CN104777671B - 液晶显示面板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶显示面板，该液晶显示面板包括第一基板、与第一基板相对设置的第二基板及形成于该第一、二基板之间的液晶层；第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极；每一像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙；相邻的像素单元之间具有第二间隙；液晶层中与第一、二间隙对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的预倾角。由于与第一、二间隙对应的液晶分子的预倾角较小，有助于克服由于第一、二间隙的存在而造成的液晶分子配向不准的问题。

Description

液晶显示面板及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种液晶显示面板及该液晶显示面板的制造方法。
背景技术
液晶显示面板，例如平面内切换型(IPS，In-plane switching)液晶显示面板，通常包括两个相对设置的基板及设置于它们之间的液晶层。通过配向膜使液晶层中的液晶分子相对于基板初始配向在一定的角度。当施加电压时，液晶层内产生电场，使液晶层中的液晶分子发生扭转而实现图像显示。但在实际使用中，液晶分子时常不能按照预定方向配向，影响配向的准确性，并最终影响图像显示效果。
发明内容
鉴于此，有必要提供一种配向准确性高的液晶显示面板。
一种液晶显示面板，包括第一基板、与该第一基板相对设置的第二基板及形成于该第一基板与该第二基板之间的液晶层；所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极；每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙；相邻的像素单元之间具有第二间隙；其特征在于：所述液晶层中与所述第一间隙及所述第二间隙对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的预倾角。
还有必要提供一种配向准确性高的液晶显示面板的制造方法。
一种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤：
提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙；
在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向；
提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向；
将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层；
提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通过，通过该光罩对该液晶层进行曝光。
还有必要提供一种配向准确性高的液晶显示面板的制造方法。
一种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤：
提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙；
在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向；
提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向；
提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通过，通过该光罩对该第一配向膜及该第二配向膜进行曝光；
将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层。
相较于现有技术，与第一、二间隙对应的液晶分子的预倾角相对与子像素电极对应的液晶分子的预倾角小，有助于克服由于第一、二间隙的存在而造成的液晶分子配向不准的问题。另，通过具有与像素电极内的第一间隙对应的透光区的光罩对液晶层进行曝光，使得与第一、二间隙对应的液晶分子进行二次配向，以抵消由于第一间隙的存在对液晶分子配向的影响，从而配向更准确。此外，通过具有与像素电极内的第一间隙对应的透光区的光罩对第一、二配向膜进行二次配向，以调节第一、二配向膜的各处的取向能力，从而抵消由于第一间隙的存在对液晶分子配向的影响，使配向更准确。
附图说明
图1为本发明第一较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
图2至图6为图1中各步骤流程的剖面示意图。
图7为图2中沿虚线区域局部放大后的俯视图。
图8为本发明第二较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
图9至图13为图8中各步骤流程的剖面示意图。
图14为本发明第三较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
图15至图19为图14中各步骤流程的剖面示意图。
图20为本发明第四较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
图21至图25为图20中各步骤流程的剖面示意图。
图26为本发明第五较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
图27至图32为图26中各步骤流程的剖面示意图。
图33为本发明第六较佳实施例所提供的液晶显示面板的制造方法的流程图。
图34至图39为图32中各步骤流程的剖面示意图。
主要元件符号说明
液晶显示面板 10
第一基板 100
像素单元 101
像素电极 110
子像素电极 111
公共电极 120
绝缘层 130
第一配向膜 140
第一侧链 141
第二基板 200
第二配向膜 210
第二侧链 211
液晶层 300
液晶分子 310
光罩 400
半色调光罩 400’
透光区 410，410’
开口 410
第一间隙 D1
第二间隙 D2
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
在液晶显示面板中，液晶分子时常不能按照预定方向取向，影响配向的准确性，并最终影响图像显示效果。经研究发现，是因为像素电极的各子像素电极之间亦存在一定的间隙。该些间隙的存在使施加电压时，该些间隙处存在偏离预定方向的电场，因液晶分子的各向异性，此交界处的液晶分子会呈现一定程度受该偏离预定方向的电场的影响而偏离预定方向，影响对液晶分子配向的准确性。例如，在IPS型液晶显示面板中，当施加电压时，该些间隙处存在偏向竖直方向的电场，使此交界处的液晶分子会呈现一定程度的竖直倾斜排列，从而偏离预定方向。此外，该些间隙使得设置于像素电极上的配向膜厚度不均，造成配向膜各处的配向能力不均，从而影响配向膜的配向准确性。为此，本发明提供一种克服上述缺陷的液晶显示面板的制造方法。需要说明的是，本发明以IPS型液晶显示面板为例进行说明，但本发明并不限于IPS型液晶显示面板。
请参照图6，本发明的液晶显示面板10包括第一基板100、第一配向膜140、第二基板200、第二配向膜210及位于该第一基板100与该第二基板200之间的液晶层300。其中，所述第一基板100与所述第二基板200相对设置，所述第一、二配向膜140、210分别位于所述第一、二基板100、200的一表面上，且所述第一、二配向膜140、210相对设置，所述液晶层300位于所述第一、二配向膜140、210之间。
所述第一基板100的一表面具有多个像素单元101，每个像素单元101设置有公共电极120及像素电极110，所述像素电极110位于所述公共电极120上方，且所述公共电极120相互绝缘，例如，所述像素电极110与所述公共电极120可通过设于二者之间的绝缘层130实现相互绝缘。每一所述像素电极110具有多个子像素电极111，该子像素电极111可呈梳型结构、之字型结构、鱼骨型结构或其他结构，本实施方式中，所述像素电极110呈梳型结构，如图7所示。相邻的子像素电极111间具有第一间隙D1。相邻的所述像素单元101的所述像素电极之间具有第二间隙D2。本实施方式中，所述公共电极120整个覆盖所述多个像素单元101。在本实施方式中，所述第一基板100为薄膜晶体管阵列基板（TFT Array Substrate）。
所述第一配向膜140覆盖整个所述第一基板100的表面且位于所述像素电极110的上方。所述第一配向膜140可为光配向膜或摩擦配向膜。其中，所述第一配向膜140包括多个第一侧链141，所述第一侧链141在配向光线的照射下或摩擦配向工艺作用下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第一侧链141相同的方向排列。本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
所述第二配向膜210覆盖整个所述第二基板200的表面。所述第二配向膜210可为光配向膜或摩擦配向膜。所述第二配向膜210包括多个第二侧链211，所述第二侧链211在配向光线的照射下或摩擦工艺作用下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第二侧链211相同的方向排列。在本实施方式中，所述第二基板200为对向基板（Opposite Substrate），所述第二配向膜210为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
所述液晶层300包括多个液晶分子310及多个以掺杂的形式形成于所述液晶层300中的反应性单体（Reactive Mesogen，RM）（未标示），用于辅助稳定配向。所述第一基板100的第一配向膜140与所述第二基板200的第二配向膜210面对面贴合，从而将所述液晶层300夹设于所述第一基板100及所述第二基板200之间。更明确而言，所述液晶层300位于所述第一配向膜140及所述第二配向膜210之间。与所述子像素电极111对应的所述液晶分子310呈第一预倾角（未标示）设置，与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的所述液晶分子310呈第二预倾角（未标示）设置，所述第二预倾角小于所述第一预倾角。
当对所述液晶层300施加电压时，所述第一间隙D1及所述第二间隙D2的存在使得与其对应的区域产生趋向于竖直方向的电场，而其他区域产生水平电场，故与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子在电场的作用下扭转的角度将大于其他区域的液晶分子扭转的角度。但由于与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子310的所述第二预倾角较小，从而能够通过调节所述第一预倾角与所述第二预倾角之间的差值，使得施加电压时，所述液晶层300中各处的液晶分子310扭转后的倾斜角度刚好相等，进而改善所述液晶显示面板10的显示效果。
图1为本发明第一较佳实施例所提供的液晶显示面板10的制造方法的流程图，该方法包括如下步骤：
步骤S101，如图2所示，提供第一基板100，所述第一基板100的一表面具有多个像素单元101，每个像素单元101设置有多个像素电极110，每个像素电极110具有至少两个子像素电极111，相邻的子像素电极111之间具有第一间隙。
具体地，每个像素单元101设置有公共电极120及像素电极110，所述像素电极110位于所述公共电极120上方，且所述公共电极120相互绝缘，例如，所述像素电极110与所述公共电极120可通过设于二者之间的绝缘层130实现相互绝缘。每一所述像素电极110具有多个子像素电极111，该子像素电极111可呈梳型结构、之字型结构、鱼骨型结构或其他结构，本实施方式中，所述像素电极110呈梳型结构，如图7所示。相邻的子像素电极111间具有第一间隙D1。相邻的所述像素单元101的所述像素电极之间具有第二间隙D2。本实施方式中，所述公共电极120整个覆盖所述多个像素单元101。在本实施方式中，所述第一基板100为薄膜晶体管阵列基板（TFT Array Substrate）。
步骤S102，如图3所示，在所述第一基板100上形成覆盖所述像素电极110的一第一配向膜140，并通过配向光线对所述第一配向膜140进行曝光配向。
具体地，所述第一配向膜140为光配向膜。所述第一配向膜140覆盖整个所述第一基板100的表面且位于所述像素电极110的上方。其中，所述第一配向膜140包括多个第一侧链141，所述第一侧链141在配向光线的照射下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第一侧链141相同的方向排列。其中，所述配向光线为紫外（Ultraviolet，UV）光。在本实施方式中，所述配向光线波长不超过400nm。所述配向光线以第一预倾角度（未标示），例如2度，照射该第一配向膜140，使所述第一配向膜140中的第一侧链141在所述配向光线的作用下集体倾斜至与所述第一预倾角度相同的角度。本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
步骤S103，如图4所示，提供第二基板200，在所述第二基板200上形成一第二配向膜210，并通过配向光线对所述第二配向膜210进行曝光配向。
具体地，所述第二配向膜210为光配向膜。所述第二配向膜210覆盖整个所述第二基板200的表面。所述第二配向膜210包括多个第二侧链211，所述第二侧链211在配向光线的照射下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第二侧链211相同的方向排列。所述配向光线以与所述第一配向膜140相同的所述第一预倾角度照射该第二配向膜210，使所述第二配向膜210中的第二侧链211在所述配向光线的作用下集体倾斜至与所述第一预倾角度相同的角度。在本实施方式中，所述第二基板200为对向基板（Opposite Substrate），所述第二配向膜210为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜，所述配向光线为紫外（Ultraviolet，UV）光，且所述配向光线波长不超过400nm。
需要说明的是，形成所述第一配向膜140及形成所述第二配向膜210可于同一流水线中进行亦可于不同流水线中分别进行。此外，对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行配向的工序亦可于同一流水线中进行或于不同流水线中进行。故，上述步骤S103还可以与步骤S102同时进行或在步骤S101之前进行。
步骤S104，如图5所示，将液晶形成于所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成液晶层300。
具体而言，待对所述第一向膜140及该第二配向膜210的曝光配向工艺完成后，使该第一配向膜140及该第二配向膜210固化，然后将液晶滴注于所述第一配向膜140表面并形成一液晶层300，可以理解的是，液晶也可以滴注于所述第二配向膜210表面。所述液晶层300包括多个液晶分子310及多个以掺杂的形式形成于所述液晶层300中的反应性单体（Reactive Mesogen，RM）（未标示），用于辅助稳定配向。待液晶滴注完成后将第一基板100与第二基板200进行对贴，所述第一基板100的第一配向膜140与所述第二基板200的第二配向膜210面对面贴合，从而将所述液晶层300夹设于所述第一基板100及所述第二基板200之间。更明确而言，所述液晶层300位于所述第一配向膜140及所述第二配向膜210之间。
步骤S105，如图6所示，提供一光罩400，该光罩400具有对应所述第一间隙D1的开口410，光线可从该开口410通过，通过该光罩400对该液晶层30进行曝光，得到所述液晶显示面板10。
曝光得到具体而言，该光罩400具有分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应且贯穿所述光罩400的多个开口410，该多个开口410形成多个使光线可穿过的透光区410。通过该光罩400使用配向光线（例如紫外光）对该第二基板200的外表面进行曝光，从而实现对夹设于所述第一基板100与所述第二基板200之间的所述液晶层300进行曝光配向。可以理解，也可以对所述第一基板100的外表面进行曝光。
此过程中，由于所述多个开口410分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应，使得与所述第二间隙D2及所述第一间隙D1对应的液晶分子310才被曝光。本实施方式中，被曝光的区域的液晶分子310以第二预倾角（未标示）倾斜，而未被曝光的区域的液晶分子310以所述第一预倾角倾斜。该第二预倾角小于该第一预倾角，本实施例中，所述第一预倾角为2度，所述第二预倾角小于1度，从而呈所述第二预倾角的液晶分子呈大致与所述第一基板100相互平行的姿态。
当对所述液晶层300施加电压时，所述第一间隙D1及所述第二间隙D2的存在使得与其对应的区域产生趋向于竖直方向的电场，而其他区域产生水平电场，故与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子在电场的作用下扭转的角度将大于其他区域的液晶分子扭转的角度。但由于与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子310的第二预倾角较小，可通过调节对所述液晶层300曝光的时间、光照强度或配向光入射角度等方式，调节所述第二预倾角的大小，使得施加电压时，所述液晶层300中各处的液晶分子扭转后的倾斜角度刚好相等。
图8为本发明第二较佳实施例所提供的液晶显示面板10的制造方法的流程图。为方便说明，本实施方式中之元件部分沿用前述元件标号。该方法包括如下步骤：
步骤S201，如图9所示，提供第一基板100，所述第一基板100的一表面具有多个像素单元101，每个像素单元101设置有多个像素电极110，每个像素电极110具有至少两个子像素电极111，相邻的子像素电极111之间具有第一间隙。
具体地，每个像素单元101设置有公共电极120及像素电极110，所述像素电极110位于所述公共电极120上方，且所述公共电极120相互绝缘，例如，所述像素电极110与所述公共电极120可通过设于二者之间的绝缘层130实现相互绝缘。每一所述像素电极110具有多个子像素电极111，该子像素电极111可呈梳型结构、之字型结构、鱼骨型结构或其他结构，本实施方式中，所述像素电极110呈梳型结构，如图7所示。相邻的子像素电极111间具有第一间隙D1。相邻的所述像素单元101的所述像素电极之间具有第二间隙D2。本实施方式中，所述公共电极120整个覆盖所述多个像素单元101。在本实施方式中，所述第一基板100为薄膜晶体管阵列基板（TFT Array Substrate）。
步骤S202，如图10所示，在所述第一基板100上形成覆盖所述像素电极110的一第一配向膜140，并通过配向光线对所述第一配向膜140进行曝光配向。
具体地，所述第一配向膜140为光配向膜。所述第一配向膜140覆盖整个所述第一基板100的表面且位于所述像素电极110的上方。其中，所述第一配向膜140包括多个第一侧链141，所述第一侧链141在配向光线的照射下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第一侧链141相同的方向排列。其中，所述配向光线为紫外（Ultraviolet，UV）光。在本实施方式中，所述配向光线波长不超过400nm。所述配向光线以第一预倾角度（未标示），例如2度，照射该第一配向膜140，使所述第一配向膜140中的第一侧链141在所述配向光线的作用下集体倾斜至与所述第一预倾角度相同的角度。本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
步骤S203，如图11所示，提供第二基板200，在所述第二基板200上形成一第二配向膜210，并通过配向光线对所述第二配向膜210进行曝光配向。
具体地，所述第二配向膜210为光配向膜。所述第二配向膜210覆盖整个所述第二基板200的表面。所述第二配向膜210包括多个第二侧链211，所述第二侧链211在配向光线的照射下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第二侧链211相同的方向排列。所述配向光线以与所述第一配向膜140相同的所述第一预倾角度照射该第二配向膜210，使所述第二配向膜210中的第二侧链211在所述配向光线的作用下集体倾斜至与所述第一预倾角度相同的角度。在本实施方式中，所述第二基板200为对向基板（Opposite Substrate），所述第二配向膜210为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜，所述配向光线为紫外（Ultraviolet，UV）光，且所述配向光线波长不超过400nm。
需要说明的是，形成所述第一配向膜140及形成所述第二配向膜210可于同一流水线中进行亦可于不同流水线中分别进行。此外，对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行配向的工序亦可于同一流水线中进行或于不同流水线中进行。故，上述步骤S203还可以与步骤S202同时进行或在步骤S201之前进行。
步骤S204，如图12所示，如图5所示，将液晶形成于所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成液晶层300。
具体而言，待对所述第一向膜140及该第二配向膜210的曝光配向工艺完成后，使该第一配向膜140及该第二配向膜210固化，然后将液晶滴注于所述第一配向膜140表面并形成一液晶层300，可以理解的是，液晶也可以滴注于所述第二配向膜210表面。所述液晶层300包括多个液晶分子310及多个以掺杂的形式形成于所述液晶层300中的反应性单体（Reactive Mesogen，RM）（未标示），用于辅助稳定配向。待液晶滴注完成后将第一基板100与第二基板200进行对贴，所述第一基板100的第一配向膜140与所述第二基板200的第二配向膜210面对面贴合，从而将所述液晶层300夹设于所述第一基板100及所述第二基板200之间。更明确而言，所述液晶层300位于所述第一配向膜140及所述第二配向膜210之间。
步骤S205，如图13所示，提供一半色调光罩400’，该半色调光罩400’具有对应所述第一间隙D1的透光区410’，至少部分光线可从该透光区410’通过，通过该半色调光罩400’对该液晶层30进行曝光，得到所述液晶显示面板10。
具体而言，该半色调光罩400’分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应的区域的厚度较其他区域薄，该些区域的光透过率大于其他区域的光透过率，使得至少有部分光线可穿过，该些厚度较薄的区域形成多个使部分光线可穿过的透光区410’。通过该半色调光罩400’使用配向光线（例如紫外光）对该第二基板200的外表面进行曝光，从而实现对夹设于所述第一基板100与所述第二基板200之间的所述液晶层300进行曝光配向。可以理解，也可以对所述第一基板100的外表面进行曝光。
此过程中，由于所述透光区410’与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应，使得与所述第二间隙D2及所述第一间隙D1对应的液晶分子310才被曝光。本实施方式中，被曝光的区域的液晶分子310以第二预倾角（未标示）倾斜，而未被曝光的区域的液晶分子310以所述第一预倾角倾斜。该第二预倾角小于该第一预倾角，本实施例中，所述第一预倾角为2度，所述第二预倾角小于1度，从而呈所述第二预倾角的液晶分子呈大致与所述第一基板100相互平行的姿态。
当对所述液晶层300施加电压时，所述第一间隙D1及所述第二间隙D2的存在使得与其对应的区域产生趋向于竖直方向的电场，而其他区域产生水平电场，故与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子在电场的作用下扭转的角度将大于其他区域的液晶分子扭转的角度。但由于与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子310的第二预倾角较小，可通过调节对所述液晶层300曝光的时间、光照强度或配向光入射角度等方式，调节所述第二预倾角的大小，使得施加电压时，所述液晶层300中各处的液晶分子扭转后的倾斜角度刚好相等。
图14为本发明第三较佳实施例所提供的液晶显示面板10的制造方法的流程图。为方便说明，本实施方式中之元件部分沿用前述元件标号。该方法包括如下步骤：
步骤S301，如图15所示，提供第一基板100，所述第一基板100的一表面具有多个像素单元101，每个像素单元101设置有多个像素电极110，每个像素电极110具有至少两个子像素电极111，相邻的子像素电极111之间具有第一间隙。
具体地，每个像素单元101设置有公共电极120及像素电极110，所述像素电极110位于所述公共电极120上方，且所述公共电极120相互绝缘，例如，所述像素电极110与所述公共电极120可通过设于二者之间的绝缘层130实现相互绝缘。每一所述像素电极110具有多个子像素电极111，该子像素电极111可呈梳型结构、之字型结构、鱼骨型结构或其他结构，本实施方式中，所述像素电极110呈梳型结构，如图7所示。相邻的子像素电极111间具有第一间隙D1。相邻的所述像素单元101的所述像素电极之间具有第二间隙D2。本实施方式中，所述公共电极120整个覆盖所述多个像素单元101。在本实施方式中，所述第一基板100为薄膜晶体管阵列基板（TFT Array Substrate）。
步骤S302，如图16所示，在所述第一基板100上形成覆盖所述像素电极110的一第一配向膜140，并通过摩擦工艺对该第一配向膜140进行摩擦配向。
其中，所述第一配向膜140为摩擦配向膜，所述第一配向膜140覆盖整个所述第一基板100的表面且位于所述像素电极110的上方。具体地，以表面附有毛布的滚筒（未标示）对该第一配向膜140进行滚动摩擦，该滚筒以与所述第一基板100移动的方向相反或者相同的方向滚动摩擦，从而使该第一配向膜140顺着摩擦方向进行配向。在本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
步骤S303，如图17所示，提供第二基板200，在所述第二基板200上形成一第二配向膜210，并通过摩擦工艺对所述第二配向膜210进行摩擦配向。
其中，所述第二配向膜210为摩擦配向膜，且所述第二配向膜210覆盖整个所述第二基板200的表面。具体地，以表面附有毛布的滚筒（未标示）对该第二配向膜210进行滚动摩擦，该滚筒以与所述第二基板200移动的方向相反或者相同的方向滚动摩擦，从而使该第二配向膜210顺着摩擦方向进行配向。在本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
需要说明的是，形成所述第一配向膜140及形成所述第二配向膜210可于同一流水线中进行亦可于不同流水线中分别进行。此外，对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行配向的工序亦可于同一流水线中进行或于不同流水线中进行。故，上述步骤S303还可以与步骤S302同时进行或在步骤S301或骤S302之前进行。
步骤S304，如图18所示，将液晶形成于所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成液晶层300。
具体而言，经过摩擦工艺后，使该第一配向膜140及该第二配向膜210固化，然后将液晶滴注于所述第一配向膜140表面并形成一液晶层300，可以理解的是，液晶也可以滴注于所述第二配向膜210表面。所述液晶层300包括多个液晶分子310及多个以掺杂的形式形成于所述液晶层300中的反应性单体（Reactive Mesogen，RM）（未标示），用于辅助稳定配向。待液晶滴注完成后将第一基板100与第二基板200进行对贴，所述第一基板100的第一配向膜140与所述第二基板200的第二配向膜210面对面贴合，从而将所述液晶层300夹设于所述第一基板100及所述第二基板200之间。更明确而言，所述液晶层300位于所述第一配向膜140及所述第二配向膜210之间。
步骤S305，如图19所示，提供一光罩400，该光罩400具有对应所述第一间隙D1的开口410，至光线可从该开口410通过，通过该光罩400对该液晶层30进行曝光，到得到所述液晶显示面板10。具体而言，该光罩400具有分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应且贯穿所述光罩400的多个开口410，该多个开口410形成光线可穿过的多个透光区410。通过该光罩400使用配向光线（例如紫外光）对该第二基板200的外表面进行曝光配向，从而实现对夹设于所述第一基板100与所述第二基板200之间的所述液晶层300进行曝光配向。可以理解，也可以对所述第一基板100的外表面进行曝光。
此过程中，由于所述多个开口410分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应，使得与所述第二间隙D2及所述第一间隙D1对应的液晶分子310才被曝光。本实施方式中，被曝光的区域的液晶分子310的预倾角小于未被曝光的区域的液晶分子310的预倾角。本实施例中，未被曝光的区域的液晶分子310为的预倾角为2度，而被曝光的区域的液晶分子310的预倾角小于1度，从而被曝光区域的液晶分子310呈大致与所述第一基板100相互平行的姿态。
当对所述液晶层300施加电压时，所述第一间隙D1及所述第二间隙D2的存在使得与其对应的区域产生趋向于竖直方向的电场，而其他区域产生水平电场，故与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子在电场的作用下扭转的角度将大于其他区域的液晶分子扭转的角度。但由于与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子的预倾角较小，可通过调节对所述液晶层300曝光的时间、光照强度或配向光入射角度等方式，调节被曝光区域的液晶分子310的预倾角的大小，使得施加电压时，所述液晶层300中各处的液晶分子扭转后的倾斜角度刚好相等。
图20为本发明第四较佳实施例所提供的液晶显示面板10的制造方法的流程图。为方便说明，本实施方式中之元件部分沿用前述元件标号。该方法包括如下步骤：
步骤S401，如图21所示，提供第一基板100，所述第一基板100的一表面具有多个像素单元101，每个像素单元101设置有多个像素电极110，每个像素电极110具有至少两个子像素电极111，相邻的子像素电极111之间具有第一间隙。
具体地，每个像素单元101设置有公共电极120及像素电极110，所述像素电极110位于所述公共电极120上方，且所述公共电极120相互绝缘，例如，所述像素电极110与所述公共电极120可通过设于二者之间的绝缘层130实现相互绝缘。每一所述像素电极110具有多个子像素电极111，该子像素电极111可呈梳型结构、之字型结构、鱼骨型结构或其他结构，本实施方式中，所述像素电极110呈梳型结构，如图7所示。相邻的子像素电极111间具有第一间隙D1。相邻的所述像素单元101的所述像素电极之间具有第二间隙D2。本实施方式中，所述公共电极120整个覆盖所述多个像素单元101。在本实施方式中，所述第一基板100为薄膜晶体管阵列基板（TFT Array Substrate）。
步骤S402，如图22所示，在所述第一基板100上形成覆盖所述像素电极110的一第一配向膜140，并通过摩擦工艺对该第一配向膜140进行摩擦配向。
其中，所述第一配向膜140为摩擦配向膜，所述第一配向膜140覆盖整个所述第一基板100的表面且位于所述像素电极110的上方。具体地，以表面附有毛布的滚筒（未标示）对该第一配向膜140进行滚动摩擦，该滚筒以与所述第一基板100移动的方向相反或者相同的方向滚动摩擦，从而使该第一配向膜140顺着摩擦方向进行配向。在本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
步骤S403，如图23所示，提供第二基板200，在所述第二基板200上形成一第二配向膜210，并通过摩擦工艺对所述第二配向膜210进行摩擦配向。
其中，所述第二配向膜210为摩擦配向膜，且所述第二配向膜210覆盖整个所述第二基板200的表面。具体地，以表面附有毛布的滚筒（未标示）对该第二配向膜210进行滚动摩擦，该滚筒以与所述第二基板200移动的方向相反或者相同的方向滚动摩擦，从而使该第二配向膜210顺着摩擦方向进行配向。在本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
需要说明的是，形成所述第一配向膜140及形成所述第二配向膜210可于同一流水线中进行亦可于不同流水线中分别进行。此外，对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行配向的工序亦可于同一流水线中进行或于不同流水线中进行。故，上述步骤S403还可以与步骤S402同时进行或在步骤S401或骤S402之前进行。
步骤S404，如图24所示，将液晶形成于所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成液晶层300。
具体而言，经过摩擦工艺后，使该第一配向膜140及该第二配向膜210固化，然后将液晶滴注于所述第一配向膜140表面并形成一液晶层300，可以理解的是，液晶也可以滴注于所述第二配向膜210表面。所述液晶层300包括多个液晶分子310及多个以掺杂的形式形成于所述液晶层300中的反应性单体（Reactive Mesogen，RM）（未标示），用于辅助稳定配向。待液晶滴注完成后将第一基板100与第二基板200进行对贴，所述第一基板100的第一配向膜140与所述第二基板200的第二配向膜210面对面贴合，从而将所述液晶层300夹设于所述第一基板100及所述第二基板200之间。更明确而言，所述液晶层300位于所述第一配向膜140及所述第二配向膜210之间。
步骤S405，如图25所示，提供一半色调光罩400’，该半色调光罩400’具有对应所述第一间隙D1的透光区410’，至少部分光线可从该透光区410’通过，通过该半色调光罩400’对该液晶层30进行曝光，得到所述液晶显示面板10。
具体而言，该半色调光罩400’分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应的区域的厚度较其他区域薄，该些区域的光透过率大于其他区域的光透过率，使得至少有部分光线可穿过，该些厚度较薄的区域形成多个使部分光线可穿过的透光区410’。通过该半色调光罩400’使用配向光线（例如紫外光）对该第二基板200的外表面进行曝光，从而实现对夹设于所述第一基板100与所述第二基板200之间的所述液晶层300进行曝光配向。可以理解，也可以对所述第一基板100的外表面进行曝光。
此过程中，由于所述多个开口410分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应，使得与所述第二间隙D2及所述第一间隙D1对应的液晶分子310才被曝光。本实施方式中，被曝光的区域的液晶分子310的预倾角小于未被曝光的区域的液晶分子310的预倾角。本实施例中，未被曝光的区域的液晶分子310为的预倾角为2度，而被曝光的区域的液晶分子310的预倾角小于1度，从而被曝光区域的液晶分子310呈大致与所述第一基板100相互平行的姿态。
当对所述液晶层300施加电压时，所述第一间隙D1及所述第二间隙D2的存在使得与其对应的区域产生趋向于竖直方向的电场，而其他区域产生水平电场，故与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子在电场的作用下扭转的角度将大于其他区域的液晶分子扭转的角度。但由于与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子的预倾角较小，可通过调节对所述液晶层300曝光的时间、光照强度或配向光入射角度等方式，调节被曝光区域的液晶分子310的预倾角的大小，使得施加电压时，所述液晶层300中各处的液晶分子扭转后的倾斜角度刚好相等。
图26为本发明第五较佳实施例所提供的液晶显示面板10的制造方法的流程图。为方便说明，本实施方式中之元件部分沿用前述元件标号。该方法包括如下步骤：
步骤S501，如图27所示，提供第一基板100，所述第一基板100的一表面具有多个像素单元101，每个像素单元101设置有多个像素电极110，每个像素电极110具有至少两个子像素电极111，相邻的子像素电极111之间具有第一间隙。
具体地，每个像素单元101设置有公共电极120及像素电极110，所述像素电极110位于所述公共电极120上方，且所述公共电极120相互绝缘，例如，所述像素电极110与所述公共电极120可通过设于二者之间的绝缘层130实现相互绝缘。每一所述像素电极110具有多个子像素电极111，该子像素电极111可呈梳型结构、之字型结构、鱼骨型结构或其他结构，本实施方式中，所述像素电极110呈梳型结构，如图7所示。相邻的子像素电极111间具有第一间隙D1。相邻的所述像素单元101的所述像素电极之间具有第二间隙D2。本实施方式中，所述公共电极120整个覆盖所述多个像素单元101。在本实施方式中，所述第一基板100为薄膜晶体管阵列基板（TFT Array Substrate）。
步骤S502，如图28所示，在所述第一基板100上形成覆盖所述像素电极110的一第一配向膜140，并通过配向光线对所述第一配向膜140进行曝光配向。
具体地，所述第一配向膜140为光配向膜。所述第一配向膜140覆盖整个所述第一基板100的表面且位于所述像素电极110的上方。其中，所述第一配向膜140包括多个第一侧链141，所述第一侧链141在配向光线的照射下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第一侧链141相同的方向排列。其中，所述配向光线为紫外（Ultraviolet，UV）光。在本实施方式中，所述配向光线波长不超过400nm。所述配向光线以第一预倾角度（未标示），例如2度，照射该第一配向膜140，使所述第一配向膜140中的第一侧链141在所述配向光线的作用下集体倾斜至与所述第一预倾角度相同的角度。本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
步骤S503，如图29所示，提供第二基板200，在所述第二基板200上形成一第二配向膜210，并通过配向光线对所述第二配向膜210进行曝光配向。
具体地，所述第二配向膜210为光配向膜。所述第二配向膜210覆盖整个所述第二基板200的表面。所述第二配向膜210包括多个第二侧链211，所述第二侧链211在配向光线的照射下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第二侧链211相同的方向排列。所述配向光线以与所述第一配向膜140相同的所述第一预倾角度照射该第二配向膜210，使所述第二配向膜210中的第二侧链211在所述配向光线的作用下集体倾斜至与所述第一预倾角度相同的角度。在本实施方式中，所述第二基板200为对向基板（Opposite Substrate），所述第二配向膜210为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜，所述配向光线为紫外（Ultraviolet，UV）光，且所述配向光线波长不超过400nm。
需要说明的是，形成所述第一配向膜140及形成所述第二配向膜210可于同一流水线中进行亦可于不同流水线中分别进行。此外，对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行配向的工序亦可于同一流水线中进行或于不同流水线中进行。故，上述步骤S503还可以与步骤S502同时进行或在步骤S501或步骤S502之前进行。
步骤S504，如图30所示，提供一光罩400，该光罩400具有对应所述第一间隙D1的透光区410，光线可从该透光区410通过，通过该光罩400对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行第二次曝光。
具体而言，分别对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行第一次曝光配向后，通过一光罩400使用配向光线对该第一配向膜140及该第二配向膜210进行第二次曝光。该光罩400上具有多个贯穿所述光罩400的多个开口410，所述多个开口410分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应，该多个开口410形成光线可穿过的多个透光区410。所述第一配向膜140及所述第二配向膜210中分别与所述开口410对应的所述第一侧链141及所述第二侧链211在所述配向光线的作用下由原来的以所述第一预倾角倾斜转换为以与第二预倾角倾斜，而其他区域的所述第一侧链141及所述第二侧链211仍以所述第一预倾角倾斜。该第二预倾角小于该第一预倾角。本实施例中，所述第一预倾角为2度，所述第二预倾角小于1度，从而呈所述第二预倾角的所述第一、二侧链141、211呈大致与所述第一基板100相互平行的姿态。需要说明的是，可对所述第一配膜140及所述第二配向膜210分别进行第二次曝光，也可以所述第一配膜140及所述第二配向膜210同时进行第二次曝光，可根据实际产线流程而调整。
在期他实施方式中，也可以选用一半色调光罩400’，如图31所示，对该第一配向膜140及该第二配向膜210进行第二次曝光。当选用半色调光罩400’时，该半色调光罩400’分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应的区域的厚度较其他区域薄，该些区域的光透过率大于其他区域的光透过率，使得至少有部分光线可穿过，该些厚度较薄的区域形成多个使部分光线可穿过的透光区410。通过该半色调光罩400’使用配向光线（例如紫外光）对该第一配向膜140及该第二配向膜210进行第二次曝光。通过第二次曝光后，与所述透光区410’对应的所述第一侧链141及所述第二侧链211以第三预倾角倾斜，而其他区域的所述第一侧链141及所述第二侧链211仍以第一预倾角倾斜。该第三预倾角小于该第一预倾角。
步骤S505，如图32所示，待第二次曝光完毕后，将液晶形成于所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成液晶层300，得到所述液晶显示面板10。
具体而言，将液晶滴注于所述第一配向膜140表面并形成一液晶层300，可以理解的是，液晶也可以滴注于所述第二配向膜210表面。所述液晶层300包括多个液晶分子310及多个以掺杂的形式形成于所述液晶层300中的反应性单体（Reactive Mesogen，RM）（未标示），用于辅助稳定配向。待液晶滴注完成后将第一基板100与第二基板200进行对贴，所述第一基板100的第一配向膜140与所述第二基板200的第二配向膜210面对面贴合，从而将所述液晶层300夹设于所述第一基板100及所述第二基板200之间。更明确而言，所述液晶层300位于所述第一配向膜140及所述第二配向膜210之间。
在所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成所述液晶层300后，所述第一配向膜140与所述第二配向膜210将对所述液晶层300中的液晶分子产生配向作用，使液晶分子按照所述第一配向膜140与所述第二配向膜210内的所述第一侧链141及所述第二侧链211的倾斜角发生取向，因而，与所述第一、二间隙D1、D2对应的液晶分子的配向角将小于其他区域的液晶分子配向角。
当对所述液晶层300施加电压时，所述第一间隙D1及所述第二间隙D2的存在使得与其对应的区域产生趋向于竖直方向的电场，而其他区域产生水平电场，故与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子在电场的作用下扭转的角度将大于其他区域的液晶分子扭转的角度。但由于与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子的预倾角较小，可通过调节对第一配向膜140及所述第二配向膜210第二次曝光的时间、光照强度或配向光入射角度等方式，调节该区域的所述第二预倾角的的大小，使得施加电压时，所述液晶层300中各处的液晶分子扭转后的倾斜角度刚好相等。
图33为本发明第六较佳实施例所提供的液晶显示面板10的制造方法的流程图。为方便说明，本实施方式中之元件部分沿用前述元件标号。该方法包括如下步骤：
步骤S601，如图34所示，提供第一基板100，所述第一基板100的一表面具有多个像素单元101，每个像素单元101设置有多个像素电极110，每个像素电极110具有至少两个子像素电极111，相邻的子像素电极111之间具有第一间隙。
具体地，每个像素单元101设置有公共电极120及像素电极110，所述像素电极110位于所述公共电极120上方，且所述公共电极120相互绝缘，例如，所述像素电极110与所述公共电极120可通过设于二者之间的绝缘层130实现相互绝缘。每一所述像素电极110具有多个子像素电极111，该子像素电极111可呈梳型结构、之字型结构、鱼骨型结构或其他结构，本实施方式中，所述像素电极110呈梳型结构，如图7所示。相邻的子像素电极111间具有第一间隙D1。相邻的所述像素单元101的所述像素电极之间具有第二间隙D2。本实施方式中，所述公共电极120整个覆盖所述多个像素单元101。在本实施方式中，所述第一基板100为薄膜晶体管阵列基板（TFT Array Substrate）。
步骤S602，如图35所示，在所述第一基板100上形成覆盖所述像素电极110的一第一配向膜140，并通过摩擦工艺对该第一配向膜140进行摩擦配向。
其中，所述第一配向膜140为摩擦配向膜，所述第一配向膜140覆盖整个所述第一基板100的表面且位于所述像素电极110的上方。所述第一配向膜140包括多个第一侧链141，所述第一侧链141在摩擦工艺的作用下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第一侧链141相同的方向排列。具体地，以表面附有毛布的滚筒（未标示）对该第一配向膜140进行滚动摩擦，该滚筒以与所述第一基板100移动的方向相反或者相同的方向滚动摩擦，从而使该第一配向膜140的所述第一侧链141顺着摩擦方向集体以一第一预倾角（未标示）倾斜。在本实施方式中，所述第一配向膜140为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
步骤S603，如图36所示，提供第二基板200，在所述第二基板200上形成一第二配向膜210，并通过摩擦工艺对所述第二配向膜210进行摩擦配向。
其中，所述第二配向膜210为摩擦配向膜，且所述第二配向膜210覆盖整个所述第二基板200的表面。所述第二配向膜210包括多个第二侧链211，所述第二侧链211在摩擦工艺的作用下沿特定方向排列从而使得与之相邻的液晶分子310按照与所述第二侧链211相同的方向排列。具体地，以表面附有毛布的滚筒（未标示）对该第二配向膜210进行滚动摩擦，该滚筒以与所述第二基板200移动的方向相反或者相同的方向滚动摩擦，从而使该第二配向膜210的所述第二侧链211顺着摩擦方向集体以与所述第一侧链141相同的所述第一预倾角倾斜。在本实施方式中，所述第二配向膜210为聚酰亚胺（Polyimide，PI）膜。
需要说明的是，形成所述第一配向膜140及形成所述第二配向膜210可于同一流水线中进行亦可于不同流水线中分别进行。此外，对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行配向的工序亦可于同一流水线中进行或于不同流水线中进行。故，上述步骤S603还可以与步骤S602同时进行或在步骤S601或骤S602之前进行。
步骤S604，如图37所示，提供一光罩400，该光罩400具有对应所述第一间隙D1的透光区410，光线可从该透光区410通过，通过该光罩400对所述第一配向膜140及所述第二配向膜210进行曝光。
具体而言，待摩擦配向工艺完成后，通过一光罩400使用配向光线对该第一配向膜140及该第二配向膜210进行曝光。该光罩400上具有多个贯穿所述光罩400的多个开口410，所述多个开口410分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应，该多个开口410形成光线可穿过的多个透光区410。所述第一配向膜140及所述第二配向膜210中分别与所述开口410对应的所述第一侧链141及所述第二侧链211在所述配向光线的作用下由原来的以所述第一预倾角倾斜转换为以与第二预倾角（未标示）倾斜，而其他区域的所述第一侧链141及所述第二侧链211仍以所述第一预倾角倾斜。该第二预倾角小于该第一预倾角。
本实施例中，所述第一预倾角为2度，所述第二预倾角小于1度，从而呈所述第二预倾角的所述第一、二侧链141、211呈大致与所述第一基板100相互平行的姿态。需要说明的是，可对所述第一配膜140及所述第二配向膜210分别进行第二次曝光，也可以所述第一配膜140及所述第二配向膜210同时进行第二次曝光，可根据实际产线流程而调整。
在期他实施方式中，也可以选用一半色调光罩400’，如图38所示，通过该半色调光罩400’对该第一配向膜140及该第二配向膜210进行曝光。该半色调光罩400’分别与所述多个第一间隙D1及所述多个第二间隙D2对应的区域的厚度较其他区域薄，该些区域的光透过率大于其他区域的光透过率，使得至少有部分光线可穿过，该些厚度较薄的区域形成多个使部分光线可穿过的透光区410’。通过该半色调光罩400’使用配向光线（例如紫外光）对该第一配向膜140及该第二配向膜210进行曝光后，与所述多个透光区410’对应的所述第一侧链141及所述第二侧链211的预倾角减小。
步骤S605，如图39所示，待曝光完毕后，将液晶形成于所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成液晶层300，得到所述液晶显示面板10。
具体而言，将液晶滴注于所述第一配向膜140表面并形成一液晶层300，可以理解的是，液晶也可以滴注于所述第二配向膜210表面。所述液晶层300包括多个液晶分子310及多个以掺杂的形式形成于所述液晶层300中的反应性单体（Reactive Mesogen，RM）（未标示），用于辅助稳定配向。待液晶滴注完成后将第一基板100与第二基板200进行对贴，所述第一基板100的第一配向膜140与所述第二基板200的第二配向膜210面对面贴合，从而将所述液晶层300夹设于所述第一基板100及所述第二基板200之间。更明确而言，所述液晶层300位于所述第一配向膜140及所述第二配向膜210之间。
在所述第一配向膜140与所述第二配向膜210之间以形成所述液晶层300后，所述第一配向膜140与所述第二配向膜210将对所述液晶层300中的液晶分子产生配向作用，使液晶分子按照所述第一配向膜140与所述第二配向膜210内的所述第一侧链141及所述第二侧链211的倾斜角发生取向，因而，与所述第一、二间隙D1、D2对应的液晶分子的配向角将小于其他区域的液晶分子配向角。
当对所述液晶层300施加电压时，所述第一间隙D1及所述第二间隙D2的存在使得与其对应的区域产生趋向于竖直方向的电场，而其他区域产生水平电场，故与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子在电场的作用下扭转的角度将大于其他区域的液晶分子扭转的角度。但由于与所述第一间隙D1及所述第二间隙D2对应的区域的液晶分子的预倾角较小，可通过调节对第一配向膜140及所述第二配向膜210第二次曝光的时间、光照强度或配向光入射角度等方式，调节该区域的所述第二预倾角的的大小，使得施加电压时，所述液晶层300中各处的液晶分子扭转后的倾斜角度刚好相等。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (17)

1.一种液晶显示面板，包括第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板及形成于该第一基板与该第二基板之间的液晶层；所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极；每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的子像素电极之间具有第一间隙；相邻的像素单元之间具有第二间隙；其特征在于：该液晶显示面板还包括覆盖所述像素单元的第一配向膜，以及覆盖整个第二基板的第二配向膜，所述第一配向膜与所述第二配向膜相对设置于所述液晶层的两侧，所述第一配向膜包括多个第一侧链，所述第二配向膜包括多个第二侧链，在垂直于所述第一基板与所述第二基板的方向上，所述像素电极对应区域中所述第一侧链与所述第二侧链具有相同的倾斜角度，所述第一间隙及所述第二间隙对应区域中所述第一侧链与所述第二侧链具有相同的倾斜角度，所述液晶层中与所述第一间隙及所述第二间隙对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的预倾角。
2.一种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤：
提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的所述子像素电极之间具有第一间隙；
在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向，以使第一配向膜中的多个第一侧链保持相同的第一预倾角；
提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向，以使第二配向膜中的多个第二侧链保持相同的第一预倾角；
将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层；
提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通过，通过该光罩对该液晶层进行曝光，经过曝光后，所述液晶层中与所述透光区对应的液晶分子的预倾角小于曝光前的预倾角。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，相邻的像素单元之间具有第二间隙，所述光罩进一步具有与所述第二间隙对应的透光区。
4.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述透光区为贯穿所述光罩的开口。
5.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该第二配向膜均为光配光膜。
6.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该第二配向膜均为摩擦配向膜。
7.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述光罩为一半色调光罩，部分光线可穿过所述透光区。
8.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述像素电极呈梳型结构。
9.如权利要求2所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述第一基板为薄膜晶体管阵列基板，所述第二基板为对向基板。
10.一种液晶显示面板的制造方法，该方法包括步骤：
提供一第一基板，所述第一基板包括多个像素单元，每个像素单元设置有像素电极，每一所述像素电极具有至少两个子像素电极，相邻的所述子像素电极之间具有第一间隙；
在该第一基板上形成覆盖所述像素电极的第一配向膜，并对该第一配向膜进行配向，以使第一配向膜中的多个第一侧链保持相同的第一预倾角；
提供一第二基板，在第二基板上形成一第二配向膜，并对该第二配向膜进行配向，以使第二配向膜中的多个第二侧链保持相同的第一预倾角；
提供一光罩，该光罩具有对应所述第一间隙的透光区，至少部分光线可从该透光区通过，通过该光罩对该第一配向膜及对该第二配向膜进行曝光，以使曝光区域对应的第一侧链与第二侧链的倾斜角度由第一预倾角变为第二预倾角；
将液晶形成于所述第一配向膜与所述第二配向膜之间以形成液晶层，所述液晶层中与所述透光区对应的液晶分子的预倾角小于与所述子像素电极对应的液晶分子的预倾角。
11.如权利要求10所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，相邻的像素单元之间具有第二间隙，所述光罩进一步具有与所述第二间隙对应的透光区。
12.如权利要求10所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述透光区为贯穿所述光罩的开口。
13.如权利要求10所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该第二配向膜均为光配光膜。
14.如权利要求10所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，该第一配向膜及该第二配向膜均为摩擦配向膜。
15.如权利要求10所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述光罩为一半色调光罩，部分光线可穿过所述透光区。
16.如权利要求10所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述像素电极呈梳型结构。
17.如权利要求10所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述第一基板为薄膜晶体管阵列基板，所述第二基板为对向基板。
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