4 ί 5' Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印*-衣 五、發明說明（1 ) 【發明背景】 本發明涉及顯像處理方法及顯像處理裝置的技術。例 如液晶彩色顯示器中的’用於彩色過濾器基板的顯像處理 方法及顯像處理裝置》 液晶参色顯示器中的彩色過濾器，需要在玻璃基板上 形成R、G、B著色圖案。這種著色圖案是由例如光刻法來 形成的。作為其中的一例，R'G、B使用各自不同的可變 為著色樹脂的感光性樹脂，經過3次塗付、曝光、顯像處 理步驟，形成相應的R、G、B圖案。 但是，在上述的顯像處理步驟中，由於未被曝光的感 光性樹脂被顯像液除去形成相應的圖案，即採用了負片型 的顯像處理，故要求在化學反應處理的同時，還要施加機 械性衝擊，例如，向基板高壓喷射顯像液。因此，作為向 基板提供顯像液的方法，考慮了採用泵等加壓手段，實現 向基板提供霧狀淋浴式的顯像液喷塗。 【發明概要】 然而，在進行負片型的顯像處理中，顯像液濃度極小 ，例如’如果正片型顯像液的濃度為2%的話，此處就要 使用0_1%濃度以下的顯像液。由於採用了顯像液霧狀淋 浴式喷塗、顯像液濃度小，因此存在顯像液與氣體中的氧 氣發生反應，顯像液劣化速度加快的問題。另外，由於採 用了顯像液霧狀淋浴式喷塗，在氣趙環境中出現了顯像液 懸浮霧狀顆粒的問題。另外，如果得不到充分的衝擊力 就會出現不良圖案、不良顯像的問題。 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·！ |訂· — !!-^
4 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 五、發明說明（ 本發明是為解決上述課題而產生的。其目的為：提供 一種減輕顯像液劣化，實現所期望的顯像處理的顯像處理 方法及顯像處理裝置；提供一種抑制顯像液懸浮顆粒產生 、通過顯像液給予基板充分衝擊力的顯像處理方法及顯像 處理裝置。 為解決相關課題，在申請專利範圍第i項中闡述的， 與本發明相關的顯像處理方法，具有以下特點，即在向被 處理基板實施顯像液供給及顯像處理的顯像處理方法中， 在吐向被處理基板的顯像液與處理環境之間，形成不含有 氧亂的氣體處理環境下，向基板實施顯像液供給及顯像處 理的顯像處理方法。 申請專利範圍第2項令所述闡述的，與本發明相關的 顯像處理方法，具有以下特點，即將上述不含氧氣的氣賤 環境溫度al與上述顯像液溫度bl，設定在“〈^的條件下 〇 申言s專利粑圍第3項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像處理方法，具有以下特點，即在上述顯像液向被處理 基板實施顯像液供給的步驟中，顯像液的供給呈簾狀。 申請專利範圍第4項中所述的，與本發明相關的顯像 處理方法，具有以下特點，即具有對保持於回轉機構上的 基板表面，利用高壓，噴射洗淨液的高壓洗淨步驟。 申請專利範圍第5項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像處理方法，是一種向被處理基板實行顯像液供給處理 的顯像處理方法。其具有以下特點，即在無氧環境下 本紙張尺度剌中❿㈣WCNS)A4規格（21〇 X 297公f ) --------------裝--- (請先M讀背面之注意ί項再填窝本頁) 幻· --線 經濟部智慧財產局貝Η消费合作社印製 1 417153 A7 ----------- 五、發明說明（3 ) 或對其環境的溫度、濕度進行控制的條件下，一邊使被處 理基板旋轉，一邊向被處理基板實施顯像液供給，此顯像 液的供給呈簾狀。 申請專利範圍第6項中所述闞述的，與本發明相關的 顯像處理方法，其具有以下特點，即上述所謂的簾狀是由 多個沿同一方向’以圓錐狀喷出的顯像液形成的。 申請專利範圍第7項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像處理方法，其具有以下特點，即向被處理基板提供上 述簾狀的顯像液的供給區域，該區域一邊大體及於在基板 的角部及另一邊則及於基板一邊的大體中央部。 申請專利範圍第8項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像處理方法，其具有以下特點，即上述被處理基板溫度 a2與上述顯像液溫度b2，是以a2<b2為設定條件的β 申請專利範圍第9項中所述闌述的，與本發明相關的 顯像處理方法，其具有以下特點，即具有對保持於回轉機 構上的基板表面，利用高壓，喷射洗淨液的高壓洗淨步驟 〇 申請專利範圍第10項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像處理方法’是一種對被處理基板上形成的薄膜實施顯 像處理的顯像處理方法。其具有在被處理基板與向被處理 基板提供顯像液的喷嘴之間，形成不含氧氣的氣體環境步 麻及在這個步驟後或這個步驟中，由上述喷嘴向被處理基 板提供顢像液步驟。 申請專利範圍第11項中所述闡述的，與本發明相關的 本紙張尺度適用t國國家標準（CNS)A4規格（210 * 297公釐） 6 (锖先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 i:-------Λ 經濟部智慧財產局員X·消費合作社印製 A7 --------- B7_____ 五、發明說明（4 ) _處理方法，其具有以下特點，即上述不含有氧氣的氣 體溫度a3與上述顯像液溫度b3，是以a3<b3為設定條件的 〇 t請專利範圍第12項中所述闞述的，與本發明相關的 顯像處理方法，其具有以下特點，即在上述顯像液向被處 理基板實施顯像液供給的步驟中，顯像液的供給呈簾狀。 申請專利範ϋ第13項中所述㈣的，與本發明相關的 顯像處理方法，其具有以下特點，即具有對保持於回轉機 構上的基板表面，利用高壓，喷射洗淨液的高壓洗淨步琢 申請專利範圍第14項中所述閣述的，與本發明相關的 顯像裝置具備有：用於向基板表面喷塗顯像液的喷嘴；在 上述喷嘴四周設有保護罩，該保護罩設有一個開口，以便 由上述噴嘴喷出的顯像液到達基板表面；在罩内具有喷吐 惰性氣體的手段，其目的是為了隔斷由罩内喷嘴喷出的顯 像液與罩内氣體環境的接觸。 申請專利範圍第15項中所述有關本發明的顯像裝置具 有以下特點’即上述喷嘴採用了能向基板表面以簾狀方式 喷射霧狀顯像液的喷霧型噴嘴。 申請專利範圍第16項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像裝置’具有以下特點，即以氮氣(N2)充當上述惰性氣 體。 申請專利範圍第17項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像裝置’具有以下特點，即其顯像液的濃度，低於0J% 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1------------ 裝 -----— I 訂·------- ·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本I) 7 A7 ---- B7 &、發明說明（5 ) Ο 申請專利範圍第18項中所述閣述的，與本發明相關的 顯像裝置，有以下特點，即具有回收已經喷塗到基板表面 的顯像液並使其再次提供給喷嘴的手段。 申請專利範圍第19項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像裝置，有以下特點’即具備將顯像液的溫度設在高於 被處理基板溫度1〜5°C的顯像液溫度調節裝置。 申請專利範圍第20項中所述闡述的，與本發明相關的 顯像裝置，有以下特點，即al、a3的溫度設定在比bl、b3 的溫度低1〜5°C的程度上。 申請專利範圍第1項中所述的有關本發明，由於被供 給的顯像液與處理環境之間，形成了不含氧氣的氣體環境 ’因此’在顯像液到達被處理基板之前，降低了其與氧氣 反應的可能性，故可以防止顯像液的劣化。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 申清專利範圍第2、11項中所述的有關本發明，其中 ’由於顯像液的溫度設定在稍稍高於不含氧氣的氣體環境 溫度條件下，故顯像液不可能從不含氧氣的氣體環境中吸 收熱量使其自身的溫度升高，因此，可防止顯像液的劣化; 另外，由於減輕了顯像液的低溫現象，因而不會降低在被 處理基板上的顯像反應速度。另外，這樣的溫度設定與顯 像液溫度及不含氡氣的氣體環境溫度設為相同溫度情況比 較’可更容易地實行溫度控制。 申請專利範圍第3、12、15項中所述的本發明，其中 ，由於採用了簾狀的顯像液供給，消除了顯像液在處理環 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） A7 -----2Z_____ 五、發明說明（6 ) *. 境t的霧狀飄浮現象，可抑制顯像液的霧化。而且，由於 --------------裝i — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 採用了簾狀的顯像液供給，通過顯像液能夠給予被處理基 板一定的衝擊力。 申4專㈣®第4、13項中所述的本發明，其令，由 於對被處理基板實施了高壓洗淨步驟，可有效地清除顯像 後留在被處理基板上的著色樹脂等殘留物。 丨 _請專利範®第5射所述的本發明，其中，由於顯 --線· 像處理是在-定的溫度、濕度控制下進行的，因此，降低 了顯像液的溫度變化，也降低了因顯像液的濕度所帶來的 濃度變化，從而防止了顯像液的劣化。而且，由於採用了 一邊使被處理基板旋轉，一邊向被處理基板實施簾狀式的 顯像液供給方法，故增加了顯像液對被處理基板的衝擊力 ，因此，被處理基板能夠得到充分的衝擊力。另外，由於 顯像處理是在一定的溫度、濕度控制下進行的，顯像處埋 能得到最佳的顯像反應速度。 1 申請專利範圍第6項中所述的本發明，由於採用了向 經濟'部智慧財產局員i-消費合作社印製 同一方向進行交叉重疊式的圓錐狀的顯像液供給，可使被 處理基板上的顯像液分布均勻，而且，也可給予被處理基 板更強的衝擊力。 申請專利範圍第7項中所述的本發明，由於顯像液的 供給區域大體在基板的角部及基板一邊的令央部，因此， 顯像液能夠均勻地塗敷在矩形被處理基板上，消除顯像液 的浪費現象。 申請專利範圍第8、19項中所述的本發明，由於顯像 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） A7 Γ 417153 B7 五、發明說明（7 ) 液溫度高於被處理基板的溫度，因此，促進了被處理基板 上的顯像反應’並且可縮短顯像時間。 申請專利範圍第9項中所述的本發明，其中，由於在 極處理基板處於持續回轉狀態下，實行高壓洗淨步驟，因 而能夠全面地洗淨被處理基板。另外，由於被處理基板處 於一邊旋轉一邊被高壓洗淨的狀態，因此，由於回轉增加 了洗淨液給於被處理基板的衝擊力，能更有效地清除被處 理基板上的殘留物。 申請專利範圍第10項中所述的本發明，其中，由於在 被處理基板與喷嘴之間，形成不含氧氣的氣體環境步驟之 後或這個步驟之中，實施顯像液供給，因此，降低了供給 到被處理基板上的顯像液與氧氣接觸的可能性，並可防止 顯像液的劣化。 申請專利範圍第14項中所述的本發明，其中，由於在 喷嘴周圍設有保護罩，並從保護革内喷出像隔離牆一樣的 惰性氣體，保護罩加上惰性氣體或者說氣體窗簾隔斷了顯 像液與氣體中氧氣的接觸，可以降低顯像液與氧氣發生反 應的可能性，不但抑制了惰性氣體的使用量，而且可以防 止顯像液的劣化β另外，不但可消除顯像液向周圍飛濺的 現象’還可以抑制顯像液的霧化。 申請專利範圍第16項中所述的本發明，其中，因為氮 氣Ν2容易得到，且擴散到被處理基板上及其周圍的氮氣Ν2 ，不會給被處理基板和人體帶來壞影響，所以本發明的惰 性氣體採用了氮氣Ν2。 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------I 1·1---— I— ^i— I--11 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 10 A7 B7 五、發明說明（ 申請專利範圍第17項中所述的本發明，其中，由於顯 像液的濃度設在0.1%以下，故適用於負月型的顯像處理 〇 申請專利範圍第18項中所述的本發明，其中，回收已 經喷塗到基板表面的顯像液，並再次提供給喷嘴，可使顯 像液得到有效的再利用。 申請專利範圍第20項中所述的本發明，其中，由於al 、a3的溫度設定在比bi、b3的溫度低1〜5°C條件下，顯像 液不會從不含氧氣的氣體環境中吸收熱量，使顯像液溫度 向於其自身的設定溫度’故可以防止顯像液劣化；另外， 由於在被處理基板上的顯像反應速度不會被降低，故顯像 處理能夠在規定時間内完成。 【發明的實施形態】 以下，參照附圖對本發明加以說明。 第1圖為本發明實施形態的塗敷.顯像處理系統的斜 視圖。 如第1圖所示’在這個塗敷•顯像處理系統1的前方， sx置有裝載.卸載部2 ’用於將基板（例如用於彩色過遽器 的基板G)搬出搬入於塗敷·顯像處理系統。這個裝載· 卸載部2設有將基板相排列放置於規定位置的基板箱載置 台3 ’此基板箱存放有玻璃基板g(例如各放置25枚）；還設 置有裝載•卸載機構4，其用於取出基板箱中的將要被處 理的玻璃基板G，以及放回在塗敷·顯像處理系統中被處 理完的玻璃基板G。圖中所示的裝載•卸載機構4，通過 本纸張尺度適用令國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---------------裝--- <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂.. -線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印剩^ 11 A7 B7 五、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明說明（9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由本體5的行走，使其沿基板箱C的排列方向來移動，並 由搭載在本體5上的板狀夾持臂6取出基板箱C中的玻璃基 板G或將玻璃基板G放回基板箱C中。在夾持臂6的兩侧， 設有校准玻璃基板G四角位置的基板位置校核器7。 沿塗敷•顯像處理系統1的中央部的長邊方向上，設 置了走廊狀的搬送通道10、11，中轉部12設置在搬送通道 10與11連線的中間部位，在這個搬送通道1 〇、11的兩側， 設置了對玻璃基板G進行各種處理的處理裝置。 在如圖所示的塗敷·顯像處理系統1中，沿搬送通道10 的一側，設置了清洗單元16(例如並行排列2台），其對基 板G施行刷洗與高壓喷射水的清洗。在搬送通道1〇的另一 侧，設有兩台並排放置的顯像裝置17,在它的旁邊，設有 兩台上下放置的加熱裝置18。 沿搬送通道11的一側’以上下兩層的方式配有用於冷 卻的冷卻裝置20〇冷卻裝置20的旁邊，設有兩列各自以上 下兩層方式安裝的加熱裝置22。在搬送通道11的另一侧， 設有兩台並排放置的塗敷裝置23,其將能變為著色樹脂膜 的感光樹脂塗敷到基板G上，並且使其形成著色樹脂膜。 在塗敷裝置23的側方，通過第2中轉部28，設有曝光裝置（ 圖中未示）’其對基板G上、由感光樹脂所形成著色樹脂 膜實施所規定的定精細圖案曝光。第2中轉部28,設有用 於玻璃基板G搬出搬入的夾持器29及中轉台30。 以上15〜18及20〜23的各處理裝置，均設於搬送通道 10、11約兩側，且玻璃基板G的進出口均朝向通道的内側 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公« ) 12 經 濟. 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明（10 。第1搬送裝置25是沿搬送通道10上移動的，承擔第丨搬送 裝置25與裝載•卸載部2、各處理裝置15〜18、第！中轉部 12之間的玻璃基板G的搬送工作。第2搬送裝置％是沿搬 送通道11上移動的，承擔第2搬送裝置26與第1中轉部12、 第2中轉部28、各處理裝置2〇〜23之間的玻璃基板g的搬 送工作。搬送裝置25、26,各具有一對上下配置的機械手 27,承擔向各處理裝置15〜丨8及2〇〜23的存取處理，其中 ，一個機械手27負責從各處理裝置中取出被處理完的玻璃 基板G,另一個機械手27負責向各處理裝置搬入將要處理 的玻璃基板G。 第2a圖為上述顯像裝置17的斷面圖，第2b圖為上述顯 像裝置17的平面圖。 如第2a及2b圖所示，在顯像裝置17的中心部，設有由 驅動馬達31使其旋轉並可上下移動的旋轉吸盤32。在這個 旋轉吸盤32的上面，通過真空吸附使玻璃基板(}保持在水 平狀態。 在這個旋轉吸盤32的下面，配置有下容器33。圍繞在 旋轉吸盤32的外周設有外罩34 ’下容器33與外罩34之間設 有内罩35。 外罩34與内罩35通過連接構件36相連接。通過控制部 37向升降液壓缸38發布指令’實現外罩34與内罩35的升降 。外罩34與内罩35的上部各自向内侧斜上方傾斜，外罩34 上開口部的直徑比内罩35的大’並且它們的上開口部的直 徑都應大於水平狀態的基板G，使保持水平狀態的基板〇 本紙張尺度適用争國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） IIIIIIIIIIII — ^ i 111--I ---- -- —線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 13 417153 A7 B7 五、發明說明（11 ) ，能夠穿過這些上開口降至罩_内。 下容器33由從中心部向外侧斜下方傾斜的傾斜部39及 在其外周配置的底盤40組成。在傾斜部39上設置了多個支 撐棒41(例如配置4根），以便起到支撐玻璃基板〇的作用。 支撐棒41端頭的高度應設在：當吸附於旋轉吸盤32上的玻 璃基板G被下降到最低位置時，支撐棒41的端頭正好接觸 到玻璃基板G的背面的高度上。底盤4〇上設有筒狀壁42， 且筒狀壁42介於外罩34與内罩35之間。内罩35的傾斜部越 過筒狀壁42的高度並延伸到筒狀壁42的外周。基於這種設 計’經内罩35傾斜部流下的液體被導入由底盤4〇和筒狀壁 42割開的外侧室43内。 在下容器33的傾斜部39内側方向，設有排出罩内氣體 的排氣口44，排氣口44與排氣泵相連（圖中省略）在由底盤 40和筒狀壁42割開的内側室45下部設有排液口 46，外侧室 43的下部設有排液口 47'。回收管48與排液口 46相連，對使 用過的顯像液進行再生處理的再生處理機構49與回收管48 相連。再生處理機構49是由進行氣液分離的氣液分離機構 50和對使用過後的顯像液進行雜質除去處理的雜質除去機 構51構成的，並與顯像液收容罐52相連。排液口 47與回收 罐相連（圖中末表示）》 罩上部的一侧，設有對玻璃基板G表面實施顯像液噴 塗的顯像液喷塗裝置53 ;另一側，設有用洗淨液對玻璃基 板G表面實施高壓喷射洗淨處理的高壓洗淨裝置54，及設 有向對玻璃基板G表面實施漂洗液供給的漂洗液供給裝置 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝----—訂.—l·!--^ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 14 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（Π ) '· 55 ^在罩上部的前方與後方，設有移動軌道56、57 ^顯像 液喷塗裝置53及高壓洗淨裝置54各自接有用於移動的馬達 58、59。用於移動的馬達58、59受控於控制部37,驅動顯 像液噴塗裝置53及高壓洗淨裝置54沿罩上部的移動軌道移 動。 顯像液嘴塗裝置53受控制部37的控制，通過泵62將顯 丨像液枚容罐52令的顯像液抽出，實施顯像液供給。在顯像 液噴塗裝置53與泵62之間設有對顯像液加熱的調溫裝置例 如加溫裝置63。加溫裝置63，例如環境溫度為坑情況下 ’基板G的溫度應在23t左右，這時，應將顯像液的溫度 加熱到高於基板G溫度1〜5V的程度，例如，加熱到乃〜 27°C。採用這種方法’可提高顯像速度。另外，高壓洗淨 裝置54受控制部37的控制，通過泵料將洗淨液罐^中的洗 淨液抽出，實施洗淨液供給。與此相同，漂洗液供給裝置 55也受控制部37的控制，通過泵66將漂洗液罐67中的漂洗 液抽出’實施漂洗液供給。 第3圖是從顯像液喷塗裝置53下側觀看的斜視圖。第4 圖為上述顯像液喷塗裝置53的說明圖，（a)、（1?)分別為正 面、平面的簡略圖。 如第2a〜4圖所示，在顯像液喷塗裝置53的中央部， 配置有喷嘴集合體77,其有一個水平固定臂68，在這個水 平固定臂68上並排裝有複數個喷霧式喷嘴69，例如，安裝 5〜7個噴霧式噴嘴69。噴嘴集合體77被保護罩78環繞著。 為使從各喷嘴69噴出的顯像液能喷到破璃基板〇表面，開
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格<210 X 297公爱） M.--------^--------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 -------- 五、發明說明（13 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 設了出口即開口部79。在這個保護罩78内，噴嘴集合體77 的兩側’設有惰性氣體喷出趙’例如以嘴射氮請為手 段的氮氣N2喷射體80。在與噴嘴集合體77相平行的構件81 的端頭部，設有多個與喷嘴集合體77相平行的氣氣犯喷 出孔82，其氮氣是由氮氣供給裝置76供給的。因此，在保 護罩78内’由喷嘴集合艘77嗔出的顯像液，在氮氣犯的 作用下，無法與保護罩78内環境氣體接觸。氮氣N2不僅 容易獲得，而且對基板G及人體沒有任何壞影響。氤氣N2 的溫度、濕度可由溫濕調節器調節（圖中末表示 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 各喷霧式喷嘴69，如第5圊所示，顯像液從吐出口7〇 水平喷出後，衝撞到設置在其對面的傾斜壁面71上，像簾 狀連續地流向下方且擴散成圓錐狀。另外，如第4a、仆囷 所示，喷霧式喷嘴69之間設有間距，應能讓由這些喷霧式 喷嘴69喷出的顯像液與相鄰的喷霧式喷嘴69喷出的顯像液 相互交又重疊，且顯像液的供給範圍大鳢在基板的角部j 及基板長邊的中央部Π。由於採用了向同一方向施行以圓 錐狀交又重疊式的顯像液供給’使得被處理基板上的顯像 液分布均勻’而且’也可給予被處理基板更強的衝擊力。 另外，Π表示為由嘴出體80喷出的氮氣N2喷出範圍。 各喷霧式喷嘴69以1.5〜2.5(kg/cm · cm)的壓力喷出顯 像液’最理想的壓力為2.0(kg/cm . cm)。例如，當喷霧式 喷嘴的喷出麼力為0.8(kg/cm . cm)時，經過30秒，玻璃基 板G上的顯像液就不能被完全剝離，而當喷出壓力為 2.0(kg/cm . cm)時’經過同樣的時間，玻璃基板g上的顯 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱〉 16 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（14 ) *« 像液仍能被完全剝離。各喷霧式噴嘴69與玻璃基板G的間 距設在50〜l〇〇(mm)、更理想的間距應在75〜l〇〇(mm)範 圍内。這樣的設定可提高顯像速度。另外，顯像處理時， 顯像液噴塗裝置53基本靜止於玻璃基板G的中央部，由旋 轉吸盤32吸附的玻璃基板G以200〜300(rpm)的速度旋轉， 因此’顯像液可給予玻璃基板G更強的衝擊力。 > 第6圖為上述高壓洗淨裝置54的原理簡圖，（a)為正面 圖，（b)為平面圖。 如第6圖所示，高壓洗淨裝置54，配有水平方向的固 定臂72，在其上並排裝有複數個高壓洗淨喷嘴，例如，並 排配置5〜7個高壓洗淨噴嘴73。各高壓洗淨噴嘴73喷出的 洗淨液呈將擴散成圓錐狀 '且各相鄰的高壓洗淨喷嘴73噴 出的洗淨液相互交又重疊。 洗淨液以例如5(kg/cm . cm)的壓力從高壓喷霧式喷嘴 )73噴出，因此其可充分地除去顯像後留在玻璃基板G上的 殘留物。在清洗過程中，由旋轉吸盤32吸附的玻璃基板G 處於靜止狀態，高壓洗淨裝置54沿玻璃基板G長邊方向掃 過。採用這種方式，可縮短高壓洗淨裝置54的長度。 第7圖為上述漂洗液供給裝置55的原理說明簡圖，（a) ' (b)分別為其斷面 '平面圖。 - 如第7圖所不，在漂洗液供給裝置55中，回轉機構（圖 中未不）驅動機械手74回轉，安裝於機械手74端頭的漂洗 液供嗔嘴75 ’大約位於旋轉吸盤32所吸附的玻璃基板G 的中央處。在實施漂洗處理的過程中，㈣吸盤32所吸附 297公釐） --------裝---—— — — — 訂---------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 17 A7 417153 ___ B7____ 五、發明說明（l5 ) 的玻璃基板G以200〜300(rpm)的速度旋轉，而位於玻璃基 板G中央處的漂洗液供給喷嘴75處於靜止狀態。 下面對有關處理動作進一步說明》 第8圖為有關顯像裝置17的工作流程圖。 如第9圖所示，玻璃基板G被搬入顯像裝置17内、由 旋轉吸盤32吸附並被下降至不與支撐棒41接觸的位置、這 時外罩34與内罩35被上升至最高的位置、顯像液喷塗裝置 53被移到玻璃基板G中心附近後，處於靜止狀態。之後， 讓吸附在旋轉吸盤32上的玻璃基板G旋轉、經過溫濕調節 後的氮氣N2通過N2喷出體80喷出、在供給到基板g上的 顯像液與處理環境（例如’操作室内氣體）之間形成不含氧 氣的氣體環境的同時（例如，氮氣N2環境狀態）、通過顯像 液嘖·塗裝置53向玻璃基板G實施顯像液喷塗處理（步驟8〇1). 。採取這樣的步驟，降低了顯像液到達被處理基板之前， 與氧氣發生反應的可能性，可以防止顯像液的劣化，實現 所期望的顯像處理《另外’由於在經過溫濕調節的氮氣1^2 環境下’實施連續流線型簾狀的顯像液供給，降低了顯像 液溫度的變化’也降低了因顯像液濕度而引起的濃度變化 ’可以防止顯像液的劣化。當然，在保護罩78内形成的氮 氣N2環境’因保護罩78與基板g之間留有間隙，氮氣N2 會從這個間隙擴散到基板G上面，使基板G與喷霧式喷嘴69 之間形成不含氧氣的氣體環境（例如，氮氣N2環境）。所以 ’也降低了基板上的顯像液與氧氣反應的可能性，可進一 步防止顯像液的劣化。另外，由於顯像液的劣化得到了防 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 χ 297公釐） I I L I I I.--— I— --I I ^ -11111111^. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 18 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _______B7____ 五、發明說明（l6 ) , 止’因此’可以對使用過的顯像液進行回收和再利用。剛 被噴出的不含軋氣的氣體例如氮氣Ν2溫度al、與剛被喷 出的顯像液溫度bl、設定在al < bl的狀態下。氮氣N2溫度 設定在高於室内溫度、溫度bl設定在稍稍高於溫度ai的條 件下’例如’設定在高於1〜5t的條件下。因此，抑制了 顯像液在抵達被處理基板過程中，所發生的溫度下降現象 > ’不會降低被處理基板上的顯像反應速度。另外，基板G 的溫度a2與剛到達於基板G的顯像液溫b2，設定在a2 < b2 的狀態下。與溫度b2與基板溫度都在23°C左右的情況相比 較，其加快了被處理基板上的顯像反應速度，可以縮短顯 像時間。另外’擴散到基板G上的氮氣N2溫度a3與擴散到 基板G上的顯像液溫度b3，設定在a3 < b3的狀態下。其中 ’ a3高於室内溫度、溫度b3設定在稍稍高於溫度a3(例如 ，1〜5°C)的條件下。由於採用了上述的溫度設定，當顯 像液擴散到基板G時的溫度下降現象得到了緩和，所以不 > 會降低被處理基板上的顯像反應速度。另外，由於採取了 al < bl ' a3 < b3的設定，顯像液的溫度不可能升到高於bl 或b3狀態’所以’可以防止顯像液的劣化。另外，如果與 aI=M、a3=b3的設定條件相比較，上述的溫度控制比較容 易實行，可以簡化控制設備’也可提高對裝置的信賴度。 • 飛濺到玻璃基板G外的顯像液，撞到内罩35内側，經 排液口 46回收再利用》 如第10圖所示’當吸附在旋轉吸盤32的玻璃基板〇被 下降至與支撐棒41接觸的位置時、外單34與内罩35也被下 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） II--— II--I I I I--— II ^-— — — — — 1 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 19 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 1 417 153 Δ7 Α7 ——____Β7 五、發明說明（π ) 降至最低的位置。然後，使吸附在旋轉吸盤32的玻璃基板 G保持在靜止狀態，這時高壓洗淨裝置54沿玻璃基板G長 邊方向掃過，通過高壓洗淨裝置54向玻璃基板G喷出洗淨 液，實施高壓洗淨步驟（步驟802)。飛濺到玻璃基板G外的 洗淨液經内罩35與外罩34之間的排液口 47排除並廢棄。另 外，在高壓衝洗過程中，由於支撐棒41支撐於玻璃基板Q 的反面，所以，玻璃基板G不會發生變形。 如第11圖所示，當吸附在旋轉吸盤32上的玻璃基板G 被上升至不與支撐棒41接觸的位置時、外單34與内罩35仍 處於其最低的位置上，漂洗液供給裝置55被移動到吸附於 旋轉吸盤32的玻璃基板G的中心附近，之後，被旋轉旋轉 吸盤32吸附的玻璃基板G，由漂洗液供給裝置55對玻璃基 板G實施漂洗步驟（步驟803)。另外，飛濺到玻璃基板g外 的漂洗液通過經内罩35與外罩34之間的排液口 47排出並廢 棄。 最後’如第11圖狀態’將漂洗液供給裝置55移到罩外 後’使旋轉吸盤32吸附的玻璃基板G高速旋轉，實施用於 步驟（步驟804)。 如上所述’本實施形態：由於採用了邊旋轉玻璃基板 G邊由喷嘴集合體77向基板G表面喷塗顯像液的方法，從 而大大縮小了顯像液喷塗範圍；除用保護罩78罩在喷嘴集 合體77上以外，為了阻止由喷嘴集合體77喷出的顯像液與 保護罩内的氣體環境接觸，還採用了氮氣N2喷出體8〇噴 射氮氣N2的方法，即在保護罩78及N2氣體（即所謂的氣體 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 11 ! — 11 — — — — — -11--11 I ^ 11--— II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 20 A7 B7 五、發明說明（18 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 幕簾）的雙重作用下，隔絕了顯像液與氣體的接觸，·由於 上述的遮植空間非常狭小，不但控制了氮氣N2的使用量 又能對顯像液進行有效的再利用。而且，防止了顯像液向 四周飛濺，抑制了顯像液的霧化。 另外，由於顯像液是以簾狀流線的形式向玻璃基板吐 出，消除了顯像液以霧狀形式在氣體環境中的漂浮現象， 抑制了顯像液的霧化。另外，由於此時採用了邊旋轉玻璃 基板G邊喷塗顯像液的方法，顯像液可給玻璃基糾以足 夠的衝擊力，既不會造成不良顯像，還可清除玻璃基板G 上的殘留物。 另外，本發明並不侷限於上述實施形態。例如在上述 實施形態中’惰性氣體選用了氮㈣。當然，採用域 體等其他惰性氣體或能將顯像液與氣體隔開的氣體也是可 行的。 另外，上面曾說過，溫度al是指氮氣1^2剛噴出時的溫 度，溫度a3是指氮氣]^2擴散到玻璃基板G時的溫度。當然 ，這襄所說的溫度al和溫度a3也可以是!^2氣體吐出後，在 某個部位’某個時間的溫度。 同樣如上所述，溫度bl是指顯像液剛喷出時的溫度， 溫度b3是指顯像液擴散到玻璃基板g時的溫度。當然，這 襄所說的温度bl和溫度b3也可以是顯像液吐出後，在某個 部位，某個時間的溫度。 同樣’上面曾說過，溫度a2是指基板G的溫度，溫度 b2是指顯像液剛到達玻璃基板g時的溫度。顯然，這裏所 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 請 先 閲 讀 背 面 之 注
項 再I裝 頁I 訂 線 21 417 153 a? ___B7_____ 五、發明說明（I9 ) 說的溫度a2也可以是基板G某個部位及某個時間的溫度， 溫度b2也可以是顯像液吐出後，在某個部位，某個時間的 溫度。 另外’在被處理基板與向被處理基板提供顯像液的喷 嘴之間，形成不含有氧氣的氣體環境過程中，由上述喷嘴 向被處理基板提供顯像液。顯然，在被處理基板與同被處 理基板提供顯像液的喷嘴之間’形成不含有氧氣的氣趙環 境步驟之後’由上述喷嘴向被處理基板提供顯像液的步驟 就顯得更為合理。因為此時顯像液供給步驟是在氮氣1^2 氣體環境形成後施行的，所以，與在氮氣N2氣體環境形 成中實施顯像液供給步驟松比，可進一步降低顯像液與氧 氣反應的可能性。 另外，作為基板不只局限於例中的用於彩色過濾器的 玻璃基板G ’ LCD基板及其他須要顯像處理的基板，當然 也都適用於本發明。 如以上所說明過的、申請專利範圍第1項中所述的有 關本發明，被供給的顯像液與處理環境氣體之間，由於形 成了不含有氧氣的氣體環境，因此，在顯像液到達被處理 基板之前，降低了其與氧氣反應的可能性，可以防止顯像 液的劣化，可實現了良好的顯像處理，提高了產品成品率 。而且，對使用過的顯像液可以採取再利用，降低顯像液 的消耗。 如申請專利範圍第2、11項中所述的有關本發明，顯 像液的溫度設定在稍稍高於不含氧氣的氣髖環境溫度條件 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210* 297公蓳） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝·!_1!訂 --------線 I . 經濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 22 A7 A7 經濟条智慧財產局員工消費合作社印製
五、發明說明（2〇 ) 下’顯像液不可能從不含氧氣的氣體環境中吸收熱量，使 其自身的溫度升高，因此，可防止顯像液的劣化；另外， 由於減輕了顯像液的低溫現象，因而不會降低在極處理基 板上的顯像反應速度，因此，也提高了產品的成品率。另 外’與顯像液溫度及不含氧氣的氣體環境溫度設為相同溫 度情況比較’實行溫度控制比較容易，可以簡化了控制設 備°另外’可通過裝置的簡化提高裝置的信賴度。 如申請專利範圍第3、12、15中所述的有關本發明， 由於採用了簾狀的顯像液供給，消除了顯像液在處理環境 中的霧狀飄浮現象，抑制了顯像液的霧化.另外，由於採 用了簾狀的顯像液供給，通過顯像液可給予被處理基板一 定的衝擊力’因而也提高了產品的成品率。 如申請專利範圍第4、13項中所述的有關本發明，由 於對被處理基板實施了高壓洗淨步驟，可有效地清除顯像 後留在被處理基板上的著色樹脂等殘留物，從而提高了產 品的成品率。 如申凊專利範圍第5項中所述的本發明’由於顯像處 理疋在一定的溫度、濕度控制下進行的，因此，降低了顯 像液的溫度變化’也降低了因顯像液的濕度所帶來的濃度 變化，從而防止了顯像液的劣化。另外，由於採用了一邊 使被處理基板旋轉，一邊向被處理基板實施簾狀的顯像液 供給方法，故增加了顯像液對被處理基板的衝擊力，因此 ，被處理基板能夠得到充分的衝擊力。另外，由於顯像處 理是在一定的溫度、濕度控制下進行的，顯像處理能得 本紙張尺度關家標準（CNS)aT^各（2^ 297公釐） I! — 丨丨丨！111· ^^ -----訂--— — — — —-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 23 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ””53---—---si-,, ____五、發明說明（S1 ) 最佳的顯像反應速度。所以，能夠提高產品的成品率，實 現顯像液的再利用，降低顯像液的消耗。 如申明專利範圍第6項中所述的本發明，由於採用了 向同一方向進行交叉重要式的圓錐狀的顯像液供給，可使 被處理基板上的顯像液分布均勾，而且，也可給予被處理 基板更強的衝擊力。從而’提高了產品的成品率。 如申請專利範圍第7項中所述的本發明，由於顯像液 的供給區域大體在基板的角部及基板一邊的中央部，因此 ，顯像液能夠均勻地塗敷在矩形被處理基板上。消除了顯 像液的浪費現象，降低了顯像液的消耗量。 如申請專利範圍第8、19項中所述的本發明，由於顯 像液溫度高於被處理基板溫度，因此，促進了被處理基板 上的顯像反應，縮短了顯像時間，提高了生產率。 如申s青專利範圍第9項中所述的本發明，由於在使被 處理基板處於持續回轉狀態下，實行高壓洗淨步驟，因而 能夠全面地洗淨被處理基板。另外，由於被處理基板處於 一邊旋轉一邊被高壓洗淨的狀態，因此，由於回轉增加了 洗淨液給予被處理基板的衝擊力，能更有效地清除被處理 基板上的殘留物。所以’也提高了產品成品率。 如申請專利範圍第10項中所述的本發明，由於在極處 理基板與喷嘴之間’形成不含氧氣的氣體環境步驟之後或 這個步驟之中，實施顯像液供給，因此，降低了供給到被 處理基板上的顯像液與氧氣接觸的可能性，並可防止顯像 液的劣化。所以’能夠提高產品的成品率，實現顯像液的 A7 -----；---^------X--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 上6 . --線· 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公t ) 24 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（22 ) 再利用，降低顯像液的消耗。 如申請專利範圍第14項中所述的本發明，由於在嘴嘴 .«設有保護罩，並從保護罩内嘴出像隔離踏一樣的惰性 讀，保護罩加上惰性氣艘或者說氣體窗簾隔斷了顯像液 與氣體中中氧氣的接觸，因此，可以降低顯像液與氧氣發 生反應的可能性。不但控制了情性氣體的使用量，而且可 以防止顯像液劣化。另外，不但可消除顯像液向周圍飛賤 的現象，還可以抑制顯像液的霧化。所以，能夠提高產品 的成品率’實現顯像液的再利用，降低顯像液的消耗。 申請專利第16項巾所述的本發明，其中，因為氣 氣N2容易得到，且擴散到被處理基板上及其周圍的氣氣N2 ，不會給被處理基板和人體帶來壞影響，所以本發明的惰 性氣體採用了氮氣N2。 申請專利範圍第17項中所述的本發明，其中，由於顯 像液的濃度設在0.1%以下，適用於負片型的顯像處理， 並且能夠提高產品的成品率。 如申响專利蛇圍第1 8項中所述的本發明，回收已經噴 塗到基板表面的顯像液，並再次提供給噴嘴，可使顯像液 得到有效的再利用，並且降低顯像液的消耗量。 申請專利範圍第20項中所述的本發明，其中，由於al 、a3的溫度設定在比bi、b3的溫度低1〜5〇c條件下， 顯像液不會從不含氧氣的氣體環境中吸收熱量，使顯像液 溫度高於其自身的設定溫度，故可以防止顯像液劣化；另 外’由於在被處理基板上的顯像反應速度不會被降低，因 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ill---!裝------- - 訂--I I---I ·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 25 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明說明（23 ) 此’顯像處理能夠在規定時間内完成。所以，能夠提高產 品的成品率，實現顯像液的再利用，降低顯像液的消耗。 【圖面的簡略說明】 第1圖為有關本發明之一的塗敷•顯像處理系統的斜 視圏。 第2a圖為第1圖所示的現象裝置的正面圖。 第2b圖為第1圊所示的現象裝置的平面圖。 第3圖為第2a圖及第2b圖所示由下方觀看的顯像液噴 塗裝置的斜視圖。 第4圖為第2a及第2b圖所示顯像喷塗裝置的說明圖。 第5圖為第4圖所示喷嘴的斷面圖。 第6圖為第2a及第2b圖所示高壓洗淨裝置的說明圖。 第7圖為第2a及第2b圖所示漂洗液供給裝置的說明圖 〇 第8圖為採用本實施形態的顯像裝置的工作流程。 第9圖為第8圖所示的與步驟801相對應顯像裝置的狀 態圖。 第10圖為第8圖所示的與步驟802相對應顯像裝置的狀 態圖。 第11圖為第8圊所示的與步驟803相對應顯像裝置的狀 態圊。 【符號說明】 17…顯像裝置 31…驅動馬達 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 26 — — — — ------i—t---I 11---^ I - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7_ 五、發明說明（24 ) 3 2…旋轉吸盤 53…顯像液喷塗裝置 54…高壓洗淨裝置 55…漂洗液供給裝置 63…加溫裝置（顯像液調溫裝置） 69…喷霧式噴嘴（噴嘴） 78…保護罩 80···氮氣N2噴出體（惰性氣體喷出手段) G…玻璃基板 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x297公釐） 27