JPH02262876A - 圧電回転装置 - Google Patents
圧電回転装置Info
- Publication number
- JPH02262876A JPH02262876A JP2037530A JP3753090A JPH02262876A JP H02262876 A JPH02262876 A JP H02262876A JP 2037530 A JP2037530 A JP 2037530A JP 3753090 A JP3753090 A JP 3753090A JP H02262876 A JPH02262876 A JP H02262876A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- piezoelectric
- shaft
- bimol
- clamp
- flexible body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 244000144992 flock Species 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000004574 scanning tunneling microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/10—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors
- H02N2/101—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors using intermittent driving, e.g. step motors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y15/00—Nanotechnology for interacting, sensing or actuating, e.g. quantum dots as markers in protein assays or molecular motors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は表面科学(Surface sc 1enc
e )及び微小装造技術等に使用するための、円弧状変
位の精度が秒のオーダーである様な圧電回転装置に係る
。
e )及び微小装造技術等に使用するための、円弧状変
位の精度が秒のオーダーである様な圧電回転装置に係る
。
原子レベルの表面の特徴を分解しうる走査トンネリング
顕微鏡(Scanning TunnelingM i
c r o s c o p e )の発明などの表
面科学に於ける並びに1μm以下の表面構造がデバイス
の製造に於いて制御される様な製造技術に於ける発展に
よって、例えば電極の様な物体もしくは器具をミリメー
トルないしはセンナメートルのオーダーで変位させる事
が出来、しかもナノメータの範囲の再現可能な精度が得
られる様な位置付装置が必要になってきた。線形変位を
行なう位置付装置に加えて、回転位置付装置の需要も大
きい。
顕微鏡(Scanning TunnelingM i
c r o s c o p e )の発明などの表
面科学に於ける並びに1μm以下の表面構造がデバイス
の製造に於いて制御される様な製造技術に於ける発展に
よって、例えば電極の様な物体もしくは器具をミリメー
トルないしはセンナメートルのオーダーで変位させる事
が出来、しかもナノメータの範囲の再現可能な精度が得
られる様な位置付装置が必要になってきた。線形変位を
行なう位置付装置に加えて、回転位置付装置の需要も大
きい。
上記の様な寸法の構造体を含む全ての表面の特性の調査
及び製造工程に於いて、とみ及び湿度による汚染を完全
に回避する事が必要であるという事実からして、これら
の応用面に用いられる位置付装置は真空を用いる環境に
適合する事並びに約500°Kまでの加熱に耐えうるも
のである事が必須である。更に原子レベルまで特性を分
解しうるためには、位置付装置は極めて高度に振動しな
いものでなければならない。即ち装置は外界から機械的
に隔離されなければならない。これらの要件は電位によ
って制御される圧電素子と共に動作する位置付装置によ
って満足させる事ができる。
及び製造工程に於いて、とみ及び湿度による汚染を完全
に回避する事が必要であるという事実からして、これら
の応用面に用いられる位置付装置は真空を用いる環境に
適合する事並びに約500°Kまでの加熱に耐えうるも
のである事が必須である。更に原子レベルまで特性を分
解しうるためには、位置付装置は極めて高度に振動しな
いものでなければならない。即ち装置は外界から機械的
に隔離されなければならない。これらの要件は電位によ
って制御される圧電素子と共に動作する位置付装置によ
って満足させる事ができる。
長手方向に物体を並進移動する圧電位置付装置は公知で
あって、例えばI BM TechnicalDis
closure Bulletin (TDB )、
Vol。
あって、例えばI BM TechnicalDis
closure Bulletin (TDB )、
Vol。
22、No、7、p、2897に開示されており、H形
状の圧電部材がチャネル壁部に対して対になった脚部を
交互に留め、その中央部分を伸縮させる事によって樋状
のチャネル内を移動しうる装置が示されている。真直ぐ
なチャネルでは線形の運動しかできない事は云うまでも
ない。
状の圧電部材がチャネル壁部に対して対になった脚部を
交互に留め、その中央部分を伸縮させる事によって樋状
のチャネル内を移動しうる装置が示されている。真直ぐ
なチャネルでは線形の運動しかできない事は云うまでも
ない。
更に、よシ融通性のある運動ができる様にチャネルを回
避する他の種類の圧電位置付装置が公知である。IBM
TDB% Vol、23、No、7B。
避する他の種類の圧電位置付装置が公知である。IBM
TDB% Vol、23、No、7B。
p、3369 に示される位置付装置はテーブル状の
形態を用いている。テーブルが8個の圧電脚部に乗って
おり、それらのうちの4個がテーブルの内部のセクショ
ンへ接続されておシ、残りかその外部のセクションへ接
続されており、これらのセクションが圧電素子によって
連接されている。上記群の脚部を持ち上げたシ、降下さ
せたりするのを制御する事によって並びに連続素子の適
当な伸縮によって、直交方向にテーブルを動かすことが
できる。
形態を用いている。テーブルが8個の圧電脚部に乗って
おり、それらのうちの4個がテーブルの内部のセクショ
ンへ接続されておシ、残りかその外部のセクションへ接
続されており、これらのセクションが圧電素子によって
連接されている。上記群の脚部を持ち上げたシ、降下さ
せたりするのを制御する事によって並びに連続素子の適
当な伸縮によって、直交方向にテーブルを動かすことが
できる。
圧電テーブルに3つの脚部を設け、脚部の底面に静電ク
ランプ装置が設けられ、それによってペンチに対する脚
部の選択的クランプが可能な他の形態のテーブルも公知
である(EP−AI−0071666)。テーブル及び
脚部に於ける付勢電圧を適当に制御する事によって装置
は線形にあるいはその脚部の1つのまわりに動く事がで
きる。
ランプ装置が設けられ、それによってペンチに対する脚
部の選択的クランプが可能な他の形態のテーブルも公知
である(EP−AI−0071666)。テーブル及び
脚部に於ける付勢電圧を適当に制御する事によって装置
は線形にあるいはその脚部の1つのまわりに動く事がで
きる。
この場合、回転運動が可能であるが、3つの脚部を用い
るので、その回転は厳密には円弧状ではなく、1度保持
した位置の再発見が極めて困難である。
るので、その回転は厳密には円弧状ではなく、1度保持
した位置の再発見が極めて困難である。
更に他のタイプのステッピング・モータがIBM T
DB%Vol、16、No、6、p、 1899に開示
されている。この場合、キャプスタンの周辺が圧電的に
駆動される棒状体に係合しており、棒状体は圧電変換器
によって接線方向に移動しうる。
DB%Vol、16、No、6、p、 1899に開示
されている。この場合、キャプスタンの周辺が圧電的に
駆動される棒状体に係合しており、棒状体は圧電変換器
によって接線方向に移動しうる。
このモーターによって、そのキャプスタンはテープの駆
動に適した小さい回転ステップを呈する。
動に適した小さい回転ステップを呈する。
しかしながら科学的な応用面もしくは製造技術に於ける
応用面という点からすると正確性もしくは再現性に欠け
る。
応用面という点からすると正確性もしくは再現性に欠け
る。
本発明が解決しようとする問題点は、前記の環境条件(
超高真空、耐熱、無振動)に適合し且つ連続回転の際に
もナノメータのオーダーの解像度(精度)を呈する、円
弧状の径路に沿う変位が可能な圧電回転装置を提供する
事にある。
超高真空、耐熱、無振動)に適合し且つ連続回転の際に
もナノメータのオーダーの解像度(精度)を呈する、円
弧状の径路に沿う変位が可能な圧電回転装置を提供する
事にある。
上記問題点は、一端を軸回転する様に支持し他端がクラ
ンプ・シユーを持つ、少くとも1個の圧電可撓部と、上
記クランプ・シユーとの保合のために配置した少くとも
1つのクランプ部材を夫々が有する少くとも1対の圧電
可撓部と、上記第1の圧電可撓部を付勢すると共に可撓
部を屈曲形状にするための並びに上記の第1の可撓部が
その屈曲した形状になった時に第2の圧電可撓部の対を
付勢して上記第1の可撓部をその位置に捕捉(以下クラ
ンプという)するための回路とを含む圧電回転装置によ
って達成される。
ンプ・シユーを持つ、少くとも1個の圧電可撓部と、上
記クランプ・シユーとの保合のために配置した少くとも
1つのクランプ部材を夫々が有する少くとも1対の圧電
可撓部と、上記第1の圧電可撓部を付勢すると共に可撓
部を屈曲形状にするための並びに上記の第1の可撓部が
その屈曲した形状になった時に第2の圧電可撓部の対を
付勢して上記第1の可撓部をその位置に捕捉(以下クラ
ンプという)するための回路とを含む圧電回転装置によ
って達成される。
第7図は支持プレート1に取付けた回転装置の例を示す
。軸ビン2の間にブロック3が配置されている。ブロッ
ク3は圧電可撓部即ちいわゆるバイモル素子4を支持す
る。その電極に電圧が印加されると、付勢されてバイモ
ル素子4の右手端部が第7図の紙面から上方へ持ち上が
る様になる。
。軸ビン2の間にブロック3が配置されている。ブロッ
ク3は圧電可撓部即ちいわゆるバイモル素子4を支持す
る。その電極に電圧が印加されると、付勢されてバイモ
ル素子4の右手端部が第7図の紙面から上方へ持ち上が
る様になる。
ブロック5には調整ねじ5が設けられている。このねじ
は、バイモル素子4、該素子の自由端に設けたクランプ
・シユー6並びに該シューが担持する荷重体7の質量を
釣合わせるために用いる。例えば荷重体7は検査もしく
は処理のために移動させねばならない物体あるいは器具
ないし電極(走査トンネリング顕微鏡のチップなど)で
ある。軸ピン2は支持プレート1上に設けたアングル部
8及び9に於いて支持されている。第8図はこれらの配
置を側面から示す図である。
は、バイモル素子4、該素子の自由端に設けたクランプ
・シユー6並びに該シューが担持する荷重体7の質量を
釣合わせるために用いる。例えば荷重体7は検査もしく
は処理のために移動させねばならない物体あるいは器具
ないし電極(走査トンネリング顕微鏡のチップなど)で
ある。軸ピン2は支持プレート1上に設けたアングル部
8及び9に於いて支持されている。第8図はこれらの配
置を側面から示す図である。
1対のバイモル素子10及び11が夫々支持体12及び
16(支持プレート1に固定されている)に支持されて
いる。バイモル素子10及び11はクランプ・シユー6
及びブロック3を含むバイモル素子4の全長に沿って配
置されている。(バイモル素子10及び11は夫々よシ
短いバイモル素子であってもよい。)バイモル素子10
及び11は夫々端部にクランプ手段14,15及び16
.17を担持している。バイモル素子10及び11の電
極に電位が印加されない場合には、クランプ手段14及
び16はブロック3の上に乗っておシ、クランプ手段1
5及び17はクランプ・シユー6に乗っている。第7図
はバイモル素子10及び11の右半分に対して電位が印
加されてクランプ部材15及び17がクランプ・シユー
6から離れた状態を示す。電圧が印加されると、バイモ
ル素子4は上方へ屈曲しく第9図)、円弧状の径路に沿
ってホーム・ポジションよシ高い位置まで荷重体7を持
ち上げる。
16(支持プレート1に固定されている)に支持されて
いる。バイモル素子10及び11はクランプ・シユー6
及びブロック3を含むバイモル素子4の全長に沿って配
置されている。(バイモル素子10及び11は夫々よシ
短いバイモル素子であってもよい。)バイモル素子10
及び11は夫々端部にクランプ手段14,15及び16
.17を担持している。バイモル素子10及び11の電
極に電位が印加されない場合には、クランプ手段14及
び16はブロック3の上に乗っておシ、クランプ手段1
5及び17はクランプ・シユー6に乗っている。第7図
はバイモル素子10及び11の右半分に対して電位が印
加されてクランプ部材15及び17がクランプ・シユー
6から離れた状態を示す。電圧が印加されると、バイモ
ル素子4は上方へ屈曲しく第9図)、円弧状の径路に沿
ってホーム・ポジションよシ高い位置まで荷重体7を持
ち上げる。
バイモル素子10及び11に対する電圧をカットすると
、クランプ手段15及び17は再びそのノーマル・ポジ
ションへ戻シ、バイモル素子4の持ち上げられているク
ランプ・シユー6をクランプする。次にバイモル素子1
0及び11の左手の部分に電位を印加すると、クランプ
部材14及び16がブロック3から離れる。バイモル素
子4に於ける電位をカットすると、このバイモル素子は
伸びて、第5図に示す状態を呈する。即ちブロック6が
軸ビン2のまわりを軸回転する事になる。
、クランプ手段15及び17は再びそのノーマル・ポジ
ションへ戻シ、バイモル素子4の持ち上げられているク
ランプ・シユー6をクランプする。次にバイモル素子1
0及び11の左手の部分に電位を印加すると、クランプ
部材14及び16がブロック3から離れる。バイモル素
子4に於ける電位をカットすると、このバイモル素子は
伸びて、第5図に示す状態を呈する。即ちブロック6が
軸ビン2のまわりを軸回転する事になる。
種々のバイモル素子によって呈せられる屈曲量は印加さ
れる電圧の振幅に厳密に依存する事は云うまでもない。
れる電圧の振幅に厳密に依存する事は云うまでもない。
従って、上述の手順の1つのステップに於いて、荷重体
7を1秒の部分の1の弧に涜って持ち上げる事が可能で
ある。このステップは所望の偏向状態が達成されるまで
反復する事ができる。更に、よシ大きな振幅を用いる事
によって、可撓体がよシ大きなステップを呈する様にす
る事も可能である。例えば長さ25 mmの可撓体は約
1μm / V動く事ができる。これは、第7図ないし
第11図の例に於いて、およそ10秒の弧/Vに相当す
る。即ち、1mVによって10−2秒の弧の変化が生じ
、約200vの最大許容電圧によっておよそ172度(
30’)の角度変位が生じる。第7図ないし第11図の
例を設計する場合の最大の総偏向量は約15度である。
7を1秒の部分の1の弧に涜って持ち上げる事が可能で
ある。このステップは所望の偏向状態が達成されるまで
反復する事ができる。更に、よシ大きな振幅を用いる事
によって、可撓体がよシ大きなステップを呈する様にす
る事も可能である。例えば長さ25 mmの可撓体は約
1μm / V動く事ができる。これは、第7図ないし
第11図の例に於いて、およそ10秒の弧/Vに相当す
る。即ち、1mVによって10−2秒の弧の変化が生じ
、約200vの最大許容電圧によっておよそ172度(
30’)の角度変位が生じる。第7図ないし第11図の
例を設計する場合の最大の総偏向量は約15度である。
第12図は第7図ないし第11図の例の動作に於いて生
じる各ステップの順序を図式的に説明するタイミング図
である。時間t□に於いて、バイモル素子10及び11
の電極に於ける電位U1及びU2は0であるので、ブロ
ック3及びクランプ・シユー6はクランプされた状態に
ある。時間t1に於いてUlが立上がると、クランプ手
段15於び17が開き、t に於いてU3が印加される
とバイモル素子4が屈曲する。よって荷重体7はtl及
びt2の間に於いて第1の回転ステップを呈する。t3
に於いて、Ulはオフ状態に切換えられ、よって荷重体
7はその到達した位置に捕捉される。
じる各ステップの順序を図式的に説明するタイミング図
である。時間t□に於いて、バイモル素子10及び11
の電極に於ける電位U1及びU2は0であるので、ブロ
ック3及びクランプ・シユー6はクランプされた状態に
ある。時間t1に於いてUlが立上がると、クランプ手
段15於び17が開き、t に於いてU3が印加される
とバイモル素子4が屈曲する。よって荷重体7はtl及
びt2の間に於いて第1の回転ステップを呈する。t3
に於いて、Ulはオフ状態に切換えられ、よって荷重体
7はその到達した位置に捕捉される。
t に於いて%U2が印加され、ブロック6が解放され
て軸ピン2まわシに回転し%U3がオフ状態にスイッチ
されてバイモル素子4が伸長した状態を呈する。t5に
於いてU2がオフ状態に切換えられ、クランプ3はその
軸回転した位置にクランプされる。これによって第1回
目の回転ステップが完了する。t6に於いて新しいサイ
クルをスタートさせる事が出来、tl及びt8の間に於
いて第2回目の回転ステップが行われる。
て軸ピン2まわシに回転し%U3がオフ状態にスイッチ
されてバイモル素子4が伸長した状態を呈する。t5に
於いてU2がオフ状態に切換えられ、クランプ3はその
軸回転した位置にクランプされる。これによって第1回
目の回転ステップが完了する。t6に於いて新しいサイ
クルをスタートさせる事が出来、tl及びt8の間に於
いて第2回目の回転ステップが行われる。
調整ねじ5によって回転装置がバランスされるので、逆
にバイモル素子4に於ける電位U3をまず逆転し、そし
てバイモル素子10及び11に於いてUl及びU2をオ
ンにする事によって荷重体7をその元の位置へ戻す事が
できる。
にバイモル素子4に於ける電位U3をまず逆転し、そし
てバイモル素子10及び11に於いてUl及びU2をオ
ンにする事によって荷重体7をその元の位置へ戻す事が
できる。
上記の例を更に改良した本発明の実施例を第1図及び第
2図に示す。これらの図は無制限回転を呈する様に設計
された圧電回転装置を示している。
2図に示す。これらの図は無制限回転を呈する様に設計
された圧電回転装置を示している。
この実施例は、回転体の形状にするため、第7図の例の
ブロック3に対応するハブ26にシャフト18を取付け
、そのシャフトの左側にもう1つのバイモル素子47を
取付けて、更にクランプ手段14.15.16.17を
夫々円板状のクランプ・リング19及び20に置換する
ことによって構成された。
ブロック3に対応するハブ26にシャフト18を取付け
、そのシャフトの左側にもう1つのバイモル素子47を
取付けて、更にクランプ手段14.15.16.17を
夫々円板状のクランプ・リング19及び20に置換する
ことによって構成された。
シャフト18に対して固定されたハブ23にバイモル素
子24が取付けられている。ハブ23の自由端部はクラ
ンプ・シユー25を担持している。
子24が取付けられている。ハブ23の自由端部はクラ
ンプ・シユー25を担持している。
リング21及び22はシャフト18に対して空転する様
に取付けられている。各リングは夫々複数(例えば6個
)のスポーク状のバイモル素子26ないし61並びに3
2ないし37(説明の便宜上図示されてない番号を含ん
でいる事を理解されたい)を担持している。バイモル素
子26ないし31はリング19及び21の間に設けられ
ておシ、バイモル素子32ないし37はリング20及び
22の間に設けられている。バイモル素子26ないし3
7の各々はその素子の中心に於いて円形リプ38.39
で支持されている。リプ38,39は夫々ハウジング4
2の下半分40及び上半分41と一体になった部分を構
成している。リプ58.39は第7図ないし第11図に
示される例の支持体12.13に相当する。バイモル素
子26ないし37の電極は、各バイモル素子の半分を各
々独立して付勢しうる様にリプ38及び39に対して取
付ける位置に於いて分割されている。
に取付けられている。各リングは夫々複数(例えば6個
)のスポーク状のバイモル素子26ないし61並びに3
2ないし37(説明の便宜上図示されてない番号を含ん
でいる事を理解されたい)を担持している。バイモル素
子26ないし31はリング19及び21の間に設けられ
ておシ、バイモル素子32ないし37はリング20及び
22の間に設けられている。バイモル素子26ないし3
7の各々はその素子の中心に於いて円形リプ38.39
で支持されている。リプ38,39は夫々ハウジング4
2の下半分40及び上半分41と一体になった部分を構
成している。リプ58.39は第7図ないし第11図に
示される例の支持体12.13に相当する。バイモル素
子26ないし37の電極は、各バイモル素子の半分を各
々独立して付勢しうる様にリプ38及び39に対して取
付ける位置に於いて分割されている。
この実施例並びに後述する実施例におけるバイモル素子
の制御は本発明に属さない適当な電子回路によって実施
され、制御電位の印加は公知の図示しない滑シ接点リン
グを用いて実施する事ができる。
の制御は本発明に属さない適当な電子回路によって実施
され、制御電位の印加は公知の図示しない滑シ接点リン
グを用いて実施する事ができる。
リング19及び20はシュー25から離隔して保持され
ているが、リング21及び22はこれらの間にハブ23
をクランプしている。バイモル素子24の電極に電圧を
印加する事によって、この素子が屈曲し、リング19及
び20に関してシュー25が円弧状に僅かな変位を呈す
る。次にバイモル素子26ないし37の分割した電極に
電圧を印加する事によって、リング19及び20がこれ
らの間にシュー25をクランプし、リング21及び22
の間からハブ23を解放する。以上に於いてはシャフト
18の回転は生じていない。バイモル素子24に於ける
電圧がオフ状態になると、バイモル素子24は真直ぐに
伸び、同時にシャフト18がハウジング42に関して1
ステップ回転する。これで次のサイクルを反復させる事
ができる。
ているが、リング21及び22はこれらの間にハブ23
をクランプしている。バイモル素子24の電極に電圧を
印加する事によって、この素子が屈曲し、リング19及
び20に関してシュー25が円弧状に僅かな変位を呈す
る。次にバイモル素子26ないし37の分割した電極に
電圧を印加する事によって、リング19及び20がこれ
らの間にシュー25をクランプし、リング21及び22
の間からハブ23を解放する。以上に於いてはシャフト
18の回転は生じていない。バイモル素子24に於ける
電圧がオフ状態になると、バイモル素子24は真直ぐに
伸び、同時にシャフト18がハウジング42に関して1
ステップ回転する。これで次のサイクルを反復させる事
ができる。
屈曲する時にバイモル素子26ないし37の長さと端部
の配列状態がわずかに変わるので、これらの素子はブレ
ーキがかかるのを回避するためにリング19ないし22
に形成した溝部43ないし46の中でゆるく支持される
。バイモル素子及びクランプ・リングの間に於ける相互
の円形変位を防止するために適当な手段を設けるべきで
ある事は云う迄もない。
の配列状態がわずかに変わるので、これらの素子はブレ
ーキがかかるのを回避するためにリング19ないし22
に形成した溝部43ないし46の中でゆるく支持される
。バイモル素子及びクランプ・リングの間に於ける相互
の円形変位を防止するために適当な手段を設けるべきで
ある事は云う迄もない。
動作中の第1図及び第2図の回転装置はシャフト18及
びハウジング42間の相対的な回転変位を生じる。トル
クはシャフトもしくはノ1ウジングのいずれに於いても
得る事ができる。
びハウジング42間の相対的な回転変位を生じる。トル
クはシャフトもしくはノ1ウジングのいずれに於いても
得る事ができる。
単一のバイモル素子24を用いた場合、回転装置が発生
するトルクは相当小さい。しかしながら、夫々ハブ23
に取付けた、クランプ・シユー25を担持する参照番号
47.48で示す様な2つ以上の放射バイモル素子を用
いる事によって、よシ大きなトルクを得る事ができる。
するトルクは相当小さい。しかしながら、夫々ハブ23
に取付けた、クランプ・シユー25を担持する参照番号
47.48で示す様な2つ以上の放射バイモル素子を用
いる事によって、よシ大きなトルクを得る事ができる。
同様の簡略化した、無制限回転をうるための回転装置の
実施例を第3図及び第4図に示す。
実施例を第3図及び第4図に示す。
シャフト49にバイモル素子50が取付けられており、
その自由端にはクランプ・シユー51が担持されている
。ノ1プ52及び53はシャフト49に空転する様に取
付けられている。各ノ・ブは夫々複数(例えば6個)の
スポーク状のバイモル素子54ないし59並びに60な
いし65を有している。バイモル素子54ないし59は
リング66へ接続され、バイモル素子60ないし65は
リング67へ接続されている。
その自由端にはクランプ・シユー51が担持されている
。ノ1プ52及び53はシャフト49に空転する様に取
付けられている。各ノ・ブは夫々複数(例えば6個)の
スポーク状のバイモル素子54ないし59並びに60な
いし65を有している。バイモル素子54ないし59は
リング66へ接続され、バイモル素子60ないし65は
リング67へ接続されている。
動作中、電圧が印加されないと、リング66及び67は
これらの間にシュー51をクランプする。
これらの間にシュー51をクランプする。
バイモル素子50の電極に電圧が印加されると、バイモ
ル素子50が屈曲して、シャフト49のわずかな回転が
生じる。シャフト49が適当に保持されているものと仮
定すると、バイモル素子54ないし65を付勢した場合
、リング66及び67がシュー51を解放する。バイモ
ル素子50の脱勢によって該素子は再び伸長する。そし
てシュー51は元の位置に関してわずかに前進した位置
を呈する。この時点で次のサイクルを反復させる事がで
きる。
ル素子50が屈曲して、シャフト49のわずかな回転が
生じる。シャフト49が適当に保持されているものと仮
定すると、バイモル素子54ないし65を付勢した場合
、リング66及び67がシュー51を解放する。バイモ
ル素子50の脱勢によって該素子は再び伸長する。そし
てシュー51は元の位置に関してわずかに前進した位置
を呈する。この時点で次のサイクルを反復させる事がで
きる。
ハブ52及び53はハウジング7oの上半分68及び下
半分69(フランジ71.72に於いて相互に密封され
ている)によって相互に接続されている。
半分69(フランジ71.72に於いて相互に密封され
ている)によって相互に接続されている。
第1図及び第2図の実施例に於ける様に、リング66及
び67の内側に溝部73及び74が設けられ、よってブ
レーキがかからない様にバイモル素子54ないし65が
その長さを変えそしてわずかに屈曲する事が可能である
。
び67の内側に溝部73及び74が設けられ、よってブ
レーキがかからない様にバイモル素子54ないし65が
その長さを変えそしてわずかに屈曲する事が可能である
。
第5図及び第4図は回転位置付装置のためのトルクを発
生する単一の圧電バイモル素子50しか示してないが、
トルクを増すためにクランプ・シユーを備えた複数のバ
イモル素子を用いてもよい事は明らかであろう。
生する単一の圧電バイモル素子50しか示してないが、
トルクを増すためにクランプ・シユーを備えた複数のバ
イモル素子を用いてもよい事は明らかであろう。
第5図のタイミング図は、時間t。に於いてクランプ・
シユー51がリング66及び67によってクランプされ
る事を示す。tlに於いて、バイモル素子50の電極に
印加される電圧U4によって素子50が屈曲し、シャフ
ト49がt 及びt20間に於いて回転する。t2に於
いて、バイモル素子54ないし65に電圧U5が印加さ
れ、シュー51はリング66及び67から解放される。
シユー51がリング66及び67によってクランプされ
る事を示す。tlに於いて、バイモル素子50の電極に
印加される電圧U4によって素子50が屈曲し、シャフ
ト49がt 及びt20間に於いて回転する。t2に於
いて、バイモル素子54ないし65に電圧U5が印加さ
れ、シュー51はリング66及び67から解放される。
次にU4及びU5がオフ状態にスイッチされて、バイモ
ル素子50が伸長し、リング66及び67がクランプす
る。この時点に於いて、新規なサイクルを開始しうる。
ル素子50が伸長し、リング66及び67がクランプす
る。この時点に於いて、新規なサイクルを開始しうる。
第9図に戻ると、クランプ・シユー6及び荷重体7は、
バイモル素子が付勢される場合、わずかに傾斜する。こ
の問題は、バイモル素子4の電極を分割し、バイモル素
子4の一部を上方に屈曲させ、他の部分を下方に屈曲さ
せる様にそれらの電極を付勢し、屈曲したバイモル素子
の端部を平行に保つ事によって回避する事ができる。7
:3の割合でバイモル素子4の電極を分割する事によっ
て屈曲の際にバイモル素子が呈する長さ変化の問題のほ
とんどを処理できる事が分った。同じ関係が、夫々第1
図、第2図、第3図及び第4図の実施例のバイモル素子
26ないし37並びに54ないし65にも適用できる。
バイモル素子が付勢される場合、わずかに傾斜する。こ
の問題は、バイモル素子4の電極を分割し、バイモル素
子4の一部を上方に屈曲させ、他の部分を下方に屈曲さ
せる様にそれらの電極を付勢し、屈曲したバイモル素子
の端部を平行に保つ事によって回避する事ができる。7
:3の割合でバイモル素子4の電極を分割する事によっ
て屈曲の際にバイモル素子が呈する長さ変化の問題のほ
とんどを処理できる事が分った。同じ関係が、夫々第1
図、第2図、第3図及び第4図の実施例のバイモル素子
26ないし37並びに54ないし65にも適用できる。
第6図は本発明による回転装置の他の実施例を示す。回
転を生じるバイモル素子のクランプは第2図及び第4図
に示すものとは異った方法で行われる。第6図に於いて
、シャフト75及びバイモル素子76.77よりなる回
転装置は、フランジ80及び81に於いてねじ止めしう
るハウジングの上半分78及び下半分79の中に納めら
れている。バイモル素子76及び77はこれらの自由端
にブロック82及び86を担持している。これらのブロ
ックは夫々圧電棒状体(管状体でも可)84及び85を
備えている。圧電棒状体84.85は通常の状態では両
端部がノ・クランプの上半分の部分78及び下半分の部
分79に接しており、よってブロック82.83が変位
しない様に捕捉されている。棒状体84.85が付勢さ
れると、棒状体が縮み、ハウジングの上下の部分78,
79との係合から解放される。所望の回転をうるために
バイモル素子76.77並びに棒状体84.85を適当
に付勢する適当な制御装置を創作する事は容易であろう
。更にこの実施例に於いては、シャフト75もしくはハ
ウジングに於いてバイモル素子76及び77が伸長され
る際にその一方もしくは他方を捕捉するためにロック用
のメカニズムが必要とされる事も明らかであろう。同じ
事が第2図及び第4図の実施例に於いても云える。夫々
シャフト18及びハウジング42並びにシャフト49及
びハウジング70は、達成された回転がバイモル素子の
脱勢時に逆転するのを回避するためにバイモル素子が伸
長する際に相互のロッキングを必要とする。シャフト1
8.49.75を捕捉するための非常に簡単な装置を第
6図の回転装置に関連して示す。シャフト75の一端に
金属製のディスク86を取付ける。このディスクに誘電
材層87を被覆する。ディスク86は金属プレート88
かられずかに離して維持する。ディスク86及びプレー
ト88間に電圧を印加する事によって電界が生じ、その
静電力によってディスク86が回転しない様に引きつけ
られ、固定される。ディスク86のために非常に薄い、
可撓性のシート状金属を選択する事によって、この装置
の効果を相当増強し、公差を緩和させる事が可能である
。
転を生じるバイモル素子のクランプは第2図及び第4図
に示すものとは異った方法で行われる。第6図に於いて
、シャフト75及びバイモル素子76.77よりなる回
転装置は、フランジ80及び81に於いてねじ止めしう
るハウジングの上半分78及び下半分79の中に納めら
れている。バイモル素子76及び77はこれらの自由端
にブロック82及び86を担持している。これらのブロ
ックは夫々圧電棒状体(管状体でも可)84及び85を
備えている。圧電棒状体84.85は通常の状態では両
端部がノ・クランプの上半分の部分78及び下半分の部
分79に接しており、よってブロック82.83が変位
しない様に捕捉されている。棒状体84.85が付勢さ
れると、棒状体が縮み、ハウジングの上下の部分78,
79との係合から解放される。所望の回転をうるために
バイモル素子76.77並びに棒状体84.85を適当
に付勢する適当な制御装置を創作する事は容易であろう
。更にこの実施例に於いては、シャフト75もしくはハ
ウジングに於いてバイモル素子76及び77が伸長され
る際にその一方もしくは他方を捕捉するためにロック用
のメカニズムが必要とされる事も明らかであろう。同じ
事が第2図及び第4図の実施例に於いても云える。夫々
シャフト18及びハウジング42並びにシャフト49及
びハウジング70は、達成された回転がバイモル素子の
脱勢時に逆転するのを回避するためにバイモル素子が伸
長する際に相互のロッキングを必要とする。シャフト1
8.49.75を捕捉するための非常に簡単な装置を第
6図の回転装置に関連して示す。シャフト75の一端に
金属製のディスク86を取付ける。このディスクに誘電
材層87を被覆する。ディスク86は金属プレート88
かられずかに離して維持する。ディスク86及びプレー
ト88間に電圧を印加する事によって電界が生じ、その
静電力によってディスク86が回転しない様に引きつけ
られ、固定される。ディスク86のために非常に薄い、
可撓性のシート状金属を選択する事によって、この装置
の効果を相当増強し、公差を緩和させる事が可能である
。
第2図、第4図及び第6図の実施例は、バイモル素子に
印加される電圧の極性を反転し、上記ロキング機構を適
当に逆転させる事によって両方向に回転させる事が容易
である。
印加される電圧の極性を反転し、上記ロキング機構を適
当に逆転させる事によって両方向に回転させる事が容易
である。
本発明によりナメメータのオーダーの精度の円弧状の径
路に沿う変位が可能な圧電回転装置が提供される。
路に沿う変位が可能な圧電回転装置が提供される。
第1図及び第2図は本発明の第1実施例を説明する図、
第6図及び第4図は本発明の第2実施例を説明する図、
第5図は上記第2実施例の動作のタイミング図、第6図
は第3実施例を説明する図、第7図ないし第11図は第
1の例を説明する図、第12図は第7図ないし第11図
の回転装置の動作のタイミング図である。 1・・・・支持プレート、2・・・・軸ピン、6・・・
・フロック、4・・・・バイモル素子、5・・・・調整
ねじ、6・・・・クランプ・シユー 7・・・・荷重体
、8.9・・・・アングル部、10・・・・バイモル素
子、12・・・・支持体、14.15.16.17・・
・・クランプ手段。 出願人 インター)−13fル・ビジネス・マン−2ズ
・コ5せhシ佃ン第6v!J N7図 第9図
第6図及び第4図は本発明の第2実施例を説明する図、
第5図は上記第2実施例の動作のタイミング図、第6図
は第3実施例を説明する図、第7図ないし第11図は第
1の例を説明する図、第12図は第7図ないし第11図
の回転装置の動作のタイミング図である。 1・・・・支持プレート、2・・・・軸ピン、6・・・
・フロック、4・・・・バイモル素子、5・・・・調整
ねじ、6・・・・クランプ・シユー 7・・・・荷重体
、8.9・・・・アングル部、10・・・・バイモル素
子、12・・・・支持体、14.15.16.17・・
・・クランプ手段。 出願人 インター)−13fル・ビジネス・マン−2ズ
・コ5せhシ佃ン第6v!J N7図 第9図
Claims (2)
- (1) 一端がシヤフトによつて軸回転する様に支持さ
れ、他端がクランプ・シユーを担持する様構成されて、
電圧供給のオン・オフによつて屈曲状態又は復帰(伸長
)状態を取る少くとも1つの第1圧電可撓体と、 上記第1圧電可撓体をはさんでその両側に配設され、
一端が上記シヤフトに対して軸回転自在に取付けられた
ハブに支持され、他端が円形のクランプ・リングを担持
する様放射状に配置された複数個の第2圧電可撓体及び
複数個の様3圧電可撓体とを備え、 上記第1、第2、第3圧電可撓体への電圧供給のオン
・オフを予定順序で行なうことにより、上記第1圧電可
撓体を支持する上記シヤフトを軸回転させることを特徴
とする圧電回転装置。 - (2) 一端がシヤフトによつて軸回転するように支持
され、他端がブロツクを担持する様構成されて、電圧供
給のオン・オフによつて屈曲状態又は復帰(伸長)状態
を取る少くとも1つの第1圧電可撓体と、 上記シヤフトを貫通させて上記第1圧電可撓体を包ん
だハウジングと、 上記シヤフトと並行に上記各ブロツクに取付けられ、
電圧供給のオフのとき、上記ハウジングの内壁に係号し
て上記ブロツクの移動を禁止し、電圧供給のオンのとき
その長さを縮めて上記ブロツクの移動を許す様にした棒
状の第2及び第3圧電可撓体とを備え、 上記第1、第2、第3圧電可撓体への電圧供給のオン
・オフを予定順序で行なうことにより、上記第1圧電可
撓体を支持する上記シヤフトを軸回転させることを特徴
とする圧電回転装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP84104926.5 | 1984-05-03 | ||
EP84104926A EP0160707B1 (en) | 1984-05-03 | 1984-05-03 | Piezoelectric stepping rotator |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60005145A Division JPS60234477A (ja) | 1984-05-03 | 1985-01-17 | 圧電回転装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02262876A true JPH02262876A (ja) | 1990-10-25 |
JPH0744857B2 JPH0744857B2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=8191914
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60005145A Granted JPS60234477A (ja) | 1984-05-03 | 1985-01-17 | 圧電回転装置 |
JP2037530A Expired - Fee Related JPH0744857B2 (ja) | 1984-05-03 | 1990-02-20 | 圧電回転装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60005145A Granted JPS60234477A (ja) | 1984-05-03 | 1985-01-17 | 圧電回転装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4600854A (ja) |
EP (1) | EP0160707B1 (ja) |
JP (2) | JPS60234477A (ja) |
DE (1) | DE3474380D1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6162370A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-31 | Tokyo Juki Ind Co Ltd | ピエゾモ−タ |
US4734610A (en) * | 1986-03-25 | 1988-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibration wave motor |
US4890027A (en) * | 1988-11-21 | 1989-12-26 | Hughes Aircraft Company | Dynamic motor controller |
US5247222A (en) * | 1991-11-04 | 1993-09-21 | Engle Craig D | Constrained shear mode modulator |
US5631824A (en) * | 1994-05-26 | 1997-05-20 | Polytechnic University | Feedback control apparatus and method thereof for compensating for changes in structural frequencies |
US6154000A (en) * | 1994-09-07 | 2000-11-28 | Omnitek Research & Development, Inc. | Apparatus for providing a controlled deflection and/or actuator apparatus |
US5604413A (en) * | 1994-09-07 | 1997-02-18 | Polytechnic University | Apparatus for improving operational performance of a machine or device |
JPH0947927A (ja) * | 1995-08-07 | 1997-02-18 | Toyota Motor Corp | 回転アクチュエータ及びそれを使用したネジ締め機 |
US5945772A (en) * | 1998-05-29 | 1999-08-31 | Motorla, Inc. | Damped resonant piezoelectric alerting device |
SE0004733D0 (sv) * | 2000-12-20 | 2000-12-20 | Piezomotor Uppsala Ab | Double bimorph electromechanical element |
US6590208B2 (en) * | 2001-01-19 | 2003-07-08 | Veeco Instruments Inc. | Balanced momentum probe holder |
GB0113350D0 (en) * | 2001-06-01 | 2001-07-25 | Pbt Ip Ltd | A rotary actuator mechanism |
US7369115B2 (en) * | 2002-04-25 | 2008-05-06 | Immersion Corporation | Haptic devices having multiple operational modes including at least one resonant mode |
US7161580B2 (en) * | 2002-04-25 | 2007-01-09 | Immersion Corporation | Haptic feedback using rotary harmonic moving mass |
CN1913329B (zh) * | 2006-07-20 | 2010-11-10 | 清华大学 | 压电双晶片驱动的精密转动机构及其装置 |
DE102008013782A1 (de) * | 2008-03-12 | 2009-06-25 | Robert Bosch Gmbh | Piezoelektrischer Biegewandler |
CH702561B1 (de) * | 2008-11-24 | 2014-03-31 | Hess Innovation Gmbh | Antriebsmechanismus mit einem entlang einer Bewegungsachse bewegbaren Objekt und Mikroventil. |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5548832A (en) * | 1978-10-04 | 1980-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording and reproducing unit of rotary head type |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1071648A (en) * | 1964-11-06 | 1967-06-07 | Standard Telephones Cables Ltd | Position control device |
US3684904A (en) * | 1969-04-24 | 1972-08-15 | Gennady Vasilievich Galutva | Device for precision displacement of a solid body |
JPS5112497B1 (ja) * | 1971-04-21 | 1976-04-20 | ||
JPS5315060A (en) * | 1976-07-28 | 1978-02-10 | Hitachi Ltd | Inching device |
SU604057A1 (ru) * | 1976-12-01 | 1978-04-25 | Предприятие П/Я Р-6324 | Пьезоэлектрический двигатель угловых перемещений |
DE3168777D1 (en) * | 1981-08-10 | 1985-03-21 | Ibm | Electric travelling support |
US4435667A (en) * | 1982-04-28 | 1984-03-06 | Peizo Electric Products, Inc. | Spiral piezoelectric rotary actuator |
JPS5976184A (ja) * | 1982-10-22 | 1984-05-01 | Hitachi Ltd | アクチユエ−タ |
-
1984
- 1984-05-03 EP EP84104926A patent/EP0160707B1/en not_active Expired
- 1984-05-03 DE DE8484104926T patent/DE3474380D1/de not_active Expired
- 1984-09-28 US US06/655,271 patent/US4600854A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-01-17 JP JP60005145A patent/JPS60234477A/ja active Granted
-
1990
- 1990-02-20 JP JP2037530A patent/JPH0744857B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5548832A (en) * | 1978-10-04 | 1980-04-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording and reproducing unit of rotary head type |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0353874B2 (ja) | 1991-08-16 |
JPH0744857B2 (ja) | 1995-05-15 |
EP0160707A1 (en) | 1985-11-13 |
JPS60234477A (ja) | 1985-11-21 |
DE3474380D1 (en) | 1988-11-03 |
US4600854A (en) | 1986-07-15 |
EP0160707B1 (en) | 1988-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02262876A (ja) | 圧電回転装置 | |
US4727278A (en) | Piezoelectric multiaxis micropositioner | |
US5229679A (en) | Microdrive apparatus | |
US4422002A (en) | Piezo-electric travelling support | |
US5089740A (en) | Displacement generating apparatus | |
US4831306A (en) | Piezoelectric motor having a pivotally mounted annular shaped housing | |
US4578607A (en) | Piezoelectric precise rotation mechanism for slightly rotating an object | |
JPH0373236B2 (ja) | ||
JPS61159349A (ja) | 微小変位移動装置 | |
JP2000009867A (ja) | ステージ移動装置 | |
JPH0527034Y2 (ja) | ||
JPS63274894A (ja) | 送り装置 | |
JPS60214361A (ja) | 微動回転装置 | |
JPS6044838B2 (ja) | 回転微動機構 | |
JPH0543439Y2 (ja) | ||
KR100660185B1 (ko) | 마이크로 구동기와 그 구동방법 | |
JP2773781B2 (ja) | 精密微動ステージ装置 | |
JPH0412838B2 (ja) | ||
JP3173261B2 (ja) | 静電アクチュエータ | |
JPH041512B2 (ja) | ||
JPH0151303B2 (ja) | ||
JPS63156637A (ja) | 回転駆動装置 | |
JPH02235123A (ja) | 微動装置 | |
JPS5983581A (ja) | 回転微動機構 | |
RU2306585C1 (ru) | Двухкоординатный дефлектор |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |