TW396274B - Method and apparatus for the nonuniformity inspection of the transparent material and method of selecting the transparent substrate - Google Patents

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3548PIF.DOC/002 經濟部中*德率而货工消费合作社印臀 Α7 Β7 五、發明説明（I ) 【技術領域】 本發明係提供一種透光性物質之非均勻性檢查方法及 其裝置、透明基板之篩選方法，k特別係指針對如光罩兩透 明基板及資訊記錄用透明基板等玻璃基板之透光性物質的 光學非均勻性(缺陷），進行檢查的方法及其裝置。尤其是 指利用透光性物質表面全反射的性質，而以高感度且高速 方式檢查出透光性物質的非均勻性者。 【技術背景】 按，在半導體積體電路、光罩等製造工程中，於微細 圖案的形成上，多採用微影法。例如，在半導體積體電路 製造之際，在利用高精度硏磨方式修整鏡面的透明基板 上，採用以透光性膜（如鉻膜)形成圖案的光罩，施行圖案 轉印。相關可稱爲該圖案原版之光罩的檢查方法，例如日 本專利公報特開昭第58-162038號所載述的面狀態檢查裝 置，乃將光集聚於圖案面的微小區域，比較由圖案面的反 射輸出及穿透輸出的方法。 惟，隨近年圖案日趨高密度化，不僅只如上述針對圖 案的面進行檢查，同時針對採用高精度硏磨而修整鏡面之 透明基板的微細缺陷，亦成爲缺陷檢查的對象。此外，上 述方法，乃將光集聚於圖案面的微小區域內，當檢查區域 欲橫跨廣範圍時，便必須採用適當手段進行光掃瞄，此相 對於檢查區域的面積比例，頗耗費檢查時間，同時隨缺陷 的有無’相對於圖案本身及透明基板之反射光、穿透光的 光量變化不致有太大變化，致使用於透明基板的微細缺陷 (諳先閑讀背面之注意事項再填寫本頁}

A7 3548PIF.D〇C/002 _________________________________ 五、發明説明（>) 檢查上，頗爲困難。 再者，在資訊記錄媒體用透明基板中，隨高密度記錄 化’須在透明基板表面上形成結晶性良好的底層、磁性層 及磁頭的低浮化等，故而要求透明基板必須具備經高精度 硏磨的表面，致使透明基板之微細缺陷的檢查成爲檢查對 象。可是，現存的缺陷檢查方法或裝置，卻未必可滿足上 述缺陷檢查的要求水準。 有鑑於斯，本發明爲解決上述問題，遂以提供一種可 確實且高精度、高速度的檢查透光性物質之光學非均勻性 的透光性物質之非均勻性檢查方法及其裝置爲其主要目 的。 再者，本發明另一目的，係提供一種可迅速萃取所期 望透光性物質的透光性物質之非均勻性檢查方法及其裝 置0 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明透光.性物質之非均勻盤檢查裝置的較佳實 施態樣之分解示意圖。 第2圖係第1圖所不透明基板自骑卩东擴 第3圖係固定透明基板之夾具的立體ggg。 第4圖係依照第1圖之檢查裝置，-街.檢查忠據璃基板表面 ' 傷痕的影像。. 第5圖係第4圖所示影像之光情報:’筚_影像處理而求得 之傷痕寬度·方询上的光強度分布示—意観. 第6圖係利用光學顯微鏡(反射-，-透朗視.界).，觀察第4圖| 5 (讀先聞讀背面之注意事碩再填寫本頁) —1^---_——Γ———-----^—訂---Γ,--- 經濟部中央樣隼而負工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 B7 I. 率 M) 工 消 費 合 作 社 印 製 五、發明説明（,） 所示傷痕的影像。 第7圖係第6圖所示影像之光情報，.依據影_像應理里求f辱 , 之傷痕寬度方苘上的光強度分布示.意圖。 第8圖係比較本發..方—法及—習知方法之檢租感度、，以正規 曝光時間相對於罄號雜訊比之麗係的麗运壇。 第9圖係當....由透，明基板之一邊照射雷射光時，求取透明基 板內部光棒軌跡的摸擬示意圖。 第10圖係第9圖模擬之結果表。 桌11圖係第10圖中，透明基板之入射角及表面反射次數 、之關.係圓.。 第.I.2圖係第9圖模擬由i獲屬透服基板內部之i 光線軌跡圖。 第13圖係黑9—圖槙凝之其他例子屯，透明基板之入射角 及表_面_反射次數之關係圖。 第14圖係第9圖模擬之其他例王虫，透朋基板之入射角 及表面反射次數之關係圖。 第15圖係第9圖模擬·之其-他例子中r透朗基板之入射角... 及患面反麗次麗名關係圖。 第16圖係雷射光射入透明基板中時，模擬光傳播結果之 .光線軌跡圖。 第ΪΤ圖係根據本發明之非均勻檢查所觀測到之透明基梅 傷痕等影像..圖.。_ 第is圚係雷射光由二:方询射入透m基板之立體示意圖。 第-19福係由透明基板角落部位處射入雷射光之搆造示意 (讀先聞讀背.面之注意事¾再填寫本頁) ¥ 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 3548PIF.DOC/002 A7 經濟部中央標率局货工消费合作社印製 B7__ 五、發明説明（^) 圖。： 第20圖係在透明基板的相同入射位置處，由不同方向射 入雷射光的示意圖。 第21圖係施行篩選透明棊板之_星品與非良品之檢查工程 ; 實施態樣的流程圖。 第。22圖係.將本發明之透明基板的節選方法，使用於-光罩. 用玻璃基板之第一實施麗樣說朋圖。 第23圖係將依據第22圖贬示.第一實施態樣的檢查，所檢、 r ' 查出玻谓基板表面傷痕影像的光情報，利用影像處 理面康求得之傷痕寬度方向的光強度分布麗。 -第_ 2 4 .圖係將本發明之透.明基板的篩選方法，使用於磁碑 屈邀ί离基板之第二實施態樣說明圖。 第25圖係第24圖所示集二實施麓樣之檢查方法的說明 圖。 . 第2 6圖係本發明非均勻性檢查之另一實施態樣示意圖〇 袠27圖係折射率不同之界面的—光折射示意嚴。 第個係求取透光性物質表面之孝反射條件的圖。 第29匾係立方麗型狀之透光性|勿質狗，滿足依多重全反 、射而將光封閉之全反射條件的.區域圖。 【發明開示】 本發明所提供之透光性物質的非均勻性檢查方法，係 將雷射光照射於透光性物質內，並檢查透光性物質的非均 勻性之方法，其中’該透光性物質係具備有至少一組將所 射入透光性物質內的雷射光重複全反射，並形成相對向的 7 本紙張Ζ度適月fF®國家標準（CNS ) Α4規格（]Τ〇Χ297公釐） " ' (諳先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) L------- L__丁 L.__ n .、τ 3548PIF.DOC/002 經濟部中央樣率而負工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明（f) 全反射面，以及於全反射面間，重複進行全反射並朝雷射 光前進方向相反方向設置，將該雷射光全反射而返折回該 全反射面之至少一組的返折面。當該透光性物質內之光路 屬光學均勻之情況時，將傳播於透光性物質內並射入於該 全反射面及返折面之雷射光，予以全反射，且在至少一組 返折面間進行往返方式的傳播，藉由該傳播，使雷射光普 照包圍該全反射面及返折面所形成的待檢查區域方式，射 入雷射光。當射入該透光性物質內部並傳播的雷射光之光 路中，存有非均勻部分時，將可由檢查出從該全反射面及 /或該返折面所洩漏出的光，而對透光性物質的非均勻性 進行檢查。 若透光性物質並無存在如表面傷痕等非均勻部分時， 射入透光性物質內部的雷射光，因在表面進行重複的全反 射，而將光封閉於透光性物質內部（雷射光普照）型態，所 以實質上將不致於向外界洩漏（指該全反射面及返折面）。 反之，當透光性物質存在有非均勻部分時，無法滿足全反 射條件，將從透光性物質表面洩漏而出。即，當在透光性 物質表面上，因傷痕、裂痕、異物附著而造成污濁等非均 勻部分（缺陷）時，若光路均句的話，將使光線由全反射面 所形成的表面(全反射面及返折面）外洩。不僅可檢測出透 光性物質表面不均勻，同時即便內部傷痕、裂痕、氣泡等 異物所造成的缺陷，或如玻璃紋路等情況下，穿透率相同 而僅相關折射率不同之缺陷的檢測，在傷痕或折射率不同 處，偏離原本均勻的光路(經路），因無法滿足表面的全反 8 (讀先閱讀背面之注意事頷再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3 548PIF.DOC/002 Α7 Β7 五、發明説明（) 射條件，造成外洩於透光性物質的外部，而可檢測出。 如上述’本發明所提供的檢查方法，因爲利用物理臨 界現象的幾何光學全反射，（實質性的）將光封閉於透光性 物質內，故在對於待檢查物透光性物質之非均勻部分與均 勻部分中的檢查光爲臨界式應答，非均勻性部分將顯現出 劇烈對比。換句話說，本發明所提供的檢查方法，係一種 利用將光封閉方式的缺陷（非均勻性)檢查方法，乃使容器 內部的光，由設在如暗箱類遮光性容器的針孔中外洩，進 行觀察透光性物質極爲細微傷痕等缺陷。 在透光性物質表面重複全反射，將光（實質性的）封閉 於透光性物質內的光入射條件，係依照下式求取。以下係 求取將如透明基板類的立方體形狀透光性物質內，利用多 重全反射，（實質上）將光封閉的條件。 在求取該光封閉條件之前，首先，如第27圖所示， .求取光由空氣等折射率ni之媒介質，射入如玻璃等具透 光性且折射率nt之媒介中之折射光的方向(在圖式中，向 量係以箭頭表示，但在文章中如向量A則以<A>表示）。 如第27圖所示，折射率ni與折射率nt界面間，當 射入< Li >入射光時的折射光線爲< Lt >。垂直於邊界面 並朝向入射媒介質方向的溶劑向量設定爲<N> (單位向 量）。折射光線向量<Lt>乃存在於向量<：^>及<以>所 形成的平面上，可利用下式所示<N>與<1^>的線性結 合型態表示。 <Lt> = a <Li> + /S <N> ⑴ 9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇χ 297公釐） (諳先閩讀背面之注意事項再填寫本頁j 、-='a 丁 經濟部中央標率而货工消費合作社印製 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（1 ) 其中，αΘ係指係數，配合計算單純化，若向量< 1^>與<1^>亦單位向量化的話，便可滿足下式： < Li > · < Li > =1 < Lt > · < Lt > =1 ⑺ 相對邊界面的折射，若使用折射定律(斯涅爾定律)的 話，當入射角爲0 i，而折射角爲0 t時，便具有下列關係 式： sin Θ t=(ni/nt)sin Θ i ⑺ 若將0 t與0 i以向量表示的話，便具有下列關係式： <Li> · <N>=|<Li>| · |<N>|cos(7T-^i) =-cos Θ i (4) <Lt> · <N>=|<Lt>| · |<N>|cos(7T-0t) =-cos Θ t (5) 上式求取折射光線向量<1^>的話，若式（1)中的係 數α與Θ決定的話，便可求得<Lt>。在式（1)〜(5)中，若 將α與0以ni、nt、Θ i表示的話，如下： a = ni/nt β =-{ l-(ni/nt)2(l-cos2 Θ i)} 1/2+(ni/nt)cos Θ i 利用上式而決定相對入射光線< Li >的折射光線< Li >方向。 其次，求取欲將利用上述所決定方向的折射光線’引 進並在立方體形狀的透光性物質表面上，進行重複性全反 射而封閉於透光性物質中的條件。 首先，將xy平面作爲全反射的第一邊界面。如第28 圖所示，z軸正方向法線向量爲<Νζ>=(0,0，1)，以入射 10 (讀先閱讀背面之注意事領再填寫本頁) 訂 經濟部中央標率局货工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（？） 角Θ i，將入射向量<L1> (單位向量）=(Llx、Uy、Uz) 射入xy平面的話，便將成立下式： <Li> · < Nz > =cos( 7T - 0 1) 若將上式展開的話，

Llz=-cos θ 1 因爲|<L1>|=1，故在0 12 情況下，滿足下式： Llx2+Lly2+cos2 6> 1 = 1 ⑹ 可在第一邊界面的xy平面上進行全反射的入射向 量，最好使與z軸與形成臨界角θ c的直線，可環繞z軸 旋轉而形成如第28圖中所示圓錐體，此前提下，滿足白勺 向量將有無限。 在xy平面反射後的向量<L2>係如下式： < L2 > =(Llx,Lly,-Llz) =(Llx,Lly,cos θ l) 更進一步，必須考量該向量<L2>在第2邊界面全反射 的條件。若將xz平面作爲第2邊界面，而射入xz平面的 入射角爲Θ 2的話，便將成立下式： < L2 > · < Ny > =cos( 7Γ - 0 2) 其中，<Ny>係指朝向y軸正方向的單位向量(Ο，1,0)。將 上式展開，

Lly^-cos Θ 2 由此式與式（6)，在0 1、0 2g 0 c條件下，必須滿足下式： L1x2-1-cos2 Θ 1-cos2 Θ 2 (7) 在xz平面反射後的向量<L3>，具有下列關係式： 11 (讀先閩讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁) W. 訂 經濟部中央標準扃货工消費合作社印f 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3 548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（1) < L3 > =(+{l-cos2 Θ 1-cos2 Θ 2}1/2 · cos Θ 2,cos θ 1) 若使該向量<L3>在第3邊界面進行全反射的話，便可 成功的將光封閉。若以yz平面爲第3邊界面’且射入yz 平面的入射角爲β3的話，便將有下列關係式： < L3 > * < Nx> =c〇s( 7Γ - 61 3) 其中，Nx=(l，〇,〇)。所以，L3x=-cos0 3，+{l-cos2 0 0 2}1/2=-cos0 3，即必須滿足下式： cos2 θ 1+ cos2 θ 2+ cos2 θ 3 = 1 ⑻ 因爲臨界角Θ C具備sin(7T /2)=(nt/ni)sin0 C的關係， 所以，當 ni=1.00、nt=1.47 時，sin0 c=l/1.47，因此臨界 角 61 c=42.9° 。 當Θ 1=0 2=0 3時，由式（8)中得知，在3COS20 1 = 1 時，0 1=54。，並滿足 θ 1 2 54° > 0 c=42_9° 。該條件 的若干充裕係指活化使對特定反射面的全反射進行更多 者。爲使在基底玻璃處，可減少在端面的反射’最好慎重 的選擇<L1>。 由上述得知，藉由多重全反射而將光封閉的條件，如 下式： cos2 Θ 1+ cos2 θ 2+ cos2 θ 3 = 1 cos 0 cos (9 1, cos 0 2, cos 0 3 > 0 因當 0 c=42.9。時，cos0 c=0.73，將滿足 θ 1、0 2、 (9 3區域，以cos Θ 1、cos 0 2、cos 0 3爲座標軸圖式表 示的話，便如第29圖所示，在邊長0.73之正立方體內側， 半徑=1之球體表面的曲面60,便是滿足全反射條件的區 12 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (讀先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T ΦΙ. 經濟部中央標準扃貞工消費合作社印製 3548PIF.DOC/002 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明U〇) 域。 上述係針對如透明基板之立方體形狀透光性物質的全 反射條件進行推導。可是，針對如後述一般形狀者，亦可 、利用相同方法而決定光入射角的條件。後述實施態樣中， 引進透光性物質內的光入射角條件，乃依據上述而推導出 的。 本發明所提供的非均勻性檢查方法，該透光性物質的 形狀，除四方型(長方形)狀平板、圓形及圓環狀平板外， 其他如具備透鏡等曲率較大曲面之形狀、球狀、多面狀、 圓柱體、圓筒型、多角柱型等，任何形狀均可。僅要透光 性物質至少在被檢查區域中，光可重複進行預定次數以上 的反射，而將光封閉於透光性物質內狀態者便可，對透光 性物質的形狀並無限制。 因爲可將光封閉於透光性物質內，所以在透光性物質 上’最好必須具備至少一組使引進透光性物質內的光，可 重複進行相對向全反射的全反射面，以及至少一組設置於 全反射面間重複全反射所雷射光行進方向對向，將雷射光 全反射並返回全反射面之返折面者爲佳。特別係返折面， 在將光封閉於透光性物質內上係極爲重要。返折面係設置 於光前進方向的對向方式，至少必須設置一組。若光在返 折面間不進行反覆的話，則無法將光予以封閉。 在引進雷射光之際，必須使所引進透光性物質的雷射 光傳播於透光性物質內，並使射入全反射面及返折面的光 進行全反射，且至少在其中一組的返折面間反覆傳播，藉 本紙張尺度.適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） IVV3 -口 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

3548PIF.DOC/002 A7 B7 經濟部中央標率局员工消费合作社印$i 五、發明説明（) 由此種傳播方式，使光遍佈在由全反射面及返折面所包圍 被檢查區域中之方式而將光引進。亦即，當透光性物質內 的光路屬於光學均勻時，引進透光性物質內的光，在對側 全反射面間重複進行全反射傳播，在返折面a處射入並全 反射後’再度重複傳播於透光性物質內重複傳播，並於返 折面a以外的至少其中一返折面b、c、…全反射，使傳 播於該返折面a的光重返方式，而引進雷射光，此情況下， 若透光性物質內光路屬光學均勻而不是非均勻部分的話， 在全反射面與返折面處重複全反射，因爲在全反射面及返 折面（除引進雷射光區域外)並無存在光外洩的奇異點，所 以可實質上的形成光封閉效果。若該返折面爲一組時，可 在屬於透光性物質的其中一平面處進行光封閉，而若該返 折面具備複數組以上時，可將幾乎透光性物質的全區域進 行光封閉。 在實質上的將光封閉於透光性物質內時，所引進的雷 射光’僅要使所引進的雷射光在全反射面及返折面處，不 產生幾何光學的光外洩奇異點的話便可。因爲係屬於『幾 何光學』，故所引進的雷射光隨透光性物質材料的固有性 質，而導致光學變化的光如軌跡散射光等，在此便不予考 慮。再者，所謂『實質上並不產生雷射光外洩的奇異點』， 乃係指在雷射光本身廣角影響下，在全反射面及返折面 間，重複進行多次全反射後，僅有極少部分雷射光無法滿 足全反射條件，而造成外洩於透光性物質外的情形，此情 況可考慮爲『實質上』的意義。另，隨雷射光本身廣角的 14 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (讀先閩讀背面之注意事¾再填寫本頁) ¥ 訂 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明uz) 外洩光，因爲係沿透光性物質表面方向洩漏，在檢測構件 上係不進行檢測，並不影響檢測感度。 在將光封閉於透光性物質內上，若對引進雷射光波長 入，該透光性物質的折射率nt、與透光性物質接觸的外 側介質的折射率ni、射入於全反射面及返折面之光的角 度0ik(k係指雷射光引進透光性物質後，射入於全反射面 及返折面的入射位置，依入射位置區分爲k=l,2,3···)時， 0ik在該全反射面及返折面中，僅要可使所引進的雷射 光形成sin 0 =ni/nt的臨界角0以上者便可。 其中，在透光性物質表面，對較困難利用全反射將光 封閉的形狀(例如具備較大曲率之曲面的形狀)上，藉由在 透光性物質外側上至少設置二組對向面（至少一組全反射 面、與至少一組返折面），利用光重複全反射傳播方式， 而可檢查非均勻性。具體而言，採用具備經修整表面的透 光性容器，在大於該容器外側介質折射率的容器內介質(如 液體等）中，插入透光性物質，可藉由在容器外側表面重 複全反射傳播方式引進雷射光，而進行檢查。 幾何光學引進該透光性物質內的雷射光，最好至少在 最初的全反射面或返折面中，所有的雷射光進行全反射方 式引進雷射光，而確實引進滿足全反射條件的雷射光。在 上述情況之外者，例如在引進雷射光的面上，擴散光傳播 於透光性物質內時，因爲無法預測在透光性物質內傳播的 (複數)光線軌跡，所以很難將所引進雷射光入射於全反射 面及返折面的光線，幾乎全部進行全反射，而無法如本發 15 (詩先閩讀背面之注意事哆再填寫本頁) k'··

、1T 經濟部中央播率而費工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐） 3548PIF.DOC/002 經濟部中央標準而货工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（巧） （ 明產生將光封閉的效果。 配合引進雷射光的引進面，最好設置在由其中一全反 射面與其中一返折面所圍成之處。在將雷射光引進透光性 物質上’雖可由除引進面以外的全反射面或返折面處引 進’但此情況時，因爲在引進雷射光的入射窗處，必須利 用黏著劑，裝設略同於透光性物質折射率材質的光學元 件，頗爲繁雜。再者，因爲在檢查區域的全反射面或返折 面處裝設有光學元件，光在裝設處之透明性物質內的傳 播，並無法滿足全反射條件，將造成外洩情況，導致無法 進行實質性的檢查，故不爲所喜好。 當具備引進雷射光的引進面時，具體的引進方法，僅 需使所引進之雷射光，使雷射光由該引進面、及該引進面 與全反射面所形成角度幾乎爲相同之面的射出方式，便可 達本發明的光封閉效果。 透光性物質係最好至少對引進雷射光的引進面部分， 施行鏡面硏磨。雖然雷射光係利用在全反射面及返折面 處，重複進行全反射而形成將光封閉的效果，可是，當引 進面有施行鏡面硏磨時，所引進的雷射光不致隨引進面產 生擴散，而仍以平行光狀態傳播，所以射入於全反射面及 返折面的光，將全部進行全反射，所以對透光性物質的非 均勻部分與均勻部分中的檢查光應答便較具臨界，可提昇 對比程度。最好可將透光性物質全面（包括全反射面、返 折面、引進面)都施行鏡面硏磨事宜。 若全反射面的大小L、引進面寬度d、相對雷射光波 16 -w (請先閔讀背面之注意事項再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 經濟部中央樣率扃負工消費合作社印黎 Α7 Β7 五、發明説明（丨f) 長；I的透光性物質折射率nt、接觸透光性物質的外側介 質折射率ni、雷射光的光束徑φ、光射入於全反射面及 返折面的光角度(9 ik(k係指雷射光引進透光性物質內後， 射入於全反射面及返折面的位置，依照射入順序依序區分 爲k=l，2，···。特別係引進雷射光後，最初射入於全反射面 或返折面的角度爲6> i)、在全反射面進行反射次數m、且 m爲由L、d、ηΐ(λ )、ni、少、0 1之函數所表示時，在 所有爲臨界角Θ以上範圍內時，使m在基準設定値 以上方式，決定L、d、nt(A )、ni、p0 1中至少任何 一條件，並利用透光性物質的引進面引進雷射光。 由引進面引進雷射光的光，在透光性物質內重複傳 播，並再度射入引進面時，若以臨界角Θ以上的光入射時， 將使光產生洩漏。所以，當在透光性物質內欲產生更多全 反射時(希望m變大時），僅要縮小由引進面洩漏的機率便 可。實際上，利用模擬實驗求取光線軌跡，使引進透光性 物質內的光，在全反射面及返折面處重複進行全反射並傳 播的結果，依照在引進面處直到光線外洩的反射數目增多 方式，決定引進面寬度d，具體而言，引進面的寬度d係 越小越佳。引進面寬度d，亦限制雷射光之光束徑及透光 性物質的加工，最好d在0.4mm以下，尤以0.2mm以下 者爲佳。但是若極端偏小的話(低於0.1mm)，非常容易在 全反射面與引進面的界面、返折面與引進面的界面處產生 缺陷，故頗不爲所好。 藉由透光性物質折射率nt(或雷射光波長λ)的選擇， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4规格（210X297公釐） (讀先閑讀背面之注意事項再镇寫本頁j

3 548PIF.DOC/002 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（丨彡） 可調整m(在全反射面的反射次數）。具體而言，透光性物 質的材質，因爲係配合透光性物質的用途而限制，所以最 好選擇雷射光波長λ，最好選擇雷射光對透光性物質的吸 收較小的波長。當吸收偏大時，不僅非均勻性的檢出感度 降低，同時亦可能破壞透光性物質本身等，故頗不爲所好。 雷射光的波長，亦將影響非均勻性（表面傷痕等）的解析 度。非均勻性的解析度，因爲最大便爲雷射光波長λ，所 以當欲將電子元件用玻璃基板的傷痕寬度l//m以下的微 細缺陷當作影像，進行分析檢測時，雷射光的波長便將爲 1 // m以下。 在具備透光性物質之特定形狀(例如全反射面與返折 面具垂直關係時）中，各射入全反射面、返折面的入射角 度，因爲與雷射光引進後，最初射入全反射面的角度Θ 1 間具有一定關係，所以可利用適度的調整角度0 1，而調 整m(在全反射面的反射次數）。實際上，0 1係在透光性 物質條件（引進面寬度d、折射率nt)、雷射光條件(波長λ、 光束徑Φ)決定後，將0 1調整成使光埋入透光性物質內 的基準設計値m以上，而引進雷射光。一般隨透光性物 質上不少加工精度的不同，全反射面的大小(長度等）將分 散不一，在分別掌握具該等分散不一之透光性物質的全反 射面大小的檢測材料後再行進行檢測時，需時頗爲龐大， 無法符合實用。所以，可將引進透光性物質內的雷射光， 在引發全反射範圍內，利用變動入射角度，可高感度、高 速度的檢測，達高實用性的檢測方法。 (諳先聞讀背面之注意事碩再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 B7 經濟部中央標準扃員工消费合作社印製 五、發明説明（中） 再者’最好透光性物質的全反射面、返折面間，具備 互相垂直關係。藉由此種關係，使所引進的雷射光，在全 反射面及返折面處重複進行全反射，而可容易的呈現封閉 於透光性物質內狀態。實際上，亦可同時進行透光性物質 的廣泛範圍區域檢查，形成可高速檢查的功效。即，所引 進的雷射光，在至少一組重複全反射的全反射面中，形成 相同的光入射角，而在至少一組的返折面中，光入射角相 同，且具一定關係（全反射面中光的入射角θ時，返折面 的光入射角爲90° -0)下，進行傳播。 利用其中一組全反射面與其中一組返折面所包圍而成 之透光性物質待檢查區域，藉由光在透光性物質內進行傳 播方式，而檢查光所充滿待檢查區域內之其中一平面的非 均勻性後，針對透光性物質，將該檢查平面，在將光埋盡 於待檢查區域方向，進行相對移動，而檢查出待檢查區域 的非均勻性，以達簡化檢查方法的功效。 上述係針對本發明之一般光封閉槪念進行說明。就本 發明更具體實施上，將雷射光引進透光性物質內，而進行 透光性物質非均勻性的檢查方法，該透光性物質表面上， 具備至少一組互相平行的主表面、直達該主表面至少一組 的端面、以及由該主表面與端面所包圍而成斜面部。當該 透光性物質內光路屬於光學均勻時，使所引進的雷射光可 傳播於透光性物質內，並射入於該主表面與該端面的光將 全反射，而且，至少在一組端面間反覆傳播，利用傳播使 雷射光佈滿由該主表面、端面、及斜面部所包圍而成的待 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X：297公釐） (諳先閩讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 ΦΙ. 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（θ) 檢查區域。當引進該透光性物質內傳播光的光路中，存在 有非均勻部分時，利用檢測由該主表面及/或端面所洩漏 出的光，可檢查出透光性物質的非均勻性。 該主表面、端面及斜面部，相當於上述全反射面、返 折面及引進面。該主表面、端面及斜面部的代表形狀，如 四方型(矩形)狀平板、圓板、圓環狀平板等。此情況下所 引進的雷射光，容易在主表面與端面上重複進行全反射， 而形成（實質上）封閉於透光性物質內狀態。實際上，可同 時進行透光性物質的廣範圍區域檢查，最好可快速檢查。 換句話說，所引進的雷射光，在重複進行全反射的主表面 上，形成相同的光入射角，而入射於端面光的入射角亦相 同，因爲具有一定關係（入射主表面的光入射角爲0時， 入射於端面的光入射角便爲90° -0)而傳播，所以在入射 於透光性物質後，最初入射於主表面的入射角，僅需設計 成較大於臨界點，且入射於端面的入射角，亦設計成大於 臨界點方式，便可(實質上)形成將光封閉的效果。 具體上引進雷射光的方法，在該主表面與端面處，以 實質上不產生幾何光學的雷射光外洩奇異點方式，引進雷 射光，且僅使所引進的雷射光由該斜面部射出方式，引進 雷射光。 該非均勻性檢查方法對象的透光性物質，最好採用由 玻璃材質所形成者。透光性物質的材質，雖係依照各種用 途而決定，但當採用玻璃時，除具備硬度外，可藉由鏡面 硏磨獲得非常平滑的表面，具有產生光透性良好的優點。 用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） I-^---.I-.---v,wI — (讀先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央摞率扃貨工消費合作社印f- 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（丨罗） 在上述非均勻性檢查方法中，當透光性物質爲電子元 件用玻璃基板時，可發揮更加的效果。近年隨圖案的高密 度化，因此便講求具有高精度硏磨表面的玻璃基板，而上 述非均勻檢查方法，便對由細微傷痕或基板紋路所形成的 圖案、或對曝光具有不良影響的非均勻性等的檢查上，頗 具功效。 上述非均勻性檢查方法，當透光性物質爲資訊記錄媒 體用玻璃基板時，可發揮更上一層的效果。近年隨記錄高 密度化以及磁頭低浮化，因此便講求具備高精度硏磨表面 的透明基板，所以上述非均勻檢查方法，在由基板表面傷 痕的高密度記錄化、或磁頭低浮化不良影響所造成的非均 勻性檢查，可發揮相當效果。 類似上述電子元件用玻璃基板、資訊用記錄媒體用玻 璃基板、或液晶元件用玻璃基板等，在表面上具備互相平 行的主表面，且具備垂直於該主表面的端面，當將所引進 的光重複全反射，並封閉於透光性物質內時，實際上便可 同時對透光性物質的廣範圍區域進行檢查，而可達快速檢 查的效果,。 本發明所提供透光性物質之非均勻性檢查裝置，乃爲 實施上述檢查方法之裝置者，係爲在透光性物質內引進雷 射光而進行透光性物質的非均勻性檢查的裝置，具備有將 雷射光引進該透光性物質內的照明構件（照射構件）、檢查 該透光性物質之外洩光的檢測構件者。其中，該透光性物 質係具備引進雷射光於該透光性物質內的引進面，以及至 21 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） —：------— (諳先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) <11 Ψ. 經濟部中央標準局Μ工消费合作社印fi ,#濟部中央橾率而货工消費合作社印製 3548PIF.DOC/002 A7 —______ __B7__ 五、發明説明（鬥） 少二組將所引進的雷射光重複全反射之互相對向的表面； 該照明構件係將照明構件所射出的雷射光利用引進面而引 進’當該透光性物質內的光路爲光學均勻時，傳播於透光 性物質內並射入該表面的光將全反射，且在該表面中至少 其中一組表面上進行反覆性的傳播，藉由此種傳播，使由 該至少二組表面所包圍而成的待檢查區域佈滿雷射光者。 利用上述結構，透光性物質的非均勻性檢查可自動化，同 時可縮短檢查時間，提昇檢查可信用性。 在上述檢查裝置中，最好在該照明構件上設置可調整 雷射光對該透光性物質之入射角度的較度調整構件。該較 度調整構件係不僅調整使引進透光性物質內的雷射光，在 透光性物質表面重複全反射而將光封閉的入射角度，同時 亦可配合彌補因透光性物質加工精度不同等所形成的尺寸 不一，而可在引發全反射範圍內進行入射角度變化用。 該角度調整構件可如鏡等。鏡係配置在該照明構件(如 雷射)與透光性物質間，而調整對透光性物質的入射角度。 除鏡之外，亦可在照明構件本身上設置變化照明構件對透 光性物質之角度的角度調整構件，或維持透光性物質夾器 的角度調整構件。此外，亦可利用所謂音響光學偏光器的 超音波光束音響光學效果，調整、變化入射角度。 上述檢查裝置中，最好設置移動(掃瞄)雷射光對該透 光性物質之入射位置的移動(掃瞄)構件，俾透光性物質全 區域不洩漏，且可自動的進行檢查。例如將雷射等照明構 件，與鏡等角度調整構件，放置於相同桌面上，藉由在桌 22 (諳先閩讀背面之注意事碩再填寫本頁) -----^^——r — _. II Aw---r I.,1 訂！ if! "S^張尺度適州中國國家標準（ CNS ) A4规格（210X297公釐） 經濟部中央掠率而員工消費合作社印製 3 548PIF.DOC/002 _________ Β7_ 五、發明説明（) 面上裝置驅動裝置，可順沿透光性物質一邊依序移動，以 及在維持透光性物質的夾器構件上裝設驅動裝置，並移動 之。 .上述檢查裝置中，最好使該透光性物質與檢查構件對 該證明構i牛’進行一體性的相對移動。當檢査構件之檢測 區域大於檢查區域時，利用將透光性物質對照明構件進行 相對移動’便可進行非均勻性的檢查。可是，一般上檢查 區域大多大於檢查構件之檢測區域，可將透光性物質與檢 查構件’對照明構件進行一體性的相對移動。此外，當進 行相對移動時，照明構件可爲固定雷射光器等照明光學系 統’利用驅動裝置進行移動透光性物質及/或檢查構件 等’或將透光性物質及/或檢查構件固定，而移動雷射光 等照明光學系統。 在上述檢查裝置中，該檢查構件包括有具備攝影元件 (CCD等）之攝影照相機、及將透光性物質之外洩光顯像於 該攝影照相機的透鏡者，最好使該攝影照相機及/透鏡對 透光性物質進行遠近方向的相對移動。藉由使該攝影照相 機及/透鏡對透光性物質進行遠近方向的相對移動，可進 行攝影照相機的對焦，俾獲得透光性物質在厚度方向之非 均勻性(表面傷痕、內部紋路、氣泡等）正確資訊。例如固 定攝影照相機及透鏡的檢查構件，並使透光性物質、雷射 光器、鏡’在該檢查構件的遠近方向上進行一體性的移動， 此外，亦可固定透光性物質、雷射光器、鏡等，而移動攝 影照相機及透鏡之檢查構件者亦可。 23 --：---r--r---- (#先閔讀背面之.注意事項再填寫本頁)

-、1T Φ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（勾） 在上述檢查裝置中，最好設置可依據該檢查構件所檢 測出的資訊’判斷透光性物質之非均勻性有無、種類、大 小之判斷構件者。 預先將對透光性物質之非均勻性有無、種類（表面上 傷痕或裂痕、內部紋路或異物等）、大小（面積、長度、寬 度、深度、區域等），而由表面外洩光之（影像)資訊(如外 洩光的光量、亮度、強度分布、具表面深度等）的關係（資 訊），記憶於電腦等，藉由比對依檢查而檢測出光之(影像） 資訊與該記憶資訊，便可判斷透光性物質的非均種類、大 小。藉由此類判斷透光性物質之非均勻性的有無、種類、 大小’便可選出所期望的透光性物質。藉此便可在如圖案 形成前，或存在有對待轉印物曝光時具影響程度之非均勻 性的玻璃基底，在檢查後於進行下一步驟前便予以排除， 或進行再硏磨事宜，俾提昇生產性。 上述非均勻性檢查裝置中，該檢測光的資訊係當將利 用CCD所檢測出的光，轉換、處理成對該CCD正規化曝 光時間的信號雜訊比（10.1〇g1Q(S/N))時，最好正規化曝光 時間0.025以上，而信號雜訊比（i0.i〇glQ(S/N))爲408db 以上者。所謂正規化曝光時間係定義成(CCD曝光時間）/ (背景信號到達(20000/4095)xl00電子爲止的CCD最大曝 光時間）。該正規化曝光時間可依照測量條件、檢查裝置 等而自由設定。 此原因乃當信號雜訊比在4.8db以上（相對背景的信 號爲雜訊3倍以上)時，便形成一般所謂的可影像處理位 24 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X：297公釐） --τ---r--^---\ W-- (諳先閔讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 經濟部中央標毕而眞工消費合作社印製 3 548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（ 準，可正確的判斷透光性物質之非均勻部分的有無、種類、 及大小。 — 11~rI-rIIί-I (詩先聞讀背面之注意事碩再填寫本頁) 相關本發明之透明基板的篩選方法，包括有準備步 驟、引進步驟、檢測步驟及篩選步驟，其中，該準備步驟 係準備具有引進雷射光之引進面、引進雷射光重複全反射 之至少一組對向的主表面、以及朝光行進方向對側設置之 至少一組端面的透明基板；該引進步驟係當該透明基板內 之光路爲光學均勻時，使傳播於透明基板內並射入主表面 與端面的光進行全反射，而且至少在一組端面間反覆進行 傳播，藉由傳播使雷射光遍佈由該主表面與端面所包圍而 成的待檢查區域方式，將雷射光由該引進面引進之步驟； 該檢查步驟係檢測在該主表面及/端面處無全反射而外洩 之光者；該篩選步驟係比較該檢查資訊，與預先記憶之存 在於透明基板之非均性的有無、種類、大小等資訊後，並 進行篩選透明基板者。 發明實施最佳態樣 ♦ 經濟部中央標準局员工消費合作社印製 以下，配合圖式對本發明的實施態樣進行詳細說明。 第1圖係本發明透光性物質之非均勻性檢查裝置之一實施 態樣的立體示意圖。 在第1圖中，1係表由光學玻璃等玻璃所形成之待檢 查對象的透明基板。該透明基板1，請參閱第2圖所示， 具備相互對向平行的平行面，乃由主表面（表面及內面)H 與端面(T面及斜面部C面)所形成，任一表面均經鏡面硏 磨後，再進行洗淨處理。該主表面(表面及內面），具備使 25 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29?公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（巧） 引進透明基板內之雷射光，重複全反射並傳播的作用，具 全反射面的功能者。端面(T面)係設置在光前進方向的對 側，具備使在主表面重複全反射並傳播的光，在對側鏡面 間反覆，而使引進並傳播的光返折的返折面功能。C面係 由主表面與端面(T面)所包圍而成的面，一般c面不致造 成表面細微傷痕的問題，不會形成待檢查區域對象，在本 發明中，具備引進雷射光的引進面功能。： 雖然，全反射面的主表面（表面、裡面）、返折面的端 面(T面）及引進面的C面中，不任何者的表面均施行鏡面 硏磨，特別係引進面具備鏡面硏磨上，含有本發明之將光 封閉的意義。換句或說，藉由將引進面施行鏡面硏磨，可 調整至使所引進的雷射光，實質上不產生擴散而幾乎以平 行光狀態進行傳播，並使幾乎所有射入主表面、端面的光 均進行全反射。當引進面未施行硏磨時，光將在引進面擴 散，而傳播複數方向的光，因爲無法分別預測光線軌跡， .所以無法達本發明之將光封閉的要求。針對引進面的鏡面 硏磨進行說明，引進基板的雷射光，最少在最初所接觸的 主表面’可使所有雷射光進行全反射方式，引進雷射光的 話，並毋需進行鏡面硏磨。例如對鏡面引進面，配合形成 模擬鏡面，而塗抹與基板相同折射率之調配油等，便可達 本發明之將光封閉的效果。 該透明基板1配合使表面的全反射無遭受阻礙，且使 洩漏光檢查趨於容易，利用夾器盡可能減少接觸部分，並 保持水平。請參閱第3圖所示，透明基板1之夾器之例子， 26 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） |_.|_f,——¢11 〆 (#先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T •Θ1. 經濟部中央樣準局貨工消費合作社印製 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（ 夾器20係爲維持透明基板i之矩形框體，在該夾器2〇底 口P內側四角落应，g又置支撐透明基板1底面角部的承受元 件21，各承受元件21上設置與透明基板丨形成點接觸並 予以支撐的球體22。 該透明基板1設置將檢查非均勻性之雷射光.，由透明 基板1側面引進之照明構件。該照明構件具備產生照明光 之光源的雷射器2、與設置在透明基板丨之c面上預定位 置及角度處’使雷射光進行照明之鏡31、32。該等雷射 器2、鏡Μ、32係裝設於搭載有使雷射光朝透明基板1 之一側邊la方向進行平行移動之驅動裝置4的桌面5上。 在此實施態樣中’爲使雷射器2及鏡31、32與透明基板 1及檢查構件進行相對移動，將予以固定，使雷射器2與 鏡31、32利用驅動裝置4 , u體進行移動。（另，亦可在 透明基板1及檢查構件上裝設驅動裝置，而將雷射器2與 鏡31、32予以固定，使透明基板丨及檢查構件進行一體 性的移動）。搭載透明基板1、雷射器2及鏡31、32之桌 面（未圖示）’當引進雷射光之際，配合進行CCD的對焦 及檢測出透明基板1厚度方向的非均勻性，可朝XYZ方 向移動。鏡31、32乃對角度等進行微調者，所以亦可不 使用鏡31、32，而直接利用雷射器2照射雷射光於透明 基板1上者亦可。在透明基板1內，亦可設置將所引進的 雷射光，在引發全反射範圍內變動入射角度而入射之入射 角調整構件。入射角度調整構件，係爲利用電腦等控制鏡 31、32的角度，而自動調整角度之結構，亦可爲利用所 27 —^---；—— (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Ψ. 經濟部中喪揲舉^員工消費合作社印^ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐〉 3 548PIF.DOC/002 A7 3 548PIF.DOC/002 A7 經濟部中央標準而贝工消費合作衽印製 B7 五、發明説明（<) 謂音響光學偏光器之超音波光束的音響光學效果，而變化 入射角度者亦可。 在透明基板1上方，設置檢測由透明基板1外洩之雷 射光的檢查構件。該檢查構件係具備有使CCD6與透明基 板广的外洩光，顯像於CCD6上的透鏡系統(顯像光學系 統)7。檢測該透明基板1之外洩光的光感測器，並不僅限 於CCD，亦可使用光電倍增器等。使用可撓雷射光作爲 照明光時，可用目測檢視由透明基板1的外洩光，而可省 略檢查構件。當使用CCD爲檢查構件時，則有搭配機械 快門功能的整機式（full fram)方式，與無機械快門的內建 式等，惟就考慮耐久性而言，則最好採用內建式CCD者 爲佳。此外，CCD亦最好搭配可降低雜訊的強制散熱風 扇、或電子冷卻功能等者爲佳。 在CCD6處，透過將所檢測出的類比信號轉換成數位 信號的A/D轉換器11，而可連接於處理所檢出影像的電 腦等影像處理裝置12。 該影像處理裝置12，將由CCD6所得的影像信號進 行解析，具有顯示因非均勻性所產生外洩光之形狀圖案、 光量及強度等顯示機能，或具備判斷透明基板1之非均勻 f生的有無、種類(表面之傷痕或裂痕、內部紋路或異物等）、 大小(面積、長度、寬度、深度、區域等）之判斷元件。 其次，針對使用第1圖所示檢查裝置之具體檢查方 法，進行詳細說明。檢查對象係爲152_4X 152.4 X 6.35mm， 且c面寬度爲〇.4mm之光罩用玻璃基板(玻璃基底）。利 28 (讀先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 財_家標準 (CNS ) Α4· ( 210X297公釐〉 3548PIF.DOC/002 經濟部中央標舉而爲工消资合作社印" A7 B7 五、發明説明（4) 用雷射光，如第2圖所示，在由該玻璃基板的C面射入 該玻璃基板內部後，可使最初接觸主表面的入射角0i大 於臨界角0c，且入射於玻璃基板端面的入射角（90° 亦大於臨界角0c方式，將雷射光射入玻璃基板中。因爲 玻璃基板的折射率在1·47時，臨界角0 c約爲42.9° ， 所以入射角0 i便爲44.Γ 。即，引進方法係具備在玻璃 基板主表面與端面處，以不存在(幾何光學）雷射光外洩的 奇異點方式引進雷射光，且僅在C面上，使所引進雷射 光射出方式引進雷射光的特徵點。雷射光係採用He-Ne 雷射，光束直徑爲〇.5mm，光束廣角爲lmrad，雷射能源 爲0.5mW，波長爲543nm者。 因爲本次所採用的基板，具備全反射面的主表面、與 屬返折面之端面間具有垂直(直交）關係形狀，所以入射於 主表面之光的入射角相同，且入射於端面之光的入射角亦 相同，便可使光線具備上述一定關係（光射入主表面之入 射角爲θί，而光射入端面之入射角爲90° -0i)進行傳播。 故，雖然在射入玻璃基板後，僅需將射入最初接觸主表面 的入射角0i、端面入射角90° -0i，設定成大於臨界角 0 c狀態，便可形成將光封閉的條件，但在一般形狀（譬 如主表面與端面間未具垂直關係）下，可能將稍微複雜一 點。原因係相對引進雷射光波長λ的玻璃基板折射率爲 nt，而與玻璃基板相接觸的外側介質(空氣）之折射率ni爲 1，而射入於玻璃基板主表面與端面的角度爲Θ ik(k係表 將雷射光引進玻璃基板內後’再射入主表面與端面的位 29 本紙張尺度.適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -*

3548PIF.DOC/002 A7 B7 經濟部中失摞準而賣工消费合作相印^ 五、發明説明) 置’依射入位置順序爲k=l，2,3,……）時，0ik必須全部 在以sin0 =ni/nt表示之臨界角6»以上方式引進，否則便 無法成立將光封閉之條件。由上述說明得知，主表面與端 面間具有垂直關係者，對將光封閉上較爲有利。 利用照明構件而射入透明基板(玻璃基板）1內的雷射 光’ i靑參閱第1圖所TfC ’在基板1之主表面及端面間進行 重複的全反射，而呈現幾乎封閉於基板1內的狀態。所謂 『幾乎封閉於基板1內的狀態』，係指所引進的雷射光傳 播於透明基板內，到射入引進面的斜面部爲止，即僅限於 射入主表面與端面下，在透明基板內重複持續的進行全反 射傳播。故，射入Y方向的雷射光，利用光本身遍佈在 基板1於Y方向剖面(YZ剖面)區域(待檢測區域）的全反 射而進行傳播，以施行全面性掃瞄。 如上述，引進玻璃基板內的雷射光，在玻璃基板之主 表面與端面間重複進行全反射，而形成幾乎將光封閉於玻 璃基板內的狀態，當因硏磨時的混入異物等情況而造成玻 璃基板表面產生傷痕等不良情形時，便無法滿足全反射條 件，而將由傷痕部位處產生光外洩現象。而且，玻璃紋路 等特徵，即便對穿透率相同僅折射率不同之缺點，在折射 率不同處，將偏離原本軌道(光路），無法在主表面與端面 間進行全反射，而外洩於基板1外部。該外洩光便利用檢 查構件進行檢測。 另，利用上述剖面狀的光照射，由基板1之主表面觀 察，可進行單線狀檢查。該檢查步驟係利用驅動構件4將 30 (諳先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部中央標準扃货工消费合作社印製 3 548PIF.DOC/002 ρ^η _______Β7_ 五、發明説明（漶） 桌面5朝基板1之一側邊la方向（X方向)移動，俾進行 基板1全區域的非均勻性檢查。即，在由基板其中一組全 反射面的主表面，與其中一組返折面之端面，所共同包圍 而成的基板檢查區域中，藉由光在基板內的傳播，在充滿 光的該待檢查區域中，進行其中一平面之非均勻性(缺陷） 的檢查後，將該檢查平面相對基板，朝光埋入待檢查區域 方向進行相對性的移動，而進行非均勻性的檢查方法。 利用該檢查裝置所檢查出的結果，請參閱第4、5圖 所不。第4圖係利用CCD6所檢測出玻璃基板表面傷痕的 影像。第5圖係利用CCD在傷痕寬度方向一邊所檢測出 的光資訊，透過A/D轉換器(類比數位轉換器），採用電腦 進行影像處理之結果者。此時所採用的CCD，係爲搭載 電子冷卻功能之內建式（無機械快門）CCD，像素1300 X 1030，檢測區域8.71 X 6.90mm、CCD飽和量20,000電子。 檢查條件係將CCD曝光時間設定在200msec。 第5圖中之X軸爲顯示傷痕寬度方向的座標軸，Y 軸爲檢測光的強度。X軸座標單位爲像素。因檢查裝置採 用X 50(50倍)的對物透鏡，與Χ0·45(0.45倍)的顯像透鏡， 所以一像素即相當於6·7[/ζ m]/(5〇x〇.45)，即約0.3 // m(6.7 # m係代表一個CCD像素的大小）。再者，將光強度分解 爲 12bit(4096:l)時，一刻度便是（20000/4095)·Υ(Υ:刻度） 電子。由第5圖中得知，由傷痕洩漏的光強度，bit値在 (20000/4095)χ4095=20000電子、及超越CCD容許値結果 顯示，傷痕以外區域的光強度將爲『〇』。藉此，利用檢查 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (詩先W讀背面之注意事領再填寫本頁) '裝.

'IT «· 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（1) 構件所檢出的像素，在黑暗背景中，存在傷痕等非均勻部 分將呈現線狀、點狀等光亮處，便可由所獲得影像中淸楚 的判斷傷痕等非均勻部分。若考慮在玻璃基板內利用全反 射的傳播，基板內光在均勻部分除極少部分被吸收外，幾 乎傳播期間光完全未變弱，而持續在玻璃基板中傳播。爲 此所照射的光幾乎全部向非均勻部分集中，而出現非常明 確的對比，使非均勻部分明顯的突顯出，故可高感度的檢 測極爲微小的傷痕等。 第6圖係採用光學顯微鏡(反射、明視場)觀察具如第 4圖所示傷痕時的影像。第7圖係針對該影像進行如第5 圖相同的影像處理。由第6、7圖中得知，傷痕信號被週 遭背景信號所淹沒，可見利用此種方法並無法檢測出傷 痕。利用原子間力顯微鏡(AFM)觀察第4、6圖所示傷痕， 可確認爲寬度〇_13#m、深度0.0013//m之傷痕。 在上述實施態樣中，當欲確認相對透明基板1的雷射 光入射角0 i時，例如，如第2圖所示般，若將基板表面 楔子狀光學元件8透過修整油等措施的話，便可求取由光 學元件8所射出光的折射率r、或由光學元件8頂角等所 射入的入射角0 i。配合將檢查光引進基板內的入射窗， 採用如光學元件8的話’便可由基板斜面部(c面)以外部 分將光引進。 其次，配合更明確的比較習知通常照明中，利用光學 顯微鏡檢查非均勻性時’以及本發明所提供檢查方法中， 檢查非均勻性時的差異性’在第8圖中，顯示觀察任意傷 (讀先閔讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標率局員工消费合作杜印製 --------,——^---ΓI-r ——Qf---：————^---β---Γ — 一：I-r! 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（y ) 痕時，相對於如同上述影像處理的正規化曝光時間與信號 雜訊比的關係。此處，所謂。『正規化曝光時間』係定義 爲（CCD曝光時間)/(背景信號達到(20000χ4095)χ100電子 時的CCD最大曝光時間）。所謂『信號雜訊比』係設定爲 10 · l〇g1Q(S/N)。由第8圖中得知，在習知通常照明的檢 查方法中，即使將正規化曝光時間加長，最高亦僅爲3dB 而已，反之，本發明所提供的檢查方法中，信號雜訊比則 超過30dB。本發明所提供的檢查方法，雖然信號雜訊比 最大保留於36dB下，但因爲係利用CCD照相機的飽和 量限制，所以實際上可獲得超過36dB之非常高的S/N比。 (另，在通常照明中，信號雜訊形成負値的原因，可能是 傷痕的信號隱藏於雜訊中所致）。故，本發明所提供的檢 查方法，遠超過一般所謂可施行影像處理程度之4.8dB(背 景信號爲雜訊的3倍以上），針對透光性物質之非均勻性 的有無、種類、大小，可進行正確的判斷。 上述實施態樣中，雖然入射角0 i設定爲44.1。，但 可利用下列所示模擬，輕易選擇可進行更多次重複全反射 的最佳入射角。以下便針對光傳播於透明基板內的型態， 利用模擬說明。 首先，請參閱第9圖所示，係當光沿透明基板1之一 側邊(y軸方向）傳播時的計算結果。在該模擬中，透明基 板1的尺寸’係如同上述實施態樣的光罩用玻璃基板，爲 152.4xl52_4x6‘35mm，C面的寬度爲0_4mm。透明基板1 的折射率爲石英玻璃折射率1.47,透明基板1周圍的折 33 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21.0X297公釐） (諳先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)

--------.I---r--r--(ί;裝---/---.-IIT ♦ 經濟部中央標4,--^負工消贽合作社印製 3 548PIF.DOC/002 經濟部中央標準局Λ工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（y) 射率爲空氣折射率1·〇〇。射入於透明基板1之斜面C面(相 對主表面與τ面形成45°角度)的光線方向向量(單位向 量），爲（0.0000000、0.6864532、-0.7271740)。模擬結果， 請參閱第10圖所示。 在第10圖中，所謂入射角係指光線射入基板1內之 後，對最初接觸表面（主表面）的入射角。入射角係以角度 刻度0.05進行變化。射出時的Ζ座標，係當光線由透明 基板.1射出時，將基板1下面作爲Ζ=0時的ζ座標。 第11圖所示係在第10圖中各入射角之表面反射次數 圖。由第11圖中得知，配合透明基板形狀，最好選擇表 面反射次數較多的入射角度，或者亦可變動引進光的入射 角度。 第12圖所示係入射角43.35°之基板內光傳播態樣。 第12 (1)、（2)、（3)圖所示分別指表面反射次數爲5〇次、 250次、661次（射出時）的狀態。該模擬爲配合計算簡單 化，僅設定在單一平面(yz平面)剖面內區域傳播’請參閱 第12圖所示，光線重複全反射，並以埋入區域內方式進 行傳播。如此類模擬般’當光以平行透明基板其中一側邊 (y方向）引進時，爲使照明光可普照透明基板全區域，而 採用如鏡等，並使光沿另一邊(X方向）進行掃瞄’或將在 X方向擴大呈細縫狀的光，引進C面者亦可。 其次，第13、14、15圖所示係第9圖模擬中’變化 C面寬度、玻璃基板折射率(對應雷射光波長）時的模擬結 果。在該模擬中，除將玻璃基板折射率設定爲^46(相當 34 (#先間讀背面之注意事碩再镇寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（〇灿）八4規格（210父297公釐） 354BP1F.DOC/002 經濟部中央標準局Λ工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（p) 雷射光波長543nm)，以及將C面寬度設定爲〇.2lnm(第13 圖）、0.4mm(第14圖）、0.8mm(第15圖）之外，其餘均如 同第9圖之模擬條件進行。 由第13〜15圖中得知’隨C面寬度的增加，表面反 射次數將減少。原因乃是由C面所引進的雷射光，在傳 播於透明基板內，並再度射入於C面時，射入c面的光， 因爲係以小於臨界角0的角度射入，導致無全反射並外 洩，所以隨c面寬度的增加，傳播於透明基板內的光射 入C面的機率亦將增加。故，爲使透明基板中表面反射 次數增多的話’最好使c面寬度變小。此次所採用光罩 用玻璃基板（152.4xl52.4x6.35mm)情況下，因爲表面反射 次數若在300次左右的話，便可使透明基板內充滿光線， 所以C面寬度最好設定在0.4mm以下。 比較C面寬度同時爲0.4mm的第11圖及第14圖。 隨透明基板折射率(或雷射光波長（因爲透明基板的折射率 係依照雷射光波而定))的變化，滿足全反射條件的臨界角 亦將產生變化，而可藉此調整表面反射次數。滿足全反射 條件的臨界角，係當透明基板折射率、與透明基板外界介 質（如空氣）折射率間的差距越大的話，臨界角自由度將增 加，所以，表面反射次數亦將增加。但實際上，透明基板 材質，因爲受使用用途而有所限制，通常可隨適當選擇的 雷射光波長，調整表面反射次數。但，雷射光波長，最好 選擇透明基板吸收較小的波長，且，因影響非均勻性解析 度的關係，所以必須考慮下列因素選擇適當的雷射光波 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 、-° β,-- (讀先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)

3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（”） 長。 第16圖所示係非利用如上述模擬中所採用的平行單 邊的光線，而採將一般方向的光線引進透明基板內的光線 軌跡。該模擬中，除將表示接觸透明基板1之C面的光 線方向的向量設定爲（0.6924、0.3823、-0.6117)之外，其 餘均採如同上述(第9圖)條件。如同圖中所示，所引進的 光線，在透明基板1內重複全反射，而實質上的將光封閉 於基板內，並傳播於基板全區域。因此，即使完全不進行 照明光的掃瞄，以可對檢查區域的透明基板全範圍進行快 速的一次整體性檢查。 若考慮檢查方法的簡單化，以使引進的光覆蓋透光性 物質內的全區域方式，設定入射光的3次元方向向量 (x,y,z),並利用由基板上之一點將光引進，而如上述實施 態樣般，決定透光性物質的一表面，並設定可滿足在該表 面內進行全反射條件的入射角度，而將光引進後，再配合 透光性物質的形狀，移動光的入射位置方式，可簡化檢查 方法。尤其透光性物質具備互相對向之表面的基板者爲更 佳。 上述實施態樣中，雖然係舉由透明基板1之邊la引 進雷射光的例子，但本發明並不僅限於此，若由邊lb方 向引進光，同時由邊la與邊lb等二方向引進光，並進行 檢查的話，因爲對具方向性缺陷的檢查等頗爲有效，可進 行更高精度的檢查，故較爲偏好。 如前述，本發明針對玻璃傷痕等特徵，雖因利用特定 36 本紙張尺.度適州中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (讀先閩讀背面之注意寧項再填寫本頁) 〕裝·

、1T 經濟部中夾樣年而只工消费合作社印製 3548PIF.DOC/002 A7 B7 經濟部中央標率扃只工消費合作社印裝 五、發明説明（ Ψ) 照射方向發光而可檢查出，但因依照射方向無發光卻無法 檢查等對光具方向性缺陷的檢查上，極具效果。原因乃重 複幾何光學全反射，因爲光幾乎封閉於由透明性物質所开多 成的待檢查物內部，由幾何光學觀點觀之，所照射的光僅 在待檢查物之非均勻部分偏離原本軌道，而外洩於待檢查 物外部，此時即便唯一非均勻部份屬對光具方向性缺陷， 但在重複全反射過程中，該非均勻部分可接受到來自各方 向的照明所致。相對於此習知方法中，爲提昇對比而聚光， 再由單一方向進行光的照射，所以即使如較大尺寸缺陷， 亦因屬具方向性缺陷，所以幾乎無法檢查出。 再者，針對玻璃紋路等特徵的檢查，即相關穿透率相 同而僅折射率不同之缺陷的檢查，在折射率不同處，將偏 離原本軌道，而外洩於待檢查物外部，故可進行檢測。但， 對利用聚集光的反射輸出、穿透輸出等光量檢測之習知方 法，原理上係不可能檢測出的。 利用上述實施態樣的檢查方法，可迅速、適當的排除 具缺陷的玻璃基板，大幅提昇玻璃基板生產率。而表面具 傷痕等缺陷的玻璃基板，可利用再度進行精密的鏡面硏 磨、洗淨處理，而製成符合規格的光罩用玻璃基板。 上述檢查方法中，雖然係在光罩用透明基板之玻璃基 板製造步驟後的檢查步驟中使用，但隨對玻璃基板加工精 度的不同，便有大小（如長度等）不一（通常光罩用透明基 板的誤差係長度：±0_4mm、厚度：±0.1mm左右）。因此， 若欲在逐一掌握具備各種大小不一的玻璃基板，並求取各 37 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (諳先聞讀背面之注意事碩再填寫本頁)

,ST 3 548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明 玻璃基板的最佳全反射條件後’再進行檢查的話，將浪費 頗多時間，毫無實傺性可言。原因乃若正確測量玻璃基板 尺寸，並在掌握更多全反射的入射條件後再行射入雷射光 的檢查方法時，在進行檢查前所耗時間爲{(測量玻璃基板 尺寸時間）}-(模擬時間）}χ(檢查片數），頗浪費時間。 此情況下，引進玻璃基板內的雷射光，將在主表面(表 面、裡面）及端面（除C面以外)進行全反射，利用至少一 組端面間，於光反射範圍內變動入射角度而入射的話，即 使玻璃基板大小不一，亦可高感度、快速度檢查出玻璃基 板之光學非均勻性，屬於實用性極高的非均勻檢查方法及 裝置。 即，當透光性物質內的光路屬於光學均勻的情況時， 藉由在透光性物質表面可引發全反射範圍內變化入射角 度，並將光引進透光性物質內方式，即便對尺寸大小不一 等各透光性物質的最佳化全反射條件多少有些不同，因爲 並非由單一方向引進入射光，而是將引進入射角度不同的 光，並進行全反射且在各路徑上進行傳播，所以光將不會 外漏而遍佈透光性物質的各角落。 針對變動對基板的入射角度構件，如第1圖所示角度 調整構件，可裝設將鏡連接於電腦並進行自動控制角度的 機械，或裝設調整雷射本身或固定基板夾具等的角度調整 構件’此外亦可利用所謂音響光學偏光器之超音波光束的 音響光學效果，而變動入射角度者亦可。相對基板的入射 角度’當使用由上述石英玻璃所形成的光罩用玻璃基板 (讀先閩讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 .—dl· 經濟部中央標隼局！3C_T.,消費合作杜印製 38 經濟部中央標率扃货工消费合作社印製 3548PIF.DOC/OO2 ^ B7 II I 1 — " 1 " —' - '··*-——' ____— 五、發明説明（外） (152_4xl52.4x6.35mm)時，可將雷射光的入射角度Θ i，在 45.0°〜44.0°範圍內，進行連續性的變化。 上述引進透光性物質的雷射光，係依據透光性物質資 訊而實施，特別係在實施複數(片)透光性物質的檢查時， 更可實施具效率性的檢查。 此處所謂透光性物質的資訊，係指如透光性物質與照 明構件之相對位置關係、或透光性物質表面狀態（鏡面是. 否修整）等。透光性物質與照明構件之相對位置關係的資 訊，乃在將照明構件的光適當的引進透光性物質預定位置 時所必須的資訊。而所謂透光性物質表面狀態資訊，因爲 若表面未呈鏡面狀態時，透光性物質的非均勻性將很難檢 查出，所以利用於預先將該等基板排除（必要時可重返之 前的步驟（如硏磨等）)上。 設置檢測透光性物質與照明構件間相對位置關係的位 置檢測構件，並利用設置將由該位置檢測構件所獲得的資 訊傳達於該照明構件的傳達構件，便可進行複數（片）的檢 查。所謂位置檢測構件係指利用雷射光的距離測定器（雷 射掃瞄測量系統、雷射干擾測量儀等）。傳達構件係指讀 取該位置檢測構件的數據。並回饋於照明構件、角度調整 構件、移動引進光入射位置之移動構件等的電腦。觀察透 光性物質的表面狀態，最好利用TV照相機、CCD攝影元 件影像感測器等裝置，進行尙未施行鏡面修整之待檢查物 排除。 再者，上述實施態樣中，最好設置可依據檢測該檢測 39 本紙張尺度適元中國國家¥準（€奶）八4规格（210\297公釐) " (諳先閩讀背面之.注意事項再填寫本頁} :裝· 訂 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（”） -構件之光的資訊，具備判斷透光性物質非均勻性之有無、 種類、大小等功能的判斷構件。 預先針對透光性物質中，是否存在非均勻、種類（表 面傷痕或龜裂、內部紋路或異物等）、或大小(面積、長度、 寬度、深度、區域等），將由表面外洩光的資訊(外洩光之 光量、亮度、強度分布、深入表面的深度等）關係(資訊）， 記億於電腦中，利用檢查並比對所檢測出光的資訊與所記 憶的資訊，而可判斷透光性物質非均勻性的有無、種類、 大小等，並即時抽取出所期望的透光性物質。藉此可預先 將含有對形成圖案或對待轉印物曝光具影響的非均勻性基 底，於檢查後，再進入下一步驟前予以排除，再度重返硏 磨步驟，而可大幅提昇生產性。 經濟部中央樣準扃货工消費合作社印繁 I - 1^1 - j ^^1 a^i— n * ,-委 (讀先聞讀背面之注意事項真填寫本貰) 二rr 針對具體的判斷方法，利用第1圖之檢查裝置予以詳 細說明。由基板1所外洩的光，利用透鏡系統7而顯像於 CCD照相機的CCD6面上。如上述，將線狀的雷射照射 區域掃瞄基板1主表面的整面，此時使CCD照相機的快 門呈開放狀態，並記憶基板1主表面全面的影像數據。CCD 照相機所存取的影像數據，利用A/D轉換器11轉換成數 位信號，並輸入於影像處理裝置丨2中’且儲存於記憶元 件中，在判斷元件中進行影像解析。判斷元件係比對經上 述檢查所檢測出的光影像數據，與預先輸入記憶元件的影 像資訊基礎數據，而進行判斷透明基板1之非均勻性的有 無、種類、大小等。桌面5等的移動量(基板1照射位置 資訊），係由雷射干擾器(未圖示)等輸入影像處理裝置12 40 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（21〇X297公釐） 3 548PIF.DOC/002 A7 B7 經淌部中央標準扃與工消費合作社印繁 五、發明説明（你） 中，並由CCD照相機影像數據與基板1位置數據’求取 基板1上，在何種位置(x,y)處具有哪一種、大小之非均 勻部分。 基板1的照射區域具有非均勻部分時，在非均勻部分 (及其周邊)將可發現點狀等量點，若將其利用光學顯微鏡 放大的話，便可觀察到如第Π圖所示影像。（第17圖之 影像係與實際觀測到影像呈明暗顛倒的影像）。請參閱第 17(a)圖所示，線狀影像41係表基板1表面傷痕處，其代 表性的大小爲長度30# m、寬度0.2/z m、深度0·002μ m 左右。（此微細傷痕的大小，係利用原子間力顯微鏡觀察 到的）。請參閱第17(b)圖所示，多數聚集的影像42係表 基板1內部紋路或氣體等異物，其代表性的大小爲直徑 1mm左右。因爲此類影像圖案及大小係隨存在基板1之 非均勻性而有所不同，故可判斷非均勻性的種類。紋路等 影像42，與傷痕影像41相比較之下，因爲可觀察到模糊 光亮，所以可由影像亮度、強度分布進行判斷。 非均勻部分的大小係利用所檢測出光的光量等進行判 斷。再者，所存在的非均勻部分，到底是存在於基板1表 面處(傷痕、龜裂等）、或基板1內部(紋路、異物等），可 利用光學顯微鏡使基板1的亮點部分合致於焦距，而由所 合致焦距的深度進行判斷。非均勻性檢查，因爲係期望進 行高速處理，所以最好首先檢查基板1表面上是否存在亮 點狀外洩光，其次，再僅對外洩光所檢測的基板1，更進 一步將亮點狀處利用光學顯微鏡予以擴大等而進行檢查。 41 (讀先閩讀背面之注意事項再填寫本頁) :裝-

、1T 10. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2丨0><297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（β) ---.1_：——¢1- (讀先閱韻背面之註意事喟再填寫本頁) 在判斷非均勻性時，最好由不同的入射位置及方向（Z1 方向），將光引進基板1中，因爲即使具方向性的非均勻 性(缺陷），亦可獲得正確的外洩光資訊’所以可正確的/判 斷非均勻性的有無、種類、大小。光引進的方式’可如第 18圖所示，同時在透明基板1之一邊la方向（X方向）上 引進雷射光L1，及在透明基板1之一邊lb方向（Y方向） 上引進雷射光L2，亦可對基板1分別將不同方向的雷射 光，個別由各自分開方向（X、Y方向等）引進而進行檢查 者亦可。 訂 請參閱第19圖所示，採用雷射器13、鏡14、15，由 透明基板1角落處引進雷射光L，而檢查非均勻性時，可 如同上述，可藉由顯像光學系統16、CCD照相機17、影 像處理裝置18，進行非均勻性的種類、大小判斷。 上述實施態樣中，將雷射光引進透明基板，係由C ' 面的斜面部進行，亦可由斜面部以外的地方引進。此情況 經濟部中喪標準而只工消费合作社印製 下’配合引進雷射光的入射窗，可採用由與透明基板折射 率約略相同材質所形成的光學元件，利用黏著劑等予以裝 設。但爲求檢查方法的簡化、透明基板內有更多的重複全 反射、而可全區域的進行非均勻性檢查，最好由C面的 斜面部引進雷射光。在裝設有具備引進雷射光之入射窗的 光學元件情況下’在光學元件處因爲在透明基板內傳播的 光，並未能滿足全反射條件，所以將產生光外洩現象。斜 面部最好採用經鏡面修整者。斜面部寬度越小越好，最好 在0.4mm以下，更以〇.2mm以下者爲佳。但是若過度小(小 42 3 548PIF.DOC/002 A7 B7 經濟部中央標準而货工消贽合作社卬製 五、發明説明（抑） 於0.1mm)的話，在鏡面硏磨時將產生缺陷，故不爲所好。 其次，針對採用本發明檢查方法及檢查裝置，進行各 種用途之透明基板的篩選方法，參考圖式進行詳細說明。 第21圖係篩選透明基板的檢查步驟之流程圖。 針對採用第1圖所示檢查裝置所實施的具體篩選方 法，配合第21圖的檢查步驟流程圖，予以詳細說明。 檢査區域之選定、調整 檢查對象的透明基板1，係準備由二主表面、端面、 鏡面硏磨成152.4X 152.4X 6.35mm的斜面部、C面寬度 0.4mm的石英玻璃所形成的光罩用玻璃基板(玻璃基底）。 將該玻璃基板利用運送構件(未圖示)進行運送，直到 . 押接於固定在檢查裝置之基準位置上的高台導桿(未圖示) 上，俾實施玻璃基板的定位（步驟1)。此時決定玻璃基板 內的原點及座標軸。 其次，依據之前所決定的座標決定檢查區域。因爲該 檢查區域未必與CCD測量視界相吻合，在尙未吻合情況 時可對應CCD視界將測量區域分割成(Al、A2、A3、B1、 B2、B3、…)(請參閱第22圖所示)(步驟2) 〇此時所分割 的預定區域Al、A2、A3、Bl、B2、B3、…，將與CCD 的測量視界相吻合。測量時所使用的CCD係採用搭配電 子冷卻功能的內建式（無機械快門）CCD，像點數1300X 1035、檢查區域8.7lX6_90mm，測量視界係以測量倍率0.7 倍進行測量。 其次，調整雷射光入射位置及入射角度，俾使雷射光 43 本紙張尺度適州中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (諳先閩讀背面之注意事項再填寫本頁) ¥ 訂 ΦΙ. 3548PIF.DOC/002 A7 B7 經濟部中央樣"-^β工消費合作社印製 五、發明説明（w) 可傳播於檢查區域內（步驟3)。雷射光的入射位置及入射 角度，係藉由檢測透明基板與雷射光相對位置關係的位置 檢測構件（未圖示），而所獲得的玻璃基板資訊，正確的將 雷射光引進玻璃基板，並調整鏡、桌面方式而引進雷射光。 入射角度在玻璃基板折射率1.46下，因爲臨界角(9 c約 43.2° ，所以入射角θί便設定爲45.0° 。 其次，當將雷射光引進玻璃基板內時，在複全反射並 傳播的範圍內，變動雷射光的入射角（步驟4)。此乃配合 在檢查複數片玻璃基板過程中，即使因各個玻璃基板加工 精度的不同，而多少產生些許尺寸不一時，可藉由變化光 的入射角度，使傳播於玻璃基板內的光線軌跡稍略產生偏 離，而吸收玻璃基板加工精度部一情形，俾進行玻璃基板 之非均勻性檢查，此外，亦是配合下一步驟的CCD影像 合致所爲者。變動入射角的構件，可採用電腦控制鏡的角 度，而自動調整角的構件，或者利用所謂音響光學偏光器 之超音波光束的音響光學效果而變更入射角度。入射角的 變動係將入射角在滿足全反射條件的入射角在45.0° 〜44.0°範圍內進行連續變動。 爲可正確的判斷透明基板的外洩光，即正確的判斷非 均勻性，可施行CCD影像對焦(步驟5)。對焦係將玻璃基 板、雷射器、鏡等，同時朝X軸方向（透鏡與CCD方向) 移動。此外，亦可將玻璃基板、鏡、雷射器予以固定，而 將透鏡、CCD同時朝z軸方向移動。 檢杳區域內之非均勻性檢杳 44 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 、\一一口 (讀先閩讀背面之注意事碩再填寫本頁)

3 548PIF.DOC/002 經濟部中央播準局只工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明説明（叫 如第22圖所示部分擴大圖，由引進面的斜面部引進 雷射光L，使雷射光L通過已分割之一測量區域A1的座 標(A1X1、A1Y1) ’並朝平行y軸方向傳播，在玻璃基板 內進行重複全反射並傳播的範圍內（45.0。〜44.0。），變化 入射角度，而施行非均勻性的檢查。同樣的使掃瞄雷射光 L在X軸方向進行移動，並施行非均勻性檢查直到通過測 量區域A1端部座標(A1XX、A1Y1)爲止，再結束測量區 域A1的非均勻性檢查(步驟6)。由開始進行測量區域A1 的非均勻性檢查到結束爲止，均施行CCD的曝光。測量 區域A1的非均勻性檢查，亦可採通過（A1X1、A1Y1)並 朝平行X軸方向傳播雷射光方式引進雷射光，並沿y軸方 向移動雷射光。射入組合該等二方向直交的雷射光者亦 可。針對此類玻璃基板，由主表面觀看類似引進複數不同 方向的光，由複數方向將光照射於玻璃基板內，而即使具 方向性的非均勻性(缺陷），亦可確實的檢測出。 影像慮理 在步驟6中，將由利用CCD所檢測玻璃基板外洩光 的資訊(類比信號），利用A/D轉換器轉換成數位式信號， 俾可利用電腦等資訊儲存構件進行影像處理。轉換成數位 信號的光資訊，利用電腦等資訊儲存構件予以儲存’並如 第28圖所示般，將光強度分解成12bit(4096:l)，而施行 影像處理（步驟7)。在第23圖中，Y軸係表光強度’ 1刻 度係表(20000/4095) Y(Y:刻度)電子。 非均勻性容許判斷 45 、νβ -- (諳先閩讀背面之注意事碩再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 A7 經濟部中央樣率局货工消費合作社印掣 B7 五、發明説明（θ) 將步驟7的影像處理結果，存在玻璃基板的非均句性 判斷爲基板表面傷痕，與預先設定的容許設計値 (20000/4095)χ200 電子相比對（背景在（20000/4095) χΙΟΟ 電子時），因爲超過容許設計値，所以判斷該玻璃基板爲 不良品（步驟8)。 在此實施態樣下，因爲在檢查區域A1發現超越基板 表面容許範圍的傷痕，所以便不再進行下一個檢查區域A2 的非均勻性檢查，直接將該基板移至再硏磨、洗淨步驟。 當在檢查區域A1未發現非均勻性時，重複進行先前所分 割的檢查區域A2、A3、Bl、B2、...，及步驟6〜步驟8(依 情況不同，可能爲步驟2〜步驟8)。當全部檢查區域均在 非均勻性容許設計値以下時，便可篩選爲良好的光罩用玻 璃基板。 利用上述實施態樣的選擇方法，可迅速且適當的排除 具缺陷的玻璃基板，大幅提昇玻璃基板的生產性。利用對 具缺陷的玻璃基板再度進行精密的鏡面硏磨、洗淨處理， 便可形成符合規格的光罩用基板。 弟24圖所不係本發明之透明基板筛選方法，應用到 磁碟用玻璃基板的第二實施態樣。與上述光罩用玻璃基板 之第一實施態樣互相重複的步驟，在此不予以贅述。 檢查對象之透明基板1，係準備由二主表面(H)、內 緣面(T1面)及外緣面(T2面）、經鏡面硏磨成直徑95mm(3.5 英吋）φ、厚度O.Smm的斜面（C面）、中心圓孔（直徑20mm P )之石英玻璃所形成的圓盤狀磁碟用玻璃基板（玻璃基 46 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I^---r--r--C 裝-- (讀先閩讀背面之注意事碩再填寫本頁) •I---^—11—--.---Φ---Ί —— 3548PIF.DOC/002 經濟部中夾播率t只工消費合作社印製 A7. B7 五、發明説明（外） 底）。 檢査區域係如第24圖所示般，在透明基板主表面上 的其中一區域，由內向外分割成Al、A2、A3、…的測量 區域，並對分別對各分割的測量區域進行非均勻性檢查。 非均勻性檢查係由圓盤狀玻璃基板1的外緣，朝圓盤 中心（〇)方向引進雷射光’而將光封閉於包含外緣與內緣 之半徑方向（r方向）的平面內（類似在透明基板二主表面處 進行重複全反射般，在內緣與外緣間進行反覆），利用旋 轉圓盤的驅動裝置(未圖示)旋轉圓盤，同時將雷射光L朝 圓盤的圓周方向方向）進行移動。請參閱第25圖所示， 予以更具體說明。利用雷射器25、鏡26、27將雷射光L 引進屬引進面的斜面(C面），使雷射光L通過分割區域A1 上座標(Alrl、Al 0 1) ’且順沿平行r方向傳播，並在圓 盤狀玻璃基板1內重複全反射傳播的範圍內（45.0°〜44.0 ° )，變化入射角，而進行非均勻性檢查。旋轉圓盤狀玻 璃基板1，將相同的雷射光L朝0方向移動，在對通過測 量區域A1之(Alrl、A10X)區域的非均勻性檢查終止之 際，結束測量區域A1的非均勻性檢查。在非均勻性檢查 中，亦可使所引進的雷射光由圓盤內緣射入，亦可由內緣 及外緣二者同時射入。 如同上述第一實施態樣，施行影像處理、非均勻性的 容許判斷。結果顯示，因在檢查區域A1未發現超過容許 範圍的缺陷，所以將檢查區域逐一改變成檢查區域A2、 A3、Bl、B2、…而進行檢查。在針對圓盤狀基板全區域 47 -s (諳先閾讀背面之注意事碩再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 3548PIF.DOC/002 經濟部中央標率扃只工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（f?) 進行非均勻檢查時，並未發現任何超越容許範圍的缺陷， 所以可判斷爲良品。 如同上述第一實施態樣，當在任何檢查區域發現超越 容許範圍的缺陷時，便判斷爲不良品，不再進行下一檢查 區域的非均勻性檢查，而將基板移往再硏磨、洗淨步驟。 在上述檢查方法及篩選方法中，降低透光性物質之非 均勻性(缺陷）所外洩光對比的不需要光，係指如引起透光 性物質材料固有微視密度變化之散射的中繼散射光。爲減 少此類不需要光，可將波長不同之至少二種光引進透光性 物質內，或利用引進特定偏光外漏的光，俾提昇非均勻性 檢測光的對比，而可進行更高感度、高精度的檢測。在如 前者引進至少二種波長相異之光時，因爲中繼散射光形成 混合不同波長光的色光，所以可藉由在透光性物質與檢查 構件間，吸收混合光的波長區域、或裝設反射的（顏色）過 濾器，將其去除。載者，如後者，引進特定偏光外漏光時， 隨中繼散射光而形成具特定偏光特性及偏光狀態的光，利 用隨非均勻性而與外漏光之偏光特性間的差異，在透光性 物質與檢查構件間，藉由設置偏光過濾器、偏光板、偏光 稜鏡等偏光元件，而可有效的去除中繼散射光。 所謂降低由透光性物質非均勻性(缺陷)外漏光之對比 的不需要光，例如引進透光性物質無間斷之光，在透光性 物質表面反射，射入檢測非均勻性檢測光的檢測系統之迷 光。爲減少該迷光，可相對射入雷射光之透光性物質的引 進面大小，將引進光利用透鏡等光學系統予以聚光而縮 48 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） U3- 、va (諳先閩讀背面之注意事項再填寫本頁)

3548PIF.DOC/002 經濟部中央標率趵只工消費合作社印裝 Α7 Β7 五、發明説明（吵） 小，同時將引進面設成凹截面狀，俾使經由聚光之雷射光 在由引進面入射後，在透光性物質內約略形成平行光狀 態，藉此可降低迷光，增加非均勻性檢測光的對比，實行 高感度、高精度的檢測。 降低由透光性物質之非均勻性(缺陷）所外漏光之對比 的其他原因，請參閱第26圖所示（圖（1)係立體示意圖， 圖（2)係側剖視圖），該遮光性物質係爲具主表面、端面、 斜面之矩形狀平板，在利用引進面（斜面（C面）)引進雷射 光L而進行非均勻性檢查時，光可能由引進面以外之斜 面外漏而形成迷光。此情況下，利用在相對光前進方向對 側之引進光斜面外的斜面間，連接沿斜面之面的方向排列 複數光過濾器的導光體50，將由斜面所外漏的光再度引 進透光性物質內，以降低迷光，因爲所引進的雷射光可更 具有效的集中於非均勻部分，所以可增加對比，進行高感 度、高速度的檢測。 在上述檢測方法中所說明實施態樣及篩選方法中的第 一、第二實施態樣，具備經鏡面修整表面的透光性物質’ 可如玻璃製透明基板，當然並不僅限於玻璃，亦可如烯丙 基樹脂等光學塑膠、水晶等光學結晶等等，僅要可使檢測 光穿過的材質均可使用。 在上述檢測方法中所說明實施態樣及篩選方法中的第 一、第二實施態樣，透明基板整面可爲具經鏡面修整表面 者，當然並不僅限於此，亦可爲有部分表面或全部表面均 未施行鏡面修整者。例如在光罩用玻璃基板之玻璃基底 49 (讀先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁)

^紙張尺ϋ]中國國家標準（〇阳）八4規格（210父297公釐） A7 3548PIF.DOC/002 B7 五、發明説明（巧） 時，除主表面以外未形成圖案之端面屬未施行鏡面硏磨之 狀況，或者如磁碟用玻璃基板時，在未具磁性層等膜之主 表面的內緣或外緣屬未施行鏡面硏磨者。此情況下，可利 用在未施行鏡面硏磨的表面上塗抹修整油等液體，因爲可 使該部分的表面形成似經鏡面修整的表面（液體自由表 面、虛擬鏡面），所以可利用本發明所提供的檢查方法、 檢查裝置進行非均勻部分的檢查。尤其是在尙未施行鏡面 硏磨的情況下，僅欲檢查存在透光性物質內部的非均勻部 分(如紋路、氣泡、異物等)時’特別有用。 再者，爲形成虛擬鏡面而所塗抹的液體，可採用光學 元件用修整油、密封劑、或玻璃刮傷掩飾劑等。，塗抹於透 光性物質表面的液體，可爲在塗抹後仍呈液體狀態者，亦 可固化成凝膠狀或硬薄膜皮狀等。液體塗抹方法，可如噴 塗、旋塗等，僅要可在透光性物質表面形成平滑塗佈的話， 可採用任何方法。此情況下，可配合所採用的液體或塗佈 面等而適當選擇。 若該透光性物質與該液體折射率略相同時；經塗佈形 成鏡面狀態的液體表面，將形成光學上實質的透光性物質 表面，俾確實將引進透光性物質內的光予以全反射，並重 返內部。具體而言，因爲透明基板最好利用石英玻璃（折 射率1.46)材質者，而較接近此折射率數値，且較易處置 的液體，可如 （商品名’折射率1_52)、 一（商品名，折射率1.49)、 — (典化甲撐，折射率1·74)、雪松油(折射率1.52)、流動烯 50 Ί紙張尺度^中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公 (錆先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) ¥ 、1Τ 經濟部中央標率趵员工消費合作社印製 3548P1F.DOC/002 Α7 Β7 經濟部中灰樣準扃只工消费合作社印製 7了發明说明（你 烴(折射率I·48)、 （商品名，折射率1·4)、 甘油(折射率I.46等）。 其中， 及 一等屬非水 溶性，可利用二甲苯等有機溶劑的添加而調整折射率及黏 度，反之，甘油及 等屬水溶性，則可藉由 水的添加而調整黏度。玻璃刮傷掩飾劑，可採用如日本特 公開6-4496號公報所在載述之聚有機矽氧烷及聚二有機 矽氧烷爲主成分的乳膠組成物。 當進行透明基板未施行鏡面修整時的檢查，可僅針對 透明基板內部的非均勻性(紋路、氣泡、異物等)進行檢查。 此情況下，當內部存在有非均勻部分時，將導致致命性的 缺陷。譬如當相移光罩用玻璃基板時，在鏡面修整前階段 的檢查上，因爲可排除不良品，所以大幅降低致造成本。 透明性物質的形狀，並不僅限於四方形(矩形）、圓形 等基板，亦可爲塊狀型、球型、圓柱型、圓筒型、多角型、 曲面型等各種型態。特別係指該透光性物質具備相對面之 基板，尤其係至少二組相對向且互相平行之平面的基板(如 四角型（矩形）、圓錐型等），因爲可輕易的將所引進的光 重複全反射，而呈封閉於基板內狀態，實際上可同時進行 透光性物質廣區域範圍的檢查，達高速檢查的要求。而所 採用的基板，可採用如電子元件用玻璃基板、資訊記錄用 玻璃基板(磁碟、光碟等)等各種基板的檢查。因爲資訊用 記錄用玻璃基板爲圓盤狀’所以實際上在進彳了檢查時’可 由經硏磨的外緣或內緣(例如斜面部分)射入雷射光。當必 (讀先聞讀背面之泣意事項再填寫本頁.) 、裝· -訂 IL®. L本紙張尺中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 3 548PIF.DOC/002 A7 B7 五、發明説明（竹） 須對基板正反二面均施行檢查時，可分別於基板上方或下 方設置檢測構件，而於一次檢查中同時對正反二面均進行 檢查。 上述實施態樣中，雷射光可採用氣體雷射(He-Ne雷 射），並不僅限於此，諸如半導體雷射等可視區域的雷射、 或對透光性物質吸收較少者均可，如紫外區域收激準分子 雷射光、紅外線區域Nd-YAG雷射光、C02雷射光等檢查 用光源。尤其是採用紫外區域雷射光(如收激準分子雷射、 或YAG雷射光之高周波等）時·，可藉此將附著在基板表面 上的異物等，利用蒸發、散氣等作用予以去除。 上述實施態樣中，變化對基板入射角度的角度調整構 件，可在雷射器與基板間裝設鏡等方法，實際上僅要可改 變雷射光對基板入射角度的話，無論採取何種型態設計均 可，亦可將角度調整構件上置在雷射器本身上，或設置在 支撐基板的夾具上。雷射光的引導，並不僅限於上述實施 態樣中的鏡，亦可採用光纖。此情況下，可將光纖射出端 部份利用引導元件延基板各邊進行移動，或對光纖射出端 部份賦予震動等方式，而改變入射角度。 綜上所述，本發明係利用物理臨界現象的全反射，將 雷射光予以封閉，所以相對透光性物質之非均勻性部份與 均勻部份的檢查光的應答亦爲臨界式，可使非均勻部份對 比非常淸晰的顯現出，不僅可高感度的檢查出極爲細微傷 痕等非均勻部份，亦可施行高精度、高速度的檢查。此外， 更可對內部傷痕或紋路等缺陷進行檢查。 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) A4規格（210X297公釐） (諳先聞讀背面之注意事項再镇寫本頁)

)裝-------丨訂—---I 經濟部中央摞準局员工消费合作社印製 A7 3 548PIF.DOC/002 B7 五、發明説明（7σ) 依據透光性物質表面漏光資訊，便可正確的判斷透光 性物質之非均勻性的有無、種類、大小等，即時篩選所需 的透光性物質，大幅提昇透光性物質的生產性。 (諳先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-口 ·1#. 你濟部中央標率扃只工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐）

Claims (1)

1. 3 5-4SPII;l ψ} 8 7 I I I

   .DO C/002 BS 71 ：>跸薦c柯範關修iE本 " 1)8 六、申請專利範圍 1.一種透光性物質的非均勻性檢查方法，係將雷射光 引進於透光性物質內’並檢查透光性物質之非均勻性的方 法，其中， 該透光性物質，係具備有至少一組將所射入透光性 、·物質內的雷射光重複全反射，’並里成祖麗.龜的全反射 面，以及於該全反射面.間..重.專难-ίΐ金.、反..射.並..在，.雷射光前 進方向的相對囱...設置.’將該雷射光念-反..射而返折回該全 反射面之至少一組的返折面； 當該透光性物質內之光路屬光畢均勻之4青況歴.，將 傳播於透光性物質內並射入於該全反射面及返折面之《雷 射光，予以全反射，且在至少一組返折面間進行往返方 式的傳播，藉由該傳播使雷射光普照由該全反射面及返 折面所形成的待檢查區域方式，射入雷射光； 俾當I亥雷射光射入該透光性物質內部並進行傳播之 光路中，存有非均勻部分J寺，將可由檢查出從該全反 射面及/或該返折面所洩漏出的光，而對透光性物質的 韭均包性進行jt查。 2_如申請專利範圍第1項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中，該雷射光係以實質上在該全反射面及該 Μ折面處’無存在雷射光外洩之幾何光學奇異點方式下 予以毒丨.進者。 · -申請專利箣圍第1項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中’祖對於所，引:進雷射光的波長；I，該透光 •4生物質的祈射率爲lit ’而接觸透光性物質之外界介質的 54 本紙張坟度適用中國0家標準（CNS)A4規格（210x297公楚) --- ---r---、---「-----壯衣-------—訂---------線 f鲭先閱讀背面之注意事項再填寫本頁c 經濟部智慧財產局員工消費.合作社印製 3 5-4SPII;l ψ} 8 7 I I I

   .DO C/002 BS 71 ：>跸薦c柯範關修iE本 " 1)8 六、申請專利範圍 1.一種透光性物質的非均勻性檢查方法，係將雷射光 引進於透光性物質內’並檢查透光性物質之非均勻性的方 法，其中， 該透光性物質，係具備有至少一組將所射入透光性 、·物質內的雷射光重複全反射，’並里成祖麗.龜的全反射 面，以及於該全反射面.間..重.專难-ίΐ金.、反..射.並..在，.雷射光前 進方向的相對囱...設置.’將該雷射光念-反..射而返折回該全 反射面之至少一組的返折面； 當該透光性物質內之光路屬光畢均勻之4青況歴.，將 傳播於透光性物質內並射入於該全反射面及返折面之《雷 射光，予以全反射，且在至少一組返折面間進行往返方 式的傳播，藉由該傳播使雷射光普照由該全反射面及返 折面所形成的待檢查區域方式，射入雷射光； 俾當I亥雷射光射入該透光性物質內部並進行傳播之 光路中，存有非均勻部分J寺，將可由檢查出從該全反 射面及/或該返折面所洩漏出的光，而對透光性物質的 韭均包性進行jt查。 2_如申請專利範圍第1項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中，該雷射光係以實質上在該全反射面及該 Μ折面處’無存在雷射光外洩之幾何光學奇異點方式下 予以毒丨.進者。 · -申請專利箣圍第1項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中’祖對於所，引:進雷射光的波長；I，該透光 •4生物質的祈射率爲lit ’而接觸透光性物質之外界介質的 54 本紙張坟度適用中國0家標準（CNS)A4規格（210x297公楚) --- ---r---、---「-----壯衣-------—訂---------線 f鲭先閱讀背面之注意事項再填寫本頁c 經濟部智慧財產局員工消費.合作社印製 3 5 4 S p I Γ I . D () c / 〇 〇 2 A8 H8 C：8 m 六、申請專利範圍 折射率爲ni ;該雷射光的引進，係當光射入該全反射面 ‘ 與返折面的角度爲Θ ik(k係指將雷射光引進透光性物質 內之後’使射入該全反射面及返折面的位置，依照射入 fii置順序，設定成k=l，2,3,·..)時，0ik在全反射面與返 折面上，超過s.in 6>..代表之塌费角0以上方式者。 4_如申請專利範圍第〖、2或3項所述透光性物質的非均 勻性檢查方法，其中.，該雷射光引進方式，係使以幾何 光學引進該透光性物質內的雷射光，至少在最初接觸的 該全反射面或該返折面上，所有的雷射光均全反射方式 者。 5_如申請專利範圍第1、2或3項所述透光性物質的非均 勻性檢查方法，係在其中一個全反射面，與至少一個該 返折面所包圍處，設置引進該雷射光的引進面。 6. 如申請專利範圍第5項所述透光性物質的非均勻性檢 查方渎，該雷射光之弓丨進，係使雷射光僅由該引進面、 及該引進面與全反射面所形成角度約略相同之面射出方 式，進行雷射光引進者。 7. 如申請專利範圍第6項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法’其中，至少該引進面係經鏡面硏磨處理者。 8_如申請專利範圍第6項所述透光性物霄的非均勻性檢 查方法，其中，該雷射光的引進方式，係針對該全反射 面大小爲L、該引進面寬度爲d、該雷射光波長爲；^時， 使該透光性物質的折射率爲nt、與透光性物質接觸的.外 界介質折射率爲ni ’該雷射光的光束徑爲φ、該雷射光 55 本紙張尺度適用中®國家標準（CNS)A1規格（21ϋ X 297公鐘） ---i------------裝·-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨訂_ _ .線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 5 4 S p I Γ I . D () c / 〇 〇 2 A8 H8 C：8 m 六、申請專利範圍 折射率爲ni ;該雷射光的引進，係當光射入該全反射面 ‘ 與返折面的角度爲Θ ik(k係指將雷射光引進透光性物質 內之後’使射入該全反射面及返折面的位置，依照射入 fii置順序，設定成k=l，2,3,·..)時，0ik在全反射面與返 折面上，超過s.in 6>..代表之塌费角0以上方式者。 4_如申請專利範圍第〖、2或3項所述透光性物質的非均 勻性檢查方法，其中.，該雷射光引進方式，係使以幾何 光學引進該透光性物質內的雷射光，至少在最初接觸的 該全反射面或該返折面上，所有的雷射光均全反射方式 者。 5_如申請專利範圍第1、2或3項所述透光性物質的非均 勻性檢查方法，係在其中一個全反射面，與至少一個該 返折面所包圍處，設置引進該雷射光的引進面。 6. 如申請專利範圍第5項所述透光性物質的非均勻性檢 查方渎，該雷射光之弓丨進，係使雷射光僅由該引進面、 及該引進面與全反射面所形成角度約略相同之面射出方 式，進行雷射光引進者。 7. 如申請專利範圍第6項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法’其中，至少該引進面係經鏡面硏磨處理者。 8_如申請專利範圍第6項所述透光性物霄的非均勻性檢 查方法，其中，該雷射光的引進方式，係針對該全反射 面大小爲L、該引進面寬度爲d、該雷射光波長爲；^時， 使該透光性物質的折射率爲nt、與透光性物質接觸的.外 界介質折射率爲ni ’該雷射光的光束徑爲φ、該雷射光 55 本紙張尺度適用中®國家標準（CNS)A1規格（21ϋ X 297公鐘） ---i------------裝·-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨訂_ _ .線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 548PI F 1 .DQC/002 A8 RS C8 D8 申請專利範圍 射入該全反射面及該返折面的角度爲Θ ik(k係指將雷射 光引進透光性物質內之後，使射入該全反射面及返折面 的位置’依照射入位置順序，設.定成k=1,2,3,…；將雷 射光引進後’最初射入全反射面及返折面的入射角度設 定爲0 1)、在該全反射面的反射次數爲m ; 而虽m爲由L、d、nt( Λ )、ni、φ、（9 1所形成的 函數時，使所有的0ik在臨界角0以_上範圍內，m爲 基準設定値以上方式決定L、d、ntU)、ni、p、或 0!中任何—項條性’昼由引進面引進雷射光考。 ,9.如申請專利範圍第7項所述透光性物質的非均句性檢 查方法，其中，該雷射光的引進方式，係針對該全反射 、面大小爲L、該引進面寬度爲d、該雷射光波長爲人時， 使該透光性物質的折射率爲nt、與透光性物質接觸的外 界介質折射率爲ni，該雷射光的光束徑爲p、該雷射光 射入該全反射面及該返折面的角度爲0 ik(k係指將雷射 淨引進透光性魏置西之後，使射入該全反射面及返折面 的.位置’依照射入位置順序，設定成k=l,2,3,…；將雷 •射光引進後’最初射入全反射面及返折面的入射角度設 _定爲<9 1)、在該全反射面的反射次數爲m ; 而當m爲由L、d、nt(久）、ni、φ、θ 1所形成的 .函數時’使所有的Θ ik在臨界角0以上範圍內，m爲 碁準.設產篮以上方式決定L、d、nt( λ )、ni、φ、或 泛1中任何一項條件，再由引雷射光者。 10.如申請專利範圍第1、2或^述透光性物質 56 I ^----*--------裝---------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制4 本紙張厂、ϋ用ΐ國國i標準規格（210x297公釐）

   3 548PI F 1 .DQC/002 A8 RS C8 D8 申請專利範圍 射入該全反射面及該返折面的角度爲Θ ik(k係指將雷射 光引進透光性物質內之後，使射入該全反射面及返折面 的位置’依照射入位置順序，設.定成k=1,2,3,…；將雷 射光引進後’最初射入全反射面及返折面的入射角度設 定爲0 1)、在該全反射面的反射次數爲m ; 而虽m爲由L、d、nt( Λ )、ni、φ、（9 1所形成的 函數時，使所有的0ik在臨界角0以_上範圍內，m爲 基準設定値以上方式決定L、d、ntU)、ni、p、或 0!中任何—項條性’昼由引進面引進雷射光考。 ,9.如申請專利範圍第7項所述透光性物質的非均句性檢 查方法，其中，該雷射光的引進方式，係針對該全反射 、面大小爲L、該引進面寬度爲d、該雷射光波長爲人時， 使該透光性物質的折射率爲nt、與透光性物質接觸的外 界介質折射率爲ni，該雷射光的光束徑爲p、該雷射光 射入該全反射面及該返折面的角度爲0 ik(k係指將雷射 淨引進透光性魏置西之後，使射入該全反射面及返折面 的.位置’依照射入位置順序，設定成k=l,2,3,…；將雷 •射光引進後’最初射入全反射面及返折面的入射角度設 _定爲<9 1)、在該全反射面的反射次數爲m ; 而當m爲由L、d、nt(久）、ni、φ、θ 1所形成的 .函數時’使所有的Θ ik在臨界角0以上範圍內，m爲 碁準.設產篮以上方式決定L、d、nt( λ )、ni、φ、或 泛1中任何一項條件，再由引雷射光者。 10.如申請專利範圍第1、2或^述透光性物質 56 I ^----*--------裝---------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制4 本紙張厂、ϋ用ΐ國國i標準規格（210x297公釐）

   8 S 8 ABC0 3^8Pir'|.D〇C/〇{p 六、申請專利範圍 的非均与性檢查方法，其中，該全反射面與該返折面係 具有相互喜交關係者。 L1.如申請專利範圍第6項所述透光性物/質的非均勻性檢 查方法，其中，該全反射面與該返折面係具有相互P交 關係者。 — 12. 如申請專利範圍第7項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中’該全反射面與該返折面係具有相互直交 關係者。 13. 如申請專利範圍第1、2或3項所述透光性物質的非 均勻性檢查方法，其中，在由該一組全反射面與一組返 ' 折面所包夾而成之透光性物質待檢查區域中，在對利用 雷射光傳播於透光性物質內部’使佈滿光線的該待檢查 區域中之一平面進行非均勻性檢查後，將該檢查平面， 相對於該透光性物質，以光埋入待檢查區域方向進行相 ^寸移動，而施行待檢查.丨區域猶_難.均与.性檢查者。 14_如申請專利範圍第6.項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中’在'由該二組全反射面與一組返折面所包 夾而成之透光並物I質-待檢查.區域中，在對利用雷射光傳 f番於透光性物質內部，使佈滿光線的該待檢查區域中之 —平面進行非趋..包..性撿查後，將該^查平面，相對於該 透光性物質._ ’,.以米埋入待檢查區域方向進行相對移動， .而施行待檢_查區域的非均鱼性檢查者。 15 ·如申請.專通範圍第7項所述透光性物質的非均勻性檢 '查方法—其—中在由該=組全反射面與一組返折面所包 57 本纸張尺度述用中國國家標準（CNS)A.l規格（210 X 297公發） --^--------------裝-------Γ 訂·-----1.---線 〈請先間讀1r面之注意事項再填寓本貝) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 8 S 8 ABC0 3^8Pir'|.D〇C/〇{p 六、申請專利範圍 的非均与性檢查方法，其中，該全反射面與該返折面係 具有相互喜交關係者。 L1.如申請專利範圍第6項所述透光性物/質的非均勻性檢 查方法，其中，該全反射面與該返折面係具有相互P交 關係者。 — 12. 如申請專利範圍第7項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中’該全反射面與該返折面係具有相互直交 關係者。 13. 如申請專利範圍第1、2或3項所述透光性物質的非 均勻性檢查方法，其中，在由該一組全反射面與一組返 ' 折面所包夾而成之透光性物質待檢查區域中，在對利用 雷射光傳播於透光性物質內部’使佈滿光線的該待檢查 區域中之一平面進行非均勻性檢查後，將該檢查平面， 相對於該透光性物質，以光埋入待檢查區域方向進行相 ^寸移動，而施行待檢查.丨區域猶_難.均与.性檢查者。 14_如申請專利範圍第6.項所述透光性物質的非均勻性檢 查方法，其中’在'由該二組全反射面與一組返折面所包 夾而成之透光並物I質-待檢查.區域中，在對利用雷射光傳 f番於透光性物質內部，使佈滿光線的該待檢查區域中之 —平面進行非趋..包..性撿查後，將該^查平面，相對於該 透光性物質._ ’,.以米埋入待檢查區域方向進行相對移動， .而施行待檢_查區域的非均鱼性檢查者。 15 ·如申請.專通範圍第7項所述透光性物質的非均勻性檢 '查方法—其—中在由該=組全反射面與一組返折面所包 57 本纸張尺度述用中國國家標準（CNS)A.l規格（210 X 297公發） --^--------------裝-------Γ 訂·-----1.---線 〈請先間讀1r面之注意事項再填寓本貝) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3548ΡΙΓ 1 DOC/002 A8 B8 C8 DS 六、申請專利範圍 夾而成之:透-光..性您質待檢查區域中，在對利用雷射光傳 播If透'光性物質內部〃使I滿光.線的J亥待檢查區域中之 一平面進行非均与性檢查後.，將該檢查平面，相對於該 透光性物質，以光埋入待檢查區域方向進行相對移動， 而施行待機查區域的非均勻性檢查者。 . 16.1.種透光性物質的非均勻性檢查方法，係將雷射光引 進於透光性物質內，.並檢查透光性物質之非均勻性的方 法，其中， 該透光性物質表面，係至少具備一組相互平行的 主表面、與該主表面直交的至少一組端面、及由該主 表面與該端面所夾成的斜面； 當該透,..¾性物質內之光-路屬光.學复之/情況時， 將傳播於透光性物質內並射人於該主表面及端面之雷 射光，予以全反射，且在至少一組端面間進行往返方 式的傳播，j藉虫該傳播使雷射光普照由該主表面、端 面、及端面與斜面所包圍勝成的待檢查區域方式，射 入雷射光； 俾當射入該透光性物質內部並傳播的雷射光之光 路中，存有非宵勻部分時f將可由檢查出從該主表面 及/或該端面所洩漏出的光，而對透光性物質均非均 勻性盤存檢查者。 17.如申請專利範圍第16項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法，其中，該雷射光係以實質上在該全反射面及 該返折面處，無存在雷射光外洩之幾何光學奇異點方式 58 本紙張义度適用中國國家標準（CIVS)A.l規格（21〇χ297公t ) • —^--------------- (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) . -線' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印M 3548ΡΙΓ 1 DOC/002 A8 B8 C8 DS 六、申請專利範圍 夾而成之:透-光..性您質待檢查區域中，在對利用雷射光傳 播If透'光性物質內部〃使I滿光.線的J亥待檢查區域中之 一平面進行非均与性檢查後.，將該檢查平面，相對於該 透光性物質，以光埋入待檢查區域方向進行相對移動， 而施行待機查區域的非均勻性檢查者。 . 16.1.種透光性物質的非均勻性檢查方法，係將雷射光引 進於透光性物質內，.並檢查透光性物質之非均勻性的方 法，其中， 該透光性物質表面，係至少具備一組相互平行的 主表面、與該主表面直交的至少一組端面、及由該主 表面與該端面所夾成的斜面； 當該透,..¾性物質內之光-路屬光.學复之/情況時， 將傳播於透光性物質內並射人於該主表面及端面之雷 射光，予以全反射，且在至少一組端面間進行往返方 式的傳播，j藉虫該傳播使雷射光普照由該主表面、端 面、及端面與斜面所包圍勝成的待檢查區域方式，射 入雷射光； 俾當射入該透光性物質內部並傳播的雷射光之光 路中，存有非宵勻部分時f將可由檢查出從該主表面 及/或該端面所洩漏出的光，而對透光性物質均非均 勻性盤存檢查者。 17.如申請專利範圍第16項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法，其中，該雷射光係以實質上在該全反射面及 該返折面處，無存在雷射光外洩之幾何光學奇異點方式 58 本紙張义度適用中國國家標準（CIVS)A.l規格（21〇χ297公t ) • —^--------------- (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) . -線' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印M 3548 ΡΙΓ- 1 .DOC/002 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A8 B8 C8 D8 t、申請專利範圍 下予以引進者。 丄8 ·如申請專利範圍第n6項两述透光性物質的非均勻性 檢查方法，其中，該雷射光引進的方式，係使所引進的 .雷.射..土應由睡斜面射出方式而引進者。 19.如_請專利範圍第μ項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法’其电，相對所引属雷射光波長又當該透光 性物質，.抵射-連.爲nt、接猶該透奥性物質之外界介質的折 射率爲ni、雷射光射入透光佳物質內後再入射於最初接 觸該主表面的角度爲Θ 1時，該雷射光引進的方式，係 使該0 1超過在主表面中以一sin 0 =ni/nt所示臨界角0以 上，且在該端面中，（90° - Θ1)超過上式所示臨界角β 以上之方式，進行雷射光引進者。 2〇·却申請專利範圍第16、Π、I8或19項所述透光性物 質的非均勻性撿查方法，其中，至少該斜面施行鏡面硏 磨處理者。 21 ·胡申請專利範圍第2 0 .項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法，其中，該透龙性物質表厘聱見係施行鏡面硏 磨處理者。 22.如申請專利範圍第16、17、18或19項所述透光性物 質的非均勻性檢查方法，.其.中，在由該一組主表面與一 組端面所包夾而成之透光性物質待檢查區域由、.，在對利 甩重Μ光傳播於透光性物賃內部，使佈滿光線的該待檢 查區域中之一平面進#非均勻性檢查後，將該檢查平面， 相對於該透光性物質，以光埋入4¾險查.區域方向進行相 59 本纸張&度適用中國國家標準（CNS)A.l規格（210 X 297公t〉 --^-------------- (請先閉讀背面之注意事碩再填寫本頁) ^=0

   3548 ΡΙΓ- 1 .DOC/002 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 A8 B8 C8 D8 t、申請專利範圍 下予以引進者。 丄8 ·如申請專利範圍第n6項两述透光性物質的非均勻性 檢查方法，其中，該雷射光引進的方式，係使所引進的 .雷.射..土應由睡斜面射出方式而引進者。 19.如_請專利範圍第μ項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法’其电，相對所引属雷射光波長又當該透光 性物質，.抵射-連.爲nt、接猶該透奥性物質之外界介質的折 射率爲ni、雷射光射入透光佳物質內後再入射於最初接 觸該主表面的角度爲Θ 1時，該雷射光引進的方式，係 使該0 1超過在主表面中以一sin 0 =ni/nt所示臨界角0以 上，且在該端面中，（90° - Θ1)超過上式所示臨界角β 以上之方式，進行雷射光引進者。 2〇·却申請專利範圍第16、Π、I8或19項所述透光性物 質的非均勻性撿查方法，其中，至少該斜面施行鏡面硏 磨處理者。 21 ·胡申請專利範圍第2 0 .項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法，其中，該透龙性物質表厘聱見係施行鏡面硏 磨處理者。 22.如申請專利範圍第16、17、18或19項所述透光性物 質的非均勻性檢查方法，.其.中，在由該一組主表面與一 組端面所包夾而成之透光性物質待檢查區域由、.，在對利 甩重Μ光傳播於透光性物賃內部，使佈滿光線的該待檢 查區域中之一平面進#非均勻性檢查後，將該檢查平面， 相對於該透光性物質，以光埋入4¾險查.區域方向進行相 59 本纸張&度適用中國國家標準（CNS)A.l規格（210 X 297公t〉 --^-------------- (請先閉讀背面之注意事碩再填寫本頁) ^=0

   3548ΙΜΓ! .〇()C/〇〇2 A8 H8 C8 1)8 六、申請專利範圍 對移動’而施行待檢查區域的非均勻性檢查者。 23.如申請專利範圍第21項所述透光性物員的非均勻性 檢查方法」其，一在由該二組主表面與二紅遄面所/包^夾 .而成之透光性物質待檢查區域中，在對利用雷射光傳播 於透光性物質內部，使佈滿光線的該待檢查區域中之一 平面進订非均―与...H撞:查j陵，将.該檢查平面，相對於該透 光性物質，以光埋入待撿查區域方向進行相對移動，而 施行待檢查區域的非均句性檢查者。 2、如申請專利範凰第—16、17、18或19項所述透光性物 質的非均勻性檢查方法，其中，該透光性物質係由玻璃 所形成者。 25·如申請專利範圍第21項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法:’其中，該透光4生物質係由玻璃所形成者。 26. 如申請專利範圍第24項所述透光性物質的非均勻性 檢牽方法，其中，該透光.性物質係電子元件用玻璃基板、 或資訊記錄缓體恩鹰璃基板者。 27. .如申專利軔g弟25項所述透.光性物質的非均句性 檢查方法，其中，該透光性物質係電子元件用玻璃基板、 或.貝成5.B.錄媒.體甩玻璃基板者。 28. —種透光性物質之非均勻性檢查裝置，係指在透光性 物質內引進雷射光而進行透光性物質之非均勻性檢查的 裝置’係包括： 照明構件’ _係將雷射光引進該透光性物質內； 檢測構件’係檢查該透光性物質之外浅光； 60 本紙張適时關家標準（CNS)A1祕⑵ϋχ 297公楚） t . 一·-*' -1^--------!* 裝 ------^訂 ----I--1·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3548ΙΜΓ! .〇()C/〇〇2 A8 H8 C8 1)8 六、申請專利範圍 對移動’而施行待檢查區域的非均勻性檢查者。 23.如申請專利範圍第21項所述透光性物員的非均勻性 檢查方法」其，一在由該二組主表面與二紅遄面所/包^夾 .而成之透光性物質待檢查區域中，在對利用雷射光傳播 於透光性物質內部，使佈滿光線的該待檢查區域中之一 平面進订非均―与...H撞:查j陵，将.該檢查平面，相對於該透 光性物質，以光埋入待撿查區域方向進行相對移動，而 施行待檢查區域的非均句性檢查者。 2、如申請專利範凰第—16、17、18或19項所述透光性物 質的非均勻性檢查方法，其中，該透光性物質係由玻璃 所形成者。 25·如申請專利範圍第21項所述透光性物質的非均勻性 檢查方法:’其中，該透光4生物質係由玻璃所形成者。 26. 如申請專利範圍第24項所述透光性物質的非均勻性 檢牽方法，其中，該透光.性物質係電子元件用玻璃基板、 或資訊記錄缓體恩鹰璃基板者。 27. .如申專利軔g弟25項所述透.光性物質的非均句性 檢查方法，其中，該透光性物質係電子元件用玻璃基板、 或.貝成5.B.錄媒.體甩玻璃基板者。 28. —種透光性物質之非均勻性檢查裝置，係指在透光性 物質內引進雷射光而進行透光性物質之非均勻性檢查的 裝置’係包括： 照明構件’ _係將雷射光引進該透光性物質內； 檢測構件’係檢查該透光性物質之外浅光； 60 本紙張適时關家標準（CNS)A1祕⑵ϋχ 297公楚） t . 一·-*' -1^--------!* 裝 ------^訂 ----I--1·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 3 548 PI Γ I .DOCVO02 BS CS ns 六、申請專利範圍 其中， 該透光性物質，係具備引雷射光於該透光性物質 〜—、 · 內白勺_弓丨廉面、，—_以及至少.二艇jf戶斤引進的雷射光重複全反 射之互相對向的表面； 該照明構件，係將由照朋構件所射出的雷射光利用 嶺引進:面引同時在當該透I性物質內的光路爲光學 均勻時，使傳..播於該透光性物質內並射入該表面的光進 V ' .行全反射，且在該表面中至來暮电二組_表面上進行反覆 牲的傳播，蓋虫此麗傳播_，.使座靈表面至少二組所包圍 而成的待檢蓋區域佈滿雷..射光者。 29. 如申請專利範圍第28項所述透光性物質之非均勻性 ......— · - · · 檢查裝置，其中，該照明耩件係具備相對該透光性物質 ' 的光入射角產生變化的角度調整構件者。 30. 如申請專利範圍第28或29項所述透光性物質之非均 勻性檢查裝置，其中，更進一步具備使光射入該透光性 :物質的射入位置進行移動之移動構件者。 31. 如申請專利範圍第28或29項所述透光性物質之非均 勻性檢查裝置，其中，該透.光性物質及檢測構件，係相 對該照明丨冓保.進行一體性相對移動者。 32. 如申請專利範圍第28或29項所述逶ϋ性物質之非均 勻性檢查裝置，其中，該撿測構件，係具備含攝影元件 的照相機、及將由該透光性物質所外洩的光顯像於該照 相機之透鏡，並使該照相機及/或透鏡，相對該透光性 物質進行遠近方向的相對移動者。 — e--------------------訂·---------- (請先閲讀背面之生意事項再填寫本頁) 本纸張义度適用中國國家標準（CNSM.l規格（210x297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 3 548 PI Γ I .DOCVO02 BS CS ns 六、申請專利範圍 其中， 該透光性物質，係具備引雷射光於該透光性物質 〜—、 · 內白勺_弓丨廉面、，—_以及至少.二艇jf戶斤引進的雷射光重複全反 射之互相對向的表面； 該照明構件，係將由照朋構件所射出的雷射光利用 嶺引進:面引同時在當該透I性物質內的光路爲光學 均勻時，使傳..播於該透光性物質內並射入該表面的光進 V ' .行全反射，且在該表面中至來暮电二組_表面上進行反覆 牲的傳播，蓋虫此麗傳播_，.使座靈表面至少二組所包圍 而成的待檢蓋區域佈滿雷..射光者。 29. 如申請專利範圍第28項所述透光性物質之非均勻性 ......— · - · · 檢查裝置，其中，該照明耩件係具備相對該透光性物質 ' 的光入射角產生變化的角度調整構件者。 30. 如申請專利範圍第28或29項所述透光性物質之非均 勻性檢查裝置，其中，更進一步具備使光射入該透光性 :物質的射入位置進行移動之移動構件者。 31. 如申請專利範圍第28或29項所述透光性物質之非均 勻性檢查裝置，其中，該透.光性物質及檢測構件，係相 對該照明丨冓保.進行一體性相對移動者。 32. 如申請專利範圍第28或29項所述逶ϋ性物質之非均 勻性檢查裝置，其中，該撿測構件，係具備含攝影元件 的照相機、及將由該透光性物質所外洩的光顯像於該照 相機之透鏡，並使該照相機及/或透鏡，相對該透光性 物質進行遠近方向的相對移動者。 — e--------------------訂·---------- (請先閲讀背面之生意事項再填寫本頁) 本纸張义度適用中國國家標準（CNSM.l規格（210x297公釐） 3548PII· I DOC/0 02 A8 H8 C8 1)8 六、申請專利範圍 33.如申請專利範圍第28或29項所述透光性物質之非均 勻性檢查裝置，其中.，....依._據盖益1L槿件所檢測出的資訊， .進行該透光性物質之非均包性的有無、種類、大小之判 斷者。 34·—種透明基板之篩選方法，係包含： 準備步驟，.係準-備具有41進雷射光之引進面、 . 將所引進雷射光·重複進行全反-射之至少一組對向的 表面〜:以及設g I兔貢射光行進方向對側之至少〜 組端面的透明基板； 引進步驟，係當該透明基板內之光路爲光擧与 句時—’一使-傳播於透明基板內並射_入废主表面與端商 的雷射光進行全反射^而且至企在一組端面_反續 .進行傳播，藉由傳播使雷射光遍佈由該主表風與嗓 面戶斤包圍面_成_虹燈換耷區域方式，將雷射光由_号丨 進.面_.„引_—進...之.步驟、： 檢查步驟係檢測在該主表面及/端面處雜壤 行全反射而外洩之光者； 篩選步驟’ _係將該檢查資訊j與預先記憶赛香 存在透明基板之非均性的有.無重Μ _、大小等_ _ 進行比對後，再進符篩選透明基_板者。 62 __1---:---r-----壯衣-----·---ί 訂-----------線 r (請先間讀t面之¾¾事項再¾¾本〉 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 本紙張尺度適用中國0家標準（CNS)A_._r規格(2κΓχ 297公楚） 3548PII· I DOC/0 02 A8 H8 C8 1)8 六、申請專利範圍 33.如申請專利範圍第28或29項所述透光性物質之非均 勻性檢查裝置，其中.，....依._據盖益1L槿件所檢測出的資訊， .進行該透光性物質之非均包性的有無、種類、大小之判 斷者。 34·—種透明基板之篩選方法，係包含： 準備步驟，.係準-備具有41進雷射光之引進面、 . 將所引進雷射光·重複進行全反-射之至少一組對向的 表面〜:以及設g I兔貢射光行進方向對側之至少〜 組端面的透明基板； 引進步驟，係當該透明基板內之光路爲光擧与 句時—’一使-傳播於透明基板內並射_入废主表面與端商 的雷射光進行全反射^而且至企在一組端面_反續 .進行傳播，藉由傳播使雷射光遍佈由該主表風與嗓 面戶斤包圍面_成_虹燈換耷區域方式，將雷射光由_号丨 進.面_.„引_—進...之.步驟、： 檢查步驟係檢測在該主表面及/端面處雜壤 行全反射而外洩之光者； 篩選步驟’ _係將該檢查資訊j與預先記憶赛香 存在透明基板之非均性的有.無重Μ _、大小等_ _ 進行比對後，再進符篩選透明基_板者。 62 __1---:---r-----壯衣-----·---ί 訂-----------線 r (請先間讀t面之¾¾事項再¾¾本〉 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 本紙張尺度適用中國0家標準（CNS)A_._r規格(2κΓχ 297公楚）