TW417310B - A semiconductor position detector - Google Patents

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TW417310B
TW417310B TW088110895A TW88110895A TW417310B TW 417310 B TW417310 B TW 417310B TW 088110895 A TW088110895 A TW 088110895A TW 88110895 A TW88110895 A TW 88110895A TW 417310 B TW417310 B TW 417310B
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TW
Taiwan
Prior art keywords
semiconductor
position detector
conductive layer
layer
semiconductor position
Prior art date
Application number
TW088110895A
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English (en)
Inventor
Tatsuo Takeshita
Kouji Noda
Masayuki Sakakibara
Original Assignee
Hamamatsu Photonics Kk
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/02016Circuit arrangements of general character for the devices
    • H01L31/02019Circuit arrangements of general character for the devices for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02024Position sensitive and lateral effect photodetectors; Quadrant photodiodes

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Description

417310 A7 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 B7五、發明説明(ΐ ) [技術領域] 本發明有關於半導體位置檢出器。 [背景技術] 半導體位置檢出元件(PSD)是使用所謂三角測量之原 理等而用來測定被測定物之距離之習知裝置·^ PSD是作 為有源(active)方式之距離測定器而裝載在攝影機等之 攝像機器中,在此種攝像機器中根據以PSD所測定到之 被測定物之距離以便用來進行攝影透鏡之聚焦》 利用PSD時,可以獲得與光點之射入位置對應之連鑲 輸出,在遠鉅離測定等之信號光量較低之情況下,極端 時會使S / N比降低。因此,在使用P S D之距離測定条统 中,不能提高遠距離側之_距精確度。與此相對的,在 2分割光電二極體(PD)等之多分割光電二極體中,不能 如同PSD那樣的獲得與射入位置對應之連續輸出,但是 信號光量即使降低時S/N比亦幾乎不會降低,可以提高 檢測敏_度》 另外,組合有PSD和2分割型之PD之半導體位置檢出 器已記載在日本國專利案特開平4-313279號公報中。 第14圖是此種半導體位置檢出器之平面画。該半導證 位置檢出器具備有:PSD,由被設在半導體基板1上之半 導體導電層形成區域2 0和可取出設在其兩端之一對信號 之電極5所構成·,2分割PD21,其設在信號光量變低之遠 距離側。在該半導體位置檢出器中,可以從P S D獲得與 信號光之射人位置對慝之連續輸出,同時在信號光變弱 -3 - ^J---„----^------1T------# (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 417310 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五 、發明説曰/ ( ) 1 1 I 之 位 置 中 可 以 利 用 2分割Ρ D進行敏感度良好之位置檢測。 1 1 1 [發明之掲示] 1 I 但 是 1 在 此 種 構 造 中 因 為 晶 Η 之 面 積 變 大 和 光 照 射 在 請 先 1 閏 I P S D和2 分 割 PD 之 分 離 部 * 所 以 只 有 信 號 光 之 一 部 分 可 讀 1 I 用 在 位 置 檢 測 9 當 照 射 之 信 號 光 之 光 點 直 徑 變 小 時 > 不 之 1 注 能 提 高 檢 測 敏 威 度 〇 本 發 明 針 對 此 種 問 題 > 其 國 的 是 提 意 睪 t | 供 比 習 知 技 術 者 小 型 而 且 可 以 提 高 檢 潮 敏 度 之 半 m 體 再 1 位 置 檢 出 器 〇 寫 本 ά 頁 1 用 以 解 決 上 述 問 題 之 本 發 明 之 半 導 體 位 置 檢 m 器 是 依 V_^ 1 昭 受 光 面 上 之 射 入 光 位 置 t 使 從 半 導 體 導 電 層 之 兩 端 部 1 ! 輸 出 之 電 流 值 可 以 變 化 其 特 徴 疋 在 該 半 導 體 導 電 層 之 1 1 途 中 設 置 能 夠 中 斷 該 兩 lift 端 部 間 之 電 傳 導 之 閘 (g a t e ) 裝 置 1 訂 0 該 半 m 體 位 置 檢 出 器 * 在 利 用 閛 裝 置 能 夠 使 半 導 體 導 1 1 電 層 之 兩 端 部 間 電 傳 導 時 > 進 行 PS D之功能, 在中斷該 1 I 等 之 間 之 電 傳 導 時 進 行 多 分 割 或 早 一 PD之 功 能 0 1 1 該 閛 裝 置 取 好 具 備 有 :絶緣膜, 其配置在該半導體導 1 線 電 層 上 f 和 閘 極 電 極 其 配 置 在 該 絶 緣 糢 上 0 經 由 控 制 I 此 種 施 加 在 閘 極 電 極 上 之 電 位 * 用 來 控 制 經 由 絶 緣 膜 而 1 J 形 成 在 閘 極 電 極 正 下 方 之 通 道 〇 當 閘 極 電 極 之 電 位 成 為 1 1 指 定 值 時 9 該 通 道 就 消 滅 以 用 來 中 斷 半 導 體 導 電 層 兩 JJLi m \ 部 間 之 電 傳 導 〇 1 為 箸 使 依 照 光 之 射 入 到 受 光 面 而 産 生 之 電 荷 有 效 的 朝 1 I 向 半 m 體 導 電 層 而 被 收 集 9 所 以 本 發 明 之 半 導 體 位 置 檢 1 1 m 器 最 好 具 備 有 從 半 導 體 導 4 - 電 層 延 伸 之 多 個 分 支 導 電 層。 1 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4現格(210 X 297公釐) 417310 A7 A 7 B7五、發明説明(3 ) 使層 好電 最導 ,支 道分 影在 之 , 度數 確 # 精阻 測電 檢低 之降 靥以 電藉 導 -支高 分變 對度 小濃 減物 著純 為不 其 該 為 因 。 ,短 時縮 況以 情可 之間 同時 相造 致製 大以 數所 傜 , 阻造 電製 之程 層工 電 一 導同 體在 導以 半可 和等 之純 極不 電之 極同 閛不 .部 中端 器兩 出該 檢與 置有 位具 體好 導最 半層 之電 明導 發體 本導 在半 *之 外方 另下 正 時 生 産 道 通 定 設 以 可 度 濃 物 純 不 之 域 。 區位 該電 用極 利閘 ,之 度要 濃需 物所 i f - 導極 醱閘 導痼 半多 在之 置上 配膜 被緣 有絶 備在 具置 以配 可被 亦別 置分 裝和 棰 , 閘膜 該緣 ,絶 外之 另上 層 i 光 0 各 之 體 極 二 E tpsr 光 割 分 多 。 使變 以司 可為 -可 況比 情積 種面 這之 在體 〇 極 極二 明 説 單 簡 之 面 圖 平 之I- 器之 出器 檢出 置檢 位置 體位 導體 半導 之半 態之 形示 施所 實圖 11 第第 是是 圖圖 ΙΛ CO 第第 画 面 剖 視 箭 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝. 圖第 面 之 器 出 檢 置 位 體 導 半 之 示 所 圖 II 第 是 圖 3 視 箭 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 剖 圖 視 乎箭 9 I 之I- 器之 測器 檢出 置檢 位置 _ 位 導體 半導 之半 P 之 irl 不 施所 實圖 2 4 第第 是是 。圖圖 圖 4 5 面第第 ώπ 之 器 檢 置 位 體 導 半 之 示 所 圖 第 是 圖 0 6 圖第 面 圖 面 剖 視 箭 圖 面 平 之 器 出 檢 置 位 體 導 半 之 態 形 施 實 3 第 是 圔 7 第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > Α4規格(210Χ297公釐) 417310 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7__五、發明説明(4 ) 第8圖是第7圖所示之半導體位置檢出器之I-Ι箭視剖 面圖。 第9圖是第7圔所示之半導體位置檢出器之II-II箭視 剖面圖。 第1G圖是第4實施形態之半導體位置檢出器之平面圖。 第11圖是第10圖所示之半導體位置檢出器之I-Ι箭視 剖面平面圖。 第12圃是第lfl圖所示之半導體位置檢出器之II-II箭 視剖面圖。 第13圖是第10圖所示之半導體位置檢出器之III-III 箭視剖面圓。 第14圖是習知之半導體位置檢測器之平面画。 [用以筲施本發明之最佳形態] 下面將說明實施形態之半導體位置檢出器。其中使用 相間之符號用來表示相同之元件或具有相同功能之元件 ,而其重複之說明則加以省略。 [第1實施形態] 第1圖是第1實施形態之半導體位置檢出器之平面圖 ,第2圖是第1圖所示之半導體位置檢出器之I-Ι箭視 剖面圖,第3圖是第1圖所示之半導體位置檢測器之II -II箭視剖面圖。另外,下列之說明所使用之半導體位 置檢出器之剖商圖表示其端面。 本實施形態之半導體位置檢測器具備有:半導體基板1 ,由低濃度η型Si形成;和背面倒η型半導體層8,由 -6 -------^---:----裝------訂------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) A7 4imo B7 五、發明説明(s ) 形成在半導體基板1之背面中之高濃度η型Si所形成。 半導體基板1之表面為長方形。在以下之說明中,以從 背面側η型半導體層8朝向η型半導體基板1之方向作 為向上方向,以η型半導體基板1之長方形表面之長邊 之延仲方向作為長度方向(縱向)Χ,以短邊之延伸方向 作為幅度方向Υ,以垂直於長度方向X和幅度方向Υ雙 方之方向作為深度方向{厚度方向)Ζ。亦即,方向X、Υ 、Ζ互相垂直。 ' 本半導體位置檢出器具備有基幹導電層2,其形成在 半導體基板1内,由沿著長度方向X排列和延伸之2傾 導電層2-1, 2-2所形成。基幹導電層2由Ρ型Si形成 ,基幹導電層2之電阻俗數低於半導體基板1之電阻偽 數。另外,基幹導電層2形成在II塱半導體基板1内。 各値基幹導電層2-1, 2-2在其境界中具有分離部,沿 著長度方向X連鑛使各層2-1,2-2内不會存在有插入 區域。構成基幹導電層2之電阻區域沿箸X、Y和Z方 向實質上具有相同之不纯物濃度,亦即具有電阻偽數9 ,從η型半導體基板之表面沿著厚度方向Z實質上延伸 到相同之深度。 本半導體位置檢出器具備有一對之信號取出電掻5, 形成在半導體位置檢出器之表面兩端部,分別用來取出 來自基幹導電層2之兩端之輸出電流。 本半導體位置檢出器具備有分支導電層3,由基幹導 電層2-1, 2-2分別沿箸受光面延伸之多個導電層3-1, -7- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨0Χ297公釐) ------^--L----裝------訂------線 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 417310 B7 五、發明説明(& ) 3-2所形成。分支導電層3之不純物濃度舆基幹導電層 2之不純物濃度大致相同,沿著分支導電層3之幅度方 向Y之長度大於射入光點之直徑。 另外,分支導電層3亦可以由高濃度P型Si所形成 。在這種情況,各値基幹導電層2-1, 2-2沿箸長度方 向X連績,使多偏IP型電阻區域存在於不純物濃度不同 之分支導電層之一端部,分支導電層3之不纯物濃度大 於基幹導電層2之不純物濃度,和分支導電層3之電阻 偽數小於基幹導電層2之電阻係數。 本半導體位置檢出器具備有一對之高濃度信號取出用 半導體層4,其分別連接到基幹導電層2之兩端,形成 在半導體基板1内。該髙濃度信號取出用半導體層由高 濃度P型Si所形成。該高濃度信號取出用半導體層4 從半導體基板1之表面沿著厚度方向Z延伸直到深度大 於基幹導電層2之深度為出。 本半導體位置檢出器具備有外框半導體層6,其形成 在半導體基板1之長方形表面之外周部。該外框半導體 層G為高濃度nMSi〇外框半導體層6形成在半導體基 板]之長方形表面之外緣區域内,成為口字形,包圍形 成有基幹導電層2,分支導電層3,和高濃度信號取出 用半導體層4之基板表而區域,從η型半導體基板1之 表面沿著厚度方向Ζ延伸至指定之深度為止。 本半導體位置檢出器具備有形成在半導體基板1内之 分支導電層隔離用半導體層6〗該分支導電層隔離用半 8 - 本紙張尺度適用中國國家樣牟(CNS ) A4規格(210X297公釐) I —hi I -I — i - -- - - - - - - - - -- I .....- 丁 - - - I. ί n n (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 M.^310 a7 B7五、發明説明(η ) 度 濃 高痼 ,為多 由 隔1之 fir-# 長 電該s$ Y 殳®之 。域6 si區層 1S支體 1分導 型半 1框 外 之 層—形 體f.,字 導層口 體 半 用 隹 朝 度 從幅 域著 區沿 支倒 分内 域定3 0 ^¾ 指 S ^ -¾# S _ 各 δ 分 ο Εέ W ^ ^ 之 Ρ 較 tinfe域 ㈤*區 ^ Μ 2 ¥分 層彳之 #*s 型 #從h 纟 Z" 幹 1 基is]。 ¾¾方lh^ g ^ γ{厚度 向著深 方沿之 分®即 在i 。 *濃_ a高罾 双與# 還 3 電 層 些層 這電 使導 來支 用分 , 止 間阻 之來 Αΐ 用 域 匾 lir 支 電M分 用 導ί該 支 層 電 導 支 分 於 在 存 及 以 間層 之體 i 導 半 用 出 之 3 導 半 用 出 取 號 倍 度 濃 髙 與 3 層 S AN 導 支 分 和 流 電 之 流 X 向 方 度 長 著 沿 L 之 者 4 接層 鄰體 膜 緣 絶 膜 化 鈍 有 備 具 器 出 檢 置 位 體 導 半 本 覆 成 形 略 — 省 圖 li中 第圖 在面 , 平 外之 另器 〇 出 面檢 表置 形位 方體 長導 之半 I之 態 形 施 實 之 下 在以 蓋和 (諸先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 -訂 板 基 體 導 半 型 長丨化 形 在Iff鈍 該 B 膜 化畠口 鈍1S開 該之形 。用字 載搔口 記電 之出 10取 膜號 化 信 鈍有 了具 之 用 極 電 框 外 有 具 ^ ^ 0冑J巾 1Ϊ 周 2 兩卜0 乙 夕 i 之在S 向f由 , , ο 方 1 P 度 1 膜 BW 形 方 長 之 線_ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 體 電導 出半 取用 號出 信取 之號 10信 膜度 化濃 鈍高 由在 經成 別形 分別 i分 電 出 取 號 信之 。用 成椟 P 開 對 上卜 4 夕 層另
用 4,出 層取 體號 導佶 半度 用濃 出高 取與 號狀 信形 度面 濃表 高之 -3 在 觭 接 式 m 8 tpST 極 電 出 取 號 言 同 相 狀 形 面 表 之 Ι^ΟΓ 框在 外成 有形 備而 具口 器開 出之 檢用 置棰 位電 體框 層導外 體半之 導本10 半 膜 極 型 化 鈍體 由導 經半 其框 r*外 r之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) A7 417310 B7 五、發明説明(y ) 層(5上。外框電搔7是與外框半導體層6作電阻式接觸。 該外框電搔7用來阻止光之射入到半導體基板1之外周 部。另外,在外框電極7和信號取出電極5之間可以施 加指定之電壓β 本半導體位置檢出器具備有下廂電搔9,其形成在背 面倒η型半導體層8之下面。下面電極9是與背面倒η 梨半導體層8作電阻式接觭β 本半導體位置檢測器在基幹導電層2-1, 2-2間之境 界上之鈍化膜(絶緣膜)10上具備有閘搔電極11。閘極 電極1 1電性連接到鈍化膜1 0上之焊接墊1 Γ,經由焊接 墊1 f對閘極電極1 1施加所指定之電位,和在閘搔電極 11之正下方之分離部之與基幹導電層2相當之部份(半 導體基板1之表面區域)中形成通道。當對閘極電極11 施加負電位時,因為在該處集合正電荷,所以通道之導 電型變為P型,因此本半導體位置檢出器具有作為PSD 之功能。 另外一方面,當對閘極電極〗1施加零電位或正電位 時,因為P型通道消滅,所以在基幹導電12-1, 2-2 間,亦即基幹導電層2之兩端部間之電傳導被中斷,因 此本半導體位置檢出器具有2分割PD之功能。 在半導體位置檢出器進行PSD功能之情況時,在1對之 信號取出電極5和下面電搔9之間,於P塑分支導電層3和 η型半導體基板1所構成之pn接合二極體中施加反向偏壓 (bias),在施加電壓後之狀態中,當有射入光以點狀光 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ——r——^---^----幕------ΐτ------ii (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 - Z 依揣層 體 層 2 層 , 電0,導 電1’電 器Μ導rl半 I 之 置 導 2 導 出 2" 體 使 支層幹 檢層導㈤夠 分電基 置電半 Μ 能 由導由 位導在 f 而 導 經幹經 體體 ,_ 置 份基別式-裝 部到分ί半半方1閘 1 人荷51之從之1<用 間 其流電極態使變 利 - 場而之電形 ,可 u"sη當11 端 I 電例配出施置為 器 之比分取實位成 _出 部之被號本光 m 檢 内應式信,入流 置 器對方個明射電吧位 出置種各説之別 £ 體 置 檢位這從之上各導 置入照而上面之ΦΡ半 位射依端以光出 本 體與。兩如受輪 。 導以内之 照部 2 1 417310 7 A7 B7 五、發明説明(^ ) 射入到受光面(由分支導電靥3之形成有η型半導體基板 1之表而區域所規定),依照該射入光而在半導體位置檢 測器内部産生電子雷洞對偶(電荷)且發生擴散,依照半 導體位置檢出器内部之電場其一部份流入到分支導電層 3内。該電荷在分支導電層3内進行傳導,流入到基幹 導電層2之指定位置,依照蕋幹導電層2之長度方向X 之位置,分配其電荷量,使其與到達基幹導電層2之兩 端之電阻值Ιί·^例,被分配之電荷分別經由基幹導電 層2之兩端,由各別之信號取出電極5取出。 另外一方面,在半導體位置檢出器進行2分割PD功能 之情況時,在1對之信號取出電極5和下面電極3之間, 於由Ρ型分支導電層3和η型半導體基板1構成之ρη接合二 搔體被施加反向偏壓(bias)後之狀態中,當射入光以點 狀光射入到受光商時,依照該射入光而在半導體位置檢 出器内部産生電子電洞對偶(電荷)且發生擴散,依照半 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(2丨0'乂 297公釐) — I 裝 訂 : 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 417310 A7 _B7五、發明說明() 1Ί /*1 進 是 時 導 傳 FE 為 成 間 部 端 兩 之 割 分 多 -7 yil- 進 時 導 傳 電 之 層間 電其 遵斷 能 功 中施 當 賁 *本 能在 功-D S 此 3- * 因 為化 因型 中小 態以 形可 割 分 多 之 L1 夕 另 要0 不 身 本 置 裝 以 所 光 受 在 射 照 光 入 射 之 部 金 將 以 可 為 因 以 另 搔 i- 極 閘 層之 電上 導膜 體緣 。導絶 度半該 感在在 敏置置 出配配 撿被被 高有和 提備域 以具區 可置份 以裝部 所閘一 -該之 面 1 上 2 膜 緣 絶 之 經 此 制閘 , 控在滅 來。消 用道就 ,通道 位之通 電方該 之下時 上正況 1111情 楱極之 電電值 極搔定 閘閘指 在在為 加成成 施形位 種而電 此10之 制膜11 控緣極 由絶電 經由極 0 。影 導之 傳度 電確 之精 間出 部檢 端之 兩3 層 之I 層導 電支 導分 體對 導小 半減 斷著 中為 來 -用外 道另 通 本 在電 是之 - 2 怛 層 , ί 低電 降導 數體 恪 β半W和 霉 3 使層 度電 濃導 物支 純分 不為 其因 高 - 提中 是態 好形 最施 , 實 造 製 中 程 X0 - 同 在 以 可 等 該 以 所 。 , 間 同時 相造 致製 大短 數縮 俗以 咀藉 態 形 施 實 Ζ 第 圖 面 平 之 器 出 檢 置 位 體 導 半 之 態 形 施 宵 2 第 是 圖 4 第 ——.—,—.-----裝— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) . :—線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第圖 面箭 剖 I 視Ι-箭>I I 之 Τ-器 之出 器檢 出置 檢位 置體 位導 體半 導之 半示 之所 示圖 圖 , 4 是 第 _ Β 是 _ 第 圖 面 Sb 視 檢 置時板 位較基 髖比體 導器導 半出半 之檢之 態置方 形位下 本體ΪΕ 導之 器不 出其 與部 當之 中 域 區 面 表 之 ¥極$ 之y幹 態1基 ½在&Π 第份 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 417310 B7_ 五、發明說明(η ) 電層2-1, 2-2間之分離部中,更具備有連接基幹導電層 2-1, 2-2之通道形成電位調整用之半導體層1?。半導體 層〗7具有與基幹導電層2-1, 2-2相同之導電型,在本實 例中是P塑。在閘搔電極11中當被施加對陰搔為零電位 或負電位之電壓時,半導體層17保持為P型,本半導體 位置檢出器進行P S D功能。當在閘極電極1 1施加正電位 時,因為在半導體層17中形成舆P型半導體17之導電型 抵消之η梨通道,所以基幹層2-1, 2-2被電性分離,本 半導體位置檢出器進行2分割PD功能。 亦即,在本半導體位置檢出器中,閛極電極11之正下 方之半導體導電電層17具有與其兩端部不同之不純物濃 度,可以依照該區域之不純物濃度用來決定通道産生時 所需要之閘極電位。 (第3實施形態) 第7圖是第3實施形態之半導體位置檢出器之平面圖, 第8圖是第7圖所示之半導體位置檢出器之I-Ι箭視剖面 第9圄是第7圖所示之半導體位置檢出器之ΙΙ-ΙΙ箭 視剖面圖。 本形態之半導體位置檢出器,當與第1實施形態之半 導體位置檢出器比較時,其惟一之不同是使基幹導電層 2形成4痼分離之導電層2-1, 2-2, 2-3, 2-4,在各®分 離部上設置多個閘榷電極11-1, 11-2, 11-3和焊接墊 Π 11-2', 11-3;亦即,在本宵施形態中,上述之 閛裝置具備有被配置在半導體導電層2上之絶緣膜10和 —1 3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ----------------裝--------訂 ---------線 (請t閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 417310 B7_ 五、發明說明(u ) 被配置在該絶緣膜上之多値閘極電極1卜1, 11-2, 11-3 。在本實施形態中,經由控制此種施加在閛極電極11-1 ,1 1 - 2 , 1 1 - 3之電位以用來控制分離部之中斷/連接狀 態,藉以使多分割P D之各掴光電二極體之而積比成為可 變。另外,在本實施形態之半導體位置檢出器中亦可以 設置第2實施形態之半導體層17。 (第4實施形態) 第10圖是第4實施形態之半導體位置檢出器之平面圖 ,第11圈是第10圖所示半導體位置檢出器之I-Ι箭視剖 面圖,第12圖是第10圖所示半導體位置檢出器之II-II 箭視剖面圖,第13圖是第10圖所示半導體位置檢出器之 III-III箭視剖面圖。如前所述,在第2實施形態之半導 體位置檢出器中,若使基幹導電層2和高濃度信號取出 用半導體層4成為半導體導電層,則閛裝置10, 11須設 在半導體導雷層之大致中央之部位。 本實施形態之半導體位置檢出器,當與第2實施形態 之半導體位置檢出器比較時,其惟一之不同是第4圖至第 S圖所示之閘裝置1 0 , 1 1之設置位置。本形態之閘裝置 10, Η被設在該半導體導電層2, 4之一端部近傍,換 言之,被設在信號取出電搔5之前中斷經由高濃度信號 取出用半導體層4和信Μ取出電極5所取出之電流(載體 )之位置〇本半導體位置檢出器在利用閛裝置1 〇, 1 1而 可以進行半導醱導電層2, 4兩端部間之電傳導時,進 行PSD功能,當該等之間之電傳導被中斷時,進行單一 *-14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I t ----:---Γ *--------- I ----. I------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4.17310 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7_五、發明說明(β) 之P D功能。下而將進行詳細之説明。 本半導體位置檢出器形成在半導體基板1内,具備有 :】個基幹導電層,其沿转長度方向X延伸;多痼分支導 電層3 ,其從基幹導踅層2沿辑Y方向延伸;和一對之高 濃度信號取出用半導體層4,其分別連接到基幹導電層 2之兩端且形成在半導體基板1内。另外一方之高濃度 信號取出用半導體層4(圖面右側),沿箸Y方向被分割 成為不連缠,在該分割位置上,經由絶緣膜It)而配置閛 楝電極1 1。 在被分割之高濃度信號取出用半導體層4之中,以位 於基幹導電層2劍者作為源極側高濃度信號取出用半導 體層4 - 1 ,和以經由閘極電搔1 1而面對者作為汲極倒高 濃度倍號取出用半導體層4-2。在源極倒高濃度信號取 出用半導體層4-1和汲梗側高濃度信號取出用半導體層 4 - 2之間之境界,構成上述之分割位置,該分割位置位 於牝樺經由絶綠膜1 〇之閘極電極1 1之正下方。在該分 割位置中設置通道形成電位調整用之半導體層1*7,進行 與第2實施形態同樣之功能。 在源搔倒高濃度信號取出用半導體層4-1上設置電流 旁路(y P a s s )用電稱5 5 ,用來將從基幹導電層2之右端 部輸出之電流傳導到該分割位置之前。 亦即,電流旁路用電柘55之電阻偽數比源_側高濃度 信號取出用半導體層4-〗者低很多,從基幹導電層2之 右端部輪出之電流大致不會到達源搔Μ高濃度信號取出 -1 5 - --Ί------------裳* —------訂 - -------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 417310 at _B7五、發明說明(卟) 電 W 用層 路電 旁導 流支 電分 在 , 是2 層 厅 1 1’導 4-幹 II基 0 , 導外 半另 用 動 流 取 號 信 度 濃 高 所 程 Η 加 添 物 純 不 之 同 相 用 利 是 為 因 40 體 導 半 用 出 導 進 幹0 S 工 -^ I 數 Bw }俗 分 i 以 P ο 1 如之 假"4: 但層 . 體 等導 相半 數用 俗出 m 取 電號 其信 以度 所濃 ,高 成使 形 , 時 多 艮 4t 氐 1» — 者 半 時本 關在 有 , 電外 導另 之 。 流能 電功 與之 在樣 4 I 同 層 5 極 導電 用 路 旁 流 霄 與 行 進 1 以 電可 例 施以 實所 宁 可 搔 電 楝 閘 ,4 經 成層當 形體丨 所導11 料半 材用 之出 性取 光號 遮信 由度 是濃 55高 椟到 電入 用射 路之 旁光 流制 電抑 該以 墊 接 焊 之 上. ο 1X 膜 化 鈍 到 接 |~ 邊 性 電 電在 極成 閛形 在制 ,控 時以 位可 電 , 之置 定位 指割 加分 施該 11之 搔部 電離 楝分 閘之 ,對方 —1 1 下 嵆正 接之 焊11 由極
極是高 閘型M 對電極 當導汲 D 之和 道道-1 通通1 之 , 中時 17況 層情 體之 導 半電 之負 用或 整位 諝電 位零 電加 成施 H- 形 1 道楝 , 型 通電 P 號 信 度 濃 高 倒0 源
出 彳取 *}- 1J 層 體 導 半 用 通 導 2- 4 層 體 導 半 用 出 取第 號與 言 1Ί /i ί— 度進 濃器 之 樣 同 態 形 施 實 ---.-------,· I ------- (請先閱讀背面vii意事項再填寫本頁) 訂· _ 出 檢 置 位 撢 導 半 本 能 功 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 商為 方因 1 , 外時 另位 電 正 之 上 以 值 定 指 加 施 11 1Α 搔 電 極 閛 對 當 號 信 度 濃 高 惻 極 源 在 以 所 滅 消 道 通 ¾ 層 體 導 半 用 出I 取fi 間 之 41所導 層域半 體區本 導之 , 半間斷 體用 導出 半取 用號 出信 取度 號濃 信 高 度之 濃方 高左 倒 極 汲在 和, 7之 i* 言 換 濃 高 0 楝 導出 半檢 之置 定位 規體 中 之被 -2導 It 傳 電 。 之能 間功 部PD 端之 兩一 層單 ¥ 電行 _ 面信 6 ^ Μ ^ 1 1 圖度 I I _ 體器 層 體 導 半 用 出 取 號 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 417310 B7_ 五、發明說明(6 ) 在半導體位置檢測器進行單一之PD功能之情況時,在 1對之信號取出電極5和下面電極9之間對P型分支導電層 3和η型半導體基板1所構成之Pn接合二楝體施加一種度 向偏壓,在此榑狀態中當有射入光以點狀光射入到受光 面時,依照該射入光而在半導體位置檢出器内部産生電 子電洞對偶(電荷)和擴散,依照半導體位置檢出器内部 之電場,使其一方經由分支導電層3和基幹導電層2近似 ΐ部的流入到一方之高濃度信號取出用半導體層4(圖面 之左側)内,從設在其上之信號取出電楝5取出。 如以上所説明之方式,在本實施形態之半導體位置檢 出器中,依照受光面上之射入光位置,從由半導體層2 ,4構成之半導體導電層之兩端部(電楱5, 5正下方之區 域)各別輸出之電流值成為可變,其中在該半導體導電 層之途中設置能夠中斷兩端部間之電傳導之閛裝置10 ,11,經由在半導體層4之區域中設置閘裝置,可以從 單方之信號取出電極獲得近似全部之信號輸出。換言之 ,可以進行單一!^[1之功能。 如1:述之説明,依照本半導體位置檢測器時,用作p s [)時因為不需要別的P D ,所以裝置本身可以小梨化,另 外.因為可以將ΐ部之信號光照射在受光面,所有可以 * 提高檢出敏烕度。 [痒業上之利用可能性] 本半導體位置檢出器可以裝_在作為距離測定器用的 攝影機等之攝像機器中。 -17 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------- I--------裝 i ----訂·---111-- <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 417310 A7 B7五、發明説明(★) 符號詋明 1 ...半導體®板 2 ...基幹導電層3...分支導電層 4·..高濃度信號取出用半導體層 5 ...信號取出電稼 6 ...外框半導體層 7 ...外框電極 8 ...背面倒η型半導體層 9 ...下面電搔 10 _·.鈍化膜(绝緣膜) Π....閘極電極 17 ...半導體層 I —Γ 訂 . 線 (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4ii^( 2丨0Χ297公釐)

Claims (1)

  1. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 U7310 is C8 D8六、申請專利範圍 1. 一種半導體位置檢出器,依照受光而上之射入光位置 ,使從半導體導電層之兩端部各別輸出之電流值成為 可變,其特徵是:在該半導體導電層之途中設置能夠 中斷該兩端部間之電傳導之閘裝置。 2. 如申請專利範圍第1頊之半導體位置檢出器,其中該 閛裝置具備有:絶緣膜,其配置在該半導體導電層上 ;和閛探電棒,其配置在該絶緣膜上。 3. 如申謓專利範圍第1項之半導體位置檢出器,其中具 備有從該半導體導電層延伸之多個分支導電層。 4. 如申請專利範圍第3項之半導體位置檢出器,其中詨 分支導電層和該半導體導電層之電阻傜數大致相同。 5. 如申請專利範圍第2項之半導體位置檢出器,其中該 閘掙電極正下方之該半導體導電層具有與該兩端部不 同之不純物濃度。 fi .如申謓專利範園第】項之半導體位置檢測器,其中該 閛裝置具備有:絶緣膜,其配置在該半導體導電層上 ;和多傾閘橾電榷,其分別配置在該絶緣膜上。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 19- 本紙張U適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297-公釐)
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