TW436529B - High transmittance low emissivity coated articles and methods for making the same - Google Patents

Description

436529 五、發明説明（彳) A7 B7 經濟.邱中夬標準局員工消费合作社印製 免明之背景 _1 .發明之領域 本發明概括地係關提供高透光與低發射率複層膜或塗 料、塗覆以等膜或塗料之物件及更明確地係關由金屬與金 屬氧化物所製之此類塗料或膜並置於透明基質上。 _2 .現時能用的技藝研討 高透光、低發射率膜或塗料一般包含反射的金屬膜或層 供底紅外反射本領與低發射率，夾在介電、防反射的金屬 氧化物的膜或層間以減少可見的反射比。此等複層塗料典 型由陰極濺散、特別磁控管濺散製造。 吉勒芮的美國專利4,610,771號提供一種鋅-錫合金氧化物膜 成分以及銀與鋅-錫合金氧化物層之複層膜作高透射、低發 射率塗層用。此氧化膜可有錫酸鋅(Zn2Sn〇4)之成分，但亦可 自其正確的成分變化。 芬萊的美國專利4,806,220號發表一種複層膜塗料適作高溫 處理。此塗料之一型在一厚度比普通大、最大至5〇埃厚的 反射金屬層上與下均用金屬底層如鈦底層。 可能要求製造高透光膜與物件塗覆此項薄膜使其有最小 發射率、低電阻及改進的抗剪強度，發揮耐氣候性能經得 起高溫加工，可免用飯底層於反射金屬層下。或者在含有 不止一層反射金屬的情況中可望在任一反射金屬層之底質 近側附近免用鈦底。 發明之概要 本發明針對複層高透射、低發射率塗層在透明底質上凸 -4- 請 先 鬩 讀 面 之 注 意 項 再 填 1' 本 頁

訂 v 私紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) 格（210X297公嫠） 436529 A7 B7 五、發明説明（2 ) 經濟部十央標準局員工消費合作社印製 顯一種防反射的基質於一金屬反射膜的近基質侧上有至少 二部分，即金屬反射膜的侧面與基質成平行面對關係。二 部分之第一邯分與金屬膜接觸。此第一膜部分有結晶性使 金屬膜放置成低電阻結構。二膜部分的第二部支承第一部 分’係一更耐化學及熱之較佳非晶物質。本發明包括有單 一金屬反射膜的塗層與有複數金屬反射膜的塗層二種，在 其情況中能利用本發明新穎基膜作複層金屬膜之僅一層、 幾層或其全部。 較詳言之，本發明導向一種高透光、低發射率的塗覆物 件，有一透明的非金屬底質；一介電防反射基膜附著於底 質上，基膜含結晶金屬結觸的膜部與一支承膜部，其中支 承膜部覆蓋底質並可與其接觸，其中支承膜部含結晶接觸 金屬膜部分以外之一種物質；一種金屬反射膜附著於基膜 的結晶接觸金屬之膜部；一種底膜附著在金屬反射膜上； 與一種介電防反射膜附著於底膜上。 —本發明另一具體例中一種外面保護塗層附著於介電的抗 反射膜。 本發明一較佳具體例中透明的非金屬底質爲玻璃，支承 膜部分係一錫酸鋅膜，結晶接觸金屬膜部分爲氧化鋅膜； 金屬反射膜爲銀膜，底膜附著係成鈦金屬，介電防反射膜 爲錫酸鋅膜，及外面保護套層係氧化鈦膜。 本發明的塗覆物件亦凸顯與上述基膜組合或獨立的一種 新發現、特別有利的次範圍之較厚底層或膜如前引參考之 芬萊美國專利4,806,220號。 5- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 請 先 鬩 之 注 意 項 再 填 q 頁 訂 43 65 29 a? 五、發明説明' · - 命名與測量技術 提及此處結晶平面時括號、即{}内平面標#之表示爲形 成所，f平面之資料。此一規則在例如柯立第《χ_射線繞射 原理 Addison，Wesley 1956 版 ’ 37-42 頁中解釋。 此處氣體百分率係以流量（體積/單位時間，SCCM)爲基 礎。 本發明複層塗覆之各層發表厚度在此根據二種不同程序 測定，梘其層是否介電層或金屬層而定。 介電層或膜之厚度藉助商品縱斷面畫針（後文稱作’’針畫 法，）之助測定如下〇每層放置前在玻璃底質上以一丙酮能 溶的印墨繪一狹線。放置塗料後線與覆置其上的塗料部分 用丙酮潤濕表面並以實驗室軟紙輕拭除去。遂在玻璃面上 產生一明確的分步，其高度等於層之厚度，能以剖面儀測 出。 二種潛*在復雜性使測量介電層厚度用針畫法較不利於測 量薄金屬膜之厚度。首先，金屬如鈦與銀袜拭時易磨損。 其次’金屬自眞空室移出時易與周圍大氣反應《若經針畫 法作厚度測量、此二現象皆能產生重大錯誤。 另一選擇，此處用一稱作"XRF”法之方法測量金屬層。 XRF法用一校準的X-射線螢光儀器測量每單位面積塗層的 金屬重量（即A g/cm2)。XRF法作假定金屬膜與其鬆散形式同 樣稠密。以此假設測得金屬膜之每單位面積重量後用其體 密度轉變爲埃計厚度。 爲完全故，須知濺散的金屬膜常比其相當鬆散金屬不 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 436529 A7 B7 經濟部中央標準局男工消費合作衽印製 五、發明説明（4 ) 密，因而上述假設不常精密正確，XRF法在有些情況中由於 此一密度變化而低估金屬膜的厚度。因此，薄金屬膜每單 位面積重量g/cm2)之起始測量比根據體密度的相當厚度轉 化更爲準確。但XRF法提供一種有效的近似法以比較塗料内 各層的相對厚度。此處所列厚度公差代表標準測量偏差之 二倍。 圖之簡述 圖1 A係一點繪圖表現底厚度對一有非晶錫酸鋅的複層膜 接觸銀底質近側於熱處理前與後之剪切抵抗及可見光透射 率的影響。 圖1 B爲一點繪圖表現底厚度對一有結晶氧化鋅的複層膜 接觸銀底質近側於熱處理前與後之剪切抵抗及可見光透射 率的影響。. 圖2 A係一點繪圖表現底厚度對一有非晶錫酸鋅的複層膜 接觸銀底質近侧於熱處理前與後之剪切抵抗及片電阻的影 響。 ' 圖2 B爲一點燴圖表現底厚度對一有結晶氧化鋅的複層膜 接觸銀底質近侧於熱處理前與後之剪切抵抗及片電阻的影 響。 圖3係一點燴圖比較霧率對有結晶氧化鋅接觸銀底質近側 的複層膜及有非晶鍚酸鋅接觸銀底質近侧的複層膜之底 厚。 圖4A係一點繪圖表現表j試樣£加熱前與加熱後入射角χ-射線繞射光譜’其中氧化鋅金屬接觸膜部分不存在而錫酸 -7- 請 先 閲 背 之 注 項 頁 訂 jr β 冬紙珉尺度適用中國國家標準（CNS) { 2!0x2-9-7^ 五、發明説明（5 ) 436529 A7 B7 經濟部t央標準f工消費合作社印製 鋅與銀接觸。 圖4B爲一點繪圖表現表1試樣F加熱前與加熱後入射角又_ 射線繞射光譜，其中有氧化鋅金屬接觸膜部分存在並與銀 接觸。圖4B〈光||亦顧示表1内試樣AiD的光譜特徵。 圏5A係加熱前二變數設計實驗結果的表面點繪圖，表現 氧化鋅金屬接觸膜部分之不同厚度及鈦底膜之不同厚度對 塗層電阻的影響。 圖5B爲圖5A二變數實驗的表面點繪圖，顯示加熱後结 果。 圖6A係圖9試樣G加熱前一掠入角X-射線繞射光譜之點 繪表示氧濃度對一 50%氬與50%氧氛圍内澱積的氧化鋅金屬 接觸膜部分之平面指數形成的影響。 圖爲圖9試樣H加熱前一掠入角χ_射線繞射光譜之點繪 表示氧濃度對一肋％氧與20%氬氛圍内澱積的氧化鋅金屬接 觸膜部分之平面指數形成的影響。 圖6C係圖9試樣I加熱前一掠入角χ_射線繞射光譜之點繪 表不一非晶金屬接觸膜部分對一 65%氧與35%氬氛圍内澱積 的錫酸鋅金屬接觸膜部分之平面指數形成的影響。 圖6 D爲圖9試樣J加熱前一掠入角；X _射線繞射光譜之點 繪’係在圖6Β點繪實質全同情況下形成並證實圖6Β點繪之 結果。 圖7 Α爲銀{in}，{200}與{22〇}平面之尖峰強度對一非晶錫 酸鋅金屬接觸膜部分的銀層厚度之點繪，包括二等多項式 配合用迴歸分析測定的數據。 _ 8 - 本紙張尺度適用中國固家襟準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 裝-- (請先聞讀背面之注意事項再4ί寫本页) i 訂 43 65 29 a? ______B7__ 五、發明説明（6 ) 圖7B係銀{111}，{200}與{220}平面之尖峰強度對一氧化鋅 金屬接觸膜部分的銀層厚度之點繪，包括二等多項式配合 用迴歸分析測定的數據。 圖8爲錫酸鋅金屬接觸膜部分及一對氧化鋅金屬接觸膜部 分之電阻率對銀層厚度的點繪。 圖9係試樣G-J的表，顯示膜結構、殿積條件、電阻與發 射率參數等。 較佳具體例之詳細説明 二部基膜： 本發明之基膜展現某些特殊性質。舉例其中有一原子排 列有助於澱積低電阻、金屬的反射膜於其上面。另外亦發 揮化學與熱穩定性。 根據本發明此一期盼的特性組合係由一至少有二部分的 基膜達致，一金屬結束膜部分有結晶作用引導性，與一支 承膜部分提供金屬接觸膜部分之穩定基礎》 本發明的塗覆物件包括一種二部防反射基膜製作於金屬 反射膜之底質近侧上。二膜部中第一部分稱作《金屬接觸 膜部分’’與金屬膜接觸。此第一部分之材料有結晶性質使 原子形成金屬膜，其澱積方式有助於金屬膜内低電阻程度 之形成。二部之第二部分稱作《支承部分”，支承第一部 分。第二部分化學上比第一部分更堅牢，與第一部比較、 宜係非晶物質。本發明能實用作有單一金屬反射膜的塗層 及作有多重金屬反射膜的塗潛二者。本發明之基膜在其情 況中能利用單一之多重金屬膜、作幾項或作其全部用。 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標李（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部中央梯準局舅工消費合作社印製 4365 29 a? ——-—__ B7 五、發明説明（7 ) 金屬接觸膜部分 金屬接觸膜部分選擇係根據其使金屬反射膜原予澱積成 以低電阻程度的方式爲特性之能力。金屬反射膜與金屬接 觸膜部分相互統合，意即金屬反射膜的低電阻程度與金屬 接觸膜部分之特別構造性質聯合。例如金屬反射膜的結晶 構造發揮與金屬接觸膜部分之定位關聯。依次可得較大顆 粒，或者換S之較小顆粒邊界面積，或者膜内較少其他電 子散射瑕斑。 通常選作金屬接觸膜部分的材料須視金屬反射膜本身而 疋.，播論此金屬反射膜係例如金、銅、或銀。 在其中金屬反射膜係銀之情況中，基膜金屬接觸部分之 適當材料例爲氧化鋅。澱積氧化鋅時務必愼選製法參數製 備有^宜結晶性或有利完成銀原予澱積之優先結晶成長定 向之氧L達成此點之—途爲在濺散—鑄鋅金屬目標期 間須有氧量超過氬。 .基膜金屬接觸部分通用材料之另—例係由適當成分的磁 碑濺散之氧化鋅鋁。基膜金屬接觸部分適宜材料之又一例 爲氧化銦錫。 支承膜部分： 支承膜部分可分爲支部，有至少一部宜呈抗化學及耐熱 較佳介電物質。適宜材料爲非晶濺散的鋅與錫氧化物如前 引資料美國專利4,610,771號内報告者，此處引用參考。 亦可能凝積其他介電膜如錫或鉍之非晶氧化物。作高透 射與低發射用途、此項介電膜在光譜之可見及紅外部分較 10- 本紙張A度逋用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

經濟部中央標準局員工消費合作社印製 43 65 29 a? _ B7 五、發明説明（8 ) 佳不吸收。 三者之間以鋅與錫的氧化物（亦在此稱作"錫酸鋅”）爲 佳，因其較強結合於底質及因其耐化學與耐熱性較大。 聯合的金屬接觸部分輿去汆膜韶分 徐能選擇有前述所須結晶與非晶性質之基膜部分外，亦 必要其能澱積得適當厚度及折射率。舉例，基膜部分必須 黏附於其相鄭物質具充分強度能耐其後輸送、製造作業與 使用’如裝k於多框窗内運用。厚度及折射率影響膜之防 反射性質爲技術上所週知者。 鍚酸鋅之化學耐久性優於氧化鋅與氧化錫二者。此點在 F.H.吉勒瑞的工作證實。錫酸鋅性質的探索亦經米納米等在 射頻磁控濺散所製透明錫酸鋅導電膜之性質”，眞空科 技A期刊13卷3期（1995)第1095-99頁内報告。因此由於錫酸鋅 的耐化學性較大，其中基膜之支承膜部係錫酸鋅及基膜之 金屬接觸膜部爲氧化鋅，期望儘量加大錫酸鋅層厚度供基 Μ的最大耐化學性，並儘量降低氧化鋅層厚度，祇須餘留 足夠厚度保持其能力使金屬反射膜澱積其上形成其低電阻 程度如前解釋。 本發明基膜在底質上之一較佳具體例經膜部順序製備： 底質丨鋅與錫之氧化物丨鋅之氧化物 其中：鋅的氧化物係金屬接觸膜部分而鋅與錫的氧化物爲 支承膜部分。因爲僅在金屬接觸膜表面附近之原子對金屬 反射膜之堆積原予有影響，原則上金屬接觸膜部分的厚度 應儘量小至獲得前文解釋的金屬膜電阻期望降低所必要者 -11 - 本紙張妓適财關家標準（CNS) Α4規格f 2丨

436529五、發明説明（9 ) A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 因而可儘量加大更能耐化學及耐熱的支承膜部分。不過， 了解倘結晶金屬接觸膜部分本身具充分耐久性或者另外受 其上層充分保護例如由較遠底質防反射層或後文將述的保 護外套等，則全部基.塗層或其大部分可由此材料構成，將 於實例3内例證。 舉例，金屬接觸膜部分可有2〇_3()埃範園或更低之最小厚 度。另一方面’支承膜部分内較大厚度有助於其部分抗拒 擴散與化學侵襲，以致應儘量加大支承部分的厚度。選擇 總基膜厚度提供最後外觀之通宜防反射效果，例如技術上 所知的製品顏色。 除其對反射金屬層電阻上有利影響外本發明金屬接觸膜 部分經發現對反射金屬膜結構上於產生低烟霧之熱處理期 間有穩定化影響。此點將由以下實例及圖3 ' 4 A與4 b例 證。. 上文指出本發明的基膜將位於例如透明底質與塗層的第 一金屬反射膜之間。若此塗層含不止一項金屬反射膜、可 用許多基膜，塗層之每一金屬反射膜用一項。 底質 本發明有些形式如可回火的窗框、玻璃如鈉舞破璃顯然 爲透明底質的首選材料，玻璃以外的非金屬底質如各種塑 膠亦可用。 金屬反射膜 如文提及製作本發明物件中金屬反射膜之適宜材料例爲 金' 鋼與銀，多數用途以銀爲佳如技術上所遇知。通常適 -12- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公楚） 請 先 閲 讀 背 之 注 意

I q 頁 訂 A7 B7 436529 五、發明説明（10 用金屬爲一良好電導體即電阻低者，因其特性與冬季自加 熱室中堵塞漏熱或夏季時期自熱環境中阻止流進熱量之能 力大有關冑。熱的較長波長紅外輕射到達其塗層内有金屬 膜的窗户反射返回其來處。此能力典型測量成室溫（例如約 70 F或21 C)時塗覆表面的發射率用語，以低發射率最合 宜。低發射率亦可得自太陽輻射範圍例如近紅外内不甚反 射之塗層。 底層 在金屬反射膜的底質遠侧上典型可有一捕氧金屬如鈦之 打底膜p鈦作用爲犧牲層，於後來金屬反射膜的底質遠侧 上澱積防反射氧化物膜期間保護金屬反射膜。打底膜可含 其他金屬如結。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 鈦層之最理想厚度視本發明的塗覆物件於其生產期間是 否暴露於熱處理而變化。因底層之基本功能在保護金屬反 射膜於防反射氧化物膜在金屬反射膜的底質遠側上澱積期 .間免於氧化，本發明塗覆物件在其製造期間不須受熱處理 時底層可薄。此處••薄”指底膜厚度在8至12埃間。此乃因 熱處理係典型強氧化性。若不經熱處理、薄底層能於本發 明塗覆物件製造期間足夠保護金屬反射膜不氧化。在下文 更詳研討的本發明另一具體例中、薄底層可外覆一層氧化 鋅以提升本發明塗覆物件之擱置壽命。 不過若處理期間塗覆物件須加熱、則可用一較厚底層如 前引美國專利4,806,220號中指示，此處引用其發表參考。按 其專利所述若澱積單一底層於反射金屬膜外，底厚度宜大 13- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 436529

五、發明説明 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 於20埃’厚達50埃《此較厚底層能耐熱處理之強氧化 件。 '' 經本發明發現塗覆物件於其製造期間能暴露於熱處理時 有一點，底層在此睁可隨意製成太薄或太厚。底層太薄結 果不足以保護反射金屬膜在高溫受氧化致使塗覆物件不能 接受熱處理且剪切抗性低而使物件不適合長途運輸供熱加 工。底層太厚結果於熱處理後在塗覆物件内生成不良濁 霧，亦使其不能接受熱處理。 提供充分保護而不生成不合宜濁霧的最適鈥厚度範固在 圖3内例證。與氧化鋅金屬接觸膜部分特別關連者已發現能 於其製造期間提供適合熱處理的塗覆物件之底層厚度較佳 次範園係底層厚度在20埃左右。低於此範園之塗層可有不 良剪切抵抗’而高於其範圍則經熱處理後塗層可發展濁霧 至不能接受的程度。在飲金屬底的情況中產生充分剪切強 度與能接受的低濁霧之經驗決定的塗層厚度在自約22埃至 約30埃範圍内。較佳範圍係自較低侧上約24埃至較高侧上 約28埃。 防反射膜 金屬反射膜底質遠側上之防反射膜係根據折射率、黏著 性、及化學耐久性選擇，與前相似。適宜材料之一例爲鋅 與錫的氧化物。在一塗層有二金屬反射膜之情況中第一金 屬反射膜的底質遠侧上之防反射膜能用作本發明第二金屬 反射膜的基膜。 保謹外層 請 閱 面 之 注 % 本 % 订

I -14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） A7 B7 4 3 65 29 五、發明説明丨12 ) 本發明的塗層典型能由一種外部保護外層加蓋，例如一 硬層的氧化鈦。此係吉勒瑞等在美國專利4,716,086號内指 示，其發表在此引用參考。 本發明的層次堆精排列 適作熱處理的單堆 本發明之一具體例内提供一高透射、低發射率塗覆的物 件適供有單一金屬反應層亦稱作單堆之熱處理，其中包 括：一透明的非金屬底質； 一介電防反射基膜澱積在底質上，基膜含一結晶金屬接觸 膜部分與一支承膜部分，其支承膜部與底質接觸，其中支 承膜部分係由結晶金屬接觸膜部分以外之材料構成； 一金屬反射膜澱積在基膜之結晶金屬接觸膜部分上； 一底膜澱積在金屬反射膜上；及' 一介電防反射膜澱積在底膜上。 本發明另一具體例中一外部保護外覆層澱積在介電防反 射膜上。 本發明一較佳具體例内遴明的非金屬底質係玻璃，支承 膜部分爲錫酸鋅膜，結晶金屬接觸膜部係氧化鋅膜；金屬 反射膜爲銀膜，底膜澱積成鈦金屬，介電防反射膜係錫酸 鋅膜，及外部保護外塗層爲氧化鈦膜。 .適作熱處理之勢堆 本發明另一具體例内提供一種高透射、低發射率塗覆物 件適作有二金屬反應膜亦稱雙堆之熱處理，其中包括： 一透明的非金屬底質； -15. 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) A4规格（210 X 297公釐） 請 先 閱 背 之 注

訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 436529 A7 B7 五、發明説明（13 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 一第一介電防反射基膜澱積在底質上，基膜含一結晶金屬 接觸膜部分與一支承膜部分，其支承膜部與底質接觸，其 支承膜部分係由結晶金屬接觸膜部分以外之材料構成； —第一金屬反射膜澱積在基膜的結晶金屬接觸膜部上； 一第一底膜澱積在金屬反射膜上； 一第二介電防反射基膜上，第二介電防反射基膜含一結晶 金屬接觸膜部分與一支承膜部分，其支承膜部與底膜接 觸，其支承膜部分係由第二基膜的結晶金屬接觸膜部以外 之材料構成； 一弟一金屬反射膜搬積於第二基膜之結晶金屬接觸膜部 上； —第二底膜澱積於第二金屬反射膜上；及 一介電防反射膜澱積於第二底膜上。 本發明上述具體例之一較佳例内一外部保護覆蓋層澱積 於介電防射膜上〇 本發明上述其他具體例之一較佳例内透明非金屬底質爲 玻璃，第一基膜的支承膜部分爲錫酸鋅膜，第一基膜的結 晶金屬接觸膜部分係氧化鋅膜；第—金屬反射膜爲銀膜， 第一基膜澱積成鈦金屬，第二基膜之支承膜部分係錫酸鋅 膜，第二基膜的結晶金屬接觸膜部分爲氧化鋅膜；第二金 屬反射膜係銀膜，第二底膜澱積成鈦金屬，介電防反射膜 爲錫酸鋅膜，及外面保護外套層係氧化鈦膜。 不能回火的雙堆 本發明之又一具體例内其高透光、低發射率塗覆物件係 請 鬩 讀 背 之 注

I 頁 訂 -16 泰紙果尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2I0X297公釐） Α7 Β7 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 436529 五、發明説明（14 ) 一含二反射金屬膜的雙堆，其製造期間預定不受熱處理， 可得一改進擱置壽命之物件如下。物件係由上述二部分基 膜澱積於底質與第一金屬反應膜之間及澱積一項三部分基 膜插在二金屬反射膜_間，並插入一外加氧化鋅層作介電防 反射膜部分於第二底膜與錫酸鋅介電防反射膜中間。此具 體例内塗覆物件含： 一透明非金屬底質； 一第一介電防反射基膜澱積在底質上，基膜包括一結晶金 屬接觸膜部分與一支承膜部分，其支承膜部分與底質接 觸，其中支承膜部分係由結晶金屬接觸膜部分以外的材料 構成； 一第一金屬反應膜澱積於基膜之結晶金屬接觸膜部分； —第一底膜澱積於金屬反射膜上； 一第；介電防反射基膜澱積於底膜上，此第二介電防反射 基膜含一結晶金屬接觸膜係氧化辞膜，與一支承膜部分， 其中支承膜部分另含第一層氧化鋅膜與第一底膜接觸及一 第二層錫酸鋅膜與結晶金屬結觸膜部分接觸； 一第一金屬反射膜殿積於第二基膜的結晶金屬接觸膜部分 上； 一第二底膜澱積第二金屬反射膜上；及 一介電防反射膜殿積於第二基膜上，其中介電防反射膜含 一第一層氧化鋅膜澱積於底膜上與一第二層錫酸鋅膜澱積 於介電防反射膜之第一氧化鋅層上。 本發明上述具體例之另—例中一外部保護覆蓋層澱積於 ____ -17_ 本紙張尺度適财關家縣（CNS) A4規格·γ^χ297^^·

^36529 ΑΊ _. _______Β7 五、發明説明（15 ) 介電防反射膜上。 本發明上述其他具體例之一較佳具體例内透明非金屬底 質係玻璃，第一基膜之支承膜部分爲錫酸鋅膜，第一基膜 之結晶金屬接觸膜部分係氧化鋅膜；第一金屬反應膜爲銀 膜，第一底膜澱積成鈦金屬，第二金屬反射膜係銀膜，第 二底膜澱積成欽金屬，及外部保護覆蓋層爲氧化鈦膜。 上述具體例内三部基膜之氧化鋅錫酸鋅部分形成支承膜 部分，而氧化鋅膜形成金屬接觸膜部分。 此具體例之底層可比受熱處理的具體例較薄約8-12埃上 下，其一因如上説明。 上述具體例介電防反射膜之外加氧化鋅膜提供本發明塗 覆物件延長擱置壽命。 熱處理與不能熱處理的物件之製造及物理特徵 製窗廠典型接受來自玻璃窗框廠之窗框，係製窗廠組合 爲完成的窗產品。 某些窗用途必須退火玻璃。玻璃。玻璃退火係由物件加 熱至一定溫度後將加熱物件淬火達成。退火玻璃典型比徐 冷玻璃較強。而且退火玻璃窗當以足夠力量碰撞使其破裂 時粉碎成小片，與非退火玻璃會碎成較大塊碎片者相反。 退火玻璃之一項限制爲其不能切割至一定大小。因此在 退火玻璃窗之一製法中窗框廠裝運標準能切割大小的徐 冷、能退火的窗框至製窗廠。製窗廠自較大標準窗大小之 壞料切割至訂單大小然後將所切壞料退火。 製造退火玻璃窗之另一方法爲製框廠，而非製窗廠，擔 -18- 本紙張尺度顧巾闕家轉（⑽）Α4· (21()><297公酱} - 436529 五、發明説明（16 ) A? B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 任随意能退火的塗覆框或未塗框之退火然後塗覆。但任— 情況中遂導致製框廠在製框作業與庫存中保持多種非標準 大小之困擾或製框處大量前置時間製框然後運送至製窗 廠0 玻璃經塗覆並在退火範圍内加熱後塗層徐冷進而穩定化 薄膜堆。最顯著者銀層（等）之電阻降低、鈦底層氧化而在 能見光譜範園内變更透明。另一方面亦爲加熱的結果、鈉 或其他雜質能擴散通過塗覆的層並過熱塗覆玻璃或者，延 長曝露高溫可致塗層破損（舉例銀結塊成粒）及過度模糊。 與未塗覆的透明玻璃相比、更難提升塗覆的低發射率玻 璃之溫度。低發射率玻璃中金屬反射金屬膜有效反射爐内 熱緣輕射之大部分能量。因此，加熱元件之溫度、其負載 循環、線速率（爐内逗留時間）、或以上全部必須調整以達 到塗覆玻璃内所期最後溫度。以強制對流傳熱爲基礎的徐 冷f在此方面可能有利。 退火宜在一能迅速升高玻璃溫度至所須範園[116〇°F(627">C) 至（1250°F(677°C)，較佳（117〇T(632°C)至（120〇T(649°C)]内之徐 冷富中完成。迅速升溫儘量減少高溫曝露時間，結果塗層 可得到且保持其最適宜性質。線速率高或循環時間短自製 造觀點言亦能有利。 徐冷富可係電爐或瓦斯爐。徐冷富可係連續式，其中玻 璃以恆速移行經過或屬分批型，玻璃進爐後保持固定或擺 動一定時間。離富後玻璃立經空氣驟冷以授予退火。 以下實例爲本發明進一步例證.： 19- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 1 面 之 注 項再, 耳 訂 4365 29 A7 B7 五、發明説明（ 17 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 實例1 —能熱處理的單摊 一多層塗覆物由錫酸鋅膜氧化鋅膜丨銀丨鈦j錫酸鋅丨 一乳化欽/殿積在雇質上構成如下，目的在製備一種能後來 退火之塗覆玻璃框。底質爲3.3 mm (.13吋）厚之透明徐冷鈉鈣 玻璃框。 本發明塗層係在一多室、線内、磁控濺散84吋(213 cm)塗 覆機内殿積，由 Airco. Coating Technology of Fairfield, CA 製造。塗 覆機中不同室供隨意金屬或介電（氧化物）層澱積用，玻璃 以恆速在鑄金屬陰極靶下經隨時激勵移動。氧化物室内瓦 斯成分設定80 %氧-20%氬於總恩力4 mTorr。金屬澱積室内用 5 mTorr塵力之純氬。 製作塗層首先澱積一種二部分防反射介電基膜（厚318±4埃） 包括第一支承部分257 ±13埃厚非晶錫酸鋅膜接近玻璃底質 與一 58 ±7埃厚結晶氧化鋅膜澱積在錫酸鋅膜上之第二金屬 接觸膜部分。氧化鋅膜係多顆粒而非單晶體。厚度係用針 畫剖面儀測量。由於其等光學指數接近、上述二部分一起 作用成單一光膜有約82%之透射率。 雖在鬆散形式錫酸鋅的化學式爲Zn2Sn04，其濺散成分可 變化爲ZnxSnOy。前述XRF法雖係測量金屬膜厚度之較佳方 法，亦能連同介電膜用以測定介電膜成分與此等介電膜之 厚度相反。錫酸鋅膜之成分用XRF法測定如下。錫酸鋅膜的 鋅與錫金屬之# g/cm2係用XRF法測量。然後，假定氧化物與 其金屬相對部分成化學計算比，即Zn = ZnO及Sn = Sn02，於 是導致成分可選擇地表示爲：Zn:Sn重量比0.93 ± 0.12 ; Zn : 20- 本紙張尺度逋用中國國家標率（CNS ) Α4規格（210X297公釐）

I 面 之 注 項

J 訂 436529五、發明説明（18 ) A7 B7 經濟部中央標準局®:工消費合作社印製

Sn原子比1,7 ± 0.2 ;或化合物化學式約Zni 7xSn；A 7χ。 將底質自氧化物澱積室移至金屬澱積室後約U5埃厚之多 顆粒狀銀殿積於基膜的結晶氧化鋅上部上。量得的基膜加 銀膜之厚度總計434 ± 9埃，塗覆的玻璃透射率經線内透射監 測器測得者由於反射銀膜而縮減至63.5%。用X -射線螢光測 得銀膜厚度相當於每cm2約1〇·〇 # g之此金屬。 其次在銀層上面殿積厚度等於1,1 # g/cm2 (相當於厚度約24 埃）之犧牲性鈦底膜。 欽底膜殿積後以殿積厚度230 ±7埃的錫酸鋅防反射面層膜 與一厚度36土6埃之最後二氧化鈦外層。 以上多層塗層通過剪抵抗測試得到評分6〇 (下節説明）。其 片電阻爲7.1 Ω /sq [欲轉變以Ω /sq計的片電阻爲# 〇hm-cm計之 電阻率，將Ω/sq値乘以公分計的銀膜厚度（丨埃=1〇.8cm)並除 以10·]及發射率ε -0Λ2。此處所述塗層的發射係以Devices and Services Co, of Dallas，Texas所製之AE型發射計測量。拫據ASTM E 1585-93 用一 Csl 光學的 Mattson Galaxi 5200 型 FTIR 儀器測量一 般產生低於此處有關範圍内低達20%以下的發射率値。此試 樣之可見光透射等於76%[VLT(D65)，其D65係以標準光源爲 參考]，又其可見反射相當於其塗覆侧上Y(D65)=5.66%。此試 樣之塗覆側CIE 2°觀察者顏色座標爲χ=〇.3350及y=0.3239。 剪切抵抗測試包括對玻璃的塗覆表面施加脱離子水潤濕 布之20次連續衝擊，然後目視檢查測試區。視測試區的外 觀以字母等級D-、D、D+.......A、A+指定塗層；然後作數字 分析指定5予D-，10予D，......55予A及60予A+。若塗層未呈 21 - 表紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29?公釐） (請先閱讀背面之注意事項再4,寫本頁) 訂- 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 4 3 65 29 A7 _ ____B7 五、發明説明〖19 ) 現剪切記號甚至幾無可見刮痕，則得最高評分6〇。測試區 内多層塗層之任一分界面處顯示均勻剪切與脱層的塗層得 一不及格零分。.其他成績水準得中間評分。此一塗層耐久 性特徵法經發現與塗層之現場成績頗有關聯。 以上試樣之一 2吋x8吋(5.08公分X 20.32公分）段加熱至最高 溫度（1184°F(640 C)以模擬退火製程的熱循環。於是產生一塗 層在剪切試驗中保持評分60 (塗層於退火棱得更硬性），五 以烟霧 4 (Pacific Scientific Co.，Silver Spring，MD 之產.品 HAZEGARD XL-211型）測量時無濁霧可測，用一暗室汎光燈烟霧測試觀 看時塗層濁霧程度極低如後郎説明。加熱試樣之電阻與發 射率分別進步至4.5 Ω /sq與0.07 ’而其可見光透射率升至 88.0%。試樣塗覆側的反射色座標移位至加熱後υ(〇65)=5.2, x=0.2812與3^0.2860之無彩色。 暗室ί凡光烟霧測試中塗覆標本在暗室内於相對聚光燈的 各種視角處觀看以找出產生光的最大散射幾何或者換言之 可能來自塗層之濁霧。若無能使濁霧可觀察的幾何角度則 指定試樣評分Α+。非常拙劣的試樣得D_。爲數値分析用字 母等級給予5至60之値如前述之剪切試驗。較低濁霧相當於 較高數値。 本實例用之特殊膜或層厚度影響最後製品的顏色及發射 率。但厚度之選擇亦受生產配備影響。介電層與銀的厚度 能經修正以獲得顏色之大調色板。鈦底之厚度受澱積製程 期間其對銀層保護、對塗層硬度（剪切抵抗）及對濁霧等影 響限制，在後文説明《底厚影響實例”内將變顯明。二氧 -22- 通尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4· ( 2^^^-—- (請先閲讀背面之注意事項再衡寫本頁)

I 436529 五、發明説明（20 ) A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 化鈦外層之厚度應超過最低量俾赋予堆層以所須化學耐久 性，但受限於其上侧由於其澱積率低及製造經濟之故。 本例雖僅用一銀層，而了解能建立原則據以製作有多銀 膜的能加熱之玻璃塗層。此中一例爲具以下順序之塗覆物 件：玻璃片底質|鋅錫合金丨鋅之氧化物丨銀I鈦丨鋅錫 合金之氧化物I鋅之氧化物丨銀I鈦丨鋅合金之氧化物I 外部保護的鈦氧化物膜。 實例2 與實例1相似的大塊塗覆玻璃成功地運去另一州之退火工 場，用其他低發射率塗層玻璃產品所用之相同包裝及運輸 方法並在連續電力退火線上退火。在退火點時切割玻璃至 所須大小，用ii動接縫機接縫，在平板玻璃洗機内用脱離 子水洗，.用潔淨壓縮空氣吹乾。’*接縫”爲砂磨玻璃的邊 除去退火製程期間會傳播之微裂痕^玻璃隨後以恆速通過 路線之徐冷f，退出徐冷富時經空氣驟冷。玻璃後來第二 次清洗準備裝進絕熱玻璃窗單位。以上處理後塗覆玻璃的 性質能與加熱塗覆的玻璃襻本在實例1所列者相比。塗層足 以耐受州際運送並切割、接縫及清洗步驟然後退火。 底厚影響之會你丨 製備一系列試樣並實驗地測試以決定鈥底膜厚度對剪切 切抵抗，可見光透射(VLT)及片電阻之影響。試樣以前述實 例1試樣之相同方式製備，但有以下例外。第一，銀層厚度 設定90埃（由所量的9.5 # g/cm2計算）與實例1之115埃厚層相 對。第二、所有試樣雖在底質上接受錫酸鋅膜，但僅一部 -23 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2Ι0Χ297公釐） 請 先 閲 面 之 注 意 事 項

η 訂 4365 29 A7 B7 五、發明説明（21 ) 分試樣在錫酸鋅膜上接受氧化鋅膜後澱積銀層，於是產生 一組錫酸鋅金屬接觸部分試樣與一組氧化鋅金屬接觸膜部 分試樣。此二組中每組之鈦底層厚度遂有變化，其餘各層 如實例1内説明者澱積。其他試驗參數如實例1中敘述。 圖1 A與2A爲鈦厚度變化對非晶錫酸鋅金屬接觸膜部試樣 對剪切抵抗’可見光透射率及電阻之影響。圖13與2]^表現 相同試驗之結果惟其中用結晶氧化鋅金屬接觸膜部試樣。 報告數據爲全部試樣加熱至退火溫度前後二者的可見光透 射率與電阻。 經發剪切抵抗於加熱至退火溫度後増大，惟圖中未表 現。圖1Α至2Β全皆證明剪切抵抗，亦稱塗層硬度，通過最 低鈦底厚度約17埃。 透射率於加熱至退火溫度後增加，由於底膜之氧化作 用，或者由於反射金屬膜銀之徐冷。 氧化鋅對電阻、特別退火後在較厚鈦膜情況中的有利影 響，由所得較低電阻値證明。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 ----------- 广 (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 氧化鋅金屬接觸膜部分與錫酸鋅膜部二者之加熱後試樣 經測試濁霧。圖3表現用暗室汎光燈濁霧試驗之濁霧率測試 結果有氧化鋅金屬接觸膜部的試樣通過一合宜高濁霧率相 當於低濁霧之顯著尖峰如圖3所示鈦底層厚度在約24至28 .埃。 金屬接觸膜部厚唐影孿之實例 鈦底膜厚度對濁度影響之發覺用一系列實例補充，其中 試樣Α至F所製在錫酸鋅支承膜部分上的氧化鋅金屬接觸膜 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) M规格（210X297公釐） 436529

五、發明説明（22 ) 部分之厚度變化自〇&至68埃厚而钦底厚度保持28埃不 變試樣與測試參數另在實例1中敌述。試樣作濁霧測試， 數據列入表1 ’其中氧化鋅金屬接觸膜部分之厚度與加熱後 濁霧率相關。 表1 氧化鋅厚度U) 試樣A 68 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 濁霧等級 A+ (60) A (55) A (55) A (55)D- (5) A- (50) 此等表列結果與圖3之數據相符，在最低濁霧評等（亦即 最劣濁露相當於試樣E其中無氧化鋅殿積結果得一錫酸鋅金 屬接觸膜部分《其他試樣A至D與F表現一貫地高濁霧評等 '(低濁霧程度），由表1内數據表現與氧化鋅厚度無關。 金屬接觸膜部分厚度對平面指數之影響係以表1之試樣E 與F靠獲得試樣的繞射光譜測試。圖4 A與4 B分別相當於表 1中試樣E及F之加熱前與加熱後繞射光譜。 此處呈現光譜所用之X -射線繞射方法爲掠入角度法。在 此形態中x_射線源於一固定小角角（幻.〇度）導向試樣使來自 薄膜塗層之信號儘量增大。X-射線偵測器在對試樣表面垂 直的垂直平面内疾速掠過以便測量繞射x_射線尖峰之強 度。相對光源的試樣角保持不變，但試樣在其自身身平面

試樣B 試樣C 試樣D 試樣E 試樣F 56 45 22 0 56 -25 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2I0X297公釐） 請 先 閲 讀 背 面 之 注 頁 訂 4365 29 A7 ·" B7 五、發明説明（23 ) 内繞其表面垂直旋轉。對此技術上進一步資訊請閲T.C. Huang， 射線分析之進展” ，35卷，C.S. Barnett等編， Plenum Press，、紐.約 1992 版，143 頁。 -隨機定向的多顆粒或多晶體膜之銀繞射圖或光譜與粉 試樣者相似，其中{111}尖峰最顯著。表2表現銀粉之繞射 圖，採自JCPDS-ICDD粉末繞射資料基。 表2 JCPDS-ICCD銀粉繞射數據 銀平面* 2- Θ 相對強度 111 38.117 100 200 44.279 40 220 64.428 25 311 77.475 26 222. 81.539 12 (請先間讀背面之注意事項再魂寫本頁) -# Τ 經濟部中央標準局貞工消費合作社印製 *此處僅表現最高2 (9値85度之平面 圖4B内預熱或加熱前光譜雖相當於試樣f，亦係試樣A至 D諸繞射光譜之典型，但與圖4A者頗不相同。比較預;熱4 3 與預熱4A，4B中氧化鋅金屬接觸膜部分之存在降低銀密集 的{111}平面等之尖峰強度而促進{220}平面之尖峰。似{220} 平面而無密集的平面等在此稱作"較不密集，，的平面等。 對照圖4B與圖4A内{220}尖峰升高至{ill}尖峰之上表示圖 4B之薄銀膜相對底質對照圖4A内顆粒定向的較隨機分佈類 似可得自粉末試樣之光譜者有一差別結晶定向。不適此點 並不暗示{220}平面與底質平行。事實上由於上述χ_射線繞 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公瘦） A7 B7 436529 五、發明説明（24 ) 射幾何形不對稱之故{220}平面相對底質的平面成一角度。 (請先閎讀背面之注意事項再填^本頁) 比較熱後或加熱後光譜，可注意圖4B有氧化鋅金屬接觸 膜部分之試樣繼續顯示一 {220}尖峰而本質上展示無{111}尖 峰。於是，預熱氧化鋅試樣之差別定向保留至甚至加熱 後。在圖4A無氧化鋅金屬接觸膜部分之試樣内無氧化鋅金 屬接觸膜部分，加熱後發展出一 {22〇}尖峰，{111}尖峰高聳 其上，指出保持本質上隨機顆粒定向。 此等光譜之形狀爲前述繞射幾何所特有者。其他繞射幾 何可產生光譜，其外觀雖異但仍指示氧化鋅試樣之較佳顆 粒定向。 對二變數影響之實例 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 執行二變數設計的實驗以證明氧化鋅金屬接觸膜部分及鈦 底膜變化對熱處理前後塗層電阻之影響。按實例1説明製備 一組22試樣，惟變化氧化鋅金屬接觸膜部分與鈦底層厚度 以製備一設計實驗之隨機化試驗组。所有其他實驗條件如 #例1中報告，惟銀膜厚度保持不變於9.95±0.22 //g/cm2595± 2 埃（根據密根計算）與實例1的115埃厚銀層相對。實驗結果 在一商業上可得的統計學計算機程序内處理製得圖5A與5B 之點繪表面。 金屬接觸膜部分的成分及澱積氣濃度對平面指赵裉占、_ 阻及發射率之影響的實例 製備四試樣並測試以：（1)例證氧化鋅金屬接觸膜部分搬 積期間氧濃度之影響；及⑵例證金屬接觸膜部分成分之影 響一特別其是否由有強合宜定向的結晶氧化鋅、無強合宜 -27· 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） A7 B7 經濟郜中央標準局員工消費合作社印製 d 3 65 29 五、發明説明（25 ) 定向的結晶氧化鋅構成，或其是否由非晶錫酸鋅構成。試 樣G至J按圖9所述製備。用鑄金屬陰極靶β試樣〇至1之掠 入角繞射光譜分別呈現於圖6A-6D。圖9塗層之光譜爲例如 退火之一切加熱前者。電阻及發射率亦經測量並報告於圖 9。須注意圖9提供多層膜包括底質|氧化鋅|銀配方（試樣 G.H與J)與一多層膜含底質|錫酸鋅丨銀配方（試樣υ之直 接對照提供金屬接屬膜邵分之直接比較而不用分離的支承 部分膜。亦須注意試樣J爲試樣Η之確證，在實際全同狀況 下製備。 試樣Η與J顯示低度電膜電阻’而試樣(}與1表現高電膜電 阻，相當於銀有二種不同電阻程度。試樣Η與j顯示低電 阻，相當於氧化鋅澱積於較高80%氧濃度，此等試樣之光譜 表現於圖6Β及6D。 起初圖9内所示結果表現金屬接觸部分係非晶錫酸鋅如試 樣I中電阻顯然比試樣Η及J中較高。本發明人等發現變動錫 酸鋅金屬接觸膜部分澱積期間大氣之氧含量對降低電阻率 並無影響，由於金屬接觸膜部分無結晶形成或結晶指導 .性。於是，金屬接觸膜部分及澱積期間氧濃度的改變二者 均不產生本發明期盼之結果。 對比之下試樣Η與J於用氧化鋅接觸膜部分時顯現電阻大 .幅降低。此二試樣相當於氧化鋅金屬接觸膜部分澱積期間 80%之氧濃度。發明人等亦發現氧化鋅金屬接觸膜部分澱 積期間改變氧濃度大爲衝擊電阻因而例證銀有二種不同電 阻水準，金屬接觸膜部分澱積期間控制氧濃度能得到選擇 ί請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}

-28 436529

五、發明説明（26 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 7準。上述可藉試樣G(氧化鋅金接觸膜部分，5—/〇 、’電阻3.52歐姆/sq)對試樣H與以氧化鋅金屬接觸膜部 /刀，80%〇2-20% Ατ，電阻各別2.92及2.85歐姆/⑷對照證 明。可見金屬接觸膜.部分(氧化鋅對錫酸鋅)之成分及澱積 期間其氧濃度二者對所製多層膜電阻有重大衝擊。 試樣G至J繞射光譜之試驗證實銀{22〇}平面之尖峰比試樣 Η與J及試樣〇與I之(U1)平面者較高。對照圖仏（試樣⑺及 6C(試樣之圖案，{220}銀平面之圖犯（試樣⑴及仍（試樣j} 内尖峰比其（111)平面者爲高。與圖6A之圖案比較，圖狃與 6D内{1〇3}氧化鋅平面之尖峰比圖6八者爲高^顯現在較高 80%氧濃度澱積的氧化鋅金屬接觸膜部分有不同結晶性質使 後來氣積.的銀膜顆粒優先定向成有較低電阻水準之形式。 氧化鋅{1.03}尖學上升超過其圖册及犯中其他較低指數尖 峰係與氧化鋅的粉末繞射圖案對照如下表3所示。此一行爲 與前述銀的情況相似，指示氧化鋅膜與{1〇3}平面於相對底 質平面傾斜時優先成長。氧化鋅膜之此優先定向使銀優先 成長超過’依序產生金屬膜内較佳導電性。此等觀察己由 高解析透射電子顯微鏡分析證實。 以上討論之此等光譜的形狀爲此等實驗内所用明確繞射 幾何之特殊者。 29- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再痕寫本頁)

Γ 436529 A7 B7 五、發明説明（27 表3 JCPDS-ICCD氧化鋅粉之繞射數據 紅鋅續平面* 2- Θ 相聋 100 31,770 57 002 34.442 44 101 36.253 100 102 47.539 23 110 56.603 32 103 62.864 29 200 66.380 4 112 67.963 23 201 69.100 11 004 72,562 2 202 76.995 4 104 81.370 1 請 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 頁 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 '*此處僅表現最高2 Θ値85度之平面 用X-射線光譜之更多實例 製備一系列試樣並試驗以進一步例證本發明氧化鋅金屬 接觸膜部分之銀UU}與{220}平面之自蝕與不同厚度銀層之 非晶錫酸鋅金屬接觸膜部分對照。處理此等對照不用前文 解釋之分離支承膜部分。氧化鋅金屬接觸膜部分試樣用氧 化鋅於20%-80°/〇氬氧氣氛中澱積在底質上製得，如前説明產 生{220}銀平面之優勢成長。錫酸鋅金屬接觸膜部分試樣用 錫酸鋅於65% 02/35%Ar氣氛中澱積在底質上製得，如前説明 -30 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） Γ 4365 29 Α7 ----------—_____Β7_ 五、發明説明（28 ) 產生{220}銀平面無優勢成長。二組試樣隨後塗覆不同厚度 之銀層，並經X-射線繞射測定尖峰強度。結果顯示於圖7八 與7B。用迴歸分析配合第二級多項式於數據，此等相當曲 線亦表現於圖7A及7丑.中。圖7八與7B中所示結果例證在缺乏 氧化鋅金屬接觸膜部分（圖7A)的試樣内銀{111}平面占繞射 光譜主要地位，而有氧化鋅金屬接觸膜部分存在時（圖 7B)' {220}平面變成主峰。此一行動連續直到5〇〇埃以上之 銀膜厚度。即銀的起始晶核形成層對銀膜於其發展爲重要 較厚層時之成長有顥著影響。 UL兔對銀厚廋上之會例 製備一系列試樣並試驗證明本發明金屬接觸膜部分置銀 成較低電阻式於高透射、低發射率塗覆破璃有關之銀膜厚 度。試樣尽圖7A與7B試樣同一方式在相同澱積作用氣氛内 製備產生一組氧化鋅金屬接觸膜部分試樣與一組錫酸鋅金 屬接觸膜部分試樣，惟氧化鋅金屬接觸膜部分試樣再分爲 以1.5吋(3_8 cm)陰極至底質間隔製備的第一副組與以5 5時 (13.97 cm)陰極至表面間隔之第二副組亦試驗此等間隔是否 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 影響電阻率。然以不同厚度的銀層覆蓋全部試樣而量電 阻。 結果顯示於圖8，以膜電阻率對銀厚度之辭表示。 .鬆散材料之電阻率與試樣大小無關。但此等有薄銀膜的 試樣之膜電阻率相當高達厚度超過5〇埃以上。厚度較低時 膜中斷成弧立島狀或極粗糙形態，於是電阻高。銀厚度增 大時全部曲線降落，出現接近厚膜電阻率値。此係由於銀 -31 - 本紙張妓逋用中關家鱗（CNS) &4聽_ (21GX297公麓） —-- 4365 29 A7 _________— B7 五、發明説明(29^ ~~ ~ '--- 的鬆散性質之影響增大。本發明二種氧化辞金屬接觸膜部 分試樣々電阻率曲線均移動至比錫酸鋅金屬接觸膜部分試 樣的曲線較低鬲度。最大差異相當於8〇_2〇〇埃之銀厚度，對 高透射率、低發射率塗層之範園言極其重大。 實例3 ~.不退火的雙雄 在底質上澱積多層塗覆成2.5 mm (0.098吋）透明、徐冷、鈉 鈣玻璃玻璃之厚框式。塗覆器及其操作已在實例丨内敘述。 此例中製作塗層係先將一包括接觸玻璃底質的非晶錫酸鋅 支承膜部分與結晶氧化鋅層的金屬接觸膜部分之介電基膜 澱積320埃於錫酸鋅上《此基膜的二膜部分相對厚度如實例 1内所述。 其次在.結晶氧化鋅上澱積一層銀膜β銀膜厚度等於9.5 " g/cm2之銀(XRF)，相當於約90埃銀鬆密度之膜。 然後在銀上面殿積廣厚度等於0.4只g/cm2之犧牲性鈥底膜 (相當於厚約9埃有鬆密度鈦膜）。 ‘此等金屬腊澱積後繼以澱積約805埃之三部分防反射介電 基膜·>此三邪分基膜包括氧化鋅|錫酸鋅|氧化鋅膜部分 顺序約26%/35%/39%厚度比。此處氧化鋅|錫酸鋅結果係支 承膜部分，上面氧化鋅代表厚度的39 %係預定容納後述塗 覆第二銀膜之金屬接觸膜部分。 須注意本例内氧化鋅膜在金屬接觸膜部分(39%)中比在支 承膜部分(26%)中的氧化鋅膜較厚，僅因澱積此膜所用設備 之製造限度。所得塗層雖不耐熱卻仍足夠耐化學物。不過 如上所述。減低金屬接觸膜部分内氧化鋅膜的厚度保持有 -32- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -i^n H ι^ϋ ^^1 * IJI裝— (請先閱讀背面之注$項#,搬寫本頁) .1 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 436529 Δ7 A/ B7 五、發明説明（3〇 ) 利，祗要其仍能使上述低電阻反射金屬膜形成。 第一反射銀膜隨後澱積於介電複合膜面上。此第二I有 130埃的相等厚度如另一實驗内由13.4 At g/cm2銀之測得値所 推衍。 在弟二銀膜上.殿積一層厚度等於〇,45 y g/cm2之犧牲性鈇底 層（相當於有鬆密度鈦的厚約10埃之膜）。 隨後在底層上澱積包括第一氧化鋅膜部分及澱積於第一 氧化鋅膜部分上之第二錫酸鋅膜部分之270埃防反射膜，澱 積厚度比率爲40°/。/60%。 此防反射層緊接一最後約30埃厚的二氧化鈦外層。 此實例3之塗層通過剪切抵抗試驗得評分6〇 ^其片電阻爲 2.23 Ω/sq及發射率〇.〇5以下。此試樣的可見透射率爲81.6%， 其可見反射比等於Y(D65)=4.75%在其塗覆侧上。此試樣的塗 覆侧CIE2 '觀察者色座標爲x-0.3088及y=0.3461。 如同實例1，選擇以上銀與介電層厚度係根據所須製品的 頻色及發射率以及製造有關配備。調節三介電層與二銀層 中任一種的厚度可能產生一完全色板。本例内目標爲製造 比較中庸的清楚色彩。 敘底的最大厚度受其對塗層硬度及別處説明的光學影響 限制’其最小厚度由其在多層澱積製程期間保護銀的有效 程度決定。本例塗覆製品因不擬退火，所須鈦底厚度比實 例1中較小。實例1内所述二氧化鈦外層之厚度亦適用於本 例。 實_例4 —鋅-鋁氣物金屬接觸膜部分 "33 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公楚；）

436529 A7 B7 五、發明説明（ 31 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本例塗層用一 Airco ILS 1600塗佈器澱積於一 12吋覓方（30.48 cm見方）透明浮動玻璃底質上。塗層含如下層序：玻璃|鋅 -錫氧化物丨鋅-鋁次氧化物丨銀丨鈦|鋅-錫氧化物|鈦氧 化物。牝塗覆各層澱積期間保持壓力於4mTorr。 鄰接玻璃底質的支承膜部分在65%〇2-35% Ar氣氛内經多次 通過在錫“鋅合金靶下2 kW電力時濺散。所得錫酸鋅總厚度 約390埃。 金屬接觸膜部分自鋅-鋁氧化物陶瓷靶在純Ar氣氛中於0.2 kW電力濺散。此濺散粉產生鋅-鋁氧化物之局部還原層，比 相同厚度度的完全氧化層較不透明。此層厚度約75埃，但 其他厚度亦可用以得相同結果（例如15-100埃）。 銀與蔽膜亦在純氬氣氛内濺散，分別厚約13〇及21埃。 鈦底上的錫酸鋅以與第一錫酸鋅層之相同方式澱積且有 同樣厚度。 最後’氧化鈦外層反應地在65% Or35% Ar氣氛内用底質之 .多次通過在鈦靶下於6.5 kW電力澱積。此層厚度約45埃。 此塗層通過剪怍抵抗試驗且有低退火後濁霧。退火的結 果其透射由76.6%上升至84 %，其電阻自5.3歐姆/ sq變爲3.8 歐姆/sq，而其發射率自起始値〇,〇9降至〇.〇7。 以上實例提供以例證本發明。包括各種修改。 舉例，其他塗覆組合物係屬本發明範圍内。濺散鋅/錫合 金時視鋅與錫之比例，鋅與錫的氧化物膜可能自錫酸鋅之 正確化學計算大幅偏離（即自2 : 1 Zn : Sn原子比率偏離）。雖 然澱積成鈦金屬而澱積後底質可含鈦金屬成多種氧化態。 34- 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) A4規格（210X297公釐） 請 閲 之 注 意 頁

1T 4365 29 A7 B7 五、發明説明（32 以下申請專利範園内所列鈦厚度係指前文説明的XRp法以便 消除因.氧化反應程度不同引起的厚度變異。其他金屬如锆 與路等亦適用作根據本發明之底。 各層的厚度主要受所須光學性質如透射率、發射率或顏 色限制。 製法參數如氣體之壓力及濃度可在廣範園間變動，只要 實現本文内所述各層之預期結構。 其他耐化學性材料之保護塗層可澱積作隨意金屬或氧化 物。 其他金屬接觸膜即其他形式之相同材料或其他材料促進 優勢（與無軌地相對者）結晶顆粒在銀膜内定向成長者亦可 用。 因此，須知以上爲實現本發明之較佳模式，能作種種改 變與更換而不脱離本發明的精神及較廣特色如下文申請説 明及法律容許的同等範圍銓釋者。 請 先 閱 之 注

I 裝 訂 經濟部中央標準爲員工消費合作社印製 35- 不紙張尺從通用Τ阈國豕標準（CNS ) A*規格（2】〇><297公釐）

Claims (1)

1. 436529 第861〇5456號專利申請案 發 中文申請專利範圍修正本(卯年3月）g| 六'申請專利範厓

   年月日 90.3. 9 修正 1 經濟部中央揉率局貝工消費合作社印裝 1_ 一種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a. 透明的非金屬底質； b. 覆於基材上之介電防反射基膜，基膜包括覆於基材上 之鋅-錫氧化物支承膜部份，及覆於支承膜上之選自由 銦錫氧化物、鋅鋁氧化物、氧化鋅及其混合物所組成 之群之結晶金屬接觸膜部份； c. 沈積於基膜之結晶金屬接觸膜部份之金屬反射膜，選 自由金、銅、銀或具低電阻之金屬所組成之群的金屬 反射膜，其中金屬反射膜具二階電阻率，一階比另一 階低； d. 覆於金屬反射膜上之底膜；及 e_覆於底膜上之第三介電防反射膜； 其中金屬接觸膜部份指引該金屬反射膜朝向該二階之 較低階。 2. 根據申請專利範圍第1項之塗覆物件，其支承膜含.一種化 學及熱抵抗比金屬接觸膜部份更耐久的材料。 3. 根據申請專利範圍第1項之塗覆物件，其支持膜部分含一 種非晶材料。 4. 根據申請專利範圍第3項之塗覆物件，其支持膜部分含一 種鋅與錫的氧化物膜。 5_根據申請專利範圍第1項之塗覆物件，其底質含玻璃，此 底膜經局部氧化且有一厚度與成分能有效保護金屬反射 膜經玻璃之高溫熱處理而不氧化β 6_根據申請專利圍第5項之塗覆物件，其底膜含鈇。 尽紙張尺及通用中固國家揉準（CNS) Α4規格（21〇χ297公着） (請先聞讀背面之注意事項再填窝本頁) 訂- —)A j V 經濟部中央揉率爲員工消費合作社印製 -43 65 29 含8: D8 ' 丨 ' -----_ 六、申請專利範圍 7.根據申請專利範圍第5項之塗覆物件，其中塗覆物件經加 熱，然後驟冷供退火，或加熱供熱增強或彎曲玻璃。 8_ —種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a. 透明的非金屬底質， b. —種金屬反射膜，其係選自由金、銅、銀或具低電阻 之金屬所組成之群，有一優勢定向的顆粒成長，及 c. 一種介電、防反射基膜在底質與金屬反射膜間，基膜 含： d ·結晶金屬接觸膜部分，其包含結晶氧化鋅而與金屬反 射膜接觸，與 e.含非晶材料之支承膜部分》 9. 根據申請專利範圍第8項之物件，其中： a.底質含玻璃，且 b 金屬反射膜，具有用掠入角法測定的X -射線繞射光 譜.，其中{220}尖峰上升至{111}尖峰上》 10. 根據申請專利範圍第9項之物件，莫含鋅及錫氧化物之非 晶文承膜部分與氧化鋅膜部分接觸。 11. 一種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a. 透明的玻璃底質， b. —種紅外反射的金屬反射膜，選自由金、銀、銅或具 低電阻金屬所組成之群之金屬反射膜，其中金屬反射 膜具有二階電阻率，一階比另一階低金屬反射膜在 二階之較低階中’ -2- 本紙張尺度逋用中國國家棣準（CNS ) A4規格（210X297公嫠） (請先閲讀背面之注意事項再棟寫本頁〕 .裝· 訂 A8 B8 C8 D8 436529 六、申請專利範園 C.一結晶金屬接觸膜位於底質與金屬反射膜間與金屬反 射膜接觸，結晶膜與金屬反射膜同等，及 d.—底膜接觸金屬反射膜，此底膜有厚度於玻璃退火期 間能有效保金屬反射膜。 12. 根據申請專利範圍第11項之物件，其底膜含欽。 13. 根據申請專利範圍第12項之物件，其鈇底膜有20埃以上 厚度（XRF法）》 14. 一種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a.透明的玻璁底質， b_銀膜，砵銀在低電阻率式以優勢定向顆粒成長為特 徵， c, 結晶氧化鋅膜’位於底質及銀膜中間並與銀接觸，及 d. —種底膜接觸銀膜，此底膜於玻璃退火期間有保銀膜 之有效厚度。 15. 根據申請專利範圍第14項之物件，其底膜含鈦。 16·根據申請專利範圍第15項之物件，其鈦底膜有20埃以上 厚度(XRF法）。 17. —種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a. —透明的非金屬底質， b. —種在底質上的介電防反射膜， c. 在防反射膜上的紅外反射金屬反射膜，及 d. 在金屬反射膜上一種含鈦底膜，底膜有厚度範圍在下 面22埃(XRF法）至上面30埃(XRF法）6 -3- 本紙張尺度逋用中國因家標準（CNS ) 格（210X2?7公釐） --------身-- {請先閲讀背面之注意事項再填寫4頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製

   A8 B8 C8 D8 436529 六、申請專利範園 18. 根據申請專利範園第17項之塗覆物件，底膜有厚度範圍 在下面上24埃(XRF法）至在上面28埃（XRF法）》 19. 一種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a. 透明的非金屬底質； b. 介電、防反射基膜澱積於底質上，基膜含結晶金屬反 射膜部分及支承膜部分，其中支承膜部分包含錫酸鋅 膜與底質接觸’其中支承膜部分由結晶金屬接觸膜部 分以外材料構成； c·—種金屬反射膜（其為銀膜），金屬反射膜係澱積於基 膜之結晶金屬接觸膜部分上； , d.底膜澱積於金屬反射膜上；及 e·第二介電、防反射膜，其為錫酸鋅膜且係澱積於扈膜 上。 20·根據申請專利la圍第19項之塗覆物件，另.含外部保護覆-蓋層澱積於介電防反射膜上。 21. 根據申請專利範園第20項之塗覆物件，其中透明的非金 屬底質係玻璃，底膜具厚度範圍22至30埃，介電、防反 射膜係錫酸鋅膜，及外部保護覆蓋層為鈦氧化物。 22. —種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a. 透明的非金屬底質； b. —種第一介電防反射基膜澱積於底質上，第一基膜含 結晶金屬摻觸膜部分（其為氧化鋅膜）及支承膜部分， 其中支承膜部分與底質接觸，其支承膜部分係用結晶 金屬接觸膜部分以外之一種材料構成； -4： 本紙張尺度逋用中國國家梯準（CNS ) Α4规格（210X297公釐） --------ί—— V. (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) '1Τ._ 經濟部中央標準局負工消費合作社印策 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印裝 4365 29 A8, B8 C8 ~~~~!—-------D8 六、申請專利範固 ' e.-種第-金屬反射膜搬積於第—基膜之結晶金屬接觸 膜部分上； d·—種第一底膜澱積於第一金屬反射膜上； e.—種第二介電、防反射基膜澱積於第一底膜上，第二 基膜含結晶金屬接觸膜部分（其為氧化鋅膜）及支承膜 部分（其為錫酸鋅膜），其中支承膜部分與第一底膜接 觸，其支承膜部分係用第二基膜結晶金屬接觸膜部分 以外之材料構成； f，一種第二金屬反射膜（其為銀膜），該第二金屬反射膜 係澱積於第二基膜的結晶金屬接觸膜部分上； g.—種弟一雇1膜激積於第二金屬反應膜上〖及 h_ —種介電、防反射膜澱積於第二底膜（其為錫酸鋅膜） 上。 23. 根據申請專利範圍第22項之塗覆物件，另含一外部保護 覆蓋層澱積於介電、防反射膜上。 24. 根據申請專利範園第23項之塗覆物件，其中透明、非金 屬底質係玻璃，第一底膜且厚度22至30埃，JL外部保護 覆蓋層為一種氧化鈇膜。 25. —種高透光、低發射率塗覆物件，其包含： a. —種透明的非金屬底質； b. —種第一介電防反射基膜澱積於底質上，第一基膜含 結晶金屬接觸膜部分（其為氧化鋅膜）及支承膜部分， 其中支承膜部分與底質接觸，且其中支承膜部分係由 結晶金屬接觸膜部分以外之材料構成；' 本紙張尺度逋用中网國家揉準（CNS ).八4规格（210X297公釐） <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ,▼ 4 3 65 2 9 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範園 c. 一種第一金屬反，射膜（其為銀膜）毁積於第一基膜的結 晶金屬接觸膜部分上； d·—種第一底膜濺積於第一金屬反射膜上；. e+ —種第二介電、防反射基膜澱積於第一底膜上，第二 基膜含一結晶金屬接觸膜部分（其係氧化鋅膜）及支承 膜部分，其中支承膜部分另含一種與第一底膜接觸之 第一層氧化鋅膜及與結晶金屬接觸膜部分接觸之第二 層錫酸鋅k; f. 第二金屬反射膜（其為銀）澱積在第二基膜之結晶金屬 接觸膜部分上； g. 第二底膜澱積於第二金屬反射膜上；及 h_ —種介電、防反膜澱積於第二底膜上，其中介電、防 反射膜含澱積於底膜上的第一層氧化鋅，及搬積在介 電防反射膜之第一氧化鋅上之第二層錫酸辞膜β 26. 根據申請·專利範園第25項之塗覆物件，另含一外部保護 覆蓋層澱積於介電防反射膜上。 27. 根據申請專利範圍第26項之塗覆物件，其中透明非金屬 底質係玻璃，第一底膜澱積成厚度8至12埃的鈦金屬，第 經濟部中央標準局男工消費合作社印裂 --------、策— . t請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 二底膜澱積成厚度8至12埃之鈦金屬，外部保護覆蓋層為 欽氧化物膜β 28· —種製造多層高透光、低發射率塗覆製品之方法，其包 括步驟： a.選擇一種透明非金屬底質； b_在底質上澱積一介電防反射基膜，基膜包含一結晶金 -6- 本紙張^度適用中國國家揉準（〇阳）入4此格（210/297公釐） 436529 A8 B8 C8 D8 經濟部中央榇牟局另工消费合作社印*. 六、申請專利範圍 屬接觸膜部分（其為氧化鋅膜）及支承膜部分（其為錫酸 鋅膜），其中支承膜部分與底質接觸，且其中支承膜部 分係由結晶金屬接觸膜部分以外的材料構成； C.澱積金屬反射膜（其為銀膜）於基膜之結晶金屬接觸部 分上； d. 澱積底膜於金屬反射膜上；及 e. 澱積第二介電膜（其為錫酸鋅膜）於底膜上。 29. 根據中請專利範圍第28項之方法，另含殿積外部保護覆 * 蓋層於介電防反射膜上的步騾。 30. 根據申請專利範園第29項之方法，其中透明非金屬底質 係玻璃，底膜澱積成厚度22至30埃之鈦金屬，且外部保 護覆蓋層為鈦氧化物層。 31. —種製造多層高透光、低奋射率塗覆製品之方法，其包 括步驟： a. 選擇一種透明非金屬底質； / b. 澱積第一介電防反射基膜於底質上，第一基膜包括一 結晶金屬接觸膜部分（其為氧化鋅膜）及支承膜部分 (其錫酸鋅膜），其支承膜部分與底質接觸，且其中支 承膜部分係由結晶金屬接觸膜部分以外之其他材料構 成； C_!殿積第一金屬反射膜（其為銀膜）於第一基膜的結晶金 屬接觸膜部分上； d·澱積第一底膜於第一金屬反射膜上； e‘澱積第二介電防反射基膜於第一底膜上，第二基膜含 本紙張尺度適用中國國家榇丰（CNS } Α4規格（210 X 297公簸） ---------- ' (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 4365 29 i! C8 _ DB 六、申請專利範圍 結晶金屬接觸膜部分（其為氧化鋅膜）及支承膜部分 (其為錫酸鋅膜），其支承膜部分與第一底膜接觸，且 其中支承膜部分係由第二基膜結晶金屬接觸膜部分以 外的其他材料構成； f. 澱積第二金屬反射膜（其為銀膜）於第二基膜之結晶金 屬接觸膜部分上； g. 澱積第二底膜於第二金屬反射膜上；及 h. 滅;積第三介電防反射膜（其為錫酸鋅膜）於第二底膜 上。 32. 根據申請專利範園第31項之方法，另含澱積外部保護覆 蓋層於介電防反射膜上之步騾。 33. 根據申請專利範圍第32項之方法，其中透明非金屬底質 係玻璃，第一處膜澱積成厚22至30埃之鈦金屬，第二底 膜澱積成厚度22至30埃的鈦金屬，且外部保護覆蓋層係 鈦氧化物膜。 34. —種製造多層高透光、低發射率塗覆製品之方法，其包 括步驟： a. 選擇一種透明非金屬底質； 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 --------、：袭-- (請先閲讀背面之注f項再填寫本頁) i b. 在底質上澱積第一介電防反射基膜，第一基膜含結晶 金屬接觸膜部分（其為氧化鋅膜）及支承膜部分（其為 錫酸鋅膜），其中支承膜部分與底質接觸，且其中支 承膜部分佯由結晶金屬接觸膜部分以外的材料構成； c. 澱積第一金屬反射膜（其為銀膜）於第一基膜之結晶金 屬接觸膜部分上； -8- 本紙張尺度逍用中國國家揉準（CNS M4規格（210 X 297公釐） ^ 436529 Λ8 BS C8 D8 申請專利範圍 d，氣積弟一底膜於第一金屬反射膜上； e. 澱積第電防反射基膜於第一底膜上，第二介電防 反射基膜含結晶金屬接觸膜部分（其係氧化鋅膜），及 支承膜部分，其中支承膜部分又包括第一層氧化鋅膜 與第一底膜接觸，及第二層錫酸鋅膜與結晶金屬接觸 膜部分接觸； f. 澱積第二金屬反射膜（其為銀膜）於第二基膜的結晶金 屬接觸膜部分上； g. iisL積乐一底膜於第二金屬反射膜上.；及 h. 澱積一種介電防反射膜於第二底膜上，其中介電防反 射膜包括第一層氧化鋅膜澱钕於底膜上，及第二層錫 酸鋅膜澱積於介電防反射膜之第一氧化鋅層上。 35.根據申請專利範園第34項之方法，另含濺積外部保護覆 層於介電防反射膜上的步驟。 36·根據申請專利範圍第35項之方法，其中透明非金屬底質 係玻璃，第一底膜澱積成厚度8至12埃的鈦金屬，第二底 膜殿積成厚度8至12埃之鈦金屬’且外部保護覆蓋層為鈦 氧化物膜。 37. 根據申請專利範圍第28項之方法，其進一步包含熱處理 該經塗覆產物之步驟。 38. 根據申請專利範圍第37項之方法，其中該熱處理係為回 火熱處理。 39. 根據申請專利範圍第31項之方法，其進一步包含熱處理 該經塗覆產物之步驟。 -9 本紙張尺度速用中國國家榇丰（CNS ) A4规格（210X297公釐） --------一..:¾-- (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂： 經濟部中央標毕局貝工消費合作社印装 43 65 29 Be D8 申請專利範圍 40.根據申請專利範圍第39項之方法，其中該熱處理係為回 火熱處理。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 -10 本紙張尺度逋用中國國家搮準（CNS )八4泥格（210X297公釐）