TW408248B - Photosensitive resin composition and method for forming pattern using the same - Google Patents

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Hiroshi Tsushima
Shigeru Mikami
Hidemi Watanabe
Takeshi Imamura
Iwao Sumiyoshi
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Nippon Paint Co Ltd
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經濟部中央標準局負工消費合作社印裝 4G824B A7 __ B7___ 五、發明説明(1 ) 本發明偽有關一感光的樹脂組成物及使用它來形成圖 案的一方法。 濾色片己被用於在使用液晶作為光閘的液晶顔色展示 上。目前,本發明者發展出使用一有機聚矽烷之光降解來 生産濾色Η之一方法。 例如,在日本早期公開專利文獻第5號(1993)-273410 中掲露了將一聚矽烷層曝光並浸入由含一染料或一顔料之 金屬烷氧化物的箸色溶膠中之方法。在日本早期公開專利 文獻第5號(1993)-47 782中也掲露了將形成在一透明的電 導底材上的一聚矽烷層曝光,並使用含一染料或一顔料的 電沈稹溶液使聚矽烷層被照射的面積上電沈稹一圖案的方 法。 上述使用聚矽烷層方法之問題是需長時間曝光。 本發明之一目標是解決上述困難,藉以提供簡單並有 優異産率的製诰濾色Η之一方法。 本發明此一目標與其它目標並優點,從以下敘述並參 考附圃,對技術人士而言將是顯而易見的。 第1圖乃本發明形成有色圖案之方法的示意流程説明 Ρ 第2圖乃本發明形成其它有色圖案之法的示意流程說 明。 本發明提供一感光樹脂組成物,它包括: (a)—聚矽烷,其重均分子童不小於10000,它可溶於 有機溶劑; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
408248 A7 B7 五、發明説明(2 ) (b) —光自由基産生劑和一氣化劑之組合 U)—矽油,其化學結構如下式: R2 R4 R3 R5 經濟部中央標準局貞工消費合作社印繁 其中R1、R' R3、R' Re和R6可以相同或相異,並代 表一基圍,乃選自下列組中物,包括有1至1〇個硪原 子之脂族烴基,它能被一鹵素原子或一縮水甘油基取 代;有6至12個碳原子之芳香烴,它能被一鹵素原子 取代;有1至8癎碩原子之烷氣基;而1«和n代表一整 數,且滿足m + nhl的不等式;和 (d)—有機溶劑。 本發明提供形成有色圔案之一方法,包括步驟為: (A) 將上述感光樹脂組成物施於一底材上,並乾燥底材使 形成一感光層; (B) 將感光層作選擇性曝光以形成有色圖案之潛像;和 (C) 用含一染料或一顔料之著色溶液將己形成有色圖案潛 像的曝光面積著色。 本發明提供形成有色圖案之一方法,進一步包括其它 著色步驟(D),它按照箸色步驟的相同條件再進行至少一 次,除了用一不同的染料或顔料在上述感光層上形成一不 同箸色圖案之潜像。 本發明提供形成一薄膜圖案的方法,包括步驟為: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 參· -訂 經濟部中央樣準局負工消費合作杜印策 …、 A/ 408248 B7 五、發明説明(3 ) (A’)將上述感光樹脂組成物施於一底材上,並乾燥底材使 形成一感光層; (B’)將感光層作選擇性曝光以形成有圖案之潛像;和 (C')將已肜成圖案潛像之曝光面積浸入一金靥氧化物溶膠 中,它並不含一顔料或染料;或將溶膠施予曝光面積 上。 如此完成了上述目標。 感光榭脂組成物 本發明的感光樹脂組成物含有U)—聚矽烷,其重均 分子量不小於10000,它可溶於一有機溶劑中,(b) —光自 由基産生劑和一氣化劑之組合,(C)一矽油,和(d) —有機 溶劑。 (a)聚讷粒 用於本發明的聚砂烷之例包括網狀或鏈狀之聚矽烷。 考康到感光材料之機械強度,則網狀聚矽烷較理想。網狀 聚矽烷與鏈狀聚矽烷之區別在於在聚矽烷中所含Si原子的 鍵接狀態。網狀聚矽烷是在聚矽烷中所含的Si原子與相鄰 Si原子鍵接的數目(鍵數)為3或4。鏈狀聚矽烷之鍵數 為2。因為Si原子的價數為4,在與相鄰Si原子以外,在 聚矽烷中這些Si原子與一烴基、一烷氧基或一氫原子鍵接 之鍵數不超過3。 理想的烴基可以是有1至悃碳庳子且可能被一齒素 原子取代的脂族烴基,或是有6至14_碩原子之芳香烴基 。脂族烴基之例是鏈狀烴基,諸如甲基、丙基、丁基、己 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 6 (请先閱讀背面之注意事項#填寫本頁)
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 _-408248 ^ _ 五、發明説明(4 ) 基、辛基、癸基、三氣丙基、九氟己基、等;和脂環經基 ,諸如環己基、甲環己基、等。芳香烴基之例是苯基、對 甲苯基、聯苯基、麓醯基、等。 烷氣基之例是有1至8個硪原子的,諸如甲氣基、乙 氣基、苯氣基、辛氣基、等。它們之中特別的是甲基或苯 基,因為它們易於製得。 至於網狀聚矽烷,基於#網狀聚矽烷中Si原子的總數 ,鍵數(與相鄰Si原子)為3或4的Si原子之比例,理想 範圍為5至50%。當其比例低於5%時不能獲得本發明的 技術效果。反之,當它超過50%時,似乎溶解度太低。藉 測定矽的核磁共振光譜可以決定此值。 在本發明中之聚矽烷進一步也可包括網狀和鏈狀聚矽 烷混合所得的。上述情況中之Si原子比例由網狀和鏈狀聚 矽烷之平均來計算。 用於本發明之聚矽烷可藉在一鹼金屬(例,鈉、等) 存在下,在一有機溶劑(例,正癸烷、甲苯等)中加熱一 鹵化矽烷化合物至8010或以上,即由縮聚反應製得。 網狀聚矽烷可藉加熱包括一有機三鹵矽烷化合物、一 四fi矽烷化合物和一二有機鹵矽烷化合物之鹵矽烷混合物 進行縮聚反應來獲得,其中有機三齒矽烷北合物和四鹵矽 烷化合拗之比例範圍,基於總童為5至50%莫爾。有機三 鹵矽烷化合物是鍵數(與相鄰Si原子)為3的Si原子之來 源,而四鹵矽烷化合物是鍵數(與相鄰Si原子)為4的Si 原子之來源。進一步,網狀結構能由測定矽的紫外吸收光 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁)
A7 B7 408248 五、發明説明(5 ) 譜或核磁共振光譜來確定。 鏈狀聚矽烷之製得可以用網狀聚矽烷相同的反應,除 了用許多二有機二氯矽烷或一二有機二氯矽烷。 用作聚矽烷的原材料之有機三鹵矽烷化合物、四鹵矽烷 化合物和二有機鹵矽烷化合物中所含的鹵素原子理想地是 一氣原子。在有機三鹵矽烷化合物和二有機鹵矽烷化合物 中所含,除了鹵素原子以外的取代基之例包括上述之烴基 、烷氧基和氫原子。 這些網狀和鍵狀聚矽烷可以是溶於有機溶劑且其重均 分子量不小於10000之任何一種。當考慮作為感光材料時 ,用於本發明的聚矽烷必須溶於一揮發性有機溶劑。理想 的有機溶劑之例有含5至12個碩原子的烴、鹵化烴和醚。 烴類之例有戊烷、己烷、庚烷、環己烷、正癸烷、正 +二烷、苯、甲苯、二甲苯、甲氣基苯、等。豳化烴之例 有四氣化硪、氣仿、1,2-二氣乙烷、二氛甲烷、氣化苯、 等。醚之例有二乙醚、二丁醚、四氫呋喃、等。 另外,聚矽烷之重均分子量理想地不小於10000。當 它低於10000時,不能獲得本發明的技術效果。 (b)来白由甚商牛割和氩化_夕甜合 能用於本發明的光自由基産生劑可以是藉光幅射産生 一鹵素自由基之任何化合物,其例有2,4,6-三(三鹵甲基) -1,3,5-三畊和在2 -位置或2-和4-位置被取代的一化合物 ,磺酸酞醯亞胺基三鹵甲烷酯和在苯環上有一取代基的一 化合物,磺酸禁醯亞胺基三鹵甲烷酯和在苯環上有一取代 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) P. ^^^^1 tkn tiw t^i (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂. 4 經濟部中央標準局貝工消費合作.社印製 408248 A7 B7 五、發明説明(6 ) 基的一化合物,等。在這些化合物中所含之取代基是具遴 擇性取代的脂族或芳族烴基。 另外,能用於本發明的氣化劑可以是能提供氣來源之 任何化合物,其例有一過氧化物、一胺氧化物、一膦氧化 物,等。三氣三畊作為光自由基産生劑和一過氧化物作為 氧化劑是理想的組合。 《 加入光自由基産生劑和氣化劑所應用的事實是Si-Si 鍵被一鹵素自由基有效地斷開,而氧容易地結合進去。更 者,也可藉加入可溶解的染料,經由光激發染料産生一鹵 素自由基,可溶性染料有諸如香豆素染料、花青染料、部花 青染料、等。這些是與改進聚矽烷對光的敏感度有關。 (c) 用於本發明的矽油是由下式表之: _ R2 R4 R3 R5 - β . ----一---r_----- {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ,.灯 經濟部中央標準局員工消費合作杜印装 其中R1、R2、R3、R、Re和1^可以相同或相異,並代 表一基團,乃選自下列組中物,包括有1至10個硪原 子之脂族烴基,它能被一鹵素原子或一縮水甘油基取 代;有6至12値磺原子之芳香烴,它能被一齒素原子 取代;有1至8値碩原子之烷氣基;而πι和η代表一整 數,且滿足πι + nfcl之不等式。 在矽油中所含的脂族烴基之例有直線形烴基,諸如甲 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 9
經濟部中央標準局員工消費合作社印I 408248 A7 _B7_ 五、發明説明(7 ) 基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、三氣丙基、縮水氧 丙基、等;脂璟烴基,諸如環己基、甲基環己基、等。芳' 族烴基之例有苯基、.苯甲基、聯苯基、等。烷氣基之例有 甲氧基、乙氧基、苯氧基、辛氣基、等。 R1至Rs的種類和in與η之值並不特別重要,矽油可以是 在室溫為液態且與聚矽烷和有機溶劑相容的任何一種。當 考慮相容性時,最好與所用的聚矽烷之烴基是相同的基圆 。例如,當使用一苯甲基聚砂烷時,最好也使用相同的苯 甲基或二苯基矽油。另外,茌矽油分子中有二個或多個垸 氧基,其中R1至R6中至少兩個代表有1至8個磺原子之烷 氣基,這樣的矽油可用作交鍵劑。其例有甲苯基甲氧基矽 或苯甲氧基矽,它含有15至35%重量之烷氣基。 理想的矽油之重均分子量不超過10000,更理想是不 超過3000。矽油的下限可低至500。另外進一步矽油之黏 度在25t時不超過200 cps,理想者不超過50 cps。黏度 的下限可低至1 cps。 (d)有機溶翻 用於本發明的有機溶劑可以是述於聚矽烷(a)中的那 些。 有關於本發明的感光樹脂組成物中之組成,光自由基 發生劑、氧化劑和矽油之量分別為1至30重量份,1至30 重量份和5至100重量份,此乃基於聚矽烷的100重量份。 當進一步加入染料時,染料之量理想地為1至20重量份, 此乃基於100重量份之聚矽烷。可使用有機溶劑,使總滠 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4规格(2丨0X297公釐) 10 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 408248 A7 _ B7 五、發明説明(8 ) 度為5至15%重量。在本發明中,因為矽油之功能是作為 所用的聚矽烷和光自由基産生劑或氣化劑之相容試劑,與 不使用矽油的情況比較,它可以含大量的光自由基産生劑 和氧化劑。 感光材料 獲得感光材料乃藉將上述感光樹脂組成物施於一底材 上,繼而乾燥。底材乃依用途而變化,包括玻璃片、金屬 片或塑膠Μ。當製造濾色Η時,必須使用一透明底材。透 明底材之例包括玻璃片、石英片、對酞酸聚乙烯酯膜、聚 烯烴膜、丙烯的膜、等。用玻璃片作為底材是特別理想的 。在該情況中,底材的厚度乃依所使用材料之強度而變化 。例如,當使用玻璃片時,從濂色Η材料之強度的觀點, 理想的厚度範圍為0.6至1.2mm。另外,可具選擇性在底材 上作金靥鉻的光遮蔽膜(黑基質)之圖案。. 施於底材上的方法可以是能形成有均勻厚度聚矽烷層 之任何方法,可用技術上已知的方法進行施加。通常理想
I 的是用一旋轉塗覆法。在底材上所形成的聚矽烷層理想的
I 乾膜厚度範圍為0.1至1. Oiling如此所得的感光材料可以用 作一濾色Η或一陶'磁薄膜。 形成有任.圖窣:> 方法 本發明的形成一有色圖案之方法包括的步驟有:將感 光樹脂組成物施於一底材上並乾燥底材以形成一感光層(Α) ,將感光層選擇性地曝光以形成有色圖案之潛像(Β),用 含一染料或一顔料之箸色溶液在生成有色圖案潛像之曝光 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4规格{ 210X297公釐) 11 {請先閲讀背面項再填寫本頁)
408248 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 _ B7_五、發明説明(9 ) 面積上著色(C)。 另外,當要形成多種顔色圖案時,本法進一步包括另 一箸色步驟(D),依照著色步驟的相同條件至少再進行一 次,除了在以上的感光層上用不同的染料或顔料形成不同 顔色圖案之潛像。 走驟(AI 此步驟與上述感光材料一項中所述的相同。 步駿(tn 在第二步中,藉將以上感光層具選擇性地曝光使在曝 光面積上形成有色圖案之潛像。通常用紫外線曝光。此步 驟示於第1(a)圔中。即,從步駿((A)所得的底材101和一聚 矽烷層102的感光材料104,在其上置一有圖案的光罩103 ,並用紫外線110照射其上。 用於本發明的紫外線之波長為250至400 nm,它是在 聚矽烷的<^〆吸收範圍内。此照射在光量在每liim厚度之 聚矽烷層為0,01至1 中進行,理想者為0.1至0.5 J/ cma。當光量小於0.01 ,著色性能變壞。反之, 當光量超過1 J/cm*時産生大量的針孔。紫外線光源可以 是高壓和超高壓的汞燈、氙燈、金羼鹵化物燈、等。可藉 He-Cd雷射、Ar雷射、YAG雷射、激體雷射、等來進行雷射 掃描〇 存在於聚矽烷層之Si-Si鍵被紫外輻射打斷而形成Si-0H(矽烷醇基)。因此,在照射的感光材料上按照圖案形成 了有(矽烷醇基)之潛像。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
訂— 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 12 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 408248 A7 B7 五、發明説明(10 ) 步龉(η 第三步是用含一染料或一顔料的箸色溶液在已形成有 色圖案潛像的曝光面積上箸色。至於此步中的著色方法, 可以用溶膣一凝膠箸色法、染色法、電沈積法和矽烷偶合 法。從結果材料之耐熱角度來看,溶膠-凝膠著色或矽烷 偶合法較為理想。以下會詳細解釋溶膠一凝_著色法。 溶腰一凝瞟砮饵法 溶膠-凝膠著色法中,用含一染料或一顔料的金靥氧 化物溶膠作為一著色溶液。在本規格中,術語“金靥氣化 物溶膠”意指將一種或多種金屬在一適當溶液中經過縮聚 反應所形成的溶膠。 作為金屬氧化物溶膠的原材料,可以用那些常用於溶 _ —凝膠法中的。其例有金靥有機物質(例,烷氣化物、 乙醯丙_化的、乙酸鹽、胺、等),可溶性無機鹽(例, 硝酸鹽,等),或金屬氣化物撤細穎粒的分散體。金颶之 例有 Si、Zr、Pb、Ti、Ba、Sr、Hb、K、Li、Ta、In、Sn 、Z η、Y、C u、C a、Μ n、F e、C o、L· a、A1、M g、V,及其類 。使用si的烷氧化物作為原材料是理想的.因它易於處理 。溶膠之形成是將上述原料溶於一溶劑,諸如醇中來形成 一溶液,然後使溶液在一催化劑•諸如酸或鹼來進行縮聚 反應。 當用四乙氣砂烷作為Si之烷氣化物來合成金屣氧化物 溶嘐,藉溶解四乙氣砂烷於乙醇和水的混合溶液中得到的 一混合物再與染料或顔料混合,並加入鹽酸•繼而在室溫 本紙張尺度適用中國國家楳準(CNS ) A4规格(2i〇X297公釐} 13 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
IT A7 B7 408248 五、發明説明(11 ) 中攪拌。藉此四乙氧矽烷水解並縮合脱水可得一均相的砂 溶膠。B外,染料或顔料可在溶膠生成後加入。 至於組成物,醇、水、鹽酸和染料或顔料之量,理想 地為20至200重蛋份、50至200重量份、0.01至3重量份、 和0.5至25重童份,乃基於100重量份之四乙氧矽烷。 可用於本發明的染料或顔料是能谘解或分散於金靥烷 氣化物醇溶液中並能與金颶氣化物溶膠相互作用的任何一 種。可以認為這樣的染料或顔料藉與一矽烷醇基柑互作用 被吸附在感光材料上,矽烷醇基則是由紫外照射在感光材 料上形成的。結果,按照曝光的圖案,感光材料著色了。 染料之例包括基本的染料、油溶性染料和分散的染料 。適用於本發明之染料的C . I. No例示於下。 基本染料之例有基本紅12、基本紅27、基本紫7、基 本紫10、基本紫40、基本藍1、基本藍7、基本藍26、基本 藍77和基本綠1和基本黃21。 油溶染料之例有溶劑紅125、溶劑紅132、溶劑紅83、 溶劑紅109、溶劑藍67、溶劑藍25、溶劑黃25、溶劑黃89 和溶劑黃146。 分散染料之例有分散紅60、分散紅72、分散藍56、分 散藍60和分散黃60。 其中,含金屬油溶性染料在耐熱和耐光上是優異的, 故持別適用於濾色K。 能適用於本發明的顔料之C.I.No例,包括顔料黃83、 顔料黃110、顔料黃〗39、顔料紅53: 1、顔料紅177、顔料 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 丨·---\------- (请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局負工消費合作社印装 -14 - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 4G8248A1 _B7 五、發明説明(12 ) 紅221、顔料紫23、顔料紫37、顔料藍15、顔料藍15: 3、 顔料藍15: 6、顔料綠7、顔料綠36和顔料黑7。 一旦金屬烷氧物分散入醇溶液後,顔料可轉變入一溶 膠中或分散在溶膠溶劑中。在分散的情況中,理想地用一 非離子性界面活性劑來使大小小於可見光波長的顆粒分散 0 將含染料或顔料的金屬氧化物溶膠施於感光材料的曝 光部分,或將感光材料浸入溶膠中,使它著色。所考虛的 如下。如上述,感光材料之曝光部分形成了矽烷醇基,由 於此矽烷醇基和含染料或顔料之金靥氧化物溶膠之間的相 互作用,産生了一吸附(膠凝)。另外,可藉透射電子顯 撤鏡確定金靥氧化物顆粒吸附於顔料的表面上,此顔料乃 分散於金靥氧化物溶膠中,而同時,當用有顔料分散的金 靥氧化物溶膠進行箸色時,顔料出現在感光層的内部。因 此可以確定吸附於金屬氧化物表面的顔料顆粒藉在感光靥 曝光面積所出現的徹孔而擴散入内部。 可藉空氣噴霧、無空氣噴霧、滾筒塗覆器、簾流塗覆 器、彎液面塗覆器、等來進行。另一方面,也可將箸色溶 液裝入一大到可將感光材料完全浸人之桶内來進行浸入。 此塗覆法是理想的,因著色溶液易於控制且著色溶液童小 0 為了增加箸色速度和著色濃度,可以加入一非質子性 有機溶劑(例,乙睛、二皞烷、四氫呋喃、等)它能使聚 矽烷層在金屬氧化物溶膠中膨脹。這些非質子性有機溶劑 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本X )
經濟部中央標準局負工消費合作社印袋 408248 B7 五、發明説明(13) 之理想含量為在金屬氧化物溶膠中之1至20%重量。當溶 劑之量超過20%重量時,很可能發生聚矽烷層之局部再溶 解,在結果的著色的感光材料表面上造成擾亂。 如此所得的箸色之感光材料在除去含染料或顔料之金 屬氣化物溶膠後使之乾燥。除去溶膠之法可用以水洗除法 、以空氣吹除法、等。 理想地在lOOt:或以上乾燥10分鐘至1小時,但乾燥 條件可以在不會有害影響所用的透明電極、染料和顔料的 範圍内變化。例如,當使用玻璃片作為透明底材並含顔料 時,可在200t:乾燥30分鐘或更長時間。在此乾燥過程中 ,可以預測,由於脱水反應而進一步進行膠凝作用,到染 料或顔料陷捕在Si〇a的交鏈膜内的情況。特別是當使用在 分子中有二個或多饀烷氣基的矽油時,發生交鏈作用,結 果箸色的圖案面積之耐熱性改良了。 因此可獲得一有優異抗性之著色膜,它不易被f機溶 劑洗除,也不會在另外的著色步驟中被著色。 如示於第1(b)圖中,藉第一次圖案箸色步驟所獲得的 有圖案的單色感光材料104’。 濟_ —凝瞟箬依法以外的砮色法 除了溶膠一凝膠箸色法以外的箸色法,尚有染色法、 電沈積法和矽烷偶合法。 在染色法中,感光材料的曝光面積之著色是藉施予染 料之水性溶液作為箸色溶液,或將它浸入溶液中。可以認 為染料藉與在曝光面積所形成的矽烷醇基之相互作用而被 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) - 必 ----.I II ^1 — (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 408248 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(14 ) 吸附。理想的染料水溶液含0.1至5%重量之染料。至於染 料,可用在溶瘳-凝膠箸色法中所述的那些。另外,可加 入1至30%重量之較低醇為了增加染料之溶解度,也可含 有如在溶膠-凝膠著色法中所述的非質子性有機溶劑。染 色條件,諸如染色溫度、染色時間、等之變化決定於預定 的染料濃度和種類和所用染料之量。在除去染料的水溶液 後,使染色之感光材料乾燥。至於除去的方法,可以用以 水洗之法和用空氣吹附法,相似於溶膠一凝膠著色法。乾 燥可藉放置於室溫中進行,但理想的可藉加熱至50到lOOt: 5至30分鐘來強制進行。 在電沈積方法中,使用含染料或顔料之可電沈積溶液 作為著色溶液。作為可電沈積溶液,可以用陰離子的或陽 離子樹脂和一膠束電解質,對技術人士是熟知的。 以鹼中和含酸基的樹脂可得陰離子樹脂。至於樹脂, 理想的是一(甲基)丙烯酸共聚物和一無油的聚酯樹脂。相 反地,以酸中和含鹼基的樹脂可得陽離子樹脂。至於樹脂 ,理想的是一(甲基)丙烯酸酯共聚物。 另一方面,膠束電解質是一帶電荷界面活性劑之水溶 性膠束溶液。至於界面活性劑,理想的是帶正電荷或負電 荷的,帶正電茴之例包括烷基二甲基苄基氯化硪、羊毛脂 肪酸胺丙乙基二甲基銨鹽、四烷基銨鹽、眯唑銨鹽、烷基 二甲基苄基銨鹽、等。帶負電荷之例包栝脂肪羧酸鹽、烷 基苯磺酸鹽、硫代丁二酸鹽、等。 至於染料和顔料,能用於電沈積法的染料除了在溶膠 本紙張尺度適用中國國赛摞準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁)
17 408248 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 五、發明説明(l5 ) 一凝膠法中所述的以外,尚有諸如直接染料和酸染料。直 接染料之例包括直接黃44、直接紅23、直接红79、直接藍 25、直接藍86、直接綠59、等。 酸染料之例包括酸黃38、酸黃99、酸紫49、酸藍40、 酸藍83、酸綠25、酸綠18、等。 含染料或顔料之可電沈積溶液如下述製得。卽,在陰 離子或陽離子樹脂情況中,目標的著色溶液之獲得,葙中 和有一酸基或鹼基之樹脂來製備一水溶液或水分散體,然 後將一染料或一顔料溶入溶液或分散體中。當使用顔料時 ,理想分散的顆粒大小是不大於〇.4μιπ。以後分散體以水 稀釋使顔料濃度為3至20% ,具選擇性地加入一溶劑來獲 得一可電沈積之溶液。進一步,也可製備一熱固的可電沈 積溶液,藉加入一胺基樹脂和嵌段的異氟酸酯,它們已知 是電沈積塗料組合物之硬化劑。另外,在可電沈稹溶液中 亦可含一矽烷偶合劑和膠態的矽石,藉與在紫外照射面積 的聚矽烷形成的矽烷醇基之作用而形成交鏈的結構。另方 面,若是水溶性染料,就不需要分散的步驟。然而,若是 油溶性染料和分散性染料,必須藉進行蓀化分散,柑似於 顔料的情形。 相反地,若是膠束電解質的情況,箸色溶液之製備是 藉將上述界面活性劑和染料或顔料加入一水性媒介中並且 選擇性地分散。界面活性劑之濃度並無特定限制,但理想 地是一臨界的膠束濃度或更高。另外,為了使聚矽烷層與 矽烷醇基形成一交鏈的結構,能結合使用上述的矽烷偶合 本紙張尺度適用中國國家標準(€呢)八4规格(2丨0父297公釐.) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央標準局貞工消費合作社印策 408248 a7 B7 五、發明説明(16 ) 劑和膠態的矽石。為調整電導性,可選擇性地加入一支持 電解質,諸如鹼金屬的硫酸鹽或醋酸鹽。 在電沈積方法中,與其它著色方法不同的是必須使用 玻璃片作為底材,在玻璃片上己經用IT0、電導聚合物能 形成一透明電極。已經.藉上述步驟(A)和(B)形成透明底材 之玻璃片浸入上述可電沈積溶液中。用透明電極作為陰極 或陽極,藉電沈積在聚矽烷層的潛像上形成一有色的圃案 0 當所用的可電沈積溶液之樹脂有交鍵能力時,可依照 交鍵反應條件來進行乾燥。當所用的可電沈積溶液之樹脂 無交鍵能力時,或溶液不含樹脂而由顔料和界面活界劑組 成時,理想地在δ〇υ乾燥10分鐘或更長。 最後的著色法是一矽烷偶合法。在此法中,使用含矽 烷偶合劑之一水溶性顔料分散劑作為著色劑。作為矽烷偶 合劑,可用大眾所知的,但理想的是用甲氣基矽烷和乙氣 基矽烷偶合劑。至於顔料,可以用在溶膠一凝膠著色法中 所述的那些。 含矽烷偶合劑之水性顔料分散體之製備是用玻璃珠分 散1至25重量份之一非離子形界面活性劑、1至25重量份 之矽烷偶合劑、水和150至250重量份之具選擇性的有機溶 劑,此乃基於100重量份之顔料。通常,在酸之存在下進 行矽烷偶合反應,因此,理想地用鹽酸使著色溶液酸化。 矽烷偶合反應之進行是將含此矽烷禺合劑的水性顔料 分散體施於曝光的感光材料上,或將它浸入分散體中;除 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4规格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央標準局貝工消费合作社印«. 40 8 24 8 B7 五、發明説明(17) 去箸色溶液;繼而乾燥;因此是按照曝光的圔案來箸色。 其它細節與在溶膠一凝膠著色法中所述的相同。 击酿(η) 以上述步驟(Α)至(C),以一單色使慼光材料著色。為 獲得有多種顔色之材料,諸如濾光Η,需要再加不用之著 色。因此,在第四步中,已藉步驟(/0至(C)所獲得的以單 色著色的感光材料再經過第二次著色或繼缠著色。 如示於第1(c)圖,按照如述於上述步驟(Β)和(C)的相 同條件,除了用罩膜113代替罩膜103,和用與上述所用的 不同染料或顔料在聚矽烷層上形成一不同顔色圖案之潛像 ,可獲得以二種顔色著色之圖案的感光材料104”,如示於 第1(d)圖中。通常,如示於第1(c)圖,在此所用的罩膜113 之罩蓋圖案是遮蓋了以上述步驟(Β)和(C)中已著色的聚矽 烷層之圖案面積,而使未箸色部分曝光。 如示於第1(e)圖,依照如第二著色步驟所述的相同條 件,除了用罩膜123代替罩膜Π3並使用不同的染料或顔料 ,在聚矽烷層上形成一不同顔色圖案之潛像,可獲得有三 種顔色著色圖案之感光材料104”’,如示於第1(f)画中。 通常,如示於第1(e)圖,在此所用的罩膜123之罩蓋圖案 是遮蓋和聚矽烷層在第一和第二著色的有色圖案面積而使 未箸色部分曝光。 重覆此一步驟可以製得以多種顔色圖案之濾片。另外 ,也可能在第一次箸色的有色圃案面稹以外不使用一萆膜 而使其他整個表面曝光致使其它面積著色。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 A7 B7 408243 i、發明説明(18) 更者,術語“形成一不同顔色圖案之潛像”在本規格 中意指在對應的圔案著色步驟中並不形成所有顔色相同圖 案之一潛像,但並不一定要加以限制,可以形成有交Λ的 有色圖案。另外,在本規格中,術語"用一不同的染料或 顔料”指所用的有色溶液有不同的色調,它在對應的_案 著色步驟中含至少一種染料或顔料。用於箸色溶液中染料 或顔料組成物之至少一部分可在對應步驟中交叠。 因為一旦箸色並乾燥的聚矽烷層之圖案部分中幾乎沒 有矽烷醇基,在以後的著色步驟中很難再以其它染料或顔 料來染色。因此,在本發明的方法中幾乎不會有顔色混合 的問題發生。當用染色法作為著色法,理想的著色是依照 染料快速吸附之次序進行,可以確實防止有色的圖案之顔 色混和。可用於本發明的染料之吸附速度可由矽石凝膠層 析術決定。另一方面,當用電沈積法作為著色法和用膠束 電解質作為著色溶液時,為防止顔色混合可用包括使用伏 安法來測量顔料之氣化勢並首先用有高氣化勢之顔料來著 色的方法。 本發明濾色Η之獲得乃藉用含有對應於三原色RGB之 一染料或顔料之三色著色劑,按包括上述(A)至(D)的步驟 形成一有色圖案之方法,並進而形成一黑色基質或一黑帶 。在三原色RGB之後用一黑染料或黑顔料作為第四種顔色 來箸色形成黑基質或黑帶。另外可以在黑基質或黑帶已成 圖形外用一透明底材。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐} !___^ — -¾ II (锖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
IT 敏濟.邵中央標準局負工消費合作社印製 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 4GQ248 A7 _ _ B7_ 五、發明説明(19 ) 形成蠔睇_案之方法 本發明形成薄膜圖案的方法包括的步驟有將感光樹脂 組成物施於一底材上並乾燥底材形成一感光層(A’),將感 光層選擇性地曝光使成一有圖案的潛像(B’),將已生成有 圖案潛像之曝光面積浸入一金靥氣化物之溶膠中,它並不 含一顔料或一染料,或將溶膠施於曝光的面積(C’)。 击既fAT)和 此二步驟與上述形成有色圖案方法中的步驟(A)和(B) 相同。 步驟(Ο 在本步驟中,將已形成有圖案潜像之曝光面積浸入一 金屬氧化物之溶膠中,或將瑢膠施於曝光面積上。與上述 形成有色圖案之法步驟(C)中使用金羼氣化物溶膠方面相 當不同,在此所用的是不含顔料或染料。至於金屬氧化物 溶膠,可以用形成有色圖案方法中的溶膠-凝膠法步驟(C) 中所述的。 將上述的曝光部分浸入金靥氧化物溶膠中或將溶膠施 於曝光部分可形成一圖案。如上所述,是認為在曝光部分 形成的矽烷醇基與金屬氣化.物溶膠顆粒間所發生的相互作 用而産生了吸附(膠凝)。 S外,在金屬氧化物溶膠中含有一官能基部分或一官 能基化合物,當金屬氧化物溶膠吸附時,此部分或化合物 乃結合入感光層内部,因此獲得具功能之薄膜。 因吸附而産生的功能,要考慮以下三種情況。第一種 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 22 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 408248 A7 B7 五、發明説明(20 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 情況是金屬氣化物溶膠顆粒本身含一官能基原子或一官能 基圍。第二種情況是官能性的顆粒狀材料,它能與金屬氧 化物溶膠顆粒一起吸附人感光曆中並且共存。最後的情況 是一官能性材料,它能溶入金靥氧化物溶膠中並且共存。 當然,藉結合使用這些情形也能産生功能。 官能性原子之例包括氟原子。官能基團之例包括疏水 性基圍,諸如烷基、等;和具離子交換性能之基圃,諸如 羧基、磺基、酸性羥基、胺基、等。例如,當用氟原子時 ,藉形成含大童這些官能性原子或官能基團的溶隱,將溶 膠吸附在感光層中,可在感光層上作成疏水部分的圖案。 官能性顆粒材料之例包括銅和銀顆粒。當用矽石凝膠 作為金屬氧化物溶劑時,矽石溶膠顆粒能與官能性顆粒材 料共存,乃藉使用一矽石溶膠將官能性顆粒材料分散或將 它們混合,在製備矽石溶膠時己使用一非離子性界面活性 劑將之分散。在此情形中,必須調整官能性顆粒狀材料之 顆粒大小不超過500nm,理想地不超過200nm。當顆粒大小 超過500nro,即使將它浸入溶膠溶液中顆粒不能擴散入感 光層之照射部分内,因此不能黏住。通常可用離心沈降法 來測量顆粒大小。可以認為當矽石溶膠顆粒與官能性顆粒 材料共存時,矽石溶膠顆粒是吸附於官能性顆粒材料之表 面。藉測定其zeta電位可確定矽石溶躍顆粒吸附在官能性 顆粒的表面上。例如,當用一非離子性界面活性劑來分散時 ,zeta 電位穩定在-5至-25 mV範圍内。可以視為由於矽石 溶膠之吸附,矽烷醇基存在於官能性顆粒材料之表面。藉 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
ΐτ· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 23 A7 B7 408248 五、發明説明(21 ) 在感光層中吸附如此産生的材料,銅和銀能形成圖案並含 在感光層中。 ---I I I I ---I - **~1T J (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 另一方面,因官能度材料能溶於金屬氧化物溶膠中, 能使用那些溶於水或醇並有能與矽石溶膠之矽烷醇基相互 作用性能的。適用的官能性材料之例包括有醇類羥基之聚 合物,諸如聚乙烯醇、聚亞乙基乙二醇、缕維素、等;和 含醯胺基之聚合物,諸如聚(2-甲基-2-晬唑啉)、聚(N-乙 烯毗咯烷酮)、聚(Ν,Η-二甲基丙烯醛胺)、等。當感光靥 中含這些材料時,可以加入各種功能。例如,在材料不會 分解的溫度膠化可加入撓曲性。另外,可在高於材料分解 的溫度腰化而加入多孔性,並能利用材料分解後留下的孔 0 可用空氣噴霧、無空氣噴霧、滾筒塗覆、簾流塗覆、 彎月面塗覆、等法來施予。另外,浸入之進行是將金屬氣 化物溶膠溶液裝入一捅中,其大小是足以將感光材料完全 浸入。在實用中,此法較理想,因易於控制溶液,且溶顧 溶液用量小。 經濟部中夬標準局貝工消費合作社印製 為增加吸附速度和圖案濃度,可以加入一非質子性有 機溶劑(例,乙腈、二噚烷、四氫呋喃、等),它能使聚 矽烷層在金屬氧化物溶膠中膨脹。這些非質子有機溶劑在 金屬氣化物溶膠中之理想含量為1至20%重量。為溶劑之 置超過20%重量時,聚矽烷層可能發生部分再溶解以致造 成在結果有圖案的感光材料表面之攪亂。 如此所得有画案的感光材料在除去金屬氧化物溶腠溶 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐) 408248 A7 B7 五、發明説明(22 ) 液後使之乾燥。除去的方法可用水洗法,可用空氣吹除法 等。 理想的乾燥是在loot:或以上10分鐘至2小時,但可 在對所用底材和對所含官能性材料無害影鎏的範圍内變化 乾燥的條件。例如,當金靥氣化物溶膠為矽石溶膠並使用 玻璃底材時,乾燥可在400 C或更高來除去有機取代物而 獲得一金羅氣化物薄膜。 如第2(b)圖所示,藉步驟(A’)至(CT)可得到能形成薄 膜的一理想之有圖案的靥壓製件104’。當在玻璃底材上髂 要有不規則性,像光碟底材之預槽,藉將整値表面曝光然 後,分解除去留下的感光層,如第2(c)圖,可得有不規則 性的圖案,如第2(d)圖所示。至於除去不必要感光層之方 法,可用藉熱蒸發法和用溶劑除去法。在以加熱除去法的 情況中,加熱至20〇υ或更高,10至60分鐘己足夠β在此 情況中,金靥氣化物溶膠顆粒可能不具官能性之特擞。 另外,藉重覆步驟(Β’)至(C')改變曝光面積和用不同 配方之金颶氣化物溶膠溶液,可容易地在同一底材上形成 有不同功能的薄膜圖案。 .與傳統的聚矽烷組成物比較,因為感光樹脂組成物之 光活性有極大改良,縮短了曝光時間。因此,可增加濾色 片和一具官能性有圖案的材料之生産。 m 下列製備例、例和比較例進一步詳細閫明本發明,但 並不應推斷來限制本發明之範圍。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4规格(210X297公釐) - β nn· HI .^1^1 m· (請先聞讀背面之注項再填寫本頁) 订 經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 408248 A7 B7 五、發明説明(23 ) 製備例1 製備直鍵型聚矽烷 在裝有一攪拌器的1000 ml反應瓶内裝入400 ml甲苯 和13.3克鈉。在切除紫外線的黃色室内將瓶内物加熱至111 t:使鈉微細地分散入甲苯中,繼而強烈攪拌。然後加入51.6 克苯甲基二氣S夕烷,並Μ拌3小時使混合物聚合。此後, 向最後反應混合物中加入乙醇去除銷之活性。以水洗後, 將分離的有機層引入乙醇中沈澱聚矽烷。結果粗製的聚矽 烷從乙醇中沈澱三次可得一直鏈的聚甲苯基矽烷,具重均 分子量為24000。 製—備例2 製備網狀型聚矽烷 依照如在製備例1之相同操作,除了將苯甲基二氯矽 烷之量從51.6克改為42.1克,並再加4.1克四氮矽烷,可 得一網狀的聚甲苯基矽烷,其重均分子量為11600。 Μ 1 感光樹脂組成物産品1及用它製成的感光材料 從製備例1所得之直鏈形聚矽烷100重量份、10重量 份的TSR-165 (甲苯基甲氣矽,分子量為930,由Toshiba $11丨(;〇1^(:〇.,1^(1.生産)、10重量份1/^-110(2,4-雙 (雙氣甲基)-6-(p-甲氣基苯乙烯)-1,3,5-三丨并,Midori Kasaku Co., Ltd·生産)和 15重蛋份 ^丁&(3,3',4,4’-四-( t -丁進氣化鑛基)苯酮,NOF Corporation生産)溶在1215 重量份之甲苯來得一感光樹脂組成物。此感光樹脂組成物 旋轉塗覆在一石英底材上使聚矽烷在紫外區(335 nm)吸附 率成為1.5來得到一感光材料。 例2 感光樹脂組成物産品2及用它製成的感光材料 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐) . c^PJ ----1—--111 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 408248 A7 _ B7 五、發明説明(24) 按照述於例1的相同操作,除了將TSR-165的量從10 重量份改變為30重量份,並將甲苯之量從1215重量份改變 為1395重童份,得到一感光樹脂組成物和一感光材料。 例_3_感光樹脂組成物産品3及用它製成的感光材料 按照述於例1的相同操作,除了將TSR-165的量從10 重量份改變成50重童份,並將甲苯的量從1215重量份改變 為1615重貴份,得到一感光樹脂組成物和一感光材料。 例4 感光樹脂組成物産品4及用它製成的感光材料 按照述於例1的相同操作,除了將TSR-165的量從10 重量份改變為100重量份,並將.申苯的量從1215重量份改 變為2115重量份,得到一感光樹脂組成物和一感光材料。 例_5_感光樹脂組成物産品5及用它製成的感光材料 按照述於例1的相同操作(除了用10重量份X-40-2171 (苯甲氧基砂,分子量為790, Shinetsu Kagaku Co.,
Ltd.生産)來代替10重置份之TSR-165,可得一感光樹脂 組成物和一感光材料。 便感光樹脂組成物産品6及用它製成感光材料 按照述於例1的相同操作,除了用10重量份之KR-213 (甲苯基甲氧基矽,分子童為640, Shinetsu Kagaku Co., Ltd.生産)來代替10重量份之TSR-165,可得一感光樹脂 組成物初一感光材料。 K龄例1 將製備例1所得的直鏈型聚矽烷100重量份溶解於900 重量份之甲苯,將所得之溶液旋轉塗覆於一石英底材上, 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 27 —____^---U_____ (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 408248 A7 B7 五、發明説明(25)
使聚矽烷的紫外區之吸收(335 nm)之吸收率為1.5來獲得 一感光材料。 hh較例P 依照述於例1的相同操作,除了不用TSR-165,並將 甲苯之童從1215重量份改為1115重量份,得一感光材料。 晡来材料龅感庠評#; 用 J a p a n S t 〇 r a g e B a 11 e r y C 〇 ·,L t d .製的超高歷萊 燈CL-50-200A (500W)作紫外線照射。然後測置使聚矽烷 的吸收率(在335 nm)降為照射前吸收率值之一半(0.75) 所需的時間,將此值作為其敏感度。更者,使用由Ohtsuka Denshi Co.,Ltd·生産之一分光光度計MCPD-1000來測其 ____-__Sr—I 1— 1J1 /(¾¾ ί請先閲請背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消費合作社印m· 吸收率。 結果示於表1。 表 1 例 矽 矽之量 敏感度(S) 例1 TSR-165 / 10 12 例2 TSR-165 30 10 例3 TSR-165 50 8 例4 TSR-165 100 6 例5 X-40-2171 50 6 例6 KR-213 50 5 比較例Γ ,重 _ - 60 比較例2 - - 15 〃:只有聚矽烷 訂 本紙張尺度適用中國國家操準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 28 408248 經濟部中夹標準局貝工消费合作社印製 A7 B7五、發明説明(26‘) Μ.Ί 感光樹脂組成物産品7及用它製成感光材料 製備例1所得之直鍵形聚矽烷重量份,50重量份 之TSR-165 (甲苯基甲氣矽,分子量為930 , Toshiba Silicone Co.,Ltd.製)10 重暈份TAZ-110 (2,4_ 雙(三氯 甲基)-Kp-甲氣苯基乙烯)_1,3,5-三畊,Midori Kagaku Co., Ltd,製)、15 重量份 81^8(3,3’-4,4’-四-(1;-丁過氣 化羰基)笨酮,N0F Corporation生産)和5重量份3,3’-欺基雙(7-二乙胺基香豆素)(Kodak Co·製)溶入1620重童 份四氫H夫喃得一感光樹脂組成物。此感光樹脂組成物旋轉 塗覆在一石英底材上,使聚矽烷在紫外吸收區(335nm)之 吸牧率為1.5而得一感光材料,紫外線照射在此感光材料 上。結果,聚矽烷的吸收率(在335nm)降為照射前吸收 率值之一半(0.75)所箱時間為45秒。更者,紫外線照射之 進行是用 Japan Storage Battery Co., Ltd.所製的一起 高壓汞燈CL-50-200A(500W)透過一濾光H切除波長在440 nm以上的光。用Ohtsuka Denchi Co., Ltd.製之分光光度 計MCPD-1000來測量吸收率。 龄俐3 進行如例3所述之相同操作,除了不用TSR-165,並 將四氫呋喃之童從1625重量份改變為1175重量份。在此情 形中,聚矽烷之吸收率(在335nm)降為照射前吸收率值之 一半所需之時間為110秒。 Irh較例4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
'絲 本紙張尺度適用中國國家標毕(CNS ) Λ4規格(210 X 297公釐) 29 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 408248 a? B7 五、發明説明(27) 進行如例3所述之相同操作,除了不用TSR-165和3,3' -羰基雙(7-二乙胺基香豆素)並將四氫蚨喃用量從1625重 量份改為1130重量份。在此情形中,聚矽烷之吸收率(在 335 ηπι)降為照射前吸收率值之一半所需之時間為460秒 Ο 在本發明中使用矽油為了聚矽烷與光自由基産生劑和 氧化劑之相容性。結果肯定了由於矽油之加入,改良了光 活性。其機構視為如下,從已知事實假設了聚矽烷在溶液 中的光反應比在固態中快數倍至數+倍。卽,因含矽油使 聚矽烷層變軟。軟化後,在固態中的反應就相似於在溶液 中的反應,因而增加了光活性。 製備例3 製備用於溶膠-凝膠著色法之箸色溶液, 在一 1000 cc燒杯中放入四乙氧基矽烷(168克)、甲基 三乙氧基矽烷(84克)、去離子水(250克)和乙醇(96克), 在磁子搜拌器攪拌下加入35%濃鹽酸(1.92克>。維持液體 溫度在201攪拌混合物15分鐘。結果可得一透明均相的矽 石溶膠。在一 300cc燒杯中放人此矽石溶腠(56克)、去離 子水(139 克)和紅色 AQ-866 (50 克,由 Mikuni Shikiso Co., Ltd.製)作為濾色片的非離子性顔料糊,揹拌30分鐘後加 入乙醇(40克)來製備紅箸色溶膠。 另外,用線 AQ-016(由 Mikuni Shikiso Co,, Ltd.生 産)、藍 AQ-010(由 Mikuni Shikiso Co Ltd.生産)和黑 AQ-022 (由 Mikuni Shikiso Co., Ud.生産)分別代替紅 AQ- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注^^項再填寫本頁) -'et
T -30 - 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 408248 A7 _B7___ 五、發明説.明(28 ) 866來製備箸綠色、箸藍色、和著黑色之溶膠。 越備俐4 製備用於染色法之著色溶液 混合 Victoria 藍 BH(2 克,由 Hodagaya Kagaku Co.,Ltd.. 生産之基礎染料)、去離子水(178克)和乙睛(20克)來製備 一藍染色溶液。混合 Astrafloxine FF (2 克,Hodogaya Chenical Co., Ltd.生産之基本染料)、去離子水(Π8克) 和乙睛(20克)來製備一紅染色溶液。混合Brilliant Basic Cyarrine 6GH(1 克,HodogayaChemical Co.,Ltd.生産 之基本染料)、和黃 7GHL(1.4 克,Hodagaya Kagaku Co,,
Ltd.生産之基本染料)來製備一綠染色溶液。 用砂石凝膠層析術確定了結果的三種染色溶液之吸附 速度是大的,其次序為藍、红和線。 毅備例5 製備用於電沈積法之著色溶液 C1顔料紅177(80克)、C1顔料黃83 (20克)、聚羧酸界面 活性劑 Carribon B(30 克,由 Sanyo'Kasei Co.,Ltd.生産 )和去離子水(300克)之混合物以一砂磨分散10小時。在加 壓過濾後分散體中加入去離子水,使顔料濃度成為10%。 進一步加入乙腈,其量是基於製備電沈積紅著色溶液總量 之10%。按照如上述相同條件用C1顔料線36 (80克)和C1顔 料黃83 (20克)作為顔料來製備電沈積綠箸色溶液。另外電 沈積藍著色溶液之製備是按照如上述相同條件用C1顔料藍 15(80克)和C1顔料紫23 (20克)作為顔料9另外,電沈積黑 著色溶液之製備是按照上述相同條件用C1顔料黑7 (100克) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注^'項再填寫本頁) » 線 31 經濟部中央標準局®工消費合作社印製 408248 A7 B7 五、發明説明(29 ) 作為顔料。 製備例6 製備用於矽烷偶合_色法之箸色溶液 (:1顔料红177 (80克)、(:1顔料黃83 (20克)、非離子性 界面活性劑 Nonipol 300 (30 克,由 Sanyo Kosei Co·,
Ltd,生産)、矽烷偶合劑KBM-403 (20克)由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製,和去離子水(300克)之混合物以 砂磨分散10小時。在加壓過濾後向分散體加入去離子水, 使顔料濃度成為3.5%。進一步加入乙腈,使其量在基於 總置中為10%,並用鹽酸調整其pH為2.5,如此製備一紅 箸色溶液。按照上述相同條件用C1顔料綠36 (80克)和C1顔 料黃83 (20克)作為顔料來製備一綠著色溶液。 另外,製備一藍箸色溶液,是按照上述相同條件,用 C1顔料藍15 (80克)和C1顔料紫23 (20克)製成。另外,按照 上述相同條件,用C1顔料黑7(100克)製備一黑著色溶液。 用感光樹脂組成物産品1形成有色的圖案及用它形 成感光材料 製備例2所得之100重量份網狀型聚矽烷、50重量份 之TSR-165(甲苯基甲氣基矽,其分子量為930,由Toshiba Silicone Co., Ltd.製)、10 重量伤 TAZ-110(2,4-雙(三氣 甲基)-6-(P-甲氣苯基-乙烯)-1,3,5-三阱,Midori Kagaku Co.,Ltd.製)和 15 重量份 BTTB (3,3’,4,4’-四-(卜丁過氣 化羰基)苯酮,NOF Corporation製),溶入1575重量份甲 苯中可得一能形成有色圖案之感光樹脂組成物。此能形成 有色圔案之感光樹脂組成物以旋轉塗覆於一玻璃底材上( 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS )八4规格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 订 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 408248 A7 _B7_ 五、發明説明(3〇 ) 5cm X57cm)作液晶展示,繼而在80T:乾燥10分鐘可得一薄 膜厚度為2.0wra之感光材料。 例9 用溶膠一凝膠著色法生産濾色片 將已形成有像素圖案用作紅濾色Η (90ηιπΧ 90iun)之一 負罩K (3时x 3时)置於從例8所得的感光材料上,如此所 得之層製物用一超高壓汞燈在光量為0.2 J/cm2作紫外曝 光。除去負睪片後,將形成潛像之濾Η材料浸入在製備例 3中所得之紅著色溶膠溶液中2分鐘。此後,以水洗並在 ιοου乾燥10分鐘。 然後,將已形成有Pixel圖案用作藍濾色片的負罩片 放在離红色Pixel水平方向2〇iim處,代替上面所用的負罩 片,結果之層製物曝光得一涫像。形成潛像後,依照上述 著紅色的相同操作,用製備例3所得的藍箸色溶膠進行第 二次著色。依照上述相同條件,除了所用的負罩片中所形 成的是對線色過濾之Pixel圖案,並用製備例3中所得的 線箸色溶膠來進行第三次著色。最後,層製片上不用負罩 片來使未曝光的2〇Mm寬度之面積曝光,它們是出現於謝應 的顔色Pixels之間。用在製備例3中所得的黑著色溶膠來 進行箸色,在Pixels之間形成光遮蔽膜,因而獲得一濾色 Η。 在結果的濾色Η中確定了没有顔色之混合。另外,用 Ohtsuka Denshi Co,, Ltd.所製的分光光度計 HCPD-1000 來測童濾色Η之光繪透過率。結果如下:R : 5% (波長: 510nro) , G : 8% (波長:450nm),7% (波長:650ηη〇 , Β : 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注項再填寫本頁) .P' 33 408248 Α7 Β7 五、發明説明(31 ) 4% (波長:600nro)。 吐齩例5 依照如述於例8之相同操作,除了不用TSR-165並將 甲笨之量從1575重量份改為1115重童份,可得一感光材料 。依照如例9所述之相同操作,除了用在此例所得的感光 材料代替例8所得之感光材料,可得一濾色片只是顔色狀 態不足。濾色片之光譜透過率如下:R: 32% (波長:510nm ),G : 36% (波長:450nn〇 , B : 23% (波長:600nra)。 例JJL製造含黑基質之感光材料 將在例8中所得的為了能形成有色圖案的感光樹脂組 成物旋轉塗覆一玻璃底材上以一金Μ鉻光遮蔽膜(5cmX 5cm )作液晶展示,繼而在80Ό乾燥10分鐘可得薄膜厚度為2.Ο UE1之感光材料。 級丄L製造電沈積法所用的感光材料 依照述於例10之相同操作,除了用一有ΙΤΟ的液晶展 示玻璃底材代替以金靥鉻光遮蔽膜之液晶展示玻璃底材, 可得一感光衬料。 M_L2L用染色法製造濾色Η 將己形成有Pixel圖案用作藍濾色片(9〇umx9〇Mra)之. 一負罩Η (3吋X 3吋)置於從例10所得之感光材料上,如此 所得之層製物用一超高壓汞燈在光童為0.2 J/cm2作紫外 曝光。除去負罩Η後,將形成潛像之濾片材料浸入製備例 4所得之藍染色溶液中2分鐘。此後以水洗並在ιοου乾 燥10分鐘。 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公楚) 〈詩先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) _ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 34 五、發明説明(32 ) 408248 A7 B7 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 然後,將已形成有Pixel圖案用作紅濾色片的負罩Η 放在離藍色Pixel水平方向20师處,代替上面所用之負罩 片,結果之層製物曝光得一潛像。形成潛像後,依照上述 著藍色的相同操作,用製備例4所得的紅染料溶液進行第 二次著色。依照上述相同條件,除了所用的負罩Η中所形 成的是對濾去緣色之Pixel圖案,並用製備例4所得的線 染料溶液來進行第三次著色得一濾色片。濾色Μ之光譜透 過率如下:R : 6% (波長:510nm) , G : 8% (波長::450nn) ,7% (波長:650ηπ) , B : 4% (波長:600nm)。 m主用電沈積法製造濾色片 將已形成有Pixel圖案用作紅濾色片(90ΜΠ1Χ 90wm)之 一負罩Η (3时X 3吋)置於從例11所得之感光材料上,如此 所得之層製物用一超髙壓汞燈在光量為0.2 J/Cma作紫外 曝光。除去負罩片後,將形成潛像之滹Η材料浸入製備例 .5所得之紅箸色電沈積溶液中,並以恆電壓501Μ乍電沈積 3〇秒。此後以水洗並在ιοου中乾燥ίο分鐘。 然後,將已形成有Pixel圖案用作藍濾色片的負罩Η 放在離紅色Pixel水平方向20Ρ處,代替上面所用之負罩 H,結果之層製物曝光得一潛像。形成潛像後,依照上述 著紅色的相同操作,用製備例5所得的藍著色電沈積溶液 進行第二次著色。依照上述柑同條件,除了所用的負罩Η 中所形成的是對濾除綠色的像素圖案,並用製備例5所得 的綠著色電沈積溶液來進行第三次著色。最後,層製物上 不用負罩片來使未曝光的20(im寬度之面積曝光,它們是出 DK——Γ —B.——_ —— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 订_ 本紙張尺皮適用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) 35 408248 A7 B7 五、發明説明(33 ) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 現於對應的有色Pixels之間。用製備例5所得的黑著色電 沈積溶液來進行電沈積,在Pixels之間形成一光遮蔽膜, 因而獲得一濾色片。濂色片之光譜透過率如下:R: 7% ( 波長:510nm)t G: 5% (波長:450nm), 4% (波長:650nro ),B : 5% (波長:600nm)。 例15 用砂烷偶合法製造濾色Η 依照如例9所述之相同操作,除了用製備6所得之紅 、綠、藍和黑箸色溶液分別代替製備例3所得之紅、綠、 藍和黒箸色溶液之溶膠,可得一濾色Η。結果濾色Η之光 譜透過率如下:R: 6% (波長:510nm) , G : 8% (波長:450 nm),7% (波長:650nm) , B : 5% (波長:600nm)。 M.16 用空氣噴霧之施用 依照如例9之相同操作,除了以空氣噴霧來施於使濕 膜厚度為50cm以代替浸入溶膠2分鐘,得一濾色片。此濾 色Μ呈現與例9所得的有相同之表現。 例17 用刮刀Η之施用 依照如例9之相同操作,除了以刮刀片來施於,使濕 膜厚度為5〇wm以代替浸人溶膠2分鐘,得一濾色片。此濾 色片呈現與例9所得的有相同的表現。 製備例7 製備用於形成官能性薄膜圖案法之砂石溶膠 在200 cc燒杯中裝入四乙氧矽烷(13克)、乙醇(20克) 和去離子水U3克),並用一磁ft拌子在攪拌中加入35%濃 鹽酸(0.1克)。維持液體溫度30C下混合物攪拌2小時後 ,加入去離子水U3克)和乙腈(10克)可得一矽石溶膠。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國固家標準(CNS ) A4规格(2丨0X297公釐) 36 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 40824a§ _B7__ 五、發明説明(34 ) 例18 形成薄膜画案法 將例3所得之感光樹脂組成物用一旋轉塗覆器施於一 玻璃底材(5cmX 5cmX O.llcra厚度)上,使乾膜厚度為 。在結果之層製物上置一石英罩光Η,使它在光量為0.2 J/craa的紫外線中曝光來形成薄膜圖案。除去罩光片後, 形成潛像的層製物浸入製備例7所得的溶膠中5分鐘。浸 入後,層製物以水洗並在2001C中乾燥30分鐘可得一矽石 凝醪之有圖案薄膜。進一步,不用罩片使形成薄膜圖案之 此層製物用光量為0.2 •1/(;1113的紫外線照射整個表面,並 使層製物在20〇υ乾燥30分鐘。結果,與形成矽石凝膠圖 案不同,感光層蒸發,在玻璃底材上形成不規則圖案之矽 石凝膠薄膜。更者,藉在600TC煅燒30分鐘,不規則圖案 完全轉變成二氧化矽之玻璃,用一表面外形測量器(Dektak 3ST, Ulvac Inc.製)來測其不規則外形。結果,發現形成 了高度為0.5^之外形輪廓。因此可按照形成薄膜法,不 需用搗擊機或蝕刻法在玻璃表面進行微細不規則加工。 hh較例β 進行如例18所述之相同操作,用以製備例1所得的聚 矽烷10%重量之甲苯溶液代替從例3所得之感光樹脂組成 物,但不能獲得有足夠不規則的圖案。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公夔) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
408248 A7 _B7 五、發明說明(35) 元件編號對照表 ]01...底材 102...矽烷層 103, ] 13, 123...罩膜 104...單色感光材 110...紫外線 圖式簡要說明 第1圖乃本發明形成有色圖案之方法的示意流程說明。 第2圖乃本發明形成其他有色圖案之方法的示意流程說明。 ----------Ό-裝-------‘-訂_r <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 37(2) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210* 297公釐)

Claims (1)

  1. I — 一公告 ^248 g D8
    申清專利範圍 第85100827號專利再審查案申請專利範圍修正本修正日期:88年3月 一種感光樹脂组成物,其包含: (a) —種具有一不小於loooo之重量平均分子量的 聚矽烷’其可溶於一有機溶劑内; (b) —種由一光自由基產生劑及一氧化劑所構成 之組合’該光自由基產生劑係依i〇〇重量份之該聚石夕 统(a)為準而呈1至30重量份之量,該氧化劑係依1〇〇重 量份之該聚矽烷⑷為準而呈1至30重量份之量; (c) 一種矽油’其係依1〇〇重量份之該聚矽烷⑷為 準而呈5至100重量份之量,其具有一不超過1〇〇〇〇之 重量平均分子量及一在25t)下為不超過2〇〇 cps之黏 度,並具有下列化學結構式: 1. R2 R4 (請先閔讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂丨_ R3 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中R1、R2、R3、R4、R5及R6可為相同或相異的,且 表示一擇自下列群中的基團:一可被一鹵素原子或_ 縮水甘油基所取代之具有1至1〇個碳原子的脂族烴 基、一可被一齒素原子所取代之具有6至12個碳原子 的芳族烴基以及一具有1至8個碳原子的烷氧基;且瓜和 η表示一個滿足1002 m+n g 1之不等式的整數;及 -38- 本紙張尺度適用t國國家揉準(CNS)A4規格(210X297公釐) I — 一公告 ^248 g D8
    申清專利範圍 第85100827號專利再審查案申請專利範圍修正本修正日期:88年3月 一種感光樹脂组成物,其包含: (a) —種具有一不小於loooo之重量平均分子量的 聚矽烷’其可溶於一有機溶劑内; (b) —種由一光自由基產生劑及一氧化劑所構成 之組合’該光自由基產生劑係依i〇〇重量份之該聚石夕 统(a)為準而呈1至30重量份之量,該氧化劑係依1〇〇重 量份之該聚矽烷⑷為準而呈1至30重量份之量; (c) 一種矽油’其係依1〇〇重量份之該聚矽烷⑷為 準而呈5至100重量份之量,其具有一不超過1〇〇〇〇之 重量平均分子量及一在25t)下為不超過2〇〇 cps之黏 度,並具有下列化學結構式: 1. R2 R4 (請先閔讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂丨_ R3 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中R1、R2、R3、R4、R5及R6可為相同或相異的,且 表示一擇自下列群中的基團:一可被一鹵素原子或_ 縮水甘油基所取代之具有1至1〇個碳原子的脂族烴 基、一可被一齒素原子所取代之具有6至12個碳原子 的芳族烴基以及一具有1至8個碳原子的烷氧基;且瓜和 η表示一個滿足1002 m+n g 1之不等式的整數;及 -38- 本紙張尺度適用t國國家揉準(CNS)A4規格(210X297公釐) A8 βδ 408248 〇| 經濟部智恶財產局員工消費合作钍印製 六、申請專利範園 (d) —種有機溶劑’其係依該組成物之總重量計 而呈5至15重量%。 2. 如申請專利範圍第丨項之感光樹脂組成物,其進一步 包含一染料。 3. 如申請專利範圍第1項之感光樹脂組成物,其中該矽 油(c)之R1至R6中之至少二者表示一種具有1至8個碳原 子之烧氧基。 如申請專利範圍第1項之感光樹脂組成物,其中該聚 矽烷(a)為一網狀型聚矽烷》 一種感光材料,其係藉由將一如申請專利範圍第^項 之感光樹脂纟旦成物施用至一底材上,繼而將之乾燥而 獲得。 一種用於形成一有色圖案之方法,其包含如下步驟: (A) 將如申諳專利範圍第1項之感光樹脂組成物施 用至一底材上,並將該底材乾燥以形成一感光層; (B) 將該感光層選擇性地曝光,以形成該有色圖 案之一潛像;及 (C) 使用一含有一染料或顏料之著色溶液,在已 形成該有色圖案之潛像的曝光區域上進行著色。 如申請專利範圍第6項之方法,其進一步包含另一著 色步驟(D) ’該步驟依據該著色步驟之相同方式而被 進行至少一次,只是要在該感光層上形成一個不同的 著色圖案之料,並使用-種不同之染料或顏料。 如申請專利範圍第6或7項之方法,其中該著色步驟 -39- 4. 5. 7. 8. t紙張適用中國國家標準(CNS ) ( 2丨〇><297公董)- (#先閲讀背面之注意事項再填寫本育) # f f 408248
    1L 12 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 包括一在該感光層上施加該著色溶液之方法。 9_ 士申清專利範圍第6或7項之方法,其中該著色步驟(〇 包括一將該感光層浸入該著色溶液之方法。 10,如申請專利範圍第6或7項之方法,其中該著色係藉由 使用透明電極做為一透明基底,並在該著色步驟(c) 中使用一含一染料或一顏料的可電沈積溶液做為著色 溶液來進行電沈積者。 如申h專利範圍第6或7項之方法,其中該著色溶液為 一含有一染料或一顏料的金屬氧化物之溶膠。 如申請專利範圍第6或7項之方法,其中該著色溶液為 一染料之水溶液。 13. 如申請專利範圍第6或7項之方法,其中該著色溶液含 有一矽烷偶合劑及一表面活性劑。 14. 如申請專利範圍第7項之方法,其中由其所形成之有 色圖案係要用於一濾色器之製造。; 種用於形成一溥膜圖案之方法,其包含下列步驟: (A) 將如申請專利範圍第1項之感光樹脂組成物施 用至一底材上,並將該底材乾燥以形成一感光層; (B) 將該感光層選擇性地曝光以形成一經構型之 潛像;以及 (C) 將形成該經構型之潛像的曝光區域浸入至一 不含一染料或一顏料的金屬氧化物之溶膠中,或將該 溶勝施用至該曝光區域上。, -40- I-------0^----------}線--------! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100245180B1 (ko) * 1996-05-29 2000-02-15 니시무로 타이죠 감광성 조성물 및 그를 이용한 패턴 형성방법
EP1376229B1 (en) * 1997-08-08 2010-10-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Plate for lithography and process for producing the same
JP4096138B2 (ja) * 1999-04-12 2008-06-04 Jsr株式会社 レジスト下層膜用組成物の製造方法
JP2002290018A (ja) * 2001-03-26 2002-10-04 Nippon Paint Co Ltd プリント配線基板の製造方法及びレジスト材
WO2002077713A1 (fr) * 2001-03-26 2002-10-03 Nippon Paint Co., Ltd. Procede de formation de motifs metalliques
WO2002077714A1 (fr) * 2001-03-26 2002-10-03 Nippon Paint Co., Ltd. Matiere de reserve isolante ignifuge autonome et materiau isolant
US6830818B2 (en) * 2001-04-13 2004-12-14 Hitachi Cable, Ltd. Polymer material and polymer film
US7035518B2 (en) 2001-04-13 2006-04-25 Hitachi Cable, Ltd. Polymer waveguides and process for producing the same
US6699748B2 (en) 2002-05-30 2004-03-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of fabricating capacitor having a photosensitive resin layer as a dielectric
WO2005113648A1 (en) * 2004-05-14 2005-12-01 Dow Corning Corporation Method of making branched polysilanes
KR100881860B1 (ko) 2007-01-17 2009-02-06 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터
KR100959187B1 (ko) 2007-10-18 2010-05-24 제일모직주식회사 컬러필터용 잉크 조성물, 이를 이용한 컬러필터의 제조방법, 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터
CN101727003B (zh) 2008-10-24 2012-07-18 第一毛织株式会社 用于彩色滤光片的光敏树脂组合物以及使用其制备的彩色滤光片
KR101344790B1 (ko) 2010-06-10 2013-12-24 제일모직주식회사 컬러필터용 청색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101293787B1 (ko) 2010-07-28 2013-08-06 제일모직주식회사 난연성 및 내열성이 우수한 투명 열가소성 수지 조성물
CN102436142B (zh) 2010-09-29 2013-11-06 第一毛织株式会社 黑色光敏树脂组合物以及使用其的光阻层
KR101351614B1 (ko) 2010-11-05 2014-02-17 제일모직주식회사 난연 내스크래치성 폴리카보네이트 수지 조성물
KR101453771B1 (ko) 2010-11-08 2014-10-23 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101443757B1 (ko) 2010-11-08 2014-09-25 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101400194B1 (ko) 2010-12-01 2014-05-27 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101400193B1 (ko) 2010-12-10 2014-05-28 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101374360B1 (ko) 2010-12-14 2014-03-18 제일모직주식회사 난연 내스크래치성 폴리카보네이트 수지 조성물
KR20130002789A (ko) 2011-06-29 2013-01-08 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101344786B1 (ko) 2011-12-02 2013-12-26 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101674990B1 (ko) 2012-12-07 2016-11-10 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20140076320A (ko) 2012-12-12 2014-06-20 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서
KR20140083620A (ko) 2012-12-26 2014-07-04 제일모직주식회사 차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
US10018912B2 (en) 2014-06-13 2018-07-10 Sharp Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition, wavelength conversion substrate and light emitting device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61189533A (ja) * 1985-02-19 1986-08-23 Hitachi Ltd 感光性樹脂組成物
JPH0643655A (ja) * 1991-03-04 1994-02-18 Internatl Business Mach Corp <Ibm> レジスト画像の生成プロセス及び電子デバイス
CA2087110A1 (en) * 1992-01-14 1993-07-15 Hiroshi Tsushima Method of forming color pattern
JPH06289528A (ja) * 1993-04-07 1994-10-18 Nippon Paint Co Ltd 感光性発色組成物

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