JP2001202491A - 偽造防止効果を高めたｉｃカード - Google Patents
偽造防止効果を高めたｉｃカードInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カード表面にＩＤ固有情報を記録した識別体
を有する偽造防止効果を高めたＩＣカードを提供する。 【解決手段】 本発明の偽造防止効果を高めたＩＣカー
ドは、ＩＣカード基材に、メモリーを有するＩＣチップ
と強磁性材箔からなる識別体１３を設けたＩＣカードで
あって、当該識別体にＩＤ固有情報を記録し、当該記録
された情報と同一のＩＤ固有情報をＩＣチップのメモリ
ーに記憶させたことを特徴とする。上記において、強磁
性材１３ａをアモルファス強磁性材とすることができ、
ＩＣカードが磁気記録のための磁気ストライプ１４を有
するものとすることができ、また、強磁性箔からなる識
別体の表面にホログラム層１３ｈを有するようにするこ
とができる。
を有する偽造防止効果を高めたＩＣカードを提供する。 【解決手段】 本発明の偽造防止効果を高めたＩＣカー
ドは、ＩＣカード基材に、メモリーを有するＩＣチップ
と強磁性材箔からなる識別体１３を設けたＩＣカードで
あって、当該識別体にＩＤ固有情報を記録し、当該記録
された情報と同一のＩＤ固有情報をＩＣチップのメモリ
ーに記憶させたことを特徴とする。上記において、強磁
性材１３ａをアモルファス強磁性材とすることができ、
ＩＣカードが磁気記録のための磁気ストライプ１４を有
するものとすることができ、また、強磁性箔からなる識
別体の表面にホログラム層１３ｈを有するようにするこ
とができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、偽造防止効果を高
めたＩＣカードに関する。詳しくは、ＩＣカードにアモ
ルファス強磁性材箔からなる識別体を設け、当該識別体
にＩＣチップに記録された固有情報と同一のＩＤ固有情
報を記録したＩＣカードに関する。
めたＩＣカードに関する。詳しくは、ＩＣカードにアモ
ルファス強磁性材箔からなる識別体を設け、当該識別体
にＩＣチップに記録された固有情報と同一のＩＤ固有情
報を記録したＩＣカードに関する。
【０００２】
【従来技術】従来よりＩＣチップを使用したＩＣカード
は、データの解析が困難なことから高度なセキュリティ
ー媒体として使用されてきた。しかし、近年、解読技術
やコンピュータ処理速度の向上により暗号化した内容の
解析も比較的短時間にされる場合も生じるようになって
きた。したがって、ＩＣチップの暗号ソフトが解析さ
れ、ＩＣチップの製造複製が可能になった場合、元のカ
ード基材はいとも簡単に入手可能なため、ＩＣチップ付
きカードの製造は容易になされることになる。
は、データの解析が困難なことから高度なセキュリティ
ー媒体として使用されてきた。しかし、近年、解読技術
やコンピュータ処理速度の向上により暗号化した内容の
解析も比較的短時間にされる場合も生じるようになって
きた。したがって、ＩＣチップの暗号ソフトが解析さ
れ、ＩＣチップの製造複製が可能になった場合、元のカ
ード基材はいとも簡単に入手可能なため、ＩＣチップ付
きカードの製造は容易になされることになる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明ではＩ
Ｃチップ暗号ソフトが解析された場合でも、元のカード
基材に偽造が極めて困難なＩＤ固有性を持たせること
で、ＩＣカードそのものの偽造を防止しようとするもの
である。ＩＤ固有性の持たせ方としては、材料的に偽造
が極めて困難な強磁性材、特にアモルファス強磁性材を
利用し、ＩＣチップ内データと対応したデータを当該強
磁性材に持たせることにある。
Ｃチップ暗号ソフトが解析された場合でも、元のカード
基材に偽造が極めて困難なＩＤ固有性を持たせること
で、ＩＣカードそのものの偽造を防止しようとするもの
である。ＩＤ固有性の持たせ方としては、材料的に偽造
が極めて困難な強磁性材、特にアモルファス強磁性材を
利用し、ＩＣチップ内データと対応したデータを当該強
磁性材に持たせることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の要旨は、ＩＣカード基材に、メモリーを有す
るＩＣチップと強磁性材箔からなる識別体を設けたＩＣ
カードであって、当該識別体にＩＤ固有情報を記録し、
当該記録された情報と同一のＩＤ固有情報をＩＣチップ
のメモリーに記憶させたことを特徴とする偽造防止効果
を高めたＩＣカード、にある。かかるＩＣカードである
ため偽造、複製が困難である。
の本発明の要旨は、ＩＣカード基材に、メモリーを有す
るＩＣチップと強磁性材箔からなる識別体を設けたＩＣ
カードであって、当該識別体にＩＤ固有情報を記録し、
当該記録された情報と同一のＩＤ固有情報をＩＣチップ
のメモリーに記憶させたことを特徴とする偽造防止効果
を高めたＩＣカード、にある。かかるＩＣカードである
ため偽造、複製が困難である。
【０００５】上記において、強磁性材箔がアモルファス
強磁性材箔であること、ＩＣカードが磁気記録のための
磁気ストライプをさらに有すること、識別体の表面にホ
ログラム層を有するようにすることもでき、この場合は
偽造、複製が一層困難なものとなる。また、強磁性材箔
からなる識別体への記録がレーザービームでされるよう
にすれば、高密度に記録した識別体が得られる。
強磁性材箔であること、ＩＣカードが磁気記録のための
磁気ストライプをさらに有すること、識別体の表面にホ
ログラム層を有するようにすることもでき、この場合は
偽造、複製が一層困難なものとなる。また、強磁性材箔
からなる識別体への記録がレーザービームでされるよう
にすれば、高密度に記録した識別体が得られる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の偽造防止効果を高めたＩ
Ｃカードは、メモリーを有するＩＣチップとアモルファ
ス強磁性材箔からなる識別体をＩＣカード基材に設け、
当該識別体にＩＤ固有情報を記録し、当該記録された情
報と同一のＩＤ固有情報をＩＣチップのメモリーに記憶
させている。このような構成からなることにより識別体
自体の製造が困難であるとともに、識別体にＩＣチップ
に記憶された固有情報と同一のＩＤ固有情報を記録する
ことが困難であることから、偽造、複製は一層困難なも
のとなる。
Ｃカードは、メモリーを有するＩＣチップとアモルファ
ス強磁性材箔からなる識別体をＩＣカード基材に設け、
当該識別体にＩＤ固有情報を記録し、当該記録された情
報と同一のＩＤ固有情報をＩＣチップのメモリーに記憶
させている。このような構成からなることにより識別体
自体の製造が困難であるとともに、識別体にＩＣチップ
に記憶された固有情報と同一のＩＤ固有情報を記録する
ことが困難であることから、偽造、複製は一層困難なも
のとなる。
【０００７】以下、本発明の実施形態を図面を参照して
説明することにする。図１は、本発明のＩＣカードを示
す図であり、図１（Ａ）は平面図、（Ｂ）は図１（Ａ）
のＡ−Ａ線に沿う断面を示している。図１のように、本
発明のＩＣカードは、プラスチックからなるカード基材
１１にＩＣチップ１２が埋設されてなり、当該ＩＣチッ
プはメモリーを有し、メモリーには通常の取引事項が記
録される他、ＩＣカードの利用者に関するＩＤ固有情報
が記録されている。１３は識別体であり、カード基材１
１に粘着剤１３ｎを介して強磁性材１３ａが転写されて
いる。当該強磁性材には前記のようにＩＣチップに記録
されたと同一のＩＤ固有情報が記録されている。さら
に、ＩＣカードには通常の磁気記録のための磁気ストラ
イプ１４を有することが好ましく、カード利用者名を記
名するエンボス領域１５も設けられる。識別体１３は、
図１（Ａ）のようにカード表面側でもよく、ＩＣチップ
の裏面側に設けてもよい。また、強磁性材箔のカード表
面側となる面には、ホログラム層１３ｈを有することが
好ましく、これにより偽造、複製を一層困難なものとす
ることができる。
説明することにする。図１は、本発明のＩＣカードを示
す図であり、図１（Ａ）は平面図、（Ｂ）は図１（Ａ）
のＡ−Ａ線に沿う断面を示している。図１のように、本
発明のＩＣカードは、プラスチックからなるカード基材
１１にＩＣチップ１２が埋設されてなり、当該ＩＣチッ
プはメモリーを有し、メモリーには通常の取引事項が記
録される他、ＩＣカードの利用者に関するＩＤ固有情報
が記録されている。１３は識別体であり、カード基材１
１に粘着剤１３ｎを介して強磁性材１３ａが転写されて
いる。当該強磁性材には前記のようにＩＣチップに記録
されたと同一のＩＤ固有情報が記録されている。さら
に、ＩＣカードには通常の磁気記録のための磁気ストラ
イプ１４を有することが好ましく、カード利用者名を記
名するエンボス領域１５も設けられる。識別体１３は、
図１（Ａ）のようにカード表面側でもよく、ＩＣチップ
の裏面側に設けてもよい。また、強磁性材箔のカード表
面側となる面には、ホログラム層１３ｈを有することが
好ましく、これにより偽造、複製を一層困難なものとす
ることができる。
【０００８】図１の場合、ＩＣチップは外部装置接続用
端子基板１２ｃを有し、接触型ＩＣカードを示している
が、外部装置と非接触で交信するものであってもよい。
図示しないが、この場合は、カード基材内にＩＣチップ
が埋設されるとともに交信用のアンテナコイルがカード
基材内に設けられる。
端子基板１２ｃを有し、接触型ＩＣカードを示している
が、外部装置と非接触で交信するものであってもよい。
図示しないが、この場合は、カード基材内にＩＣチップ
が埋設されるとともに交信用のアンテナコイルがカード
基材内に設けられる。
【０００９】識別体に記録する内容は、ＩＣチップに記
録する固有情報の数値等と同一のものでも良く、何らか
のアルゴリズムにより１対１で関係づけられる数値、文
字、記号等であっても良い。暗証番号をも記録するか否
かはカード発行者に委ねられる事項である。識別体の記
録内容は通常書き換えることはできない内容となるの
で、常時、変更を必要とするようなＩＤ固有情報は避け
ることが好ましい。識別体の磁性層にレーザービームで
書き込んだ場合に、０．２ｍｍの幅で書き込み、かつ読
み取れることが確認されており、１ｍｍ幅で５ビット、
８ｍｍ幅で５バイトの記録ができることになる。すなわ
ち、２〜３ｃｍ幅の強磁性材箔を転写すれば、かなりの
ＩＤ固有情報を記録することができる。
録する固有情報の数値等と同一のものでも良く、何らか
のアルゴリズムにより１対１で関係づけられる数値、文
字、記号等であっても良い。暗証番号をも記録するか否
かはカード発行者に委ねられる事項である。識別体の記
録内容は通常書き換えることはできない内容となるの
で、常時、変更を必要とするようなＩＤ固有情報は避け
ることが好ましい。識別体の磁性層にレーザービームで
書き込んだ場合に、０．２ｍｍの幅で書き込み、かつ読
み取れることが確認されており、１ｍｍ幅で５ビット、
８ｍｍ幅で５バイトの記録ができることになる。すなわ
ち、２〜３ｃｍ幅の強磁性材箔を転写すれば、かなりの
ＩＤ固有情報を記録することができる。
【００１０】次に、本発明のＩＣカードの発行手順につ
いて説明する。図２は、ＩＣカードの発行手順の例を示
す図である。図２（Ａ）は生カードの状態であり、生カ
ード右下には、強磁性材箔またはホログラム付き強磁性
材箔からなる識別体１３が転写されている。次に、図２
（Ｂ）は、エンボス／エンコード処理の工程を示す、磁
気ストライプ１４へのエンコードとエンボス領域１５へ
のカード利用者の氏名等のエンボスがなされる。図２
（Ｃ）は、ＩＣチップへのエンコード処理を示す図であ
る。ＩＣチップのメモリーには特定のデータ、例えば
「××××ａａａａ××××」が記録される。このデー
タの内、「ａａａａ」の固有データ部分のみを、ＩＣチ
ップ内の特定固有データとして、強磁性材箔からなる識
別体１３にレーザービームにて描画加工して本発明の偽
造防止効果を高めたＩＣカードが完成する（図２
（Ｄ））。描画の際、ＩＣチップの固有データに対して
リンク付けに暗号処理（例えば、スクランブル化）した
データを付与して識別体に記録すれば、解読が困難なこ
とから偽造、複製が一層困難になる。なお、レーザービ
ームによる描画加工は金属部分に対してのみされるの
で、ホログラム層を介して描画してもホログラム層が損
傷することはない。もし、強磁性材層とホログラム層と
の間にアルミ等の金属反射層がある場合は双方の金属層
に対して加工がされることになる。
いて説明する。図２は、ＩＣカードの発行手順の例を示
す図である。図２（Ａ）は生カードの状態であり、生カ
ード右下には、強磁性材箔またはホログラム付き強磁性
材箔からなる識別体１３が転写されている。次に、図２
（Ｂ）は、エンボス／エンコード処理の工程を示す、磁
気ストライプ１４へのエンコードとエンボス領域１５へ
のカード利用者の氏名等のエンボスがなされる。図２
（Ｃ）は、ＩＣチップへのエンコード処理を示す図であ
る。ＩＣチップのメモリーには特定のデータ、例えば
「××××ａａａａ××××」が記録される。このデー
タの内、「ａａａａ」の固有データ部分のみを、ＩＣチ
ップ内の特定固有データとして、強磁性材箔からなる識
別体１３にレーザービームにて描画加工して本発明の偽
造防止効果を高めたＩＣカードが完成する（図２
（Ｄ））。描画の際、ＩＣチップの固有データに対して
リンク付けに暗号処理（例えば、スクランブル化）した
データを付与して識別体に記録すれば、解読が困難なこ
とから偽造、複製が一層困難になる。なお、レーザービ
ームによる描画加工は金属部分に対してのみされるの
で、ホログラム層を介して描画してもホログラム層が損
傷することはない。もし、強磁性材層とホログラム層と
の間にアルミ等の金属反射層がある場合は双方の金属層
に対して加工がされることになる。
【００１１】発行されるＩＣカードのＩＣチップメモリ
ーには、多種のアプリケーションに対応した暗号化アル
ゴリズムが書き込まれる。これらは多用されるアメリカ
データ標準局のＤＥＳのような慣用暗号系であってもＲ
ＳＡ暗号系やエルガマル暗号系のような公開暗号系であ
ってもよい。このように暗号化することにより、たとえ
信号が読み出されたとしても信号の解読を困難にすれ
ば、ＩＣカードの偽造を一層困難にすることができる。
例として、ＥＣ諸国で使用されている電子マネーとして
の利用を考えた場合、オンライン取引をするための属性
データの確認は磁気ストライプで行い、利用履歴等の追
記／書き換えデータはＩＣチップ内で処理される。真正
なカードであるか否かはＩＣチップ内の特定固有データ
で確認するのが一般的であるが、強磁性材箔からなる識
別体の記録データを専用の読み取り装置で認識の上、Ｉ
Ｃチップ内データとの整合を確認し、カードの真正をチ
ェックすることもできる。このようなＩＣカードの読み
取り装置の構成としては、ＩＣカード用のリーダライ
タ、磁気ストライプ用のリーダライタ、識別体のリーダ
と３つの読み取り部が必要となり、回路を一体化したス
タンドアローン形式の装置が推奨される。
ーには、多種のアプリケーションに対応した暗号化アル
ゴリズムが書き込まれる。これらは多用されるアメリカ
データ標準局のＤＥＳのような慣用暗号系であってもＲ
ＳＡ暗号系やエルガマル暗号系のような公開暗号系であ
ってもよい。このように暗号化することにより、たとえ
信号が読み出されたとしても信号の解読を困難にすれ
ば、ＩＣカードの偽造を一層困難にすることができる。
例として、ＥＣ諸国で使用されている電子マネーとして
の利用を考えた場合、オンライン取引をするための属性
データの確認は磁気ストライプで行い、利用履歴等の追
記／書き換えデータはＩＣチップ内で処理される。真正
なカードであるか否かはＩＣチップ内の特定固有データ
で確認するのが一般的であるが、強磁性材箔からなる識
別体の記録データを専用の読み取り装置で認識の上、Ｉ
Ｃチップ内データとの整合を確認し、カードの真正をチ
ェックすることもできる。このようなＩＣカードの読み
取り装置の構成としては、ＩＣカード用のリーダライ
タ、磁気ストライプ用のリーダライタ、識別体のリーダ
と３つの読み取り部が必要となり、回路を一体化したス
タンドアローン形式の装置が推奨される。
【００１２】次に、本発明のＩＣカードに使用する識別
体について説明する。図３は、ホログラム付き強磁性材
転写箔を示す断面図である。識別体１３は、このような
強磁性材転写箔をカード基材に転写することにより形成
する。強磁性材転写箔２３は、支持体となる基材２３１
上に離型層２３２を介して光回折格子またはホログラム
パターンが形成された樹脂層２３３を設け、その表面に
強磁性材を蒸着またはスパッタ等の気相法で形成して磁
性層兼反射層を形成するかまたは別にアルミニウム等の
光反射層を介在させて通常の光輝性転写箔と同等の反射
効果を持たせたうえで強磁性材層２３４を設けた構成か
らなるもので、ホログラムによる特有の光輝性および３
次元表示効果と強磁性材箔による磁気特性から、通常の
光輝性転写箔や磁気転写箔では得られない複合した効果
を有し、偽造、改ざん困難性を高めたものとなる。
体について説明する。図３は、ホログラム付き強磁性材
転写箔を示す断面図である。識別体１３は、このような
強磁性材転写箔をカード基材に転写することにより形成
する。強磁性材転写箔２３は、支持体となる基材２３１
上に離型層２３２を介して光回折格子またはホログラム
パターンが形成された樹脂層２３３を設け、その表面に
強磁性材を蒸着またはスパッタ等の気相法で形成して磁
性層兼反射層を形成するかまたは別にアルミニウム等の
光反射層を介在させて通常の光輝性転写箔と同等の反射
効果を持たせたうえで強磁性材層２３４を設けた構成か
らなるもので、ホログラムによる特有の光輝性および３
次元表示効果と強磁性材箔による磁気特性から、通常の
光輝性転写箔や磁気転写箔では得られない複合した効果
を有し、偽造、改ざん困難性を高めたものとなる。
【００１３】強磁性材転写箔２３は前記樹脂層の光回折
格子またはホログラムパターンの微細凹凸に追従するよ
うに設けることにより、該強磁性材薄膜層に該光回折格
子またはホログラムパターンに応じた特徴的な磁気情報
特性を保持させることもできる。強磁性材層２３４上に
は、被転写媒体であるＩＣカードに熱接着するためのヒ
ートシール剤層または粘着剤層２３５が設けられる。
格子またはホログラムパターンの微細凹凸に追従するよ
うに設けることにより、該強磁性材薄膜層に該光回折格
子またはホログラムパターンに応じた特徴的な磁気情報
特性を保持させることもできる。強磁性材層２３４上に
は、被転写媒体であるＩＣカードに熱接着するためのヒ
ートシール剤層または粘着剤層２３５が設けられる。
【００１４】以下、強磁性材転写箔の各構成要素につい
てさらに詳細に説明する。基材２３１としては、耐溶剤
性および耐熱性のある樹脂フィルムが使用でき、一般的
にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂フィル
ムをはじめとしてポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド
樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム、等が挙げら
れる。厚さは、５〜１００μｍ程度、好ましくは、１０
〜５０μｍの厚さが推奨できる。
てさらに詳細に説明する。基材２３１としては、耐溶剤
性および耐熱性のある樹脂フィルムが使用でき、一般的
にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂フィル
ムをはじめとしてポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド
樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム、等が挙げら
れる。厚さは、５〜１００μｍ程度、好ましくは、１０
〜５０μｍの厚さが推奨できる。
【００１５】離型層２３２は、樹脂層２３３を基材２３
１に剥離性を有して密着させるためのものであって、転
写後には樹脂層をある程度保護する役割をもするもので
ある。この層の材質としては、十分な透明性があり、耐
摩擦性、耐汚染性、耐溶剤性を有する樹脂が用いられ
る。このような離型層の厚さは、０．５〜５μｍ程度が
好ましく、さらに好ましくは、１〜 3μｍの範囲であ
る。
１に剥離性を有して密着させるためのものであって、転
写後には樹脂層をある程度保護する役割をもするもので
ある。この層の材質としては、十分な透明性があり、耐
摩擦性、耐汚染性、耐溶剤性を有する樹脂が用いられ
る。このような離型層の厚さは、０．５〜５μｍ程度が
好ましく、さらに好ましくは、１〜 3μｍの範囲であ
る。
【００１６】ホログラムパターンを形成する樹脂層２３
３を構成する材料は、ホログラムの微小凹凸形状を付与
できうる合成樹脂が使用できる。この合成樹脂として
は、熱可塑性合成樹脂、例えばポリ塩化ビニル、アクリ
ル樹脂（例えばポリメチルメタクリレート等）、ポリカ
ーボネート、もしくはポリスチレン等、または熱硬化性
合成樹脂、例えば不飽和ポリエステル、メラミン、エポ
キシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン
（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレー
ト、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール
（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレー
ト、もしくはトリアジン系（メタ）アクリレート等が挙
げられる。
３を構成する材料は、ホログラムの微小凹凸形状を付与
できうる合成樹脂が使用できる。この合成樹脂として
は、熱可塑性合成樹脂、例えばポリ塩化ビニル、アクリ
ル樹脂（例えばポリメチルメタクリレート等）、ポリカ
ーボネート、もしくはポリスチレン等、または熱硬化性
合成樹脂、例えば不飽和ポリエステル、メラミン、エポ
キシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン
（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレー
ト、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール
（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレー
ト、もしくはトリアジン系（メタ）アクリレート等が挙
げられる。
【００１７】次に、強磁性材は、結晶性あるいはアモル
ファスのものであっても良く、鉄（Ｆｅ）、コバルト
（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）のいずれか１種または２種
以上の組み合わせからなる磁性材料を主成分として、こ
れに、ほう素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍ
ｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）、燐
（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム
（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃ
ｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウ
ム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブテン（Ｍｏ）、パ
ラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、
錫（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、
イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、鉛
（Ｐｂ）から選ばれた数種の金属または非金属元素の添
加物から構成されている。
ファスのものであっても良く、鉄（Ｆｅ）、コバルト
（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）のいずれか１種または２種
以上の組み合わせからなる磁性材料を主成分として、こ
れに、ほう素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍ
ｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）、燐
（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム
（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃ
ｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウ
ム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブテン（Ｍｏ）、パ
ラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、
錫（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、
イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、鉛
（Ｐｂ）から選ばれた数種の金属または非金属元素の添
加物から構成されている。
【００１８】強磁性材の形成は、主成分となる鉄、コバ
ルト、ニッケルからなる合金と添加元素からなる材料あ
るいはこれらの混合物をターゲット材または蒸着源とし
て、スパッタリング、蒸着、イオンプレーティングなど
の真空プロセスを用いた手段で光回折格子またはホログ
ラムパターン層上に形成する。強磁性材層２３４の厚み
は、５０〜５００ｎｍが適切である。当該層の下限値が
５０ｎｍ以下となる理由は、磁性体層の厚みが薄くなる
ため、磁性体の絶対量の減少と共に飽和磁束が減少し、
磁気信号が小さくなるためであり、真偽判定に用いる磁
気信号を得るためには磁性体の厚みは、５０ｎｍ以上が
必要となるためである。また、５００ｎｍが上限値とな
る理由は、他の方法で作製した磁性体膜（通常は厚さ１
μｍ以上）と明確な区別をつけるためであり、これ以上
厚くすることは避けることが好ましいからである。さら
に、これ以上の厚さとなる場合は、膜の内部応力による
カール等で強磁性材転写箔の特性が悪くなり、しわ、ク
ラックが発生する場合があるからである。強磁性材転写
箔の生産性および磁気信号の安定性から、好ましい当該
層の厚さは、１５０〜３００ｎｍの範囲である。
ルト、ニッケルからなる合金と添加元素からなる材料あ
るいはこれらの混合物をターゲット材または蒸着源とし
て、スパッタリング、蒸着、イオンプレーティングなど
の真空プロセスを用いた手段で光回折格子またはホログ
ラムパターン層上に形成する。強磁性材層２３４の厚み
は、５０〜５００ｎｍが適切である。当該層の下限値が
５０ｎｍ以下となる理由は、磁性体層の厚みが薄くなる
ため、磁性体の絶対量の減少と共に飽和磁束が減少し、
磁気信号が小さくなるためであり、真偽判定に用いる磁
気信号を得るためには磁性体の厚みは、５０ｎｍ以上が
必要となるためである。また、５００ｎｍが上限値とな
る理由は、他の方法で作製した磁性体膜（通常は厚さ１
μｍ以上）と明確な区別をつけるためであり、これ以上
厚くすることは避けることが好ましいからである。さら
に、これ以上の厚さとなる場合は、膜の内部応力による
カール等で強磁性材転写箔の特性が悪くなり、しわ、ク
ラックが発生する場合があるからである。強磁性材転写
箔の生産性および磁気信号の安定性から、好ましい当該
層の厚さは、１５０〜３００ｎｍの範囲である。
【００１９】このような強磁性材は、Ｈｃ（保磁力）、
Ｂｍ（飽和磁束密度）において特異な特性を示し、その
磁気特性から通常印加の磁界強度とその磁界によって磁
化される磁性体の磁束密度とは非線形のＢ−Ｈ特性（ヒ
ステリシス曲線）を有するので、一般の磁性材料とは明
確に区別することができる。図４は、磁性材のヒステリ
シス曲線を示すもので、強磁性材では、（Ａ）のよう
に、強磁性材層２３４は保磁力Ｈｃが小さく、かつ高角
型比（０．８〜１．０）のＢ−Ｈヒステリシス曲線が得
られる。一方、一般の磁性材料では、図４（Ｂ）のよう
に、飽和磁束密度Ｂｍが減少し保磁力Ｈｃが増大し低角
型比（０．５以下）のヒステリシス特性が得られる。
Ｂｍ（飽和磁束密度）において特異な特性を示し、その
磁気特性から通常印加の磁界強度とその磁界によって磁
化される磁性体の磁束密度とは非線形のＢ−Ｈ特性（ヒ
ステリシス曲線）を有するので、一般の磁性材料とは明
確に区別することができる。図４は、磁性材のヒステリ
シス曲線を示すもので、強磁性材では、（Ａ）のよう
に、強磁性材層２３４は保磁力Ｈｃが小さく、かつ高角
型比（０．８〜１．０）のＢ−Ｈヒステリシス曲線が得
られる。一方、一般の磁性材料では、図４（Ｂ）のよう
に、飽和磁束密度Ｂｍが減少し保磁力Ｈｃが増大し低角
型比（０．５以下）のヒステリシス特性が得られる。
【００２０】図示しないが、光回折格子またはホログラ
ムパターンを形成した樹脂層２３３と、強磁性材層２３
４との間には、光反射層として非磁性金属膜を設けるこ
とができる。このようにする場合には強磁性材薄膜の色
に影響されることなしに、非磁性金属の光沢色が反射光
として外部から観測されるようになり、外見上は一般の
光回折格子またはホログラムと変わらない強磁性材転写
箔が与えられる。このような光反射層は反射性の非磁性
金属材料が使用され、金、銀、アルミニウム、クロム、
ニッケル等が使われる。一般的にはコストおよび技術上
の問題からアルミニウムが好ましく採用され、その厚さ
は、１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の厚みに形成するが、好
ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の厚みである。
ムパターンを形成した樹脂層２３３と、強磁性材層２３
４との間には、光反射層として非磁性金属膜を設けるこ
とができる。このようにする場合には強磁性材薄膜の色
に影響されることなしに、非磁性金属の光沢色が反射光
として外部から観測されるようになり、外見上は一般の
光回折格子またはホログラムと変わらない強磁性材転写
箔が与えられる。このような光反射層は反射性の非磁性
金属材料が使用され、金、銀、アルミニウム、クロム、
ニッケル等が使われる。一般的にはコストおよび技術上
の問題からアルミニウムが好ましく採用され、その厚さ
は、１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の厚みに形成するが、好
ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の厚みである。
【００２１】ヒートシール剤層または粘着剤層２３５
は、強磁性材転写箔２３を所定の被転写媒体に転写した
際に、十分な接着強度を得るためのものであり、用途に
合わせて従来より公知のヒートシール剤や粘着剤が用い
られる。ヒートシール剤としては、アクリル系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ミド系樹脂、エポキシ系樹脂があげられ、また、粘着剤
としては、アクリル系、ゴム系のものがあげられる。そ
の塗布厚みは、１〜数μｍ以内のものであってよい。
は、強磁性材転写箔２３を所定の被転写媒体に転写した
際に、十分な接着強度を得るためのものであり、用途に
合わせて従来より公知のヒートシール剤や粘着剤が用い
られる。ヒートシール剤としては、アクリル系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ミド系樹脂、エポキシ系樹脂があげられ、また、粘着剤
としては、アクリル系、ゴム系のものがあげられる。そ
の塗布厚みは、１〜数μｍ以内のものであってよい。
【００２２】なお、強磁性材転写箔は、サーマルヘッド
等によりカードに転写後にレーザービームによりＩＤ固
有情報を描画して記録する。この描画は転写前のロール
原反に記録して転写することも可能であるが、個々のカ
ードに対して記録するため、工程上は転写後に描画する
ことが好ましい。
等によりカードに転写後にレーザービームによりＩＤ固
有情報を描画して記録する。この描画は転写前のロール
原反に記録して転写することも可能であるが、個々のカ
ードに対して記録するため、工程上は転写後に描画する
ことが好ましい。
【００２３】
【実施例】以下、図１〜図３を参照して本発明の実施例
を説明する。 （実施例１） ＜強磁性材転写箔の作製＞強磁性材転写箔の基材２３１
として、平滑性が良く透明なポリエチレンテレフタレー
トフィルム（東レ株式会社製「ルミラー２５Ｔ６０」）
〔厚み；２５μｍ〕に剥離性を与えるため、メチルメタ
クリレート系アクリル樹脂をトルエンに希釈してグラビ
ア印刷法により薄層の離型層２３２として塗工した。
を説明する。 （実施例１） ＜強磁性材転写箔の作製＞強磁性材転写箔の基材２３１
として、平滑性が良く透明なポリエチレンテレフタレー
トフィルム（東レ株式会社製「ルミラー２５Ｔ６０」）
〔厚み；２５μｍ〕に剥離性を与えるため、メチルメタ
クリレート系アクリル樹脂をトルエンに希釈してグラビ
ア印刷法により薄層の離型層２３２として塗工した。
【００２４】常温で固体であり熱成形性を有する樹脂
層、例えば常温で固体の紫外線硬化性樹脂層２３３を厚
み、３μｍに塗工し、この面にホログラムパターンが凹
凸状に形成されている原版を加圧接触させて、ホログラ
ムパターンを樹脂層表面に転写すると同時に透明なフィ
ルムの背後から紫外線を照射して樹脂層を硬化させてホ
ログラムパターンを形成した。
層、例えば常温で固体の紫外線硬化性樹脂層２３３を厚
み、３μｍに塗工し、この面にホログラムパターンが凹
凸状に形成されている原版を加圧接触させて、ホログラ
ムパターンを樹脂層表面に転写すると同時に透明なフィ
ルムの背後から紫外線を照射して樹脂層を硬化させてホ
ログラムパターンを形成した。
【００２５】続いて、このホログラムパターン面に、Ａ
ｌによる蒸着膜を厚み、３０ｎｍに形成してから、鉄Ｆ
ｅ−珪素Ｓｉ系からなる強磁性材層２３４をスパッタリ
ング法で、膜厚０．２μｍになるように形成した。さら
に、強磁性材層上に、塩酢ビ系ホットメルトヒートシー
ル剤を１μｍの厚みに塗布した後、スリッタ機を使用し
て、幅１５ｍｍにスリッタして、強磁性材転写箔２３を
完成した。
ｌによる蒸着膜を厚み、３０ｎｍに形成してから、鉄Ｆ
ｅ−珪素Ｓｉ系からなる強磁性材層２３４をスパッタリ
ング法で、膜厚０．２μｍになるように形成した。さら
に、強磁性材層上に、塩酢ビ系ホットメルトヒートシー
ル剤を１μｍの厚みに塗布した後、スリッタ機を使用し
て、幅１５ｍｍにスリッタして、強磁性材転写箔２３を
完成した。
【００２６】＜ＩＣカードへの転写＞この強磁性材転写
箔を塩化ビニル製のＩＣチップ装着済のカード基材に加
熱ローラを使用して１３５°Ｃ、０．７秒に加熱して転
写し識別体とした。その際、基材２３１を離型層２３２
から剥離して除去した。転写後は表面にアルミによる光
反射層が現れるので、顕著な光回折効果を視認すること
ができた。
箔を塩化ビニル製のＩＣチップ装着済のカード基材に加
熱ローラを使用して１３５°Ｃ、０．７秒に加熱して転
写し識別体とした。その際、基材２３１を離型層２３２
から剥離して除去した。転写後は表面にアルミによる光
反射層が現れるので、顕著な光回折効果を視認すること
ができた。
【００２７】この識別体１３に、ＩＣチップに記録した
とＩＤ固有情報「１２３４」の数値と同一の数値を、Ｙ
ＡＧレーザー（波長１０６４ｎｍ、ビーム径約５０μ
ｍ）により０．２ｍｍの幅で描画して記録することがで
きた。
とＩＤ固有情報「１２３４」の数値と同一の数値を、Ｙ
ＡＧレーザー（波長１０６４ｎｍ、ビーム径約５０μ
ｍ）により０．２ｍｍの幅で描画して記録することがで
きた。
【００２８】
【発明の効果】以上に詳述のように本発明の偽造防止効
果の高いＩＣカードでは、複製困難な識別体が貼着され
ているので、カード基材そのものの偽造を防止できる
他、ＩＣチップ内の特定固有データと識別体の強磁性材
箔上に記録されたデータがリンク付けされていることか
ら、ＩＣカード自体の偽造、複製を強力に防止できる。
識別体へのリンク付けしたデータの付与は、ＩＣカード
発行時点で容易に行うことができ、かつリンク付けに暗
号処理したデータを付与すれば、さらに偽造防止効果を
高めることができる。
果の高いＩＣカードでは、複製困難な識別体が貼着され
ているので、カード基材そのものの偽造を防止できる
他、ＩＣチップ内の特定固有データと識別体の強磁性材
箔上に記録されたデータがリンク付けされていることか
ら、ＩＣカード自体の偽造、複製を強力に防止できる。
識別体へのリンク付けしたデータの付与は、ＩＣカード
発行時点で容易に行うことができ、かつリンク付けに暗
号処理したデータを付与すれば、さらに偽造防止効果を
高めることができる。
【図１】 本発明のＩＣカードを示す図である。
【図２】 ＩＣカードの発行手順の例を示す図である。
【図３】 ホログラム付き強磁性材転写箔を示す断面図
である。
である。
【図４】 磁性材のヒステリシス曲線を示すものであ
る。
る。
１１ カード基材 １２ ＩＣチップ １３ 識別体 １４ 磁気ストライプ １５ エンボス領域 ２３ 強磁性材転写箔 ２３１ 基材 ２３２ 離型層 ２３３ 樹脂層 ２３４ 強磁性材層 ２３５ ヒートシール剤層または粘着剤層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０６Ｋ 19/08 Ｇ０６Ｋ 19/00 Ｒ Ｇ１１Ｂ 5/80 Ｆ
Claims (5)
- 【請求項１】 ＩＣカード基材に、メモリーを有するＩ
Ｃチップと強磁性材箔からなる識別体を設けたＩＣカー
ドであって、当該識別体にＩＤ固有情報を記録し、当該
記録された情報と同一のＩＤ固有情報をＩＣチップのメ
モリーに記憶させたことを特徴とする偽造防止効果を高
めたＩＣカード。 - 【請求項２】 強磁性材箔がアモルファス強磁性材箔で
あることを特徴とする請求項１記載の偽造防止効果を高
めたＩＣカード。 - 【請求項３】 ＩＣカードが磁気記録のための磁気スト
ライプをさらに有することを特徴とする請求項１から請
求項２記載の偽造防止効果を高めたＩＣカード。 - 【請求項４】 強磁性材箔からなる識別体の表面にホロ
グラム層を有することを特徴とする請求項１から請求項
３記載の偽造防止効果を高めたＩＣカード。 - 【請求項５】 強磁性材箔からなる識別体への記録がレ
ーザービームでされていることを特徴とする請求項１か
ら請求項４記載の偽造防止効果を高めたＩＣカード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000009655A JP2001202491A (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | 偽造防止効果を高めたｉｃカード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000009655A JP2001202491A (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | 偽造防止効果を高めたｉｃカード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001202491A true JP2001202491A (ja) | 2001-07-27 |
Family
ID=18537777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000009655A Pending JP2001202491A (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | 偽造防止効果を高めたｉｃカード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001202491A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002007997A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-11 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止カード及びこの作製システム |
| JP2004227435A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光回折ｉｃタグ表示体と製品情報管理システム |
| JP2007136765A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 記録媒体及び読取り書込み装置 |
| JP2007299245A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | セキュリティ媒体及びセキュリティ媒体読取装置 |
| JP2007299246A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | セキュリティ媒体及びセキュリティ媒体読取装置 |
| JP2009000909A (ja) * | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 偽造防止媒体、偽造防止シート、及び、偽造防止媒体の強磁性材層のパターン形成方法 |
| JP2009000908A (ja) * | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 偽造防止媒体、及び、偽造防止シート |
-
2000
- 2000-01-19 JP JP2000009655A patent/JP2001202491A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002007997A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-11 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止カード及びこの作製システム |
| JP4626016B2 (ja) * | 2000-06-19 | 2011-02-02 | 凸版印刷株式会社 | 偽造防止カードの作製方法 |
| JP2004227435A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光回折ｉｃタグ表示体と製品情報管理システム |
| JP2007136765A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 記録媒体及び読取り書込み装置 |
| JP2007299245A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | セキュリティ媒体及びセキュリティ媒体読取装置 |
| JP2007299246A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | セキュリティ媒体及びセキュリティ媒体読取装置 |
| JP2009000909A (ja) * | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 偽造防止媒体、偽造防止シート、及び、偽造防止媒体の強磁性材層のパターン形成方法 |
| JP2009000908A (ja) * | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 偽造防止媒体、及び、偽造防止シート |
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Legal Events
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061113 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080403 |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080528 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081028 |