TW322449B - - Google Patents
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Description
經濟部中央樣準局貝Η消費合作社印製 322449
AT _B7_ _ 五、發明説明(1 ) 發明背景 發明範圍 本發明係關於在結構中有薄膜延伸的薄皮,更特定地 說,係關於在結構的一個端面有薄膜延伸且在另一端面有 膠黏劑層形成的薄皮,在這種方式下,可免除通常與膠黏 劑層連接之襯墊》 先前技藝 根據目前半導體元件朝向更高密度及積體之趨勢,樣 式變成非常細小,所以任何細微的外來物質沈積在光罩上 都可造成缺陷,因此共同的努力就是在光罩上添加薄皮使 防止任何細微的$來物質沈積在光罩上。 薄皮通常包括一個金屬或樹脂的結構及薄膜,用黏著 法將薄膜連接至結構的一個端面而使薄膜延伸在結構中, 在結構的另一端面形成膠黏劑層供隨後與網線連接,並用 可撕開的襯墊或分離層覆蓋加以保護。 使用時,經由撕開襯墊而暴露膠黏劑層,將薄皮放在 光罩上的預先決定位置,加壓暴露的膠黏劑層使其與光罩 黏接而將薄皮固定在光罩或網線上。 運送上述結構的薄皮時,檢查薄皮膜確定不含外來物 質後,將薄皮放在特殊的容器內,密封使防止外來物質進 入,然後將容器输送至從包裝中取出薄皮之目的地,此時 當再度檢查薄皮膜時,外來物質通常是在膜上發現。 產生外來物質的沈積有下列原因,因爲震動及衝擊發 本紙張尺度壌用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意^項再填寫本頁)
.1T -4 一 322449 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印裝 A7 _B7_ _五、發明説明(2) 生在使用卡車、貨運火車及飛機之交通工具的輸送及在各 種場合的裝載與卸貨過程中,主要落在元件而不是在薄皮 膜上的外來物質離開那裡並沈積在薄皮膜上,外來物質可 潛伏的其他地方爲薄皮膜側邊的外襯及內襯及用來保護膠 黏劑層的襯墊表面,尤其是包覆脫離劑的塑膠膜之襯墊溶 液帶有電荷,因此微細粒子容易吸附在襯墊表面,此種微 細粒子將從襯墊轉移至薄皮膜,此外,因爲襯墊是用打孔 機在薄片上打孔使符合結構的幾何形狀,經打孔的襯墊之 切割部份通常帶有碎片。 發明概述 本發朋的目均是提供一種新穎且經改進的薄皮,可消 除外來物質潛在來源之襯墊。 根據本發明,提供一種薄皮,其中含一個端面及另外 —個端面之結構,且在結構的一個端面上延伸一種薄膜, 在結構的另外一個端面形成一條溝槽,溝槽中填滿在加熱 及/或光線照射下可膨脹的膠黏劑層,使得膠黏劑層在不 膨脹的狀態下不會向外突出超過結構的另一端面,但在膨 脹時向外突出超過結構的另一端面,膨脹的膠黏劑層作爲 薄皮與網線之連結,膠黏劑層上沒有連接襯墊。 因爲可膨脹的膠黏劑層是在溝槽中形成,不需要用襯 墊保護膠黏劑層,當需要將薄皮黏接在網線上時,可將膠 黏劑層加熱及/或用光線照射,然後使膠黏劑層膨脹而增 加體積,同時使溝槽內的膠黏劑層脹大而向外突出超過結 本紙張尺度適用中國國家揲率(CNS > A4規格(210X297公釐) (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -5 - 經濟部中央橾準局男工消费合作社印製 A7 _B7_ 五、發明説明(3) 構的另一端面,脹大的膠黏劑層作爲將薄皮黏接至網線上 ,因爲本發明消除襯墊之需求,因此不存在伴隨襯墊之外 來物質,本發明可防止薄皮膜因爲受到外來物質汙染而減 損其性能,物質成本及襯墊所需的打孔、清潔及檢査步驟 與費用都不需要。 附圖簡述 本發明的這些及其他特點,經由下列說明及附圖可更 加明顯,其中: 圖1爲根據本發明的一個較佳具體實施例的薄皮側邊 之截面圖,顯示膨脹前的膠黏劑層· 圖2類似於圖1之觀察,但顯示膨脹後的膠黏劑層。 較佳具體實施例之敘述 如圖1所示,本發明之薄皮包括通常爲四方形截面的 薄皮結構1,及一對端面與一對側面,黏附層2位於薄皮 結構1的一個端面或頂面上,薄皮膜3用膜的外圍連接至 黏附層2而在結構上延伸,在另一端面或底面的薄皮結構 1含有一條溝槽或凹槽4,溝槽4內填滿在加熱及/或光 線照射下可膨脹的膠黏劑層5,使得膠黏劑層5在不膨脹 的狀態下不會向外突出超過結構1的另一端面,但在膨脹 時向外突出超過結構1的另一端面,如圖2所示。 本文所使用的膠黏劑層並不嚴格限制爲在加熱及/或 光線照射下可膨脹或起泡,橡膠基質的膠黏組成物及丙烯 本纸張尺度逋用中國_家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先H-讀背面之注意事項再填寫本頁) 1T. 疼! —〇 ~ 經濟部中央橾準局工消费合作杜印裝 A7 _B7五、發明説明(4) 酸系的膠黏組成物都可使用,雖然從抗光性及抗化學性的 觀點,以矽酮基質的膠黏組成物較佳。在加熱及/或光線 照射下使基質樹脂膨脹的方法可爲氮氣、氫氣或二氧化碳 氣體,其中膠黏劑必須交聯化,加熱使膨脹前先用uv照 射使膠黏劑交聯化。 可在本文中使用的可膨脹矽酮膠黏劑組成物包括習知 的矽酮膠黏劑及含可汽化的發泡劑之樹脂(例如N i ρροη Ferrite Κ. Κ.製造的Expancell)及含終端爲砂院醇 基的二甲基聚矽氧烷、含SiH基的二甲基氫矽氧烷及鉑觸 媒之矽酮膠黏劑組成物,其中I觸媒可促進脫氫反應使釋出 氫氣而膨脹。 薄皮結構中考滿膠黏劑的溝槽之幾何形狀、寬度及深 度沒有特殊的限制,例如對於另一端面的寬度爲2毫米之 薄皮結構,沿著整個薄皮結構的外圍可連續或間斷地形成 直線或曲折的約0 . 5至1 . 5毫米寬度的溝槽,溝槽的 深度可爲約0 . 5至5毫米,溝槽可有合適'的截面形狀例 如四面形、半圓形、U—及V—形。 發泡前的膠黏劑量及發泡放大率較宜定爲使膠黏劑層 膨脹向外突出超過薄皮結構的另一端面約0 . 1至3毫米 ,特別是約0.3至1毫米。 本發明之薄皮中,在起泡前,膠黏劑層5填在薄皮結 構另一端面之凹槽或溝槽4內而沒有突出超過另一端面, 沒有襯墊使得當薄皮放在或從容器取出時沒有處理的問題 ,當膠黏劑層膨脹時,增加其體稹使得膠黏劑層脹大突出 表纸强·尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公簸) : {請先¾讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 A7 B7 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印装 五、發明説明() 薄皮結構的另一端面,此狀態與先前技藝的薄皮在撕去襯 墊時相同,然後本發明的薄皮可如同先前技藝的薄皮在相 同方式下,於加壓下黏接至光罩或網線》 曾例 下列所提供的本發明實例是用來說明而不是限制其範 圍0 使用的薄皮結構爲一般的四面形鋁結構,外圍大小爲 1 2 2 X 1 4 9毫米且寬度爲2毫米及高度爲5毫米之一 般四面形截面(參見圖1 ),薄皮結構的下(或另一)端 面在中間有一條寬度爲1.2毫米且深度爲3毫米之溝槽 ,溝槽沿著四面形結構的四邊連續性地延伸》 MS 溝槽中填滿膠黏劑,膠黏劑不會向外突出超過端面, 此處所用的膠黏劑爲含矽烷醇基端基的二甲基聚矽氧烷、 含S i Η基的二甲基氫矽氧烷及鉑一二甲基聚矽氧烷錯合 物形式的觸媒之沒有溶劑的矽酮膠黏劑組成物。 施加黏著劑至薄皮結構之上端面,氟聚合物之薄膜延 伸在薄皮結構上,經由黏接其外圍至上端面而成爲薄皮膜 ,製備成沒有襯墊的薄皮。 將薄皮放置在密封的特殊容器中,將容器放在卡車上 並行駛500公里而進行薄皮之運送試驗,試驗後,從容 器內取出薄皮,在暗室中用聚焦燈觀察薄皮膜上的外來物 質,發現外來物質沒有增加。 接著用紅外線加熱器將膠黏劑在8 0°C下加熱歷時5 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1T-
^22449 a? B7 五、發明説明() 分鐘,膠黏劑在發泡放大率1 . 4下膨脹至增加其體積, 膠黏劑之外表面突出超過結構之另一端面0.5毫米,發 泡結束後,在15公斤的壓力下用合成石英的玻璃物質加 壓結構歷時3分鐘,使膠黏劑層與玻璃物質間形成均勻的 連結。 因爲本發明之薄皮不需要襯墊,不會有來自襯墊的外 來物質,本發明可防止薄皮膜因爲受到外來物質汙染而減 損其性能,並免除襯墊所需的額外步驟及費用。 雖然已經說明部份較佳的具體實施例,經由上述的教 導可進行許多的修改及變化,因此在申請專利範圍的範圍 內,本發明可在不同於特定欽述之下進行。 (請先¾讀背面之注意事項再填寫本頁) iT- 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) π iiiiiiwlrr: - r 1 ητι^ nr'ίιιι rrf ^ ^ 心二
Claims (1)
- A8 B8 C8 D8 322449 六、申請專利範圍 1 . 一種薄皮,其中含 一個端面及另外一個端面之結構, 在該結構的一個端面延伸一種薄膜, 在該結構的另外一個端面形成一條溝槽,且 在該溝槽中填滿在加熱及/或光線照射下可膨脹的膠 黏劑層,使得膠黏劑層在不膨脹的狀態下不會向外突出超 過結構的另一端面,但在膨脹時向外突出超過結構的另一 端面, 膠黏劑層上沒有連接襯墊。 2.如申請專利範圍第1項之薄皮,其中該膠黏劑爲 可膨脹的矽酮膠黏劑。 ------------- (請先·閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂- 經濟部中央標率局貞工消费合作社印装 本纸永尺A埴用中_國家樣率(CNS > A4«UM 210>5297命H v
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3553696A JP3209073B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | ペリクル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW322449B true TW322449B (zh) | 1997-12-11 |
Family
ID=12444465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW086100245A TW322449B (zh) | 1996-01-30 | 1997-01-11 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5729325A (zh) |
EP (1) | EP0788028B1 (zh) |
JP (1) | JP3209073B2 (zh) |
KR (1) | KR100240566B1 (zh) |
DE (1) | DE69700845T2 (zh) |
TW (1) | TW322449B (zh) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002182373A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク |
US20020089656A1 (en) * | 2001-01-09 | 2002-07-11 | Cheng Guo | Containers for lithography mask and method of use |
US6524754B2 (en) | 2001-01-22 | 2003-02-25 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle |
US7351503B2 (en) * | 2001-01-22 | 2008-04-01 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask |
US6623893B1 (en) | 2001-01-26 | 2003-09-23 | Advanced Micro Devices, Inc. | Pellicle for use in EUV lithography and a method of making such a pellicle |
US6593035B1 (en) | 2001-01-26 | 2003-07-15 | Advanced Micro Devices, Inc. | Pellicle for use in small wavelength lithography and a method for making such a pellicle using polymer films |
US6544693B2 (en) | 2001-01-26 | 2003-04-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | Pellicle for use in small wavelength lithography and a method for making such a pellicle |
US7138640B1 (en) | 2002-10-17 | 2006-11-21 | Kla-Tencor Technologies, Corporation | Method and apparatus for protecting surfaces of optical components |
JP4358683B2 (ja) * | 2004-05-31 | 2009-11-04 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル |
KR101524104B1 (ko) | 2008-05-13 | 2015-05-29 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클의 박리 방법 및 이 방법에 사용하는 박리 장치 |
JP2011028091A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル |
JP5199217B2 (ja) * | 2009-11-02 | 2013-05-15 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP2011113033A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル膜の製造方法および装置 |
KR101536393B1 (ko) * | 2010-07-09 | 2015-07-13 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 펠리클 및 그것에 이용하는 마스크 접착제 |
JP6519190B2 (ja) | 2015-01-16 | 2019-05-29 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠 |
JP2016139103A (ja) * | 2015-01-29 | 2016-08-04 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0325442A (ja) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Matsushita Electron Corp | ペリクルフレーム |
DE4021863A1 (de) * | 1990-07-09 | 1992-01-16 | Buchtal Gmbh | Verfahren zur verlegung eines fussbodenbelags, insbesondere fussbodenplatten, sowie fussbodenbelag |
JPH05289314A (ja) * | 1992-04-08 | 1993-11-05 | Fujitsu Ltd | ペリクル |
JPH0619124A (ja) * | 1992-07-01 | 1994-01-28 | Seiko Epson Corp | ペリクルフレーム及び半導体装置の製造方法 |
JP3071348B2 (ja) * | 1993-10-21 | 2000-07-31 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルおよびその剥離方法 |
US5529819A (en) * | 1995-04-17 | 1996-06-25 | Inko Industrial Corporation | Pellicle assembly with vent structure |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP3553696A patent/JP3209073B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-11 TW TW086100245A patent/TW322449B/zh active
- 1997-01-27 EP EP97300490A patent/EP0788028B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-27 KR KR1019970002210A patent/KR100240566B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-01-27 DE DE69700845T patent/DE69700845T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-29 US US08/789,425 patent/US5729325A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0788028A3 (zh) | 1997-08-27 |
US5729325A (en) | 1998-03-17 |
DE69700845D1 (de) | 2000-01-05 |
EP0788028A2 (en) | 1997-08-06 |
KR970058797A (ko) | 1997-08-12 |
DE69700845T2 (de) | 2000-05-18 |
JP3209073B2 (ja) | 2001-09-17 |
KR100240566B1 (ko) | 2000-01-15 |
EP0788028B1 (en) | 1999-12-01 |
JPH09206723A (ja) | 1997-08-12 |
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