TW484021B - A liquid crystal display device and a method of manufacture thereof, and a substrate and a method of manufacture thereof - Google Patents

A liquid crystal display device and a method of manufacture thereof, and a substrate and a method of manufacture thereof Download PDF

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Elizabeth Jane Acosta
Martin David Tillin
Michael John Towler
Harry Garth Walton
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Description

484021 A7 ________B7 ___ 五、發明説明(1 ) 本發明有關一種液晶顯示裝置,尤其是有關一種表面模 式液晶顯示器諸如7Γ構件裝置或外彎型裝置(splay-bend device)(SBD)。本發明亦有關一種製造該裝置之方法。本 發明亦有關一種基材,具有一高預仰角區與另一低預仰角 區,與該基材之製法。 本發明所使用之“表面模式液晶顯示器,,意指一液晶顯示 器,其中因改變液晶層兩端之電場所致之光學變化主要係 發生於該液晶層之表面層。表面模式液晶顯示器之實例有 7Γ-構件與外彎型裝置,唯已知其他類型之表面模式液晶 顯示器。表面模式液晶顯示器係揭示於“S0v j. QE,,, 1973,第 3 冊,第 78-79 頁。 該7Γ -構件(或稱為“光學補償雙折射裝置,,或〇cB)係描 述於 “Mol· Cryst.Liq.Cryst·,,1984,第 113 冊,第 329·339 頁’與美國專利第4,635 051號。π-構件之結構係圖示於 圖1中。該裝置包括透明基材1,Γ,其上層放置配向層 2,2’。向列液晶3係置於該基材1,1,之間。 配向層2 ’ 2’於液晶層3中與配向層2,2,形成界面處產生 液晶分子之平行配向。此可使用經平行摩擦之聚醯亞胺配 向層達成。 於基材1 ’ r上提供定址電極(addressing electrode)(未示),以於液晶層特定區域上施加電場。該 液晶層3係置於線性偏光板4,4,之間,其透光轴係彼此交 叉,而與液晶層之光軸成45° 。 可視情況提供延遲器5 ’使其光軸與液晶層之光軸平 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 484021 A7 B7 五、發明説明 行,而補償液晶層之延遲。該延遲器藉著於液晶層兩端之 有限電壓下,使液晶顯示器達到零延遲,而降低操作電壓 所需範圍。 7Γ -構件裝置之操作原理係說明於圖以“至以…。 當液晶層兩端不施加電場時,液晶係處於H •態(均勻 態),其中液晶層中心之液晶分子係實質平行於該基材。 如圖2(a)所示。圖中之短線係表示液晶分子之定向子 (director) 〇 當於液晶層兩端施加大於臨限值之電場時,液晶分子採 取V-態(或彎曲態)。此狀態下,液晶層中心之液晶分子係 貫免垂直於该基材。圖2(b)係顯示第一個V -態,發生於液 晶層兩端之低施加電壓下,圖2(c)係顯示第二個態,發 生於液晶層兩端施加較高電壓時。該π構件係藉著使液晶 層於該第一個低電壓V -態與第二個高電壓ν -態之間切換 而操作。 若液晶層兩端之電場降低至低於臨限值,則液晶層鬆弛 成圖2(a)之Η-態;為了開始操作該裝置,需使液晶層回復 至V-態。此種情況通常需要大值施加電壓,因為液晶分 子之預仰角低。此預仰角通常低於45。,一般係介於2與 10。之間,以提供充分之光學調整,與該兩V·態間之快速 切換(例如毫秒或更小之級數)。 已知0CB之一問題係為成核與建立V-態之困難度,ν· 態之拓撲異於Η-態。英國專利申請案9521〇431係描述一 先前技藝技術。此先前技藝技術中,該V -態係於施加高 -5- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 484021 A7 B7 五、發明説明(3 ) 值電壓下成核,而藉著於施加高值電壓下之網絡聚合而安 定化。然而,此先前技藝技術不適用於主動陣列裝置,因 其難以將具有所需大小之電壓施加於薄膜電晶體面板中。 另一個缺點係該原位聚合將使液晶層受到離子污染,而造 成影像溜留。 該SBD裝置--亦為表面模式裝置--係描述於英國專利申 請案第9712378.0號中。SBD裝置之結構通常與7Γ -構件相 同,不同處係SBD裝置中之配向層具有高值預仰角,而 7Γ -構件中之配向層具有低值預仰角。SBD裝置使用一種 具有負值介電各向異性之液晶材料,而7Γ -構件係使用具 有正值介電各向異性之液晶材料。 SBD之操作原理係說明於圖3(a)至3(c)中。當液晶層兩端 不施加電壓時,V -態穩定,如圖3 (a)所示。當液晶層兩端 施加大於臨限值之電場時,Η -態變成穩定。圖3(b)係顯示 當液晶層兩端施加低值電壓時之第一個Η -態,而圖3 ( c ) 係顯示當液晶層兩端施加高值電壓時之第二個Η -態操作 其期間,該裝置係於圖3(b)之低值電壓Η-態與圖3(c)之高 值電壓Η -態間切換。若液晶層兩端之電場係降至低於該 臨限值,則液晶將鬆弛成V -態,而需於重新開始操作之 前,使液晶回復成Η -態。 可例如藉著反應性高分子液晶層(m e s 〇 g e η )之混合物的 光致聚合而產製SBD所需之高預仰角配向層,如英國專利 申請案第9704623.9號所述。 SID 97 Digest,第739頁揭示一種促進7Γ -構件中之V-態 -6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 484021 A7 B7 五、發明説明(4
成核的方法。於液晶層兩端施加大小為2 0伏特之電壓,以 使液晶由Η -態切換至v -態。然而,難以於TFT(薄膜電晶 體)基材中提供此種大小之電壓。 曰本公開專利申請案JP-A-9 90432(Toshiba)揭示一種位 於7Γ -構件面板中提供成核部位之方法。該成核部位係藉 著於該7Γ -構件面板内包括間隔物球或柱,於該面板兩端 施加電場下,使液晶材料自各向同性相(iS〇tr()pie phase)冷卻至向列相而提供。而使一部分作為成核部位 之間隔物球/柱中之V -態長成Η態。此種先前技藝具有數 項缺點。首先,其於製造該面板期間需要附加之程序步 驟,因其需於施加電場下配向該液晶分子。此等附加之程 序步驟使該面板之製造複雜化。其次,部分間隔物球/柱 可使該Η -態成核而成為V -態,而破壞該面板的操作狀 態。 日本公開專利申請案JP-A-9 21 841 1揭示一種彎曲配向狀 態,其係於不施加電場下,於球粒形式之間隔物存在下建 立。該間隔物具有一表面能,使得與該配向層相鄰之液晶 分子主要係配向成與該配向層平行。然而,為了使此種技 術產生作用,需於該裝置之原始配向期間施加電場。而 且,該粒子不能位於該圖素隙孔之外,而使得該顯示器之 反差比因該粒子之存在而降低。
Miwa等人IDW 97-Digest第739頁揭示一種保持7Γ-構件中 之V -態穩定性的方法。於各圖框中提供一個重定周期’ 於此周期中定址該高電壓V -態。此方法防止該液晶層於 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 裝 η
484021 A7 ____B7_ 五、發明説明(5 ) 施加低驅動電壓時鬆弛成Η -態。然而,此方法無法由該 Η-態定址該V-態之原始成核。 美國專利第4 400 060號揭示一種液晶構件,其中液晶係 於一 Η -態與一 V _態間切換,以得到光學調變,即各圖素 之光學狀態係由處於V -態或處於Η -態而定義。該液晶層 所定義之圖素係由中性隔離區彼此分隔,該中性隔離區完 全分隔一圖素與相鄰圖素。該隔離區係防止一圖素之界面 上的境界線偏移至相鄰圖素中,而使該相鄭圖素產生失誤 之切換。該隔離區係藉著改變一配向薄膜之預仰角而定 義。此結果沿各圖素之整體周圍或邊界產生閉合境界線。 美國專利第5 781 262號揭示一種製造液晶顯示器之技 術,其中各圖素中之液晶層係具有不同配向之功能區域, 以改善視角特性。一聚醯亞胺定向膜(orientati〇I1 nim) 係進行摩擦步驟,之後掩蓋該膜之特定部分。未掩蓋之部 分於相反方向進行第二個摩擦步驟。此技術產生提供極低 預仰角之配向層。 美國專利第5 757 454號揭示一種製造液晶顯示器之技 術,其圖素功能區域具有不同配向。該配向層係先於第一 個配向摩擦,掩蓋特定部分。該未掩蓋部分隨後於不同配 向摩擦(非與該第一個配向相反)而界定不同之功能區域配 向。此步驟於該配向層之不同部分中產生不同預仰角配 向0 本發明第一個態樣係提出一種液晶顯示裝置,包括一液 晶層,放置於第一與第二基材之間;與用以於液晶層兩端 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 484021 A7 _B7__ 五、發明説明(6 ) 施加電壓之裝置;其中,當該液晶層兩端不施加電壓時, 第一個液晶態係於該液晶層中所界定之第一個體積中呈穩 定狀態,而第二個液晶態係於該液晶層所界定之第二個體 積中呈穩定狀態;其中,當於液晶層兩端施加大於臨限電 壓之電壓時,第二個液晶體積中之第三個液晶態變成穩 定,其特徵為該第一基材對應於該第一個液晶體積之區域 中不包括該第一基板對應於該第二個液晶體積之區域。 該第一個液晶體積係作為成核區(nucleation region, 即圖素電極區),而促進該第二個液晶體積變成該第三個 液晶狀態。使該第二個液晶體積成為第三個液晶態所需施 加之電壓低於不提供成核區(nucleation region,即圖素 電極區)之情況。 該第三個穩定狀態可為與該第一個穩定狀態相同之類 型。當液晶層上施加大於臨限電壓之電壓時,該第一個液 晶狀態可於該液晶中所界定之第一個體積中保持穩定。 第一個穩定狀態可為Η AN-態,第二個穩定狀態可為Η -態,而第三個穩定狀態可為V-態。或該第一個穩定狀態 可為V -態,第二個穩定狀態可為Η -態,而第三個穩定狀 態可為V -態。該裝置可為7Γ -構件。 該第一個穩定狀態可為ΗΑΝ-態,第二個穩定狀態可為 V -態,而第三個穩定狀態可為Η -態。或該第一個液晶狀 態可為Η -態,第二個液晶狀態可為V -態。該裝置可為外 彎型裝置。 第一基材對應於第一個液晶體積之區域可具有異於該第 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐) 裝 訂
484021 A7 _ __ B7_._ 五、發明説明(7 ) 一基材對應於該第二個液晶體積之區域的預仰角。該第二 基材對應於該第一個液晶體積之區域亦可具有異於該第二 基材對應於該第二個液晶體積之區域的預仰角。此係為於 液晶區域中界定該第一個與第二個液晶體積之直接方式。 第一個液晶體積可包括分散於聚合物基質中之液晶材 料。此表示於該液晶層中界定該第一個與第二個體積之備 擇方式。 該第一基材對應於該第一個液晶體積的區域可完全被第 一基材對應於該第二個液晶體積之區域所包圍。 本發明第二個態樣係提出一種操作液晶顯示裝置之方 法,其包括步驟有:提供具有一液晶層之液晶顯示裝置; 於該液晶層中界定第一個與第二個體積,使得當液晶層兩 端不施加電壓時’第一個液晶狀態係於該液晶層所界定之 第一個體積中呈穩定狀態,而第二個液晶狀態係於該液晶 層所界定之第二個體積中呈穩定狀態;於該液晶層兩端施 加電壓,使得第三個液晶狀態變成於該液晶層所界定之第 二個體積中呈穩定狀態。 該第三個液晶狀態可為與該第一個液晶狀態相同類型之 狀態。該第一個液晶狀態可為V -態,第二個液晶狀態可 為Η -態,或該第一個液晶狀態可為Η -態,而該第二個液 晶狀態可為V -態。 該第一個液晶狀態可為ΗΑΝ-態,第二個液晶狀態可為 Η -悲,而第二個液晶狀態可為V -態’或該第一個液晶狀 態可為Η AN-態,該第二個液晶狀態可為V -態,而第三個 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 484021 A7 B7 五、發明説明(8 ) 液晶狀態可為Η -態。 可發現本發明之原理與US4 400 060有相當大之差異。於 此先前技藝文件中,於施加電壓時不切換之液晶區域係為 “中性隔離區”,其必需完全環繞該液晶層之主動圖素區。 相反地,本發明中,第一個液晶區…“成核區 (nucleation region,即圖素電極區),,·_不需環繞該第二 個液晶區。實際上,該第一個液晶區可完全被該第二個液 曰曰區所包圍。與US4 400 060之揭示相反地,本發明確定在 零施加電壓下,於各圖素中或附近存在閉合境界線。於施 加電恩下,該境界線於該圖素區上移動,起始一個已界定 之操作狀態,例如V-態或H-態,其異於該零電壓狀態。 隨之由施加於此狀態之電壓界定各圖素之光學調變狀態。 本發明使得一或多個V -態成核區(nucieati()n 即圖素電極區)製成0CB裝置。提供此等成核區 (nucleation region,即圖素電極區),使其餘液晶區於 相對低施加電壓下成為V·態,而使該裝置與薄膜電晶體 面板相谷。該成核區(nucleati〇n regi〇n,即圖素電極區) 係藉著改變液晶層上之配向條件而提供,例如該表面預仰 角。 本發明亦可應用於其他類型之表面模式液晶顯示器,諸 如SBD裝置。 本發明第三個態樣係提出一種製造基材之方法,包括步 驟有:(a)提供一高預仰角配向層;與(…摩擦該配向層之 一或多個特定區域,以降低該經摩擦區域的預仰角,並保 -11 · 五、發明説明(9 ^至少-個非特定區配向層不進行摩擦,以保持高預仰 可包括其他步驟⑷掩蓋該配向層除該— '區域以外之•,步驟⑷料步驟⑻之前進行。特 :未經摩擦之配向層可具有實質9〇。之預仰角。此法可 万、d配向層鄰位之液晶層上產生垂直配列(匕〇_〇 h邛卜 alignment卜或該未經摩擦之配向層可產生—圓錐 向條件。 该配向層可為一聚合物配向薄膜。 本發明f四個態樣係提出一種由前述方法製造之基材。 本發月第五樣係提出一種液晶顯示裝置,包括有前述 基材該裝置可為一視差障壁,或其可為一 ΉΑΝ裝置,具 有兩個或多個液晶功能區域。 現在參照附圖藉由說明實例描述本發明較佳具體實例, 其中: 圖1係顧OCB裝置之剖面圖(冗-構件); 圖2(a)至2(c)係說明〇cB裝置之操作原理; 圖3(a)至3(c)係說明SBD裝置之操作原理; 圖4(a)係為本發明第一個具體實例之剖面圖; 圖4(b)係為本發明第二個具體實例之剖面圖; 圖5(a)(i)至5(a)(iii)係為對應於圖4(a)之平面圖; 圖5(b)(i)至5(b)(iii)係為圖4(b)裝置之平面圖; 圖6(a)至6(f)係說明圖4(a)與5(a)所示之裝置的製造方法; 圖7係為本發明另一具體實例之剖面圖; -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(1〇 ) 圖8係為本發明另一具體實例之剖面圖; 圖9係為本發明另一具體實例之剖面圖; 圖1 0係為本發明另一具體實例之剖面圖; 圖11(a)係為習用han液晶顯示裝置的剖面圖; 圖11(b)係為習用多功能區域han液晶顯示裝置之剖面 I5J · 圖, 圖11(c)係為本發明之一具體實例的多功能區域han液晶 顯示裝置之剖面圖; 圖11 (d)係為本發明之一具體實例的另一多功能區域han 液晶顯示裝置之剖面圖; 圖11 (e)係為本發明之一具體實例的另一多功能區域han 液晶顯示裝置之剖面圖; 圖12(a)係為本發明之一具體實例之視差障壁的剖面圖; 圖12(b)係為本發明之一具體實例之另一視差障壁的剖面 圖。 本發明第一個具體實例係顯示於圖4(a)中。此具體實例 係為一 OCB裝置,或一冗-構件,包括上層與下層基材1, 1’’各具有一配向層2, 2,。氧化銦錫圖素電極6係位於上 層基材1上,共用氧化銦錫電極6,係位於下層基材丨,上。 上層配向層2具有固定預仰角。然而,該下層配向層2, 不具有固定預仰角。區域A與C具有低值預仰角,而區域 B具有高值預仰角。當該液晶層3兩端不施加電壓時,η -·%於區域Α與C中呈穩定狀態。然而,因為區域β中預仰 角差異,區域B中於零施加電壓下之穩定狀態並非η -態。 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公爱)
而疋HAN-態(混合配向向列態)。適於下層配向層2,之預 仰角實例係為2。至10。。下層配向層2,區域B之預仰角應 至少45° ,以應大於80°C為佳。 萬於圖4(a)之液晶構件兩端施加大於臨限值之電場時, 該V -態於介於該區域BiHAN-態與區域a與c之H_態間的 界面上形成V_態。一旦V_態依此方式成核,則其長成置 換區域A與C中之Η -態。提供“成核”區域,使於遠低於未 才疋供成核區域(nucleation region,即圖素電極區)之臨 限電場下(因此於夠低之施加電壓下)於區域A與c中達成 V -態。雖然用以切換習用7Γ -構件之臨限電壓一般係高於 10伏特,但已發現根據本發明提供一成核區(nucleati〇n r e g 1 〇 η,即圖素電極區),可使該臨限電壓降低約2.5伏 特。 於圖4(a)之液晶構件兩端施加電壓時,區域β保持於han 狀怨’唯液晶分子將部分重新定向。於高施加電壓下,區 域Β中之大部分分子係配向成垂直該基材,僅有靠近該低 值預仰角基材(即圖4(a)中之上層基材)之分子未被配向成 垂直該基材。 圖4(b)係為本發明應用於SBD裝置之剖面圖。圖4(1))之 SBD裝置仍包括一個具有配向層2之上層基板1。氧化銦錫 圖素電極6係位於該上層基材1上。 下層基材1’係具有一氧化銦錫共用電極6,與一配向層 該下層配向層2,不具有固定之預仰角。於區域a與c(實 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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484021 A7 B7 五、發明説明(12 ) 質對應於該液晶之圖素區)中,該預仰角高(至少45° ,而 以大於80°為佳)。然而,於區域b中,該預仰角低,例如 於2°- 10°之範圍内。該上層配向層2具有一固定高值預仰 角(至少45° ,以大於80。為佳)。 當液晶層兩端不施加電壓時,區域A與C中之穩定液晶 狀態係為V -態。然而,因區域b中下層配向薄膜2 ’之預仰 角不同的結果,該V -態並非區域B中之穩定狀態。而 Η AN-態係於區域B中呈現穩定狀態。於液晶層兩端施加電 壓時,於介於區域B之Η AN態與區域A與C之V -態間之界 面形成H -態,之後置換區域a與C中之V -態。該裝置隨之 如參照圖3(a)至3(c)所述般地操作。於下層配向薄膜2,上 提供低值預仰角區意指H-態於較該低值預仰角區域低之 電場(因而於較低施加電壓)下成核。此情況避免於該液晶 層之兩端施加高值電壓以使該Η -態成核之需要。 當於液晶層兩端施加電壓時,區域Β保持ΗΑΝ狀態。然 而,如同圖4(a)之裝置,施加電壓時,液晶分子將有部分 重新定向。於高值施加電壓下,區域Β中之液晶分子係配 向成平行該基材,除靠近該高值預仰角基材(即,圖4(b)中 之下層基材)之分子外。 本發明不限於圖4(a)與4(b)所例示之具體實例。適當之成 核區域(nucleation region,即圖素電極區)的判據通常 係為當不施加電場時,一液晶狀態於液晶層之第一個區域 (成核區域(nucleation region,即圖素電極區))呈穩定 狀態,另一液晶狀態於液晶層第二個區域呈穩定狀態,而 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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484021 A7 __B7 五、發明説明(13 ) 該液晶層之兩區域間存有境界線。非成核區(nucleati〇n region,即圖素電極區)之區域中的穩定液晶狀態並非所期 望之操作狀態,而係稱為“不期望之穩定狀態”。 於液晶層兩端施加大於臨限電場之電場時,因該境界線 由其位於成核區(nucleati〇n region,即圖素電極區)與 第二個區液晶間之邊界移入該第二個液晶區中的結果,而 於該第二個液晶區中得到所期望之操作狀態。此種境界線 之移動導致該第二個液晶區中之不期望穩定狀態被所期望 之操作狀態所置換。一旦所期望之操作狀態完全置換該第 二個液晶區中所不期望之穩定狀態,則消除該境界線,使 所期望之操作狀態更加穩定。只要該電場保持高於該臨限 電場’則所期望之操作狀態將保持該穩定狀態。 就7Γ -構件之實例而言,該成核區(nucleati〇n regi〇n 即圖素電極區)應於其體積之某些點上具有定向子 (director)結構,實質垂直於該基材。若為SBD裝置,該 成核區(nucle at ion region,即圖素電極區)應於其體積 之某些點上含有實質平行於該基材之定向子(director)。 此等疋向子(director)結構將於零施加電場下,於該成核 區(nucleati〇n region,即圖素電極區)與該液晶層第二 個區域之間設立境界線。 即使液晶層兩端不施加電場,切換本發明液晶構件所需 之^^限違场降低量’仍因為介於該成核區(nucleation region,即圖素電極區)與該第二個液晶區間之邊界上存有 邊境界線而升高。當施加電場時,其僅起始且保持該境界 -16 - 本紙張尺度適用中s @家操準(CNS) M規格(⑽χ 297公董) 484021 A7 _____ B7 五、發明説明(14 ) 、泉之移動。相反地’於不具有成核區(nucleation region,即圖素電極區)之先前技藝液晶構件中,施加之電 場需先產生境界線,而此需大值電場。 於零施加電場下之液晶層成核區(nucleation region, 即圖素電極區)中呈現穩定之狀態在施加電場時,於該成 核區(nucleation region,即圖素電極區)中保持穩定。 例如,於圖4(a)之具體實例中,成核區(nucleation r e g i 〇 n,即圖素電極區)中之穩定狀態始終係為han態。然 而’施加之電場可改變該成核區(nucleation region,即 圖素電極區)中液晶分子之定向子(director)。 成核區(nucleation region,即圖素電極區)並非必要 延展於該液晶層之整體厚度上。實際上,例如圖4(a)中之 成核區(nucleation region,即圖素電極區)可被視為未 延展於該液晶層之整體厚度上。接近未製作佈線圖型(即 上層)基材1之液晶分子的定向子(director)實質平行於該 基材’故區域B中接近該上層基材之液晶不作為成核區 (nucleation region,即圖素電極區)。 圖5(a)係為說明圖4(a)之H-態區域與HAN-態區域之部分 可此排列之平面圖’此時液晶層兩端未施加電壓。於圖 5(a)(i)中,陰影之H-態區域係對應於該圖素區域,而 HAN-態區域係為圖素間區域,垂直延展於圖5(&)(丨)中。水 平延伸於圖5(a)(i)中之圖素間區域係為H-態區域。 圖5(a)(ii)所列示之配置與圖5(a)(i)所示者相同,不同處 係HAN區7,7’現在佔據水平延伸之圖素間區域,而垂直延 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 484021 A7 ____B7 五、發明説明(15 ) 伸之圖素間區域係為Η -態區域。 於圖5(a)(iii)中’圖素間區中大部分區域係為η -態。該 Η AN悲區域係界定成四個小區域9,各位於圖素之每一轉 角。若使用此具體實例,則發現30微米X 30微米haN-態 區域適用於300微米X 300微米圖素尺寸。 圖5(b)係對應於圖5(a),但與圖4(b)之SBD裝置有關。 現在參照圖6(a)至6(f)描述一種製造本發明裝置之方法。 此方法中,使用 Nissan Chemical Industries,polyimide RN· 715(0621型)製造下層配向薄膜。此材料之未經摩擦層產 生90預仰角’而摩擦縮小該預仰角。視摩擦條件而定, 遠預仰角可縮小至低達4 ° 。以1 : 3比例溶解於NMP中之 RN-71 5聚酿亞胺層12係轉塗於已塗佈有氧化銦錫層6,之 清你玻璃基材上。该聚酿亞胺係於5什轉每分鐘下轉塗於 該基材上歷經3 0秒,之後將該聚醯亞胺加熱至9〇歷經2 分鐘,之後於250°C下固化一小時。此係表示於圖6(a)。 聚醯亞胺層1 2隨之於4.5仟轉每分鐘下轉塗以正光阻劑 (Shipley,Europe Limited之光阻劑 Microposit S1805 系列)歷 經40秒,產生厚度約500奈米之光阻劑層。該光阻劑層之 後於95 C下溫火烘烤約2分鐘,以蒸發溶劑(圖6(b))。該光 阻劑層1 3隨之藉著照射該光阻劑層之選擇部分而製作佈線 圖型。該照光步驟包括於6 · 9毫瓦/厘米2之強度下,照射紫 外線(尖峰波長為365奈米)歷經3.5秒。該照光步驟係經由 紫外線-絡光罩幕於罩幕配向器(mask aligner)之硬性接 觸模式下進行。該光阻劑層使用顯影劑Microposit 351 •18· 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 484021 A7 ________B7_ 五、發明説明' :- CD31顯影-分鐘,由曝照紫外線之區域去除該光阻劑。 於該光阻劑中留下該光罩幕佈線圖型之正複製版。該基材 隨後於去離子水中徹底漂洗2分鐘,以確定完全去除經曝 光之光阻劑。 在堆登k形0.3而前進速度為20毫米/秒下,在3仟轉每分 鐘轉動下足滾筒上,使用摩擦布(ΥΑ·20·Κ)摩擦該配向層 三次’而於該未罩蓋區中誘導低預仰角平面配向(圖 6⑷)。 殘留之光阻劑係藉著將該基材浸潰於丙酮中歷經30秒, 足後於氮氣流中乾燥而移除。形成之配向層含有高預仰角 區域(對應於未摩擦區域)與低預仰角區域(對應於經摩擦 區域)。 藉著於具有氧化銦錫圖素電極(未示於圖6(f)中)之玻璃 基材1上放置RN-715聚醯亞胺層2 ,而製造第二基材。該 酿亞胺層係經均勻地摩擦,以於整體配向層上提供未製 作怖線圖型之均勻低預仰角。此基材隨之與圖6(e)之基材 結合,以製造5微米構件間隙平行液晶構件,如圖6(f)所 示。於該構件充填MLC6000-100向列液晶構件(Merck提 供)。當液晶層兩端不施加電壓時,該缉件係由藉著Han_ 怨區域分隔之Η -態區域構成。於液晶層兩端施加約2.5伏 特之電壓時,於介於該ΗΑΝ-態區域與該Η -態區域間之界 面形成V -態,而置換該η -態。 於一備擇製造方法中,該RN-715聚醯亞胺(0621型)係於 5仟轉每分鐘下未經稀釋地轉塗於已塗佈有氧化銦錫層之 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐) 484021 A7 _____B7 五、發明説明(17 ) 玻璃基材上"該聚醯亞胺隨後加熱至9〇 °c歷經5分鐘,而 於250°C固化一小時。 聚醯亞胺層隨後轉塗正光阻劑,選擇性地照光,顯影, 於去離子水中漂洗,如同前述方法所述。 隨後於該未罩蓋區域中,藉著使用摩擦布(YA-20-R)摩擦 該配向層,以謗導平面配向。該摩擦係於5 〇毫米直徑滾筒 上,於3仟轉每分鐘旋轉下,於〇·2堆疊變形下,且於2〇毫 米/秒前進速度下進行。 殘留光阻劑係藉著五秒鐘紫外線泛光曝光而去除。此係 於6.9毫瓦/厘米2強度,365奈米波長下,使用罩幕配向器 (m a s k a 1 i g n e r ),而不使用罩幕地進行。該基材隨後浸 入顯影劑Microposit 351 CD31中歷經六十秒。該基材於去 離子水中漂洗兩分鐘,之後於氮流中乾燥。形成之已製作 佈線圖型的配向層含有垂直配列區域,被具有14。預仰角 之平面區域所環繞。 此種方法與前述方法之差別主要係在於不需要將該基材 浸入丙i同中以去除該光阻劑的步驟。此係優點,因為該基 材浸潰於丙酮中,使其難以準確地控制該經摩擦聚醯亞胺 的預仰角。 圖7係顯示本發明〇cb裝置之另一具體實例。此具體實 例係為圖4(a)之具體實例的修飾。 於圖7所示之裝置中,上層與下層配向薄膜2, 2,皆具有 變化之預仰角。兩配向薄膜之區域B中皆具有高預仰角, 而區域A與C中皆具有低預仰角。結果,即使液晶層兩端 -20- 中關家標準(CNS) A4規格(21〇 X 297公釐) 一 A7 B7 五、發明説明(18 ) 不施加電壓,V_態仍於區域B中保持穩定。於液晶層兩端 施加屯壓時’該v -態係由區域B成長至相鄰區域A與c 中。該裝置於是於圖2(b)與2(c)所說明之狀態間正常操作。 成核區(nucleation region,即圖素電極區)·區域6中 之預仰角係經選擇,使得該成核區(nucleaU()n region, 即圖素電極區)中液晶層之至少一部分的定向子(direct〇r) 配向成與該基材垂直(即,該成核區(nucleati〇n regi〇n, 即圖素電極區)含有一垂直配列體積)^兩基材並非必要相 同-若一基材上之預仰角係為(90- 0)。,另一基材上之預 仰角則應大於0。。該預仰角以於兩基材上皆大於4 5。為 佳,而以大於80 °較佳β該預仰角將於該成核區 (nucleation region,即圖素電極區)中液晶體積内誘導 垂直配列。兩基材上區域B中之預仰角可實質皆為9(Γ , 而此將於區域Β中整體液晶層厚度上產生垂直配列。 區域Α與C之適當預仰角係為2。-10。。兩基材上之預仰角 並非必要相同。該兩基材間之預仰角可接受差值係視該預 仰角而定。例如,一基材2 ^之預仰角,另一基材上即需 介於約Γ- 3°範圍内之預仰角,以得到有效之操作。但若一 基材區域A或C中具有20°之預仰角,則另一基材可具有 介於約15°-25°範圍内之預仰角。 雖然圖7之具體實例具有成核區(nucleation region, 即圖素電極區),其中不施加電壓時之V-態呈穩定狀態, 但可能產生一 Η AN成核區(nucleation region,即圖素電 極區)。 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 484021 A7 ------- B7 五、發明説明(19 ) 圖8顯不SBD裝置之另一具體實例。此大體上係對應於 圖7所說明之〇CB。 圖8所示之SBD裝置中,上層與下層配向層2, 2,區域B中 皆具有低預仰角,區域A與c中具有高預仰角。因此,即 使液晶層兩端不施加電壓時,區域B中之H _態仍呈穩定狀 態。於零施加電壓下,V-態係於區域A與c中呈穩定狀 態。一旦於液晶層兩端施加較低操作電壓,則該η _態自 區域Β生長至區域Α與C中,裝置則可於圖3(15)與3((:)所說 明之狀態間正常操作。與先前技藝相反地,不需施加高電 壓以使Η -態成核。 若一基材上區域Β中之預仰角係為0。,則另一基材上 I預仰角應小於(90- 0。)。區域Β中之預仰角以於兩基材 上皆小於45。為佳,以小於10。較佳。區域八與c之適當預 仰角係為80-89° (如同π -構件,該預仰角並非必要兩基材 皆相同)。 圖7與8所示之裝置可藉著前文參照圖6(a)至6(e)所述之 方法製造。上層與下層兩基材上之配向層皆需選擇性地經 摩擦,以產生高預仰角區域與低預仰角區域。 圖7所說明之裝置的修飾係說明於圖9 ^圖9之區域A、B 與C中之液晶分子的配向係對應於圖7。然而,變化之預 仰角並非由選擇性地摩擦該配向層所產生。於圖9所說明 之裝置中’該南預仰角區域具有一反應性高分子液晶層 (me so gen) 8,8’,位於該配向薄膜2,2,上。該配向薄膜 2 ’ 2 ’係為低預仰角配向薄膜,例如藉著如前述地均句地摩 -22· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 484021 A7 _ B7_______ 五、發明説明(20 ) 擦一聚醯亞胺基材而製造。 一種製造圖9之反應性高分子液晶層(mesogerOS,8’之 方法係於經低預仰角摩擦之聚酿亞胺配向薄膜上,轉塗一 丙婦酸自旨反應性南分子液晶(mesogen)材料RM 2 5 7與RM 305之混合物(Merck Limited製造)。該反應性高分子液晶 (m e s 〇 g e η )材料隨後藉著照射紫外線而固化。該反應性高 分子液晶層(mesogen)8,8,產生一高預仰角-於8(Γ區域 中,如共待審英國專利申請案第9704623.9所述。 圖10係說明反應性高分子液晶層(mesogen)應用於SBD 裝置之方法。圖10之裝置係與圖8之裝置相同,不同處係 藉著於具有均句低預仰角之配向層2,2,上放置反應性高分 子液晶層(mesogen)8,8,而產生高預仰角區域。圖10 中’該反應性高分子液晶層(mesogen)8,8,係位於該液 晶構件對應於圖素區之區域中,而圖9之裝置中,該反應 性高分子液晶層(m e s 〇 g e η )係位於圖素間區域。 於前述具體實例中,該成核區(nucleati〇n region,即 圖素電極區)係置於該圖素間間隙内。然而,此並非本發 明之必要特色。成核區(nucleation region,即圖素電極 區)可位於該圖素區中。 圖6(a)至6(e)所說明之方法產生一個具有低預仰角區與高 預仰角區之配向薄膜。該基材具有除前述圖4至8所述之裝 置以外之應用。例如,該基材可用以製造可圖1丨(c)所示之 多功能區域HAN液晶裝置。
多功能區域HAN LCD係已知,習用多功能區域HAN LCD -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 484021 A7 發明説明 之實例係說明於圖丨1(b)中。此包括一液晶層1 3 ,置於上 層與下層基材11,11,之間。該上層基材Η係具有一配向 層(未示),其於整體配向層上具有均勻預仰角9〇。,產生 液晶分子之均勻配向。該下層基材η,係具有一配向層(未 不)’其不具有均勻預仰角。雖然由位於下層基材1丨,上之 配向薄膜所提供之預仰角量基本上於區域Α與β中皆相 同’但接近基材1 1之液晶分子的配列方向係異於區域A與 B之間。 圖11(b)所示之習用多功能區域HAN LCD具有較習用單功 能區域HAN LCD改良之視角特性,諸如圖11 (a)所示。(於 圖11(a)之單功能區域han LCD中,該預仰角之量與配向 於上層基材11,之配向薄膜(未示)與於上層基材11之配向 薄膜上皆相同)。然而,製造圖11(b)之多功能區域han有 實際上之問題。 若位於圖11(b)裝置之下層基材上的配向薄膜係藉著摩擦 方法製作佈線圖型,則可使用多步驟摩擦方法。首先,該 整體配向薄膜係經摩擦,而產生區域A之預仰角。之後可 罩蓋區域A,進行第二個摩擦步驟,以產生區域β所需之 預仰角。因此發現區域B進行兩次摩擦處理,而區域a僅 進行一次摩擦處理,僅進行一次之區域中之預仰角係異於 進行兩次之區域。雖然此種預仰角差異小,但當於法線配 向觀看該裝置時,區域A仍顯示於光學上異於區域β。而 且,該兩區域亦可具有不同之操作特性諸如例如切換速 度0 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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484021 A7 _B7 五、發明説明(22 ) 圖11(c)係顯示本發明具體實例之多功能區域HAN LCD。 此裝置中,位於上層基材li上之配向薄膜(未示)區域A中 具有9(Τ ,但區域B中預仰角低。相反地,下層基材11,上 之配向薄膜(未示)區域Α具有低預仰角,而區域Β有90° 預仰角。此意指液晶層1 2具有一對稱結構,故當於法線配 向觀看該裝置時,區域A與B顯然相同。區域A與B亦具有 彼此相同之操作特性。 本發明另一個重要優點係位於該上層與下層基材上之配 向薄膜約束(捕集)離子至相同程度。亦因該預仰角以相同 方式跨經該兩配向層而變化,亦因該兩配向層已進行相同 之加工處理。離子之約束因此應於該兩配向薄膜間“平均 輸出”,而降低該裝置操作期間之影像滯留。 本發明另一項優點係有關液晶偏光之預防《若液晶材料 進行外開或變曲變形諸如圖11(a)至11(c)所示之裝置的HAN 結構,則向列液晶材料中之撓曲-電效應可產生偏光P s。 此項偏光係由圖11(a)至11(c)中之箭號表示。於圖11(b)中 之兩區域可發現所誘導之偏光係累積於整個構件上,而於 圖11(c)裝置之兩區域中所誘導之偏光於跨經液晶層之配向 上約略彼此抵消。 圖11(d)係顯示圖11(c)具體實例之修飾。圖11(d)裝置之 區域A係與圖11(c)具體實例之區域A相同。圖11(d)接近上 層基材之區域B的預仰角配向(相對於基材法線)較圖11(c) 區域B之預仰角配向縮回。因此,於圖11(d)裝置中,區域 B中接近上層基材之液晶分子係約略平行於區域A中接近 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 484021 A7 B7 五、發明説明(23 ) 下層基材之液晶分子。該兩區域之偏光向量因此係位於相 反配向,故形成之整體偏光基本上係為零。 本發明多功能區域HAN LCD之另一具體實例係顯示於圖 11(e)中。該裝置係與圖11(c)相同,但具有四個液晶區域 A、 B、C與D。上層與下層配向層12, 12,係含有低預仰角 與90°預仰角交替區域。該基材係排列成使上層配向層上 之90預仰角區域係直接位於下層基材之低預仰角區域 上’使得位於上層配向層上之低預仰角區域係直接位於該 下層配向層之90°預仰角區域上。圖11(e)所示之區域a、 B、 C、D皆具有穩定之HAN液晶狀態,但區域a與c中之 HAN狀態與區域B與D中之HAN狀態比較係為相反。 圖6(a)至6(e)之製造方法亦可應用於製造適用於視差障壁 之液晶構件結構,諸如共待審英國專利申請案第9 713 9 8 5 · 1 所述之視差障壁。該結構之實例係顯示於圖l2(a)與圖 12(b) 〇 圖12(a)係顯示適於視差障壁之液晶構件結構。包括一液 晶材料層23,位於上層與下層基材21,21,之間。每一層 基材皆具有配向層22,22’。如同圖11(d)之裝置,每一配 向層皆產生交替之低預仰角與90°預仰角區域;然而,該 基材係排列成該上層配向層上之9〇。預仰角區域直接位於 該下層配向層上之9(Γ預仰角區域上,並使得該上層配向 層之低預仰角區域直接位於下層配向層上之低預仰角區 上。 液晶材料係經選擇,使得其區域Β、D、F、Η中雙折射與 -26- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐) _____ B7 五、兑明(24~) _ "—" 其厚度之乘積與供波長介於可見光譜中間(即波長5〇〇_6〇〇 奈米)之半波板雙折射與厚度乘積相同。 开y成視差障壁時’圖12(a)之液晶構件係置於正交線性 偏光板之間並與之平行。垂直配列區域A、c、e、G、I係 顯不黑暗,而低預仰角區B、d、F、Η係明亮。如熟習此技 二者已知’遠結構可於3d自動立體鏡顯示器中作為視差 障壁。垂直配列區域A、c、Ε、G、I與低預仰角區域β、 D、F、Η可經選擇,以對應於該顯示器之圖素尺寸,並間 隔於其間。 低預仰角區域中液晶分子之配列方向以相對於該偏光板 之透光軸位於45。方位角為佳,因為此可產生最高透光 度°然而’本發明之一優點係為即使方位角並非準確之45 ’仍得到良好之黑暗狀態。例如,若方位角係為3 〇。, 該明亮狀態之透光度係降低至其45。方位角理想狀況之值 的3 /4 ’而黑暗狀態保持不變。此種容許度使得自動立體 鏡顯示器之製造集中於殺該視差障壁與底層顯示面板之間 得到良之配向,以降低Moire效應。 圖12(b)係顯示另一種適於作為視差障壁之液晶裝置。此 僅具單一基材21’,其具有一配向層22,,具有交替之低預 仰角與90°預仰角區域。可感光聚合之液晶材料層24係置 於該基材上。此係感光聚合以製造交替之液晶分子垂直配 向區域與液晶分子水平配向區域。該液晶分子垂直配向區 域係排列於配向層22’之90°預仰角區域上,而液晶分子之 水平配向區域係排列於該配向層22,之低預仰角區域上。 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 484021 A7 _ __ B7 五、發明説明(25 ) 本發明另一具體實例(未說明)係有關另一種液晶裝置, 具有前文參照例如圖4(a)與4(b)描述之成核區(nucleation region,即圖素電極區)。然而,於此具體實例中,該成核 區域(nucleation regi〇n,即圖素電極區)未於至少一配 向層上具有變化之預仰角。而該配向層係具有均勻之預仰 角。小液晶層區域係置入操作狀態(即π -構件之V -態,與 SBD裝置之Η-態),而此等液晶層區域隨後聚合,以使此 等區域固定於操作狀態。與前述先前技藝不同地,僅聚合 遠成核區(nueleati〇I1 regi〇n,即圖素電極區),其餘液 晶層區域則不聚合。 $ 合可藉著例如共待審英國專利申請案第9521043.1所 述足方法進行。此方法中,該液晶層係為液晶化合物與預 聚物之混合物。於液晶層兩端施加電場,以使液晶成為預 足狀態(諸如7Γ -構件之V -態)。液晶保持此種狀態,同時 該預聚物之特定區域藉著例如照射紫外線而聚合或交聯。 此聚合物係照光區中之預定液晶狀態穩定化,使得該預定 狀態即使去除電場,仍於此等區域中保持穩定。該未照光 區不受景> 響。去除電場時,未照光區中之液晶鬆弛回復至 不施加電場的之正常穩定狀態。 若本發明應用於一主動陣列冗-構件,則各圖素之主動 區域中皆可包括一成核區(nucleati〇n regi〇n,即圖素電 極區)°當液晶層兩端不施加電壓時,HAN-態或垂直配列 狀·%係於成核區(nucleati〇n regi〇n,即圖素電極區)中 保持穩定狀態。 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 484021 A7 _______B7 五、發明説明(26 ) 右為办色裝置,其中每個圖素皆分成三個子圖素,則各 個子圖素 < 主動區域中皆可具有成核區(nucleation region,即圖素電極區)。 於例如圖U(e)與12(a)之具體實例中,該下層配向薄膜之 冋預仰角區域係具有垂直配列(即90。預仰角)。此區域可 父替地具有高預仰角圓錐配向條件。 -29-
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)

Claims (1)

  1. 484021_「Λ ABCD
    正修Μ ii ^、申請專利範圍 1. 一種液晶顯示裝置,包括:一液晶層,置於第一與第二 基材之間;與於該液晶層兩端施加電壓之裝置; 其中,當該液晶層兩端不施加電壓時,第一個液晶狀 態係於該液晶層中所界定之第一個體積中保持穩定狀 態,而第二個液晶狀態於該液晶層中所界定之第二個體 積中保持穩定狀態;且 其中,當液晶層兩端施加大於臨限電壓之電壓時,第 三個液晶狀態變成於該第二個液晶體積中呈穩定狀態, 其中該第一基材對應於該第一個液晶體積之區域不圍 繞該第一基材對應於該第二個液晶體積的區域。 2. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該第三個穩定狀態 係為與第一個穩定狀態相同類型。 3. 如申請專利範圍第2項之裝置,其中當液晶層兩端施加 大於該臨限電壓之電壓時,該第一個液晶狀態係於該液 晶中所界定之第一個體積中保持穩定狀態。 4. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該第一個穩定狀態 係為HAN-態,該第二個穩定狀態係為Η -態,而該第三 個穩定狀態係為V -態。 5. 如申請專利範圍第2項之裝置,其中該第一個穩定狀態 係為V -態,第二個穩定狀態係為Η -態,而第三個穩定 狀態係為V -態。 6. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該裝置係為7Γ -構 件。 7. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該第一個穩定狀態 -30 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 484021 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 係為HAN-態,第二個穩定狀態係為V-態,而第三個穩 定狀態係為H -態。 8. 如申請專利範圍第2項之裝置,其中該第一個液晶狀態 係為Η -態,而第二個液晶狀態係為V ·態。 9. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該裝置係為外彎型 裝置。 10. 如申請專利範圍第1項之液晶顯示裝置,其中該第一基 材對應於該第一個液晶體積之區域係具有異於該第一基 材對應於該第二個液晶體積之區域的預仰角。 11. 如申請專利範圍第1 0項之液晶顯示裝置,其中該第二基 材對應於該第一個液晶體積之區域係具有異於該第二基 材對應於該第二個液晶體積之區域的預仰角。 12. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該第一個液晶體積 係包括分散於聚合物基質中之液晶材料。 13. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該第一基材對應於 該第一個液晶體積之區域係完全被該第一基材對應於該 第二個液晶體積之區域所包圍。 14. 一種操作液晶顯示裝置之方法,包括步驟:提供一液晶 顯示裝置,其具有一液晶層;於該液晶層中界定第一個 與第二個體積,使得當液晶層兩端不施加電壓時,第一 個液晶狀態於該液晶層中所界定之第一個體積中呈穩定 狀態,而第二個液晶狀態於該液晶層中所界定之第二個 體積中呈穩定狀態;與於該液晶層兩端施加電壓,使得 第三個液晶狀態於該液晶層中所界定之第二個體積中變 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐) 六、申請專利範圍 成穩定狀態。 15·如申請專利範圍第1 4項之方法,其中該第三個液晶狀態 係為與第一個液晶狀態相同類型。 16·如申請專利範圍第1 5項之方法,其中該第一個液晶狀態 係為V -態,而第二個液晶狀態係為Η ·態。 17. 如申請專利範圍第1 5項之方法,其中該第一個液晶狀態 係為Η-態,而第二個液晶狀態係為V-態。 18. 如申請專利範圍第1 4項之方法,其中該第一個液晶狀態 係為ΗΑΝ-態,該第二個液晶狀態係為Η-態,而該第二 個液晶狀態係為V-態。 仪如申請專利範圍第i 4項之方法,其中該第一個液晶狀態 係為HAN-態,該第二個液晶狀態係為v -態,而該第三 個液晶狀態係為Η -態。 2〇. —種製造基材之方法,包括步驟有: a)提供一高預仰角配向層;與 b)摩擦該配向層之一或多個特定區域,以縮小該經 擦區之預仰角,保留該配向層之至少一未經選擇 經摩擦,而保持高預仰角。 一 21·如申請專利範圍第2〇項之方法,其另外包捂其他 C )罩蓋該配向層除該一或多個特定區域以外之。八 該步驟(C)係於步驟(b)之前進行。 〈邵分 22.如申請專利範圍第2G項之方法,其中該未 層係具有實質90。之預仰角。 τ足配 23·如申請專利範圍第2〇項之方法, 弄中这未經摩擦之配 -32 · 484021 A8 B8 C8 _— D8 六、申請專利範圍 層係產生圓錐型配向條件。 24.如申請專利範圍第2〇項之方法,其中該配向層係為聚合 物配向薄膜。 25· 一種藉由如申請專利範圍第2 0項之方法製造之基材。 26. —種液晶顯示裝置,其另外包括如申請專利範圍第2 $項 所定義之基材。 27·如申凊專利範圍第2 6項之液晶顯示裝置,其中該裝置係 為視差障壁。 28.如申請專利範圍第2 6項之液晶顯示裝置,其中該裝置係 為具有兩個或多個液晶功能區域之ΗΑΝ裝置。 -33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐)
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