TW322449B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW322449B
TW322449B TW086100245A TW86100245A TW322449B TW 322449 B TW322449 B TW 322449B TW 086100245 A TW086100245 A TW 086100245A TW 86100245 A TW86100245 A TW 86100245A TW 322449 B TW322449 B TW 322449B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
adhesive layer
adhesive
thin skin
thin
groove
Prior art date
Application number
TW086100245A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Shinetsu Chem Ind Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinetsu Chem Ind Co filed Critical Shinetsu Chem Ind Co
Application granted granted Critical
Publication of TW322449B publication Critical patent/TW322449B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B17/00Methods preventing fouling
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24132Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including grain, strips, or filamentary elements in different layers or components parallel

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Prevention Of Fouling (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Description

經濟部中央樣準局貝Η消費合作社印製 322449
AT _B7_ _ 五、發明説明(1 ) 發明背景 發明範圍 本發明係關於在結構中有薄膜延伸的薄皮,更特定地 說,係關於在結構的一個端面有薄膜延伸且在另一端面有 膠黏劑層形成的薄皮,在這種方式下,可免除通常與膠黏 劑層連接之襯墊》 先前技藝 根據目前半導體元件朝向更高密度及積體之趨勢,樣 式變成非常細小,所以任何細微的外來物質沈積在光罩上 都可造成缺陷,因此共同的努力就是在光罩上添加薄皮使 防止任何細微的$來物質沈積在光罩上。 薄皮通常包括一個金屬或樹脂的結構及薄膜,用黏著 法將薄膜連接至結構的一個端面而使薄膜延伸在結構中, 在結構的另一端面形成膠黏劑層供隨後與網線連接,並用 可撕開的襯墊或分離層覆蓋加以保護。 使用時,經由撕開襯墊而暴露膠黏劑層,將薄皮放在 光罩上的預先決定位置,加壓暴露的膠黏劑層使其與光罩 黏接而將薄皮固定在光罩或網線上。 運送上述結構的薄皮時,檢查薄皮膜確定不含外來物 質後,將薄皮放在特殊的容器內,密封使防止外來物質進 入,然後將容器输送至從包裝中取出薄皮之目的地,此時 當再度檢查薄皮膜時,外來物質通常是在膜上發現。 產生外來物質的沈積有下列原因,因爲震動及衝擊發 本紙張尺度壌用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意^項再填寫本頁)
.1T -4 一 322449 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印裝 A7 _B7_ _五、發明説明(2) 生在使用卡車、貨運火車及飛機之交通工具的輸送及在各 種場合的裝載與卸貨過程中,主要落在元件而不是在薄皮 膜上的外來物質離開那裡並沈積在薄皮膜上,外來物質可 潛伏的其他地方爲薄皮膜側邊的外襯及內襯及用來保護膠 黏劑層的襯墊表面,尤其是包覆脫離劑的塑膠膜之襯墊溶 液帶有電荷,因此微細粒子容易吸附在襯墊表面,此種微 細粒子將從襯墊轉移至薄皮膜,此外,因爲襯墊是用打孔 機在薄片上打孔使符合結構的幾何形狀,經打孔的襯墊之 切割部份通常帶有碎片。 發明概述 本發朋的目均是提供一種新穎且經改進的薄皮,可消 除外來物質潛在來源之襯墊。 根據本發明,提供一種薄皮,其中含一個端面及另外 —個端面之結構,且在結構的一個端面上延伸一種薄膜, 在結構的另外一個端面形成一條溝槽,溝槽中填滿在加熱 及/或光線照射下可膨脹的膠黏劑層,使得膠黏劑層在不 膨脹的狀態下不會向外突出超過結構的另一端面,但在膨 脹時向外突出超過結構的另一端面,膨脹的膠黏劑層作爲 薄皮與網線之連結,膠黏劑層上沒有連接襯墊。 因爲可膨脹的膠黏劑層是在溝槽中形成,不需要用襯 墊保護膠黏劑層,當需要將薄皮黏接在網線上時,可將膠 黏劑層加熱及/或用光線照射,然後使膠黏劑層膨脹而增 加體積,同時使溝槽內的膠黏劑層脹大而向外突出超過結 本紙張尺度適用中國國家揲率(CNS > A4規格(210X297公釐) (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -5 - 經濟部中央橾準局男工消费合作社印製 A7 _B7_ 五、發明説明(3) 構的另一端面,脹大的膠黏劑層作爲將薄皮黏接至網線上 ,因爲本發明消除襯墊之需求,因此不存在伴隨襯墊之外 來物質,本發明可防止薄皮膜因爲受到外來物質汙染而減 損其性能,物質成本及襯墊所需的打孔、清潔及檢査步驟 與費用都不需要。 附圖簡述 本發明的這些及其他特點,經由下列說明及附圖可更 加明顯,其中: 圖1爲根據本發明的一個較佳具體實施例的薄皮側邊 之截面圖,顯示膨脹前的膠黏劑層· 圖2類似於圖1之觀察,但顯示膨脹後的膠黏劑層。 較佳具體實施例之敘述 如圖1所示,本發明之薄皮包括通常爲四方形截面的 薄皮結構1,及一對端面與一對側面,黏附層2位於薄皮 結構1的一個端面或頂面上,薄皮膜3用膜的外圍連接至 黏附層2而在結構上延伸,在另一端面或底面的薄皮結構 1含有一條溝槽或凹槽4,溝槽4內填滿在加熱及/或光 線照射下可膨脹的膠黏劑層5,使得膠黏劑層5在不膨脹 的狀態下不會向外突出超過結構1的另一端面,但在膨脹 時向外突出超過結構1的另一端面,如圖2所示。 本文所使用的膠黏劑層並不嚴格限制爲在加熱及/或 光線照射下可膨脹或起泡,橡膠基質的膠黏組成物及丙烯 本纸張尺度逋用中國_家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先H-讀背面之注意事項再填寫本頁) 1T. 疼! —〇 ~ 經濟部中央橾準局工消费合作杜印裝 A7 _B7五、發明説明(4) 酸系的膠黏組成物都可使用,雖然從抗光性及抗化學性的 觀點,以矽酮基質的膠黏組成物較佳。在加熱及/或光線 照射下使基質樹脂膨脹的方法可爲氮氣、氫氣或二氧化碳 氣體,其中膠黏劑必須交聯化,加熱使膨脹前先用uv照 射使膠黏劑交聯化。 可在本文中使用的可膨脹矽酮膠黏劑組成物包括習知 的矽酮膠黏劑及含可汽化的發泡劑之樹脂(例如N i ρροη Ferrite Κ. Κ.製造的Expancell)及含終端爲砂院醇 基的二甲基聚矽氧烷、含SiH基的二甲基氫矽氧烷及鉑觸 媒之矽酮膠黏劑組成物,其中I觸媒可促進脫氫反應使釋出 氫氣而膨脹。 薄皮結構中考滿膠黏劑的溝槽之幾何形狀、寬度及深 度沒有特殊的限制,例如對於另一端面的寬度爲2毫米之 薄皮結構,沿著整個薄皮結構的外圍可連續或間斷地形成 直線或曲折的約0 . 5至1 . 5毫米寬度的溝槽,溝槽的 深度可爲約0 . 5至5毫米,溝槽可有合適'的截面形狀例 如四面形、半圓形、U—及V—形。 發泡前的膠黏劑量及發泡放大率較宜定爲使膠黏劑層 膨脹向外突出超過薄皮結構的另一端面約0 . 1至3毫米 ,特別是約0.3至1毫米。 本發明之薄皮中,在起泡前,膠黏劑層5填在薄皮結 構另一端面之凹槽或溝槽4內而沒有突出超過另一端面, 沒有襯墊使得當薄皮放在或從容器取出時沒有處理的問題 ,當膠黏劑層膨脹時,增加其體稹使得膠黏劑層脹大突出 表纸强·尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公簸) : {請先¾讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 A7 B7 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印装 五、發明説明() 薄皮結構的另一端面,此狀態與先前技藝的薄皮在撕去襯 墊時相同,然後本發明的薄皮可如同先前技藝的薄皮在相 同方式下,於加壓下黏接至光罩或網線》 曾例 下列所提供的本發明實例是用來說明而不是限制其範 圍0 使用的薄皮結構爲一般的四面形鋁結構,外圍大小爲 1 2 2 X 1 4 9毫米且寬度爲2毫米及高度爲5毫米之一 般四面形截面(參見圖1 ),薄皮結構的下(或另一)端 面在中間有一條寬度爲1.2毫米且深度爲3毫米之溝槽 ,溝槽沿著四面形結構的四邊連續性地延伸》 MS 溝槽中填滿膠黏劑,膠黏劑不會向外突出超過端面, 此處所用的膠黏劑爲含矽烷醇基端基的二甲基聚矽氧烷、 含S i Η基的二甲基氫矽氧烷及鉑一二甲基聚矽氧烷錯合 物形式的觸媒之沒有溶劑的矽酮膠黏劑組成物。 施加黏著劑至薄皮結構之上端面,氟聚合物之薄膜延 伸在薄皮結構上,經由黏接其外圍至上端面而成爲薄皮膜 ,製備成沒有襯墊的薄皮。 將薄皮放置在密封的特殊容器中,將容器放在卡車上 並行駛500公里而進行薄皮之運送試驗,試驗後,從容 器內取出薄皮,在暗室中用聚焦燈觀察薄皮膜上的外來物 質,發現外來物質沒有增加。 接著用紅外線加熱器將膠黏劑在8 0°C下加熱歷時5 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1T-
^22449 a? B7 五、發明説明() 分鐘,膠黏劑在發泡放大率1 . 4下膨脹至增加其體積, 膠黏劑之外表面突出超過結構之另一端面0.5毫米,發 泡結束後,在15公斤的壓力下用合成石英的玻璃物質加 壓結構歷時3分鐘,使膠黏劑層與玻璃物質間形成均勻的 連結。 因爲本發明之薄皮不需要襯墊,不會有來自襯墊的外 來物質,本發明可防止薄皮膜因爲受到外來物質汙染而減 損其性能,並免除襯墊所需的額外步驟及費用。 雖然已經說明部份較佳的具體實施例,經由上述的教 導可進行許多的修改及變化,因此在申請專利範圍的範圍 內,本發明可在不同於特定欽述之下進行。 (請先¾讀背面之注意事項再填寫本頁) iT- 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) π iiiiiiwlrr: - r 1 ητι^ nr'ίιιι rrf ^ ^ 心二

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 322449 六、申請專利範圍 1 . 一種薄皮,其中含 一個端面及另外一個端面之結構, 在該結構的一個端面延伸一種薄膜, 在該結構的另外一個端面形成一條溝槽,且 在該溝槽中填滿在加熱及/或光線照射下可膨脹的膠 黏劑層,使得膠黏劑層在不膨脹的狀態下不會向外突出超 過結構的另一端面,但在膨脹時向外突出超過結構的另一 端面, 膠黏劑層上沒有連接襯墊。 2.如申請專利範圍第1項之薄皮,其中該膠黏劑爲 可膨脹的矽酮膠黏劑。 ------------- (請先·閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂- 經濟部中央標率局貞工消费合作社印装 本纸永尺A埴用中_國家樣率(CNS > A4«UM 210>5297命H v
TW086100245A 1996-01-30 1997-01-11 TW322449B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3553696A JP3209073B2 (ja) 1996-01-30 1996-01-30 ペリクル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW322449B true TW322449B (zh) 1997-12-11

Family

ID=12444465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW086100245A TW322449B (zh) 1996-01-30 1997-01-11

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5729325A (zh)
EP (1) EP0788028B1 (zh)
JP (1) JP3209073B2 (zh)
KR (1) KR100240566B1 (zh)
DE (1) DE69700845T2 (zh)
TW (1) TW322449B (zh)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002182373A (ja) * 2000-12-18 2002-06-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク
US20020089656A1 (en) * 2001-01-09 2002-07-11 Cheng Guo Containers for lithography mask and method of use
US6524754B2 (en) 2001-01-22 2003-02-25 Photronics, Inc. Fused silica pellicle
US7351503B2 (en) * 2001-01-22 2008-04-01 Photronics, Inc. Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask
US6623893B1 (en) 2001-01-26 2003-09-23 Advanced Micro Devices, Inc. Pellicle for use in EUV lithography and a method of making such a pellicle
US6593035B1 (en) 2001-01-26 2003-07-15 Advanced Micro Devices, Inc. Pellicle for use in small wavelength lithography and a method for making such a pellicle using polymer films
US6544693B2 (en) 2001-01-26 2003-04-08 Advanced Micro Devices, Inc. Pellicle for use in small wavelength lithography and a method for making such a pellicle
US7138640B1 (en) 2002-10-17 2006-11-21 Kla-Tencor Technologies, Corporation Method and apparatus for protecting surfaces of optical components
JP4358683B2 (ja) * 2004-05-31 2009-11-04 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル
KR101524104B1 (ko) 2008-05-13 2015-05-29 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클의 박리 방법 및 이 방법에 사용하는 박리 장치
JP2011028091A (ja) * 2009-07-28 2011-02-10 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクル
JP5199217B2 (ja) * 2009-11-02 2013-05-15 信越化学工業株式会社 ペリクル
JP2011113033A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクル膜の製造方法および装置
KR101536393B1 (ko) * 2010-07-09 2015-07-13 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 펠리클 및 그것에 이용하는 마스크 접착제
JP6519190B2 (ja) 2015-01-16 2019-05-29 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠
JP2016139103A (ja) * 2015-01-29 2016-08-04 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0325442A (ja) * 1989-06-22 1991-02-04 Matsushita Electron Corp ペリクルフレーム
DE4021863A1 (de) * 1990-07-09 1992-01-16 Buchtal Gmbh Verfahren zur verlegung eines fussbodenbelags, insbesondere fussbodenplatten, sowie fussbodenbelag
JPH05289314A (ja) * 1992-04-08 1993-11-05 Fujitsu Ltd ペリクル
JPH0619124A (ja) * 1992-07-01 1994-01-28 Seiko Epson Corp ペリクルフレーム及び半導体装置の製造方法
JP3071348B2 (ja) * 1993-10-21 2000-07-31 信越化学工業株式会社 ペリクルおよびその剥離方法
US5529819A (en) * 1995-04-17 1996-06-25 Inko Industrial Corporation Pellicle assembly with vent structure

Also Published As

Publication number Publication date
EP0788028A3 (zh) 1997-08-27
US5729325A (en) 1998-03-17
DE69700845D1 (de) 2000-01-05
EP0788028A2 (en) 1997-08-06
KR970058797A (ko) 1997-08-12
DE69700845T2 (de) 2000-05-18
JP3209073B2 (ja) 2001-09-17
KR100240566B1 (ko) 2000-01-15
EP0788028B1 (en) 1999-12-01
JPH09206723A (ja) 1997-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW322449B (zh)
US5718955A (en) Composite for controlling oxygen flux into thermal cells
US4275112A (en) Support for decorative and communicative material
JPH0713383A (ja) 画像保持支持体および画像保持支持体の再生方法
AU2002342134B2 (en) Storage wrap material
JPH08152731A (ja) リサイクル専用画像支持体および該リサイクル専用画像支持体の製造方法とその装置
JPS5921556B2 (ja) ゼログラフィ−用定着部材
TW534890B (en) Packaging container, packaging body including the same, and packaging method
JP4317827B2 (ja) 高離型性シリコーンゴムロールおよびその製造方法
JPH0112660B2 (zh)
JP7269059B2 (ja) 粘弾性体およびその製造方法
JP3285262B2 (ja) 画像支持体の再生方法および該再生方法に使用する装置
CA2634686A1 (en) Storage wrap material
JPH11228921A (ja) 熱発泡型粘着シート及びその剥離方法
TW502460B (en) Wafer container and dusting prevention method thereof and method for containing wafer
JP3361196B2 (ja) ペリクル構造体
TW550213B (en) Packaging member and method of binding the packaging member
TW424049B (en) Method for manufacturing heat-resistant and non-slippery paper cups
US954644A (en) Process of treating adhesive binders.
JP4083912B2 (ja) ケミカルフィルタとその製造方法
JP2607429B2 (ja) 透明な合成樹脂層からなる防滑層の形成方法
JP2007050895A (ja) インナーシール材
JP2000026814A (ja) クラフト粘着テープ
US1957478A (en) Method of applying labels
JP2003039601A (ja) 再剥離性部材