置(公知文献:1981年別
冊、電子材料、「X線露光装置」)の実用例として、第
4図に示す如く、固定ベース5の凹部51中央へベアリ
ング6を介して円形テーブル7を配備し、該テーブル7
の外周等角位置を板バネ8を介して四部51の内周壁に
連設すると共に、各機バネ8に対し、それぞれ電圧印加
によって伸縮する圧電素子等の微動用アクチュエータ9
を連繋したものがある。斯る装置は、微動用アクチュエ
ータ9を伸長させ板バネ8にたわみを生ぜしめて一方向
へ回動させ、板バネのだわろ反力にて復帰回動さぜる微
動動作を行なう。
冊、電子材料、「X線露光装置」)の実用例として、第
4図に示す如く、固定ベース5の凹部51中央へベアリ
ング6を介して円形テーブル7を配備し、該テーブル7
の外周等角位置を板バネ8を介して四部51の内周壁に
連設すると共に、各機バネ8に対し、それぞれ電圧印加
によって伸縮する圧電素子等の微動用アクチュエータ9
を連繋したものがある。斯る装置は、微動用アクチュエ
ータ9を伸長させ板バネ8にたわみを生ぜしめて一方向
へ回動させ、板バネのだわろ反力にて復帰回動さぜる微
動動作を行なう。
ところが、斯る構造では、板バネ8によって外形寸法が
大となり、且つ」1下方向の剛性を高めるうえでベアリ
ング6か不可欠なため、装置全体か複雑且つ大型化する
等の不都合を有す。
大となり、且つ」1下方向の剛性を高めるうえでベアリ
ング6か不可欠なため、装置全体か複雑且つ大型化する
等の不都合を有す。
〈発明の目的〉
本発明は、テーブルを弾性支柱に支柱することによって
従来の不都合を一挙に解消し、装置の簡略化、小型化を
実現し得る新規な微動回転装置を提供することを目的と
する。
従来の不都合を一挙に解消し、装置の簡略化、小型化を
実現し得る新規な微動回転装置を提供することを目的と
する。
〈発明の構成および効果〉
上記目的を達成するため、本発明では、固定ベース」二
へ弾性支柱を介してテーブルを支持し、テーブルの外周
へ複数の微動アクチュエータを連繋した。本発明によれ
ば、弾性支柱によるテーブルの支持機能と、弾性支柱の
ねじれ復元力による回転復帰機能とを備え、以て構造を
簡略化、小型化できる等、発明目的を達成した効果を奏
する。
へ弾性支柱を介してテーブルを支持し、テーブルの外周
へ複数の微動アクチュエータを連繋した。本発明によれ
ば、弾性支柱によるテーブルの支持機能と、弾性支柱の
ねじれ復元力による回転復帰機能とを備え、以て構造を
簡略化、小型化できる等、発明目的を達成した効果を奏
する。
〈実施例の説明〉
本発明の微動回転装置は、弾性および装置に必要な強度
を有す任意資材を以て、固定ベース1」−へ弾性支柱2
を介して微動テーブル3を一体に構成する。前記支柱2
は、所定筒壁厚さの中空筒状をなし、ねじれ変形したと
き資材弾力にて原状に復元すべくなすと共に、テーブル
3の外周には等角度位置支持片31゜31.31か突設
され、一方、固定ベース1上には、各支持片31,31
.31に対向し且つテーブル2に線方向に対応してピエ
ゾ素子の如き電圧印加により伸縮する微動用アクチュエ
ータ4,4a、4bを取付け、各アクチュエータは、そ
れぞれ先端に球面突部41を形成して対応する支持片3
1,31,3]に対し、点接触にて圧接連繋してなる。
を有す任意資材を以て、固定ベース1」−へ弾性支柱2
を介して微動テーブル3を一体に構成する。前記支柱2
は、所定筒壁厚さの中空筒状をなし、ねじれ変形したと
き資材弾力にて原状に復元すべくなすと共に、テーブル
3の外周には等角度位置支持片31゜31.31か突設
され、一方、固定ベース1上には、各支持片31,31
.31に対向し且つテーブル2に線方向に対応してピエ
ゾ素子の如き電圧印加により伸縮する微動用アクチュエ
ータ4,4a、4bを取付け、各アクチュエータは、そ
れぞれ先端に球面突部41を形成して対応する支持片3
1,31,3]に対し、点接触にて圧接連繋してなる。
図面では、ベース1、支柱2、テーブル3を一体形成し
た一例を示したが、テーブル3とベース1とを別途支柱
2にて連設するも可い。
た一例を示したが、テーブル3とベース1とを別途支柱
2にて連設するも可い。
尚、前記弾性支柱2は、必要に応じて箱壁に複数条のス
リット(図示せず)加工を施こし、或いはまた中実の弾
性支柱となし、史に中実支柱に複数条の補強突条を設け
る等により、ねじれ変形の許容限界を調整し、設定する
。また微すv1アクチュエータ4は圧電素子に限定され
ず、電磁石、ウオームとウオームギヤ、空気供給にて拡
縮する微動部組等を選択実施する。
リット(図示せず)加工を施こし、或いはまた中実の弾
性支柱となし、史に中実支柱に複数条の補強突条を設け
る等により、ねじれ変形の許容限界を調整し、設定する
。また微すv1アクチュエータ4は圧電素子に限定され
ず、電磁石、ウオームとウオームギヤ、空気供給にて拡
縮する微動部組等を選択実施する。
第3図はテーブル3の支持片31と微動アクチュエ・−
夕4との接触部の拡大図を示し、破線aは組立て時の位
置、つまり、支柱がねしれ変位を生じていない位置、実
線すは微動開始端位置、一点鎖線Cは微動回転終端位置
を示しており、テーブル3は、常時、弾性支柱2のたわ
み変位による予圧にて、支持片31とアクチュエータ4
との間のガタ付きを解消している。
夕4との接触部の拡大図を示し、破線aは組立て時の位
置、つまり、支柱がねしれ変位を生じていない位置、実
線すは微動開始端位置、一点鎖線Cは微動回転終端位置
を示しており、テーブル3は、常時、弾性支柱2のたわ
み変位による予圧にて、支持片31とアクチュエータ4
との間のガタ付きを解消している。
今、各アクチュエータ4,4a、4bを等m伸長すると
き、テーブル3は、弾性支柱2にねしれ変位を附与して
バランスよく微小回動じ、逆に各アクチュエータを等量
収縮させることにより、先とは逆方向に微小回動するも
ので、斯る装置のテーブルに要求される回!I!Jlス
トロークは1度1)IJ後のため、弾性支柱のねじれ変
形の限界内に設定できる。
き、テーブル3は、弾性支柱2にねしれ変位を附与して
バランスよく微小回動じ、逆に各アクチュエータを等量
収縮させることにより、先とは逆方向に微小回動するも
ので、斯る装置のテーブルに要求される回!I!Jlス
トロークは1度1)IJ後のため、弾性支柱のねじれ変
形の限界内に設定できる。
第1図は本発明にかかる微動回転装置の平面図、第2図
は第1図11− II線に沿う断面図、第3図は要部の
拡大平面図、第4図は従来装置の平面図、第5図は第4
図V−V線に沿う断面図である。 1・・・・・固定ベース 2・・ 弾性支柱3・・・・
・テーブル 31・・・・支持片4・・・・・アクチュ
エータ 特許出願人 立石電機株式会社 分/函 分3関 A2図 新4図 ÷16 ’Hコ1
は第1図11− II線に沿う断面図、第3図は要部の
拡大平面図、第4図は従来装置の平面図、第5図は第4
図V−V線に沿う断面図である。 1・・・・・固定ベース 2・・ 弾性支柱3・・・・
・テーブル 31・・・・支持片4・・・・・アクチュ
エータ 特許出願人 立石電機株式会社 分/函 分3関 A2図 新4図 ÷16 ’Hコ1
Claims (3)
- (1) 固定ベースと、該固定ベース上に縦設配備され
た弾性支柱と、中心部が弾性支柱の上端に連設されたテ
ーブルと、該テーブルに連繋配備されテーブルを支柱の
弾性に抗して微動回動させる複数の微動用アクチュエー
タとから成る微動回転装置。 - (2) 弾性支柱は任意軸1tlr面形状の中実または
中空支柱である特許請求の範囲第1項記載の微動回転装
置。 - (3) 微動用アクチュエータは電磁石または電圧印加
によって伸縮する圧電素子である特許請求の範囲第1項
記載め微動回転袋@。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59072224A JPS60214361A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 微動回転装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59072224A JPS60214361A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 微動回転装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60214361A true JPS60214361A (ja) | 1985-10-26 |
Family
ID=13483069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59072224A Pending JPS60214361A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 微動回転装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60214361A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63156637A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-29 | Canon Inc | 回転駆動装置 |
JPH01246032A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-02 | Omron Tateisi Electron Co | 微動ステージ装置 |
JPH042435A (ja) * | 1990-04-13 | 1992-01-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 精密微動ステージ装置 |
US6825915B2 (en) * | 2000-08-25 | 2004-11-30 | Toray Engeneering Co., Ltd. | Alignment device |
-
1984
- 1984-04-10 JP JP59072224A patent/JPS60214361A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63156637A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-29 | Canon Inc | 回転駆動装置 |
JPH01246032A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-10-02 | Omron Tateisi Electron Co | 微動ステージ装置 |
JPH042435A (ja) * | 1990-04-13 | 1992-01-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 精密微動ステージ装置 |
US6825915B2 (en) * | 2000-08-25 | 2004-11-30 | Toray Engeneering Co., Ltd. | Alignment device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2601834B2 (ja) | テーブル装置 | |
US5034647A (en) | Inchworm type driving mechanism | |
EP0147169B1 (en) | Flexure stage alignment apparatus | |
JPH02262876A (ja) | 圧電回転装置 | |
JPS60214361A (ja) | 微動回転装置 | |
KR100975137B1 (ko) | 고강성 듀얼 서보 나노스테이지 | |
JPS61159349A (ja) | 微小変位移動装置 | |
JPS62266490A (ja) | 精密位置決め装置 | |
JP2002100315A (ja) | 試料ステージ | |
JP2000009867A (ja) | ステージ移動装置 | |
JPS6044838B2 (ja) | 回転微動機構 | |
JP2708778B2 (ja) | 力検出位置変位装置 | |
JPS60130124A (ja) | 回転微動機構 | |
JP2773781B2 (ja) | 精密微動ステージ装置 | |
JPH09117165A (ja) | 微動装置 | |
US3292020A (en) | Transducer | |
JPS6364580A (ja) | 圧電アクチユエ−タ | |
JPH044560B2 (ja) | ||
JPH02142365A (ja) | バイモルフモータ | |
JPS6234735A (ja) | 位置決め回転テ−ブル装置 | |
JPH05131383A (ja) | マイクロロボツト | |
JPS59208467A (ja) | 微小駆動装置 | |
JPH0412838B2 (ja) | ||
JPS6165427A (ja) | 移動ステ−ジ装置 | |
JPH0874850A (ja) | ピエゾアクチュエータユニット |