TW303423B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW303423B
TW303423B TW085101970A TW85101970A TW303423B TW 303423 B TW303423 B TW 303423B TW 085101970 A TW085101970 A TW 085101970A TW 85101970 A TW85101970 A TW 85101970A TW 303423 B TW303423 B TW 303423B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
frequency
modulation
patent application
item
configuration
Prior art date
Application number
TW085101970A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Jenoptik Jena Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jenoptik Jena Gmbh filed Critical Jenoptik Jena Gmbh
Application granted granted Critical
Publication of TW303423B publication Critical patent/TW303423B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/6489Photoluminescence of semiconductors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/265Contactless testing
    • G01R31/2656Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/171Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated with calorimetric detection, e.g. with thermal lens detection

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

^03423 A7 B7 if满部中央找擎局爲工;i,i费合作和印來 五、 發明説明(1 ) 1 1 本 發 明 係 有 Μ __. 種 光 激 發 半導體材料»應分析之方法及 1 1 I 配 置 其 中 Μ 一 笛 射 光 束 在 物«上雠存一霣子能量,及測 1 1 I 最 Μ 從 試 樣 發 光 為 型 式 之 該 儲存能最之鬆弛。 請 先 1 | 閱 I 測 最 技 術 的 攔 即 分 析 具高解析度固體,尤其是半導 背 1 I 1¾ | 體 中 的β合通路 目 前 無 論是Μ接觸或不接觸法都無法 之 注 1 I 辦 到 〇 意 事 項 1 1 電 或 光 電 方 法 其 各 Μ 鎖 定探測(頻囈時)或轉換盒整合 再 填 % 本 頁 裝 1 (時疇時)做 ___· 簡 單 的 調 剌 都有必須接觸的缺點。不接觸 方 法 中 發 光 的 測 Μ 是 羞- 古 老 的放胜表示法(例如 1 1 見 W . D · J 〇 h η S t on 的 A p pl • Ph y s Lett. 3 3 (JJLZ-8 )X9,9-2 ) 〇 — 1 I 調 制 激 發 確 保 了 必 須 的 測 鼉 敏感性,且藉讕制頻率的選揮 1 訂 可 達 高 解 析 度 如 J . Ha re k在 Appl. Phys Lett. 49(1986) 1 1 1732 中 的 —. 篇 文 章 所 述 〇 被 解析之發光通常是輻被調制雷 1 1 射 光 束 由 載谏子波的atm 1而產生。故亮度評估的錯 1 1 誤 性 極 高 因 此 通 常 C7 能 操 作一波繒。此外,由於簡單地 I 線 I 分 離 同 光 成 分 使 得 調 制 限 於 低頻率。 此 外 迄 今 之 不 接 觸 技 術 尚已知具jus之不同光 1 1 熱 波 譜 方 法 代 表 性 的 例 如 US-PS 4,579,463' DE4035266 1 1 及 DE4223337 、瑄些方法的問題是热波的優勢*故測得的 1 1 參 數 中 熱 材 料 特 性 的 膨 響 居 主要,且載流子壽命<l«s時 1 I 載 流 子 波 的 影 W 約 為 0 ,如此而大為緣低其在電特性方面 1 I 的 可 依 據 性 〇 1 1 本 發 明 的 g 檷 因 此 在 提 供 一種光激發半導體材料響應分 1 1 析 的 新 方 法 其 容許在廑農發^^及JL載#子、壽命下精確 1 1 本紙張尺度適用巾阈國家標苹(CNS ) ΛΊΙ見格ί 2丨〇X 297公犛) 經 濟 郎 中 央 橾 準 局 η 工 消 费 合 η 杜 印 製 Λ7 Β7 五、 發明説明(2 ) 1 1 探 測 載 流 子 波 0 1 1 本 發 明 之 另 目 禰 為 賴 半 導 體 的 光 激 發 探 測 載 流 子 復 合 1 1 的 放 射 及 不 放 射 通 路 並 各 別 加 Μ 評 估 〇 产—、 請 先 1 1 本 發 明 0 檷 播 一 光 學 激 發 半 導 髑 響 應 分 析 方 法 而 得 Μ 達 閱 背 1 成 其 藉 一 笛 射 光 束 而 在 物 體 上 脯 存 一 霣 子 能 量 並 測 最 而 之 注 1 1 Κ 從 物 艚 發 光 為 型 式 之 該 脯 存 能 ft 之卫勉 〇 本 方 法 之 特 激 意 事 項 1 1 在 於 激 發 之 雷 射 光 束 亮 度 被 調 制 該頻譜具馮分立 之綢刺 S- 4 I 率 * 由 物 體 發 出 之 光 被 Μ · 混 合 頻 率 調 制 頻 率 之 頻 率 % •本 頁 裝 1 相 加 或 頻 差 測 量 且 發 光 被 作 為 調 制 頻 率 蓮 算 工 具 之 函 •—, 1 1 數 而 分 析 〇 1 I 激 發 霤 射 光 束 有 利 地 由 兩 分 光 束 構 成 每 一 分 光 束 各 被 1 1 —. 調 制 頻 率 調 制 亮 度 0 訂 1 為 由 (解析之發光測最之)發 光 映 象 變 成 測 Μ 值 由 m 量 1 1 值 再 Μ 計 算 公 式 直 接 求 出 半 導 艚 的 參 數 m 使 激 發 霤 射 光 1 1 束 的 調 制 頻 率 在 寬 的 界 限 中 變 化 (掃頻) 但 調 制 頻 率 頻 線 差 維 持 恆 定 〇 1 | 兩 分 光 有 利 地 彼 此 垂 直 m 振 〇 此 外 兩 分 光 被 聚 焦 在 物 1 體 上 空 間 分 離 且 緊 鄰 之 到 達 點 對 載 流 子 壽 命 的 测 最 亦 為 1 1 有 利 〇 因 此 使 分 光 最 大 兩 倍 於 被 激 發 之 載流子 1 I 之 距 離 聚 焦 在 物 體 上 〇 1 I 在 激 發 笛 射 光 束 上 產 生 兩 分 立 調 制 頻 率 的 另 一 有 利 方 法 1 1 | 為 利 用 缠 當 的 振 幅 調 制 其 中 雷 射 光 被 一 戰 流 子 頻 率 1 1 f 1 =( Ω I + Ω 2) /2 及 基 本 時 鐘 脈 衝 頻 率 f Z =Ω 1 -Ω 2 調 制 9 1 1 基 本 時 鐘 脈 衡 頻 率 之 —^. 組 成 部 分 被 記 錄 該 基 本 時 鐘 脈 衡 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4%格(210/ 297公雜) -5 _ 經濟部中央榡準局貝工消費合作杜印聚 A7 _ B7 五、發明説明(3 ) 頻率與由載流子頻率及邊帶(hifd構成的混合頻率相位 相同,且藉將此組成部分作為干擾量轉回調制程序而銷毀 此組成都分。此激發笛射光束的雙調制亦在恆定的頻差下 而使兩調制頻率在寬廣的界限中變化(掃頻),以求取物體 的電參數。 記錄發光基本上有3種設計(與激發的方式無闞)為有意 義。一般有利的股計,尤其是對》度大的半導體物體*為 記錄物體激發俩的發光。此外為由背向激發的物體背面記 錄發光,尤其是激發雷射光束具自動良好遮蔽性時。絕對 有利的設計為由物赌激發側梢向上的任一俩面測*發光’ 如由一半導醴薄片的圓周面。 為達到擴展之目檷最好在澜最發光之外並記錄與物體相 互作用後笛射光束之光热響應,並分析與進行相闞性研究 ,而可將物體之不放射響應分離出光熱及發光響應。 響應的探測Μ —般方法進行,如DE4035266及DE4223337中 所述。 組合且同時筘錄發光及光熱響應時,空間分離测量信號 的接收為有利,其中在物體的不同厠記錄兩澜量值’由於 物體的笛射通明性常根低,故在物體的澹發側記錄光熱響 應,在物體的另一側記錄發光(如背面或側面)° 本發明之目禰使用一種光激發半導艚響應分析之Κ製’ 其中一雷射光束聚焦於一物體上而在物體上儲存一霣子能 量,且設有一發光探莫器Μ測量從物賵發出之光’藉下述 方法而得Κ達成:莆射光束亮度被調制且在其調制波错丘具 本紙悵尺度適用中國國家標苹(CNS ) Λ‘丨現格(210'〆297公釐) 6 ¢------1T------.^ (請先閱讀背而之注意事硕再填β本頁) Λ7 B7 經濟部中央標苹局負工消资合作社印製 五、 發明説明(4 ) 1 1 兩 分 立 調 制 頻 宰 發 光 探 測 器 連 接 m 頻 裝 置 f 而 只可裤 1 1 测 混 合 頻 率 部 分 調 制 頻 率 之 頻 率 相 加 或 頻 差 其 係 由 物 1 1 體 中 之 頻 率 轉 換 而 造 成 旦 發 光 探 測 器 後 接 一 信 號 處 理 裝 請 先 1 1 置 其 將 m 頻 記 錄 而 得 的 探 測 信 號 作 為 調 制 頻 率 蓮 算 工 具 閱 讀 背 1 之 函 數 而 分 析 〇 而 之 1 注 1 為 產 生 一 雙tin制之笛 射 光 束 W 使 用 一 個 具 有 一 調 制 器 單 意 畢 1 項 1 元 的 雷 射 源 為 有 利 該 調 _ 器 單 元 Μ 兩 調 制 頻 率 調 制 笛 射 再 4 % i 1 源 〇 另 __· 種 產 生 雙 調 制 之 霤 射 光 束 的 設 計 為 使 笛 射 光 束 本 頁 由 兩 分 光 束 構 成 每 一 分 光 束 被 一 調 制 頻 率 調 制 且 調 制 被 1 1 —* 調 制 器 單 元 控 制 〇 1 1 兩 分 光 束 一 方 面 可 有 利 地 由 雷 射 源 播 分 光 板 而 產 生 , 1 1 訂 其 中 每 — 分 光 束 各 設 調 制 器 而 各 Μ ____. 調 制 頻 率 調 制 t 1 且 調 制 器 後 接 光 學 X 具 結 合 分 光 束 〇 分 光 束 設 有 m 振 之 1 1 光 學 工 具 故 兩 分 光 束 具 互 相 垂 直 之 偏 振 〇 1 1 另 一 方 面 對 分 光 束 之 產 生 亦 為 有 利 的 是 設 兩 分 離 之 雷 綉 射 源 其 中 每 —- 雷 射 源 被 一 調 制 頻 宰 控 制 〇 最 好 使 用 兩 雷 I 射 二 極 管 其餳枨光構 成 彼 此 垂 直 偏 振 的 分 光 束 〇 在 鳋 簡 1 1 單 之 情 形 下 使 如 此 產 生 之 分 光 束 平 行 投 射 向 一 共 同 的 透 鏡 1 1 並 聚 焦 在 物 體 表 面 上 ——. 點 其 中 分 光 束 被 符 合 會 集 〇 1 1 在 __. 特 殊 之 配 置 中 證 明 有 利 的 是 使 分 光 束 不 平 行 投 射 1 I 向 一 共 同 的 透 鏑 而 在 物 體 上 產 生 空 間 分 雕 之 緊 鄹 分 光 束 1 激 發 中 心 而 可 指 出SL瀨發上子 之-敗射畏肩及H姓 1 1 〇 準 備 雙 調 制 雷 射 光 束 時 若 調 制 器 單 元 設 一 控 制 裝 置 * 1 1 其 將 調 制 頻 宰 的 變 化 限 制 在 — 寬 廣 的 界 限 中 (掃頻) 但 調 1 1 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS > Λ4%樁(2IOX 297公雒) -7 - A7 B7 五、發明説明(5 ) 制頻率頻差保持恆定,則對物體®材料參數的計算為有利 。由發光亮度測悬的頻率闢係可得到半導體放射赌弛程序 之特性。 本發明配置之另-設計為|除了發光探測器外並設置一 雷射探測器,K記錄與物體交互作用後的笛射光束。本依 據DE4035266及DE4223 3 37之熱波響應探測原則而補充之配 置使被激發之載流子之發光信號被從(笛射探测器提供的) 全部信虢中分離出。此分離之基礎為使彼此相闞並在一寬 廣光學物體激發調制頻率範圃中脷量光應及猛 。結果指出半導髑中放射及不放射通路所佔的比例。 避免發光探測器中的發光信虢被激發之雷射光束誤導有 兩種方法,其特別《合於反射之發光澜量或傳_之測最。 雷射光一方面被一二向色鑲,另一方面被一吸收過濾縯分 離。兩者亦可組合使用,或者若物體足Μ遮蔽笛射放射, 則亦可不使用。 經濟部中央標率局員工消費合作社印製 本發明基本構想之基礎為 > 將發光作為半導體載流子的 放射鬆弛櫬體。其在意義上亦_用在一材料中所有其他可 能之放射鬆弛程序。 發之^洒霣已知有不同之過期及非通期光物體澹發之方 法,例如EP0545523。具多個,在最簡單情形下為具兩個 頻率01及122,之激發擁有測Μ技術上之優點,即利用激 發及擗弛程序固有非線性特性由激發頻率範園將頻率轉換 成一测量技術有利之澜量頻率。發光亮度與激發亮度二次 關係之最簡單情形下,離開测量物體的發光放射中除了原 8 (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標率·( CNS )八4坭格(2Ι〇Χ2()7公夔) 經濟部t央標準局R工消費合作社印聚 Λ7 B7 五、發明説明(6 ) 頻宰Ω 尚有頻宰相加及頻差Ω Ω2,故可以簡 簞方法在恆定之頻差Ω , - Ω 2下,利用所佔部分的探澜而 進行:l【m頻塞範麗的鬆弛分析,且可到達在測量技術 上Μ習知方法極難並會損失精確度之高及最高頻率。由被 澜量之發光亮度頻率Μ係可得到放射鬆她程序之特性*即 尤其是其時間狀態。 本發明基本思想的第一個掮展使得可Κ指出被激發之載 流子之敗射畏度及活動性:激發組合甬分光束*其中毎一 分光束被兩頻率Ω1及ΩZ中之一頻宰做亮度網制,且分光 束被光學工具引導而到達物顦上空間分離之位置。激發中 心產生之載流子濃度根據到達之分光束而被頻率Ω t或頻 率Ω 2調制。以頻差9 ,-Ω 2而調制之發光在此情形下只產 生於Κ頻率Ω,或^^ 2調制之載流子濃度重叠的空間範圃中 。若激發處彼此的距離至大達被激發載流子的敗射畏度的 兩倍時,可達到夠 強之屋蠱*因此激發笛射光束兩到達 點距離的變化可簡單地得出此空間範圃之尺度,其中在頻 差2 Ω2下發光亮度關係被Κ分光束之距離及其平均調 制頻率(Ω , + Ω 2) / 2分析。 本發明基本思想的第二攘展為組合放射栳弛(發光)之分 析與光熱響應信號之分析。 光熱澜最,尤其是對半導體,的一般問題為,被激發之 載流子會願著地影響物體的整體響應。藉分開拥最載流子 復合產生的放射可將被激發載流子放射鬆弛之信號從全部 信號中分離出。此分離之基礎為使彼此相顢並在一寬廣光 本紙張尺度遗用中國國家榡準(CNS )八4吡袼(2丨ΟΧ 297公釐) -9 - II I —II I n 訂M (請先閱讀背面之注意^項再填寫本頁) 經濟郎中央標準局員工消费合作杜印製 A7 137 五、發明説明(7 ) 激發調制頻率範園中测量光熱響應及物體的發光信虢。在 此量程序中光熱響應分析同搛K頻率轉換為基礎(光熱 外差法),如Meas. Sci. Technol. 1(1991)1088-1093所 述0 激發光束離開物體的部分含頻率轉換部分,其受不放射 及放射鬆弛程序的相互作用影響,物體發光中之頻率轉換 則只受放射程序影響。故可賴兩響應型式之相關測逢而分 離出放射程序的響應部分·並得到不放射部分。 應用本發明方法的基本設計可由1頻-泰潑及短jUT流子 ( < 1 « S >下的急屬#驰程序,W簡單方法局部及在信 號、雜訊狀態方面從Band-Band過渡範圃達到高解析度之 發光澜量。此測量即使在高測量物體溫度(半導體襯底)下 亦為可能。本發明方法的擴充設計及相醑之特殊配置使可 做載流子波之頻率分析、指出被激發載流子之散射長度及 活動性K及分離物髏放射及不放射礬應信號,Μ指出半導 體中之發光及不放射通路和不同的爾材料參數。 Μ下將根據附圈進一步說明本發明。 _丨所示為本發明基本結構之一設訐,其中在背向激發 的物體背面探測發光。 圖2所示為本發明基本結構之一設計,其中在物體的激 發俩探測發光》 _ 3所示為本發明具頻宰變換之組合發光及光熱波譜之 配置,其中激發之笛射光束由兩互相垂直之«I振分光束構 成0 本紙張尺度適用中阀阀家標笮(CNS ) Μ丨見格(2Ι()Χ2()7公难) _ 1 〇 _ (請先閱讀背而之注$項再填寫本頁) 裝· -* A7 B7 五、發明説明(8 ) 圖4所示為本發明具頻率變換之組合發光及光热波譜之 另一配置,其中在物體澹發側探測發光。 圈5所示為本發明組合之發光及光熱波譫之配置,其中 激發利用一雷射光束以時鐮脈衡調_進行。 圃6所示為圈5之實_例亮度調制之時間曲線。 圓7所示為本發明兩分光束之配置,其在空間上分離的 兩個激發中心激發物體。 圈8所示為本發明兩激發分光束之另一配置,其在空間 上彼此分離。 圖9所示為本發明横向探测發光之配置。 圈〗0所示為發光波形函數F&與平均調制頻率Ω及濃剰 載流子平均壽命r之乘積的關係。 _11所示為具改變之檷準化參數的圚10發光波形函數。 本發明方法在其基本設計中包括了 : .利用具爾親率Ω ,及£2 2的赢度JftJil蜃射 將能量_入物體。 經濟部中央標率局員工消费合作社印製 (请先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) • K翅*崖〜相Λ ( Ω , + Ω 2 )或姐i (Ω ,-Ω 2)探測由物體4 發出之^^~光〇 • K JiL錄之、發光作氣調制規率理算工具之涵數而分析本 方法以圖1之K置而得Μ埵成。 雷射光束由霤射源〗產生,該雷射源鶊一調制器單元2而 使其亮度被兩調制頻率Ω ,ΜΩζ調制。調制頻率Ω 1及02 可是頻率範圃100Κ丨^至2><丨丨2中之任何頻率且通常極為相近
本紙張尺度適用中阀國家橾?t. ( rNS ) Λ4現格(210Χ297公筇) I~~~~I Λ7 B7 五、發明説明(9 ) (如(Ω ,-Ω 2)»l〇KH2),此由Ω 1及Ω ζ輪入調制器簞元2的 輪入筋頭明顯示出。雷射光束被一透鏑3聚焦,然後投射 到物體4上。由物髑4背面發出之光Jg 一 5記錄 。由於發光非準直射出,故探測器臛嫌量記錄較大立體角 Μ減少信號損失。因此探測器應儘鼉接近物驩4背面。測 量信號由發光探測器5到達一植1放大I6,其被調至頻差 (Ω ,-Ω 2)旦由調制器單元2獲參考信號。其他信號由信號 處理器7處理,其接收鋇定放大器6的_出信號,並將此信 號依Ω ,及公ζ而記錄且進行評估。 在圖2之配置中雷射光束由霤射二極管1產生,該雪射二 極管藉一調制器單元2而使其亮度被兩昶*彳頻宰Ω i及Ω ζ調 制。 雷射光束經-Ί崩色箱8及透鏡3而到捶物體4。二向色 鏑8對雷射光之波畏是透明的且對發光具一較离之反射係 數。從物體4正面發出的光被透鏞3對準,反射於二向色鏑 8,再被透鏡10投射到發光探测器5上。若二向色鏡8對分 離雷射光不夠有效,則在射程中增設一片1_收1SJT箱9。 Μ漪部中央標準局Η工消费合作杜印51 (請先閱讀背面之注意事項"填寫本頁) 測最信號由發光探測器5到達鑌定放大器6。其他信號之處 理如圖1之說明。 本發明之一擴充設計使用一掃頻,其實拖無問題且探测 不需改變。諷制親率Ω 1及Ώ 2、在一寘大的頻率簕圓間變化 ,β-輿爆差ί 需保持恆定。如此而大為提昇轷估 測量值之可能性|稍後將根據理論而加Μ說明。 本發明之另一設計為組合發光記錄與笛射光束和物體4 本紙悵尺度適用中國罔家標隼(CNS ) Λ4現格(210X297公f ) I~~ι 〇 _ A7 A7 其 超濟部中央標準局貞工消費合作杜印製
I· [d'f - {iv p* t n*p} -J .Λ .. 1 - 1 J HR L 五、發明说明(1 0 ) 交互作用後雷射光束为iJlJBL之接收。兩反應遢程被同時 接收,故其各歸靥物艚4之同一部位。評估方式說明如下。 本發明頻差或基木時鏞赈衡頻率之發光響應深拥可«使 激發頻率K較大間隔,尤其是超越載流子壽命r倒數之間 隔,變化而進行戧流子波的m析。信號s代表一接收 之發光功率,可由空間整合探澜器記嬅之所有發光而得( 記錄最好使放射進入一半球): S = LEgP jd^rfncosln,! + v|/Jpcos(.a:t + \|/p) + n cos(n;t 4 M/n)pcos(n, + \|/p)} (1)
HK 各霣子波n (卩;t)及克^穴波p (? ; U在振幅n及P (頻帶上« tH楚 刺載流子濃度)和相位Ψη及ψρ受位置F左右。信號功率根 據⑴由發US性、褒減係齡丨,、、發_光18之平_均能量及發光通 路中的·!!_合速率J σ L· 1而得。復合速率得自1J1復合 之资獲從面及頻幣上It流子之热速度ν *並具一量婀 公式⑴三角函數之一些略微變化可如下表示信號 只由 JI Ω Ι2 = Ω ,-Ω 2 得出: S ^LF.gncos(aut]· Jd'r(npcos(M/n - ψρ)} LE B cos[n„t) · I d f 11 n - p' + n p ^ (2) 載流子波(n、P>及相位(Ψη、Ψρ)值的表示M禊數量S ce#取代。(複數共軛標示Λ *)。 可看出響應波之&祖_位訊息為不可分雕且對過剰載流子 (▼ η為事Ρ )完全消失。但爾材料參數之開方使SPL奥射D, 本紙張尺度適用中阐國家標卒(CNS ) Λ4!1格(2IOX 297公犛) 13 - I I I I I I —裝 n I 訂 錄 (請先閱讀背面之注意事項再填湾本頁) ^<^3423 A7 B7 五、發明説明(U ) 表嚴I合速垄S及過剩I流子癱可由ίϊί得出。在載流 子波(球面波)理想化之情形下可籣覃地計算出積分°設-在霤射光點半徑W所決定吸收範_中被餘存及緬制之笛射 功率ρ,可如下得出信號: S = L. P:w P.ee l {tmDf ws I ------1 p D 2lr + P*l 其如所示Μ笛射光點半徑w作為絕對澜量之長度禰準。 可看出,公式(3)中定義的盪ρ如習知代表載流子波的複數 Λ 波》,因此不應與過剰孔六的濃度混淆。 頻差發光產物之轉換效率k則由下述具量婀]之 結果量表示: (請先閱靖背而之注$項再填"本頁) (3)
Dr K, P:w 〜(ΛωΓ))2
L F. (4) + - 經濟部中央榡隼局Μ工消費合作社印製
1 A 無置爝發Jb波形J數FcL(Ω)係由平均之綢制頻率β=( Ω t + Ω 2) /2M掃頻而求得。依據 (5) 過刺載流子壽命r由光(r 6 )及JS U ( r s )通路組成 。波形函數之不同闞係說明於圈10及11。圈10藉由平均調 制頻率Ω及過剰載流子平均壽命之乘積顧示出發光波形函 數。曲線參數是在表面復合速率S = 0下Μ雷射光點半徑w欄 準化之載流子敗射畏度le =彳(2Dr )。 圃11賴由平均調制頻率Ω及» _載流子平均_命1:之乘 積顧示出發光波形函數Fa。 、紙張尺度適用中國國家榡準(CNS ) Λ‘1現格(2IOX297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裂 A7 B7 五、發明説明(12 ) 曲線參數是在一定敗射畏度lc下Μ雷射光點半徑w及散 射度D檷準化之表面愎合速率S。在儀器技術上發光及光热 響應之組合評估有許多不同的變化。 在圏3的配置中激發之雷射光束由闱互相垂直鴒振之分 光組成,其悌由一雷射二極管21及另一雷射二極管22所產 生。雷射二極管21被調制器單元2 Μ頻率Ω t調制其亮度, 笛射二極管22ΚΩ2調制。兩分光束經一供振濾波器19而 會集,經《 —分光板12被一透鏑3聚焦於物體4上。在本Κ 置中除了由物艚4發出之光外並在雷射光束與物醱4交互作 用後探脷雪射光束。由物艚4投射出之雷射光經由透鏑3而 對準,在分光板12上反射後到達一遍當之雷射探測器13。 雷射探澜器13前設有一簸1瀘J 26*其使得由物«4射回 之兩激發光分束只有一分光束被雷射探測器13記錄。雷射 光被锔振光學過濾的成分含經由賴宰轉換之光熱響應的完全 訊息。對偏振濾鏑26做另一選擇(如選擇一傾振濾城器)可 因其他目的(如參考探測、自動對焦探測等)而利用等二笛 射光成分,而不會使探測器13上的響應信號被誤導。 由物體4背面發出的光(尤其在位置不夠時避免將發光探 測器5直接放置在物艚表面)最好被一光導11會集而導故發 光探测器5。在本實豳例中it用一光導11,因發光探测器5 (視其結構型式而定)無法蟪是被放置在物钃4背面狗逭的 地方。光導11可是一每一側皆磨光之破璃棒或一具有足夠 _入射面之玻璃纖維束。亦可用一具有足夠進入孔徑的準 直透鏡取代光導11,K接收強烈分敝的發光,若物體4對 木紙張尺度適用中國阈家橾苹(CNS ) ,\4丨尤格(210X297公犛) 一一1 (- _ I ‘裝— n 訂 財 (婧先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印" 本紙張尺度適用中國國家樣隼(CNS ) Λ4現格(2IOX297公f〉 A7 B7 五、發明説明(13) 激發之雷射光束的波畏具一顧著或干播之«明性時,則在 射程中增設一吸收濾縯9·其可使發光通«及吸收雷射放 射。測量信號由發光探测器5及雷射探澜器13被傳送至巳 述之鎖定放大器6及另一賴定放大器14,其Μ振幅及相位 分析由雷射探測器13送來的信號。腹1定放大器6及1 4皆 濟謂至缜差4 Ω ),並由調制器犟元2獲參考信號。其 輪出信號被傳送至信號處理器7,其對巳述之澹發頻率測 量信號做記錄及評估,並對由鎖定放大器6及14所_出測 最信虢進行相闞性分析。利用上逑«合之理論公式算法, 划. 處理器可對物體上放射及不放射鬆弛機班提供分開的訊息 。此種鹽富的信號分析信號處理器可是一微計算機系統。 在圖4的配置中笛射光束由笛射二極管1產生,其被調制 器單元2M兩調制頻率Ω ,及122調制其亮度。笛射光束通 過一公及二I色J 8,並被透鏑3投射至物體4。由 物體4再度射出之霤射光被透_3接收並平行校準,通《二 向色鏑8,反射於分光板12上後到達一遴當的笛射探測器 13。由物體4正面發出之光被透鏡3平行校準,反射於二向 色鏡8,再經透縯10到達發光探澜器5。若二向色鏑8對分 離雷射光不夠有效,則在射程中增設一吸收濾鏡9。測量 信號由發光探測器5被傅送至鎖定放大器6,由笛射探测器 13被傅送至鎖定放大器14。其他信號之處理钟«3之說明。 在圔5的K置中激發之莆射光束由笛射二禳管1產生,其 亮度被一調制器單元15調制。由於此調制器單元15而產生 之雷射光束時間亮度曲線顯示於圖6。光分配器16將一部 -16 - HI In 1^1 If^l In n^i V j 0¾-3 (請先閱讀背面之洼意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局K工消費合作社印製 Λ7 B7五、發明説明(14 ) 分的雷射光東分出,並導至一光參考探测器〗7。參考探測 器17與一鎖定放大器18及調制器單元15共同構成一閉環霣 路。此閉瓖®路使得Μ參考探測器17测得的激發霤射分光 率/^暖盘__〇。此種調制方式見1^4223337。激發之雷射 光束通》镧振濾波器19及一 λ /4板20後被透鏑3投射在物 體4上。由物H4再度發出之霤射光被透鏞3接收*再經過 λ /4板20,被鵂振濾波器丨9投射到雷射探澜器13上。物體 4背面的發光被光導11脅集,而導至發光探测器5。為分離 干擾性被物體4傳送的激發霤射光分光可在射程中亦增設 一吸收濾鏡9。信號由發光探測器5及笛射探測器13被傳送 至鎖定放大器6及14,其被調至基本時鏟脈衡頻率f2 •並 由調制器單元15獲參考信號15。其他信號之處理如_3之 說明Μ信號處理器7進行。 到目前為止所示的配置中發光及與物體4交互作用後的 爾射光束皆根據申請專利範園第1項Κ頻差(Ώ i-Ω 2)分析 。此種實胞型式特別有利·因可在1定釣頻皇、距離下II兩 調制頻率Ω ,及Ω 2的且調譜.而簡單地進行1直1室JOB 的分析。但缺點是,由探測所得的發光無法得到響-應之相 。為ljS到粗位訊息霈迆行頻率相加(Ω ί + Ω 2 )之分 j。此種搡作方式之配置Μ _ 7及8所示特別有利,但本發 明不限於此種特別之配置。 在画7之配置中兩爾射光束分別由兩雷射二極管21及22 產生,其亮度被調制器單元2各Κ 一調制頻率91及22調 制。兩雷射光束皆到達透鏡3,並作為空間分離的激發分 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) /\4既格(210X 297公雄) -17- ---------装------ir------^ (請先閱讀背面之注意事項#填巧本页) 經濟部中央標準局肩工消费合作杜印裝 Λ7 B7 五、發明説明(is ) 光而投射在物體4上。到達點間的距離可利用兩滑動透鏑 23及24改變傾斜角而加以變化。由物體背面4發出之光被 發光探測器5記錄。測量信號由發光探測器5被傅送至I貞定 放大器6 *其被JI至1差、(J2 : Ω z ),並由調_器單元2獲 參考信號。其他信號Μ信號處理器7處理,其接收鑌定放 大器6的輪出信號*並將此信號依Ω t及Ω 2,以及分光$到 達點的空間距離進行記錄及評估。 亦圈本發明本質之調制頻率Ω ,及0 2頻率相加0 i + Ω 2 選頻测最值接收可在本黄胞例(M及Μ下BM之配置)中有 利地進行,其中在固定調制頻率5^1及02下,Κ激發分光 到達點彼此的距離分析發光。 在圖8的配置中兩笛射光束由兩雷射二極管21及22產生 ,其亮度各被一頻率(Ω ,及卩2)調制。亮度調制的信號由 調制器單元2製造。兩雷射光束通通偏振濾波器19及λ/4 板20·進入透箱3,而作為空間分離之瀨發分光束投射到 物體4上。到達點間的距離可利用甬滑動透鏡23及24改變 傾斜角而加Μ變化。再度離開物體的激發光束成分被透縯 3接收,再經過λ / 4柑而在偏振濾波器1 9被轉折,鞴一透 鏡25到達雷射探測器13。由物體背面發出之光被光導11接 收並到達發光深測器5。如激發雷射光之成分穿«物體4而 構成干擾,亦可在射程上增設吸收漶鏡9。測躉信號由發 光探测器5被傳送至鎖定放大器6,其被調至頻差(Ω ι-Ω ζ) ,且由調制器單元2獲參考信號。其他信號Μ信號處理器7 處理,其接收鎖定放大器6的输出信號,並Μ Ω 1及Ω 2 Μ 本紙張尺度適用中國國家標準(('NS ) Λ4Μ>,格(2IOX 297公# ) _ ι 〇 _ --------.—^------ΐτ------.^ (請先閱讀背面之注意事項再填巧本頁) Λ7 B7 五、發明说明(16) 及分光束到埋點間的空間距離記錄、評估此信號,且如圈 3所示之實施例進行探測器5及13所提供信號之相闞性分析 圈9顯示围1所示基本配置之一變化設計。此修正之配置 用於研究側向發光成分較高且可戎該處輕易地以發光探测 器5接收發光之物體4,通常例如研究磨光之半導賵片•其 中發光之較高成分可因光導而在材料中敗開。在圖9之配 置中雷射光束由雷射二極管1產生,其亮度被調制器單元2 K兩頻率Ω 1及£22調制。雷射光束被透縯3聚焦,並投射 在物體4上。由物_4俩面發出的光被透鏡10畲集而到達發 光探測器5。測量信號由發光探測器5被傳送至賴定放大器 6,其被調至頻差且由調制器單元2獲參考信諕。其他信號 由信號處理器7處理,其接收鎖定放大器6的_出信號,並 將此信號Μ Ω ,及Ω z記錄及評估。 圖9所示物體4側面發光之探測當然亦可用於圈2至_8所 述所有本發明基本配置之變化設計。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,1Τ 經濟部中央標苹局員工消费合作社印聚 19 木紙张.尺度適爪中阈國家榡苹(CNS ) /\«1叱格(210ΧΜ7公銻) Λ7 B7 辦濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(17 ) 1 I 使用檷示表 1 1 I 1 雷 射 源 1 1 1 2 調 制 器 覃 元 請 先 1 1 3 m 鏡 閲 % 1 I 4 物 骽 丹 面 之 注 I 1 5 發 光 探 測 器 1 項 1 6 鎖 定 放 大 器 再 填 7 信 號 處 理 器 寫 本 頁 漱 1 8 —- 向 色 鏡 1 1 9 吸 收 濾 鏑 1 J 10 透 鏡 1 訂 11 光 導 1 1 13 雷 射 探 測 器 1 1 14 鎖 定 放 大 器 I 1 1 5 調 制 器 單 元 1 16 光 分 配 器 ! | 17 參 考 探 測 器 1 1 * 19 偏 振 m 波 器 1 1 20 λ /4板 1 1 2 1,22 雷 射 二 極 管 1 I 23,24 滑 動 透 鏡 1 1 1 25 透 鏡 1 1 26 鵂 振 濾 器 1 1 D 敗 射 度 1 1 本紙張尺度適用中國國家橾隼(CNS ) Λ4規格(210 Χ2Φ7公釐) 2 〇 經濟部中央榡準局員工消費合作社印裝 R7 五、發明説明(18)
FcL 發 光 波 形 函 數 1 c 敗 射 畏 度 S 表 面 m 合 速 率 W 雷 射 光 點 半 徑 Γ 壽 命 Ω 調 制 頻 率 的 運算工具 Ω 1 , Ω z 調 制 頻 率 (Ω Ω 2) 頻 率 相 加 (Ω 1[- Ω 2 ) 頻 差 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 2

Claims (1)

  1. 經满部中央標準局Π工消费合作社印製 303423 b8s C8D8々、申請專利範圍 1 . 一種發半導姐材料響鹰分析之:,其M 一置射 $,在物體上馘存一里子J麄,並測量以從該物臞1薄為 型式之該醏存能最之I弛,其鼓撤在於 -3L發苗射龙束被亮度鼸刺,其中盟連、坡臌.具爵分立之 調制頻率(Ω , ·· Ώ 2) —Μ調制頻率(Ω , ; Ω 2 >之屋拳(Ω ! - Ω 2) I置從物體 _⑷發出、之潑光 -將JL光作為錮制頻率(Ω , Ώ 2 )之埋算工具之函啟而 I祈。 2.如申請専利範圃舅1_項之方法,其中笛射光束之兩調 制頻率(Ω!; Ω2)藉由凰分、光良構成之!射光、束組成而產 生,每一分光束各被一調制頻率(Qt; Ωζ)調制亮度。 3 .如申謫專利範園第J項之方法,其中檄發笛射光束的 調制頻率(Ω , ; Ω 2 )在寬廣的界限中變化,但ϋ i率 (J」;Ω z)的辨皇保持恆定。 4.如申誚專利範園第_2_頂之方法,其中兩分光束被互相 垂直鋦振。 5 .如申請專利範圃之方法*其中兩分光束聚焦於 物體⑷上空間分離之緊鄹到達點上。 6 .如申請專利範圍JL五頂之方法,其中使分來最太U 倚於被灌發之載流子敗射長度之距雄聚焦在物體(4)上。 7 .如申請專利範圍戈UL頃之方法·其中在激發霤射光束 上產生兩調制頻率(Ω,; Ω2),該雷射光束被一載流子頻 率(ft)及一時鐘脈衡頻率(h)調制振幅’載流子頻率(fi) (请先閱讀背面之注f項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國罔家標準(CNS ) Λ4現栳(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消费合作社印!^ A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 及時鐘鼷衡頻率(f2)被依規定 f 1 = (Ω I + Ω 2)/2 f 2 = Ω I ~ Ω 2 而調螫,基本時鼓I腹頻率(f 2)之一 ifl成部分被記錄,該 基本時鐘腰衡頻率與由UUIL子頻率(f i )及邊薄(f t 土 f 2 )清 成的混合頻率相位相同,且賴將此姐成部分作為干播最轉 回調制程序而銷毀此、組成部分。 8.如申辅專利範_ H填之方法,其中在恆定頻差下使 兩綢剌頻率(Ω , ; Ω 2 )在寬廣的界限中變化。 —十 9. 一種光激發半導艚材料響應分析之方法,其Μ —笛射\1 光束在物體上黼存一電子能量,並測量Μ從該物體發光為 型式之該儲存能量之鬆弛,其特激在於 -激發雷射光束農亮度鼸刺,其中頻率波鱺具兩分立之 調斛|率(Ω 1 ; S2 ζ ) -M jft制麗-率(Ω , ; Ω 2)之邇率祖加(Ω , ♦ Ω |)測量從 物體W發出之發光 一將發光作為諷制頦率(Ω ! ; Ω 2 )之理算工具U6戲而Hr。 10.如申請專利範圍t|S 9¾之方法,其中在固定之諏制頻 率Ω ,及Ω 2下及使用眉聚、焦在物艚(4)上空間分雕之緊鄹到 達點的,以激發分光束到達點間的距離分析發光。 1 1 .如申請專利範圈g 1項之方法,其中在物體(4)被雷射 光束J«LS側观、最1董_應〇 <r.-------- 1 2 .如申請專利範圜第1項之方法,其中在物體⑷被雷射 (請先《讀背面之注$項再填寫本頁) 本紙張尺度j|用中國國家梯準(CNS ) Λ4規格(210X297公f > 2 A8 B8 C8 D8 丨-年u 'Wl 六、申請專利範圍 光束激發側的背面測ft發光響應。 13. 如申請專利範園第1項之方法,其中在物體⑷激發側 之任一梢向側面測量發光。 14. 如申講專利範_第1項之方法,其中除了測量發光外 並記錄與在物髓⑷交互作用後雷射光束的光熱響應,並進 行兩《應程序之相闞分析,而分饑出物體⑷之不放射響應 15. 如申請專利範圍第14項之方法,其中在物體⑷的不 同側進行兩測量程序。 16. —種光激發半導體響應分析之配置,其雷射光束聚 焦於一物體上而在物艟上儲存一 m子能量,且設有一發光 探測器Μ澜量從物«發出之光,其特徴在於 -雷射光束亮度被調制且在其調制波譜上具兩分立調制 頻率(Ω t ; Ω ζ) -發光探測器©連接一選頻裝置(6),而只可探測發光放 射中調制頻率(Ω^ Ω2)之頻差(ΏΛ-Ωζ)所佔部分,其 係由物體中之頻率轉換而造成 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) —發光探測器(5)後接一信號處理裝置,其將遘頻記錄而 得的探測信號作為調制頻率Ωζ)運算工具之函數而 分析。 17. 如申請專利範園第16項之配置,其中為產生一雙調 制之雷射光束設一雷射源⑴,其具一調製器單元⑵而Μ兩 調制頻率(Ω , ; Ω 2)調制雷射源⑴。 18. 如申請專利範園第16項之配置,其中雷射光束由兩 分光束構成,每一分光束被一調制頻率(Ω:; Ώ2)調制且 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) 3 - 修正頁 Λ8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 調制被一調制器單元⑵控制。 19.如申請專利範圍第αι頌之配置,其中設一雷射源⑴ ,其接一 光+板κ產生兩分光束,每一分光束各設一邏制 而各以一調制頻率(ω^ ω2)調制,且調制器後接光學 工具Μ結合分光束。 2 〇.如申請專利範圃頃之配置,其中分光束設有 之光學工具,故兩分光束互相垂直偏振。 2 1 .如申請專利範圃第」之配置,其中設兩分離雷射 源(2 1 ; 2 2 ),其與一調制器單元⑵連接,每一雷射源(2 1 ;2 2 )各被一調制頻率(U t ; Ω 2 )調制。 2 2 .如申請專利範圈第項之配置,其中ϋ源(2 1 ; 2 2 ) 為兩雷射二極管,其被調整使得其偏振光構成互相垂直之 偏振分光束。 2 3 .如申請專利範圍第22項之配置,其中分光束平行投 射向一共同的透鏡,並聚焦在物點表面上一點。 2 4 .如申請專利範圍墓之配置,其中分光束被符合 會集。 經濟部中央標攀局員工消费合作社印製 2 5 .如申請專利範圍頃之配置,其中分光束不平行 投射向一共同的透鏡,而在物體⑷上產生空間分離之緊郞 分光束到達點。 2 6 .如申請專利範圍第2 5項之配置,其中到達點間的距 離最大為被潲發載流子1 4L屋度之既。 2 7 .如申請專利範圍第之配置,其中(6)可 調整|使探測發光放射之頻差(Ω , - Ω 2 )時只可測得調制 4 (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(2I0X297公釐) 8 8 8 8 ABCD 經滴部中央標準局工消=&合作社印製 六、申請專利範圍 頻率(Ω t ; Ω 2 )頻率相加(Ω i + Ω 2 )部分,其係由物體⑷ 中之頻率轉換而造成。 2 8 .如申請專利範圍第1 6項之配置,其中設一 ,將調制頻率(Ω > ; Ω z )的變化限制在一寬廣的界限中’ 該控制裝置與調制器單元⑵迪接,且ϋ制頻_率(Ω t ; Ω 2 ) 之差i挂I—定。 2 9 .如申調專利範圃第1 6項之配置,其中除了發光探測 器(5)外並設一雷射探測器(1 3 ),以記錄與物體⑷交互作用 後的雷射光束。 3 0 .如申請專利範園第2 9項之配置,其中發光探测器© 及雷射探測器U 3 )之輸出端各連接一雜室放古器(6 ; 1 4 ) ,作為選頻裝置之兩鎖定放大器(6 ; 1 4 )被調至調制頻率 (Ω ! ; Ώ 2 )之頻差(Ώ j - Ω 2 ),並因輸入參考信號而與調 制器簞元⑵連接,信號處理裝置是一信號處理器⑺*其記 錄、評估及相關性分析兩鎖定放大器(6 ; 1 4 )之輸出信號 ,並提供有關物體⑷中lit及H射-鬆弛程序之汶置激息。 3 1 .如申請專利範圍第1 6項之配置,其中設一二向色鏡 ⑻K將雷射光分離出發光放射。 3 2 .如申請專利範圍第】6項之配置,其中設一_1肢1_ ⑼,Μ在到達發光探測器⑸前將干擾的雷射光分離出發光 放射。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· '1Τ 本纸張X度適川中阈阈家標华(CMS ) Λ4現格(210Χ2ι)7公釐) 5
TW085101970A 1995-03-31 1996-02-16 TW303423B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19511869A DE19511869B4 (de) 1995-03-31 1995-03-31 Verfahren und Anordnung zur Responseanalyse von Halbleitermaterialien mit optischer Anregung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW303423B true TW303423B (zh) 1997-04-21

Family

ID=7758282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW085101970A TW303423B (zh) 1995-03-31 1996-02-16

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6081127A (zh)
EP (1) EP0735378A3 (zh)
JP (1) JP3103761B2 (zh)
KR (1) KR960035045A (zh)
CN (1) CN1097728C (zh)
DE (1) DE19511869B4 (zh)
SG (1) SG52251A1 (zh)
TW (1) TW303423B (zh)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3009551U (ja) * 1994-09-28 1995-04-04 株式会社アークス レシート用ロール紙
US6151119A (en) * 1997-12-19 2000-11-21 Advanced Micro Devices Apparatus and method for determining depth profile characteristics of a dopant material in a semiconductor device
KR100253099B1 (ko) * 1997-12-26 2000-04-15 윤종용 광열 기술을 이용한 이온 주입 샘플의 평가 방법 및 그를 위한프로그램을 저장한 기록매체
CN1309769A (zh) * 1998-06-12 2001-08-22 旭化成株式会社 分析仪
DE19827202A1 (de) * 1998-06-18 1999-12-23 Wacker Siltronic Halbleitermat Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Erkennung von Kristalldefektten
DE19837889C1 (de) * 1998-08-20 2000-12-21 Siemens Ag Thermowellen-Meßverfahren
US6529018B1 (en) * 1998-08-28 2003-03-04 International Business Machines Corporation Method for monitoring defects in polysilicon gates in semiconductor devices responsive to illumination by incident light
DE19840197A1 (de) * 1998-09-03 2000-03-09 Wacker Siltronic Halbleitermat Verfahren und Vorrichtung zur Qualitätskontrolle sowie zur Prozeßsteuerung ind er Siliziumwaferfertigung
US6541987B1 (en) * 1999-08-30 2003-04-01 Advanced Micro Devices, Inc. Laser-excited detection of defective semiconductor device
JP4970640B2 (ja) * 2000-05-19 2012-07-11 ルネサスエレクトロニクス株式会社 スクリーニング方法、スクリーニング装置及び記録媒体
EP1311825B1 (en) * 2000-06-29 2006-10-18 Semiconductor Diagnostics, Inc. Method for fast and accurate determination of the minority carrier diffusion length from simultaneously measured surface photovoltages
DE10059469C2 (de) * 2000-11-30 2002-02-21 Wacker Siltronic Halbleitermat Verfahren und Vorrichtung zum Erkennen von Kristallbaufehlern in Siliciumeinkristallen
DE10221937A1 (de) * 2002-05-17 2003-12-04 Uwe Hermes Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Diffusionslänge von Minoritätsladungsträgern in einer zu messenden Halbleiterprobe
US7106446B2 (en) * 2002-06-21 2006-09-12 Therma-Wave, Inc. Modulated reflectance measurement system with multiple wavelengths
US7075058B2 (en) * 2003-03-28 2006-07-11 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Photothermal imaging scanning microscopy
US7280215B2 (en) * 2003-09-24 2007-10-09 Therma-Wave, Inc. Photothermal system with spectroscopic pump and probe
US7072029B2 (en) * 2004-05-21 2006-07-04 Lucent Technologies Inc. Method and apparatus for testing optical fiber cables
KR20080073179A (ko) * 2007-02-05 2008-08-08 삼성전자주식회사 다층구조체의 결함검사장치
US7755752B1 (en) 2008-04-07 2010-07-13 Kla-Tencor Corporation Combined modulated optical reflectance and photoreflectance system
JP5699421B2 (ja) * 2008-09-16 2015-04-08 横河電機株式会社 顕微鏡装置
CN102272584A (zh) * 2009-01-22 2011-12-07 三井造船株式会社 荧光检测装置及荧光检测方法
CN102292630A (zh) * 2009-02-10 2011-12-21 三井造船株式会社 荧光检测装置及荧光检测方法
CN103080731B (zh) 2010-07-30 2016-08-17 第一太阳能有限公司 光致发光测量工具和相关方法
WO2012174125A1 (en) * 2011-06-13 2012-12-20 President And Fellows Of Harvard College Efficient fluorescence detection in solid state spin systems
US8604447B2 (en) 2011-07-27 2013-12-10 Kla-Tencor Corporation Solar metrology methods and apparatus
DE102011055272B4 (de) * 2011-11-11 2021-08-12 Presens Precision Sensing Gmbh Verfahren zur Bestimmung eines relaxationszeitabhängigen Parameters zu einem System
SG11201505836WA (en) 2013-02-01 2015-09-29 Hamamatsu Photonics Kk Semiconductor device inspection device and semiconductor device inspection method
CN103712960B (zh) * 2013-12-26 2016-01-13 无锡利弗莫尔仪器有限公司 一种采用级联锁相检测的光热检测装置及其检测方法
JP6395206B2 (ja) * 2014-03-25 2018-09-26 株式会社Screenホールディングス 検査装置および検査方法
JP6395213B2 (ja) * 2014-09-26 2018-09-26 株式会社Screenホールディングス 改質処理装置および改質処理方法
JP6397318B2 (ja) * 2014-11-26 2018-09-26 浜松ホトニクス株式会社 電場ベクトル検出方法及び電場ベクトル検出装置
KR101699592B1 (ko) * 2014-12-29 2017-01-24 정진주 조립식 의자 및 이를 이용한 증강현실 시스템
US9927363B2 (en) * 2015-03-24 2018-03-27 Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University Real-time baseline correction technique for infrared time-resolved photoluminescence
CN105044584B (zh) * 2015-07-03 2018-01-26 中国科学院物理研究所 一种用于检测半导体器件的电荷及电场响应的系统
CN105203305A (zh) * 2015-11-03 2015-12-30 山东华光光电子有限公司 一种半导体激光器无损波长分类筛选方法
CN105866091B (zh) * 2016-06-03 2024-06-07 湖南华南光电科技股份有限公司 一种便携式痕量炸药探测仪
CN109750450B (zh) * 2017-11-01 2022-03-04 青岛海尔智能技术研发有限公司 一种识别衣物材质的智能模块及智能洗衣机
FR3073944B1 (fr) * 2017-11-21 2019-12-20 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Methode de mesure par photoluminescence d'un echantillon
CN114235764A (zh) * 2021-12-07 2022-03-25 电子科技大学 一种半导体晶圆载流子表面复合速率的定量成像表征方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4122383A (en) * 1977-12-16 1978-10-24 Nasa Method and apparatus for measuring minority carrier lifetimes and bulk diffusion length in P-N junction solar cells
US4579463A (en) * 1984-05-21 1986-04-01 Therma-Wave Partners Detecting thermal waves to evaluate thermal parameters
US4661770A (en) * 1984-12-18 1987-04-28 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method and apparatus for measuring minority carrier lifetime in a direct band-gap semiconductor
HU213198B (en) * 1990-07-12 1997-03-28 Semilab Felvezetoe Fiz Lab Rt Method and apparatus for measuring concentration of charge carriers in semiconductor materials
DE4035266C2 (de) * 1990-11-02 1995-11-16 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren und Anordnung zur Thermowellenanalyse
JPH0727945B2 (ja) * 1991-09-26 1995-03-29 信越半導体株式会社 半導体結晶中の深い準位密度分布の評価方法
DE4217097A1 (de) * 1992-05-22 1993-11-25 Siemens Ag Meßanordnung zur Bestimmung von Ladungsträgerdichten in Halbleitermaterial
DE4223337C2 (de) * 1992-07-16 1996-02-22 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren und Anordnung zur photothermischen Spektroskopie
US5490090A (en) * 1994-06-14 1996-02-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Two tone test method for determining frequency domain transfer

Also Published As

Publication number Publication date
SG52251A1 (en) 1998-09-28
JPH08335617A (ja) 1996-12-17
CN1097728C (zh) 2003-01-01
EP0735378A2 (de) 1996-10-02
US6081127A (en) 2000-06-27
DE19511869B4 (de) 2004-02-26
JP3103761B2 (ja) 2000-10-30
DE19511869A1 (de) 1996-10-10
KR960035045A (ko) 1996-10-24
CN1135041A (zh) 1996-11-06
EP0735378A3 (de) 1997-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW303423B (zh)
US20050225765A1 (en) Method and system for combined photothermal modulated reflectance and photothermal IR radiometric system
US7847234B2 (en) Method and system for observing a subject at a first location based upon quantum properties measured at a second location
DK2706515T3 (en) Apparatus and method for detecting light scattering signals
US7595491B2 (en) Methods and systems for the enhancement of terahertz wave generation for analyzing a remotely-located object
US20080048106A1 (en) Method and apparatus for verifying the authenticity of an item by detecting encoded luminescent security markers
US3566114A (en) Method and means for detection of microorganisms in the atmosphere
US20100296107A1 (en) Determining surface and thickness
US7408637B2 (en) Entangled photon spectroscopy for stand-off detection and characterization
CN101278323A (zh) 用于对一个或更多个人员进行定位的系统和方法
US11841311B2 (en) Multimodal dust sensor
CN207866704U (zh) 用于tdlas激光气体遥测的二维重建系统
US20040156050A1 (en) Optical path switching based differential absorption radiometry for substance detection
CN105628671B (zh) 一种用于样品组分定量分析的装置及方法
CN104634766A (zh) 一种基于泵浦-探针技术的超分辨装置和方法
CN108061722A (zh) 一种一氧化碳浓度的检测装置及检测方法
US3151247A (en) Heterogeneous radiation analysis using a rotating reticle for modulating different portions of a spectral display
CN107462566A (zh) 用于检测特定窄波数范围的拉曼光谱仪
Hardy et al. Ghost imaging in reflection: resolution, contrast, and signal-to-noise ratio
JPH0481132B2 (zh)
CN106124453A (zh) 一种no2浓度分布探测的装置和方法
CN101140668A (zh) 通过检测编码发光安全标记验证物品真实性的装置和方法
Edsjö et al. WIMP mass determination with neutrino telescopes
Brandt et al. AB Dor in’94. I. Hubble Space Telescope Goddard High Resolution Spectrogaph Observations of the Quiescent Chromosphere of an Active Star
WO2022168079A1 (en) Radar system and method

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees