TW418164B - Security element to avoid counterfeiting of value documents - Google Patents

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 418164 ^ 五、發明說明（/ ) 發明領域 本發明係關於一種防護元件，特別適用於保護有價値 文件’例如鈔票，信用卡，銀行卡，支票或一些具價値的 其它產品’例如軟體，CD，錄影帶，香水，衣服，及相似 物等的防護元件。在其另一觀點裡，本發明因此關於被保 護的有價値文件。最厚，本發明也關於一種製造此等防護 元件的方法。 背景技藝說明及發昍曰的 近幾年來’包括鈔票，帳簿或信用卡等有價値文件的 僞造或假冒不斷增加。倂入此等有價値文件之防護系統包 括可見或不可見或二者皆具地將編碼數據倂入文件基材上 或其內及讀取編碼數據以授權文件使用的系統。 有價値文件之一種形式可發現於美國專利第4,684, 795號。該有價値文件在其至少一表面上負載一防護特徵 或元件’其包括含有分散於黏合劑中之可磁化粒子分散液 的磁性層及具有光學繞射效果之防護層，例如全息圖或電 腦產生之繞射層，干擾層或繞射光柵。在該文件中，防護 層以至少區域性地放置於磁性層上，然而面向磁性層之防 護層的表面具有光學繞射效果之空間結構。防護層進一步 設有反射性不可磁化之金屬層。 然而，傾發現，在一些環境裡，反射性不可磁化之金 屬層可能其至少外觀被破壞或改變。這可能對防護特徵的 適當功能有負面影響。這尤其在具有光學繞射效果的防護 層結構是機械可讀取之結構，例如是全息圖或電腦產生繞 — — — — —------- ^ ---—---I 訂111 — 11 I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1 β 1 似 f， A7 ___B7__ 五、發明說明（2 ) 射之結構時變得更明顯。 美國專利第5,383,687號揭示一種有價値文件，其包 括磁性層連同防護層，其沒有展現出此等缺點。爲了避免 破壞反射金屬層，該金屬層係由不與磁性層之可磁化粒子 反應的金屬所形成。在一變體裡，載體層係沈積於金屬層 及磁性層之間。適合的金屬層可以選自銅，鉻，銀或金或 其至少一種合金。可磁化層內的磁性粒子可以選自一群包 括g-Fe203顏料，摻有Co的氧化鐵或其它磁性材料，例如 Sr，Ba磁性氧化物(ferrite)。 如上所述被保護的有價値文件仍然展現數個缺點。首 先，其具有非常多重要的不同層，因而製造相當困難而且 費用昂貴。 其次，其磁性層通常由硬或半硬磁性材料做成，以致 於受保護的文件可能受到磁性儲存裝置，例如錄影帶的干 擾。 歐洲專利申請案EP-A-0673 583揭示一種防竊盜的物 件，其包括視覺鑑定裝置及電磁元件。電磁元件，例如軟 磁層，及鑑定裝置，例如全息圖，係與黏著層結合。 具有光學繞射效果的防護層通常連接至（例如藉由黏 著劑）磁性層。因此可以使這些元件之一與其它分離並且 可以分析及再製。全息圖可藉由接觸或機械複製或通常被 僞造者使用的任何其它方法而輕易再製。 因此，本發明之目的在於提供一種防護元件，其不展 現此等缺點。 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .衣--------訂-------ί線 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 4 1 8 164 ^ Λ7 _ Β7 五、發明說明（3 ) 本發明之另一目的在於提供一種防護元件，其中繞射 光柵裝置，例如光學可變裝置（〇VD)，更特別像是全息 圖等的防僞造性質與軟磁材料的防僞造性質息息相關。 本發明之又一目的在於提供一種防護元件，其中繞射 71[:珊裝置也包含可以由機械讀取的資料。 本發明之又另一目的在於提供一種容易製造的防護元 件。 此等防護元件將展現數個優點：其非常難複製，因爲 缺乏組件之一，亦即，軟磁材料元件，而其包含的部分資 料仍未被公開。槪言之，去除繞射光柵裝置意謂著同時去 除磁性元件。 發明說明 根據本發明’軟磁材料被用來在直接塗覆於浮雕表面 時產生光學繞射效應。繞射光柵裝置及軟磁層因此合倂成 一個物體。 “軟5炫”係指具有相當低保磁力(coercive force)，例如保 磁力範圍爲3安培/米（0.037奧）到500安培/米（6.28 奧）。硬或半硬磁性材料具有較高的保磁力，例如半硬磁 性材料的保磁力範圍爲2〇00安培/米（大約25奧）到 8000安培/米（大約100奧），且硬磁材料的保磁力高於 25000安培/米(大約312奧）。 軟磁材料在曝於磁場時只展現磁性質，然而硬磁材料 則展現永久磁性質。令人驚奇的是，傾發現，繞射光栅裝 置的圖樣改善可從軟磁層讀取的訊號。此等性質得以從特 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱婧背面之注意事項再填寫本頁) .衣--------訂---------線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 18 16 4 1 ^ a? __________[37 ___________— — 五、發明說明（π) 定圖樣獲得特定的磁回應，如磁指印刷° 因此，本發明系關於-種包括磁層及、浮雕層的防護元 件，其特徵在於磁層是軟磁層而且特徵在於軟紐層至少部 分具有浮雕層之浮雕圖樣的形狀，藉以使浮雕層影響軟磁 層的磁性質。對軟磁層之磁性質的影響至少是相對渗透性 ίο%的改變或至少是保磁力ίο%的改變。 基本上瞭解的是，爲了浮雕層得以影響軟磁層的磁性 質，軟磁層必須至少部分採用浮雕層之浮雕圖樣的形狀。 因此，軟磁層可以直接敷置於浮雕層上或具有浮雕層之形 狀的另一層上。軟磁層必需不在硬環境下操作以發揮其磁 性質，例如其可以濺射於浮雕層上。 此等防護元件的分解幾乎是不可能的’因爲磁性合金 層與浮雕表面結合。試著去除磁合金層的話’將破壞浮雕 圖樣，造成繞射光柵裝置的再製不精確及無法操作°相反 地，將無法只使用繞射光柵裝置僞造防護元件’因爲容易 偵測到缺乏軟磁材料。 可能存在於本發明目的之防護元件的選擇性使用層是 一或多其它金屬層（選擇高反射率），以增強繞射光柵裝 置的光學觀點。鋁是特別適合的。該選擇性金屬層可以利 用此項技藝的任何已知方法，例如真空金屬化作用。 一般觀察，軟磁層具有相當弱的光澤度。因此，有利 的是增加金屬層高鏡面反射比。將瞭解的是，光澤層必須 沈積在防護元件的至少一可見面之上。 因此’如果防護元件欲固定其上的基材是不透明，則 6 不*.-氏張又度適用中國國豕標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公髮） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣--------訂--------*線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 418164 4 A7 _B7________ 五、發明說明（t ) 該金屬層在軟磁層之前被沈積於浮雕層上。相反地，如果 ，基材（或至少基材上固定防護元件的區域）是透明的， 則金屬層可以沈積於軟磁層表層。然而，在最後的情況裡 ，金屬層也應在軟磁層之前沈積或沈積於軟磁層兩側上。 在較佳的具體實施例裡，本發明因此關於此等防護元 件，其特徵在於防護元件進一步包括具有高鏡面反射比的 金屬層。 尤其，本發明關於此等防護元件，其中具有高鏡面反 射比之高屬層係選自鋁、銀、鉻、金或任何其它高反射性 金屬層或金屬氧化物，例如二氧化鈦、二氧化鈮、氧化錫 、氧化銦或氧化鋅，較佳爲鋁。 另一選擇性層由黏著層構成，例如壓感性黏著層，接 觸式黏著層，熱熔性黏著層，熱印型(hot stamp)黏著劑或 任何其它類型黏著劑。黏著劑可爲市售產品，例如Durasol 326或其相等物(Albright及Wilson)。此爲於甲基乙基酮 /甲苯之溶液中的甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯共聚物。 存在於黏著層中之添加劑包括熱印中斷（hot stamping break)促進劑，如 Silica Wacker HDK H15 或 Aerosil R971 及黏著促進劑，如來自Union Carbide之乙烯樹脂VMCH °黏著層可由凹版印刷方法施加或由任何其它熟於此技藝 者人仕所熟知之塗佈方法來施加。 本發明亦關於此類防護元件，其特徵在於防護元件進 一步包括黏著層，例如壓感黏著層，接觸式黏著層，熱熔 性黏著層，熱印型黏著層或任何其它類型之黏著層。 7 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------I-- 衣-------I訂·--------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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經濟部智慧財產局具工消費合作社印製 五、發明說明（6 ) 尤其，本發明係關於此等防護元件，其中黏著層包括 以a, b-乙烯系不飽和羧酸爲基質的樹脂以使防護元件永久 固定於基材。明顯地，將防護元件固定於基材上的其它方 式也屬於本發明之精神範疇。 浮雕層可以由此項技藝已知的任何可浮雕塗佈組成物 形成。該塗佈組成物通常由分子量相當高的熱塑性聚合物 (以有機溶劑所形成之溶液的形式），及傳統添加劑，例 如紫外線吸收化合物，光安定劑，抗氧化劑，以及各種不 透明顏料(opacifying pigment)，例如金屬氧化物所組成。 一旦塗在載體薄膜表面時，塗料即經由交聯作用進行硬化 。在一變體裡，相當高分子量的熱塑性聚合物可以形成負 載水的乳液。一旦塗在載體薄膜表面時，塗料即經由蒸發 水而進行硬化。 可浮雕塗佈組成物的實例包括含羧基聚合物，例如含 羧基聚酯或聚丙烯酸酯，與環氧化合物，例如含三縮水甘 油基丙烯酸共聚物或b-羥基烷基醯胺之混合物，或含羥基 聚合物，最常是含羥基聚酯》與嵌段或非嵌段異氰酸酯， 蜜胺樹脂的混合物，及相似物作爲黏合劑。 在特別的具體實施例裡，本發明係關於一種防護元件 ，其中浮雕層包括以a, b-乙烯系不飽和羧酸爲基質的樹脂 。適用於本發明之可浮雕塗佈組成物的實例說明如下：塗 佈組成物可以利用市售品，例如Paraloid All (來自Rohm & Haas)製得。該產品是一種溶解於甲基乙基酮及甲苯的 丙烯系淸漆。經塗覆之組成物的黏度必要時可以利用異丙 ---------I ---1 tL, — — — — — — II - — — — — III — (請先閱讀背面之主意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中1國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） Λ7 418164 ， _B7 五、發明說明（7 ) 醇調節。 本發明所用繞繞射光柵裝置可以是全息圖影像，以電 腦產生的繞射結構或任何其它有光學繞射效果的空間結構 〇 此等繞射光柵裝置可以由熱壓印機，像是Milford Astor M50 (單一壓印機），由連續浮雕機，像是CSIRO-RBA-EI，由高速浮雕機，像是Rotomec Laminator或由任 何其它此項技藝已知的機械浮雕可浮雕層而得。 在較佳模式中，本發明係關於一種防護元件，其中繞 射光柵圖樣係由浮雕獲得以形成全息圖。 軟磁材料基本上係由光學反射率夠高（鏡面反射比典 型高於45%，較佳58% )的軟磁薄膜所組成，以在浮雕表 面上產生繞射光柵裝置。 根據本發明所用的軟磁材料可以選自此項技藝已知的 軟磁材料。 尤其，可以使用軟磁合金，例如專利案EP 0 295 028 B1所述者。表現極佳的Co合金係爲一種用於 ATALANTE㊣軟磁薄膜。ATALANTE®係爲一種比利時 Innovative Sputtering Technology (I.S.T·) N.V.，的商標。 沈積的磁性材料可以是具有是一或多適合形成玻璃之 元素的金屬元素混合物。這些目前典型用來形成熔融絲之 磁性金屬玻璃的組成物是適合使用的。此等組成物之一是 具有適合形成玻璃之元素，例如Zr的Co-Nb。其它適合的 無定型合金包括過渡金屬類金屬（T-Μ)及過渡金屬及過 9 ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐) I I —-------I .^--------^ --------- (請先閱讀背面之注意事項再填窵本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^ 1 « 1 6 4 ^ A? B7 五、發明說明（ί ) 渡金屬(T-T)合金。本說明書中典型的類金屬是硼，碳，矽 ，磷及鍺，其可以形成大約15-30%的合金。T-T合金包含 後面的過渡金屬，例如Fe，Co，Ni或前面的過渡金屬， 例如Zr及Hf而且具有良好的熱安定性。可用來固化成無 定型相的T-Μ型合金組成物典型大約爲Τ8βΜ2()，例如 Fe8GB2();藉由將Co及Ni加入Fe-B系統，使居里溫度增 加，連同飽和磁性感也應增加。其它類金屬的添加也對材 料性質有影響，例如飽和磁性感應，居里溫度抗各向同性 ，磁化及保磁力。任何特別用途之最適合的合金可以經過 所欲性質之考慮而做選擇。 較佳合金係爲元素，通常是金屬及類金屬元素的組合 ，其以正確的原子比例組合時，在正是沈積條件之下得到 無定型結構。許多此等合金包含Co，Fe，Si及B。Ni也 可以存在。適合的合金係爲無定型金屬玻璃，例如： C〇aFebNicM〇dSieBf，其中a之範圍爲35到70原子百分比 ’ b是0到8個原子百分比，c是〇到40個原子百分比，d 是〇到4個原子百分比’ e是〇到30個原子百分比，而f 是0到30個原子百分比’ b，c, d及e，f其中至少一'族群不 等於〇。發現包含鎳可助於增加產物的延展性，其有利於 處理及使用。適合性質也可以利用設計具有零磁應變之鐵 ’鋁及矽的合金獲得。一些合金的磁性質對於其化學劑量 組成物的改變非常敏感。其它則具有磁應變，且因而不具 有夠高的滲透性。Co/Fe的比例明顯對合金的磁應變性質 有影響；原子比例Co/Fe較佳爲8 : 1到20 : 1。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公楚） -----------» ^ ---------^ --------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) iii Λ7 B7 五、發明說明（7 ) 令人滿意的合金是Co66Fe4Mo2Sii6B12。其它合金包含 錳取代鉬。另外的合金具有c〇, 42 ; Fe，4 ; Ni，28 ; Si, 16 ;B，9個原子百分比的組成物。 本發明係關於一種防護元件，其中軟磁層基本上由含 鈷及鈮的合金，連同形成玻璃之元素組成。 本發明也關於一種防護元件，其中軟磁層基本上由含 鈷，鐵，矽及硼，視需要進一步含有鎳的合金組成。 在_變體裡，本發明係關於一種防護元件，其中軟磁 層係由具有化學式CoaFebNieModSieBr的合金形成，其中a 是35到70個原子百分比，b是0到8個原子百分比，c晏 〇到40個原子百分比，d是0到4個原子百分比，e是〇 到3〇個原子百分比，而f是0到30個原子百分比，b，c，d 及e，f其中至少一個不等於〇。尤其，本發明係關於一種防 護元件，其中軟磁層係由具有Co 35-70, Fe 2-7, Ni 10-35, 〇_2, Si 12-20及B 6-12 (原子百分比）之組成物的合金 形成。 本發明也關於一種製造此等防護元件的方法，其包括 下列步驟： a) 在聚合薄膜載體上塗覆一脫模塗層， b) 在作爲載體的聚合薄膜上塗覆可浮雕層， C)以繞射光柵圖樣，例如全息圖來，浮雕可浮雕層， 及 d)在浮雕層的浮雕面上塗覆軟磁層。在浮雕層浮雕面 上使用軟磁層係影響其磁性質。視需要地，該方法進一步 11 ------- Ά--I--I--訂---------戚 (請先閱讀背面之注意事項舟填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 私紙張尺度適用中國國家標举（CNS)A4規格（21〇 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（/c ) 包括在軟磁層上方塗覆黏著層’例如壓感性黏著層，接觸 式黏著層，熱熔性黏著層’熱印型黏著層或任何其它種類 的黏著層。 尤其，本發明也關於一種製造此等防護元件的方法， 其進一步包括下列步驟：視需要地塗覆高鏡面反射率之金 屬層。軟磁層上或軟磁層下塗覆具有高鏡面反射率的選擇 性金屬層。 可以在載體薄膜（步驟a)塗覆適用於進一步熱印方 法的脫模塗層。此等載體薄膜可以是聚酯薄膜，例如聚對 酞酸乙二酯薄膜（ICI Autralia 生產的 Melinex S，DuPont 生產的Mylar-A)或其它載體薄膜，例如Cellophane®。 該脫模組成物可以選自聚合物，蠟，膠，凝膠及其混 合物。該脫模塗層組成物可以利用像是凹版印刷方法或此 項技藝已知的任何塗覆技術塗覆。該可浮雕層可以藉由例 如凹版印刷方法或此項技藝已知的任何塗覆技術塗覆在脫 模塗層的表層(步驟b)。軟磁材料的沈積技術可以是濺射例 如DC磁控管濺射，電子束或熱蒸發（使沈積速度較快， 但是獲得密度較低的產物）或電解方法。其它技術係爲有 機金屬蒸汽熱解方法。其它可能使用的方法包括雷射驅動 物理蒸汽沈積法，其中雷射束在目標表面上掃瞄以使沈積 的材料剝離並使用化學技術使沈積物脫離液體。較佳的沈 積技術爲DC磁控管濺射。 如前所述’軟磁無定型金屬玻璃薄膜塗層可以藉由濺 射電子束蒸發’或無電式或電解式化學沈積法沈積。爲了 家標準（CNS)A4 規格（21q97 H} I ^^1 ^^1 H ^^1 ' .^ n n n n I 彳 今口 袁 <請先閱讀背面之注咅心事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A1 S164 ινι Λ7 π 137 五、發明說明（I丨） 達到所欲的磁性質，尤其是供經濺射薄膜用的低矯頑磁力 ，濺射壓力較佳爲0.1到10帕氬氣’此値係視塗覆器的幾 何大小及視經濺射材料的組成物而定。氣體壓力越低’經 濺射產物的密度越高，因爲在目標物及基材之間的經濺射 原子平均自由路徑縮短。 濺射沈積活性磁層所用的目標物較佳由熱定型壓製法 (H.I.P.)，從欲合金化之氣體霧化粉末開始而製備。 高鏡面反射率之金屬層的沈積技術可以與軟磁層相同 。較佳地，該步驟與軟磁層沈積一起進行。 本發明之防護元件物體可以用在防護元件，例如鈔票 及相似物，但是也可以用於鑑定目的之用的任何元件或確 認方式。此等文件或方式包括信用卡，支票，債券或安全 性或真確性被證實的任何文件，例如標籤。 因此，本發明之其它目的係關於一種防護文件，其具 有例如此等防護元件。尤其，此等防護元件是鈔票，信用 卡，支票或標籤。 製造此等防護元件的方法包括藉由例如熱印方法（轉 移塗覆法）將本發明之防護元件轉移至基材上。 根據本發明使用的基材包括紙，聚烴烯薄膜及一般的 聚合物薄膜’剛性聚合物材料，金屬箔及相似物。以雙位 向(Bioriented)聚丙儲薄膜爲較佳。 基材可以是適和材料的連續網或片。基材可以是淸澈 的或不透明。 而且’必要時’由脫模劑組成的脫模薄膜或片可以覆 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2K) x 297公釐）

Hi------- ^ --------訂·--------線 <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^ 1 8 1 64 A7 ______B7 五、發明說明（U) 蓋於黏著層上。 根據本發明包括防護元件的該積合層可以作爲黏著標 籤，其可固定於大部分類型的表面上。下列實施例僅供說 明本發明之用。 圖式的簡要說明 第1圖，第2圖及第3圖皆顯示根據本發明之防護元 件的層狀結構。爲了更瞭解本發明，請參考所附之圖式， 其中： 第1圖係顯示本發明之防護元件物體，其包括聚合薄 膜載體（1)，脫模塗層（2)，浮雕層（3)及軟磁層（4 )0 第2圖係顯示類似第1圖之防護元件，但進一步包括 具有鏡面高反射率（5)的金屬層及黏著層（6)。 第3圖係顯示之如第2圖所示防護元件之後的防護文 件’其係藉由熱印方法轉移至基材（7)上。 實施例1 :製造標籤彤勢的防護元件 雌 熱印薄膜的載體是Melinex聚醋等級S 23微米厚， 由 ICI Australia 生產。 脫模塗_ 脫模塗層是Carnoba蠟而且以凹版印刷塗覆機塗在載 體薄膜上。 可浮雕層滚液 浮雕層係由Rohm及Haas生產的Paraloid All製得。 14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1— -^1 ^^1 n n n 訂---------竣 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局員工湞費合作社印制^ 五、發明說明（β) 這是顆粒形式100%的丙烯酸系淸漆。熔融溫度（熱桿） 是160°C到l7〇°C。淸漆溶劑是甲基乙基酮及甲苯的混合物 。黏度調節劑是異两醇。 將1份Paraloid All在攪拌下，溫度大約5(TC下加入 4份甲苯。20%固體溶液係由淸漆完全溶解之後另外加入 甲苯而得。將溶液經由玻璃毛墊過濾且必要時以異丙醇調 節黏度。 途層的塗覆 可浮雕塗佈溶液係藉由凹版印刷方法，以旋轉平整桿 (smoothing bar)塗在載體薄膜上。黏度調截至22秒（以第 2號Zahn杯測量）。 凹版印刷筒以每吋機械性刻上11〇條線並在50微米 的管深處做記號。塗層的最終重量大約1.5 ± 0.3克/平方 米。 然後在至少55°C的溫度下，以良好的空氣流通將溶劑 從經塗覆之薄膜去除。 熱印薄膜的浮雕

Melinex上的Paraloid塗層係藉由熱壓方式以改良過 的Rotomec Laminator (410毫米寬）浮雕。壓印力大約 800千帕計式壓力。壓印滾筒硬度爲大約85 (蕭氏硬度） 。浮雕溫度爲大約125t。預熱溫度爲大約120°C。驟冷滾 筒溫度爲l〇-l5°C。網速爲30米/分鐘而網張力是TBE.軟 磁層。 浮雕塗覆薄膜係以ATALANTE®或任一種基本頻率的 15 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^^1 ^^1 IV ^^1 ^^1 ^^1 ^^1 ^^1 ^^1 - ^^1 ^^1 ^1· ^^1 ^^1 n» n I ^^1 - ^^1 ^^1 ^^1 I (諝先閱讀背面之;i意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 ____J37__ 五、發明說明（作） 軟磁合金產生諧波。 軟磁金屬層係由磁控管濺射法沈積。厚度可以是150-700微毫米。 黏著層 塗層黏著劑是 Durasol 326 (Albright & Wilson)。這 是一種甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸丁酯共聚物。熔融溫度是 120°C到135°C。還原溶劑是甲苯及甲基乙基酮的混合物。 添加劑包括熱印中斷促進劑Silica HDK H15 (Wacker)及 黏著促進劑（乙烯樹脂（Union Carbide生產））。 黏著劑溶液包含7% (以固體爲計算基礎）乙烯樹脂 VMCH的黏著促進劑及1% (以固體爲計算基礎）的Silica HDK H15。黏著促進劑係由乙烯樹脂VMCH溶解於甲基乙 基酮溶劑中以達成20%固體溶液而製得。中斷促進劑係由 將以甲苯爲溶劑之Silica HDK H15混入均勻糊漿而製得。 然後將黏著促進劑混合物及中斷促進劑混合物在連續 ,混合之下加入Durasol 326。在完成加入程序後，以50 : 50 的甲苯/甲基乙基酮減少至所要的黏度及大約18%的固體溶 液。 塗層的塗覆 黏著塗層係由凹版印刷方法塗覆在軟磁層表層。 黏度係爲22秒（第2號Zahn杯）。凹版印刷筒以每 吋機械性刻上110條線並在50微米的管深處做記號。塗層 的最終重量大約1.8 ± 0·2克/平方米。 然後在至少55°C的溫度下，以適當的空氣流速’藉由 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

於·--I 訂----- 绫 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公；t )

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（π ) 加熱網的方式使塗層盡可能地乾燥= 實施例2 :防護元件的特徵 根據實施例1所述之方法製造數個防護元件，並測試 其磁性質。 組別 OVD的品質 軟磁層的厚度 (毫微米） 1 粒狀，粗糙浮雕圖樣（A) 170 2 350 3 精細浮雕圖樣 (B 及 C) 170 4 350 5 285 6 235 7 沒有浮雕的 對照組薄膜 370 實施例7僅作爲比較實施例之用。 在實施例1及2裡，使用粗糙圖樣A，然而實施例3 到6浮雕二個高解析度的圖樣（B及C)。磁性質的差異 及因而浮雕圖樣對磁訊號的影響係淸楚說明於下表之中。 樣品的保磁力及滲透性係利用磁強計以1千赫測量。

沒有浮雕的圖樣浮雕圖樣A 浮雕圖樣B 浮雕圖樣C

Hc(Oe) β Hc(Oe) β Hc(Oe) β Hc(Oe) β 1 >1 <5000 2 >1 <5000 3 >1 <5000 >1 <5000 4 0.6 8000 0.65 9000 5 0.72 6000 0.76 7500 6 >1 <5000 >1 <5000 0.54 23000 17 本紙張反度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 4-------—訂---------線 五、發明說明（丨4，） “：磁滲透性

Hc :矯頑磁力（以奧爲單位測量） 從這些測量結果，可以看出 -固有磁性質，像是矯頑磁力及滲透性係由浮雕圖樣（ 比較實施例1到6和實施例7的滲透性）影響至少1〇% ° -固有磁性質，像是橋頑磁力及滲透性係由浮雕種類W 響（比較浮雕圖樣B及C之矯頑磁力）。 主要元件說明 1 聚合薄膜載體 2 脫模塗層 3 浮雕層 4 軟磁層 5 具有鏡面高反射率的金屬層 6 黏著層 7 基材 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-- --ϋ I I n I 經濟部智慧財產局員J-消費合作社印製 18 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公f )

Claims (1)

1. 418164 4 六、申請專利範圍 1·一種包括磁性層及浮雕層之防護元件’其特徵在於 磁性層爲軟磁層及軟磁層至少部分具有浮雕層之浮雕圖樣 的形狀，藉以浮雕層影響軟磁層之磁性質。 2.根據申請專利範圍第1項之防護元件’其中防護元 件進一步包括至少一具有商鏡面反射比的金屬層。 3·根據申請專利範圍第2項之防護兀件’其中具有禹 反射比之金屬層係選自絕，銀’絡’金或任何其它高反射 性金屬層或金屬氧化物，例如二氧化鈦，二氧化鈮，氧化 錫，氧化銦’氧化銦-錫或氧化鋅° 4. 根據申請專利範圍第1項之防護兀件’其中防護兀 件進一步包括黏著層。 5. 根據申請專利範圍第4項之防護元件’其中黏著層 基本上係由以a，b-乙烯系不飽和羧酸爲基質的樹脂所組成 Q 6. 根據申請專利範圍第1項之防護元件’其中浮雕層 包括以a，b-乙烯系不飽和羧酸爲基質的樹脂。 7. 根據申請專利範圍第1項之防護元件’其中浮雕繞 射光柵裝置以形成全息圖。 8. 根據申請專利範圍第1項之防護元件’其中軟磁層 基本上係由含鈷及鈮的合金’連同形成玻璃之元素所組成 〇 9. 根據申請專利範圍第1項之防護元件’其中軟磁層 基本上包括含鈷，鐵’矽及硼之合金所組成。 10. 根據申請專利範圍第9項之防護元件，其中該合金 本纸張尺度適用中國國家標準（CNTS)A4規袼⑵烈7公釐〉 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) * ------線丨 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 418164 !s D8 _ 六、申請專利範圍 進一步包含鎳。 11. 根據申請專利範圍第9項之防護元件’其中該合金 具有化學式 CoaFebNieModSieBf，其中a是35到70原子百分比，b 是0到8個原子百分比’ c是〇到40個原子百分比’ d是 0到4個原子百分比，e是0到30個原子百分比’而f是〇 到30個原子百分比，b, c，d及e,f其中至少一族群不等於 0 ° 12. 根據申請專利範圍第11項之防護元件’其中該合 金具有下列範圍之組成物：Co 35-70 ’ Fe 2-7，Ni 10-35 ’ Mo 0-2，Si 12-20 及 B 6-12。 Π.根據申請專利範圍第1項之防護元件，其中浮雕層 之浮雕圖樣的形狀僅浮雕於單一軟磁層上。 14. 根據申請專利範圍第1項之防護元件，其中軟磁層 材料的保磁力爲3安培/米到500安培/米。 15. 根據申請專利範圍第1項之防護元件，其中軟磁層 是無法作用硬化之層。 16. 根據申請專利範圍第1項之防護元件，其中軟磁層 是濺射層。 17. 根據申請專利範圍第1項之防護元件，其中對軟磁 層之磁性質的影響是至少10%保磁力的改變或至少10%相 對滲透性的改變。 18. —種製造防護元件的方法，其包括下列步驟： a)在聚合薄膜載體上塗覆一脫模塗層， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A‘l規格（210 X 297公复） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線丨 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -I n 1 1 n 4— I . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 18 16 4 .頜 ' C8 D8 六、申請專利範圍 b) 在作爲載體的聚合薄膜上塗覆可浮雕層， c) 以繞射光柵圖樣，例如全息圖，浮雕可浮雕層，及 d) 在浮雕層的浮雕表面上塗覆軟磁層，藉此一塗覆的 步驟影響軟磁層之磁性質。 19. 根據申請專利範圍第18項之製造防護元件的方法 ，進一步包括將高鏡像反射比之金屬層塗覆於軟磁層底下 ，上方或兩側上的步驟。 20. 根據申請專利範圍第18項之製造防護元件的方法 ，進一步包括在不同沈積層之表層上塗覆黏著層的步驟。 21. 根據申請專利範圍第18項之製造防護元件的方法 ，其中浮雕層之浮雕圖樣的形狀僅浮雕於單一軟磁層上。 22. 根據申請專利範圍第18項之製造防護元件的方法 ，其中軟磁層材料的保磁力爲3安培/米到500安培/米。 23. 根據申請專利範圍第18項之製造防護元件的方法 ，其中軟磁層是無法作用硬化之層。 24. 根據申請專利範圍第18項之製造防護元件的方法 ，其中軟磁層是濺射層= 25. 根據申請專利範圍第18項之製造防護元件的方法 ，其中對軟磁層之磁性質的影響是至少10%保磁力的改變 或至少10%相對滲透性的改變。 26. —種具有防護元件的防護文件，該防護元件包括磁 性層及浮雕層，其特徵在於磁性層是軟磁層而且特徵在於 軟磁層至少部分具有浮雕層之浮雕圖樣的形狀，藉以浮雕 層影響軟磁層之磁性質。 , .—1---r. ^--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 * 297公釐） 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印制^ 4 ίι β 1 6 4 1 β8 ^ C8 D8 六、申請專利範圍 27. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中防護 元件進一步包括至少一具有高鏡像反射比的金屬層。 28. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中防護 元件進一步包括黏著層。 29. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中浮雕 層包括以a，b-乙烯系不飽和羧酸爲基質的樹脂。 30. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中浮雕 繞射光柵裝置以形成全息圖。 31. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中軟磁 層基本上係由含鈷及鈮的合金，連同形成玻璃之元素所組 成。 32. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中軟磁 層基本上包括含鈷，鐵，矽及硼之合金所組成。 33. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中浮雕 層之浮雕圖樣的形狀僅浮雕於單一軟磁層上。 34. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中軟磁 層材料的保磁力爲3安培/米到500安培/米。 35. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中軟磁 層是無法作用硬化之層。 36. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中軟磁 層是濺射層。 37. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中對軟 磁層之磁性質的影響是至少10%保磁力的改變或至少1〇% 相對滲透性的改變。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2〖〇χ 297公釐） AS B8 CS D8 六、申請專利範圍 38. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中此等 防護文件是鈔票，信用卡或支票。 39. 根據申請專利範圍第26項之防護文件，其中此等 防護文件是標籤。 40. —種製造具有防護元件之防護文件的方法，其包括 將包括磁性層及浮雕層的防護元件固定的步驟，磁性層是 軟磁層而且軟磁層至少部分具有浮雕層之浮雕圖樣的形狀 ，藉以使浮雕層影響軟磁層的磁性質。 41. 根據申請專利範圍第40項之方法，其中防護元件 固定在基本上是淸澈區域的基板。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -ϊ - -f I I )eJ1 I n n n j 1 i 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS).A4規格（21ϋ κ 297公釐）