TW297135B - - Google Patents

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A7 ____B7_ _ 五、發明説明（1 ) 〔產業上之利用領域〕 請 it 聞 讀 背 之 注 1' 再-一 填 寫裝 本衣 頁 本發明係關於一種電漿處理方法及裝置，尤其是，關 於一種將半導體元件基板等之試料適用於電漿處理的電漿 處理方法及裝置者· 〔以往之技術〕 將半導體元件基板等之試料作爲電漿處理之技術，以 往眾知例如記載於日本專利公報特開平 0 3 — 1 6 7 8 2 5號的技術。在該公報*記載僅將產生 電漿之處理室之溫度控制限定在側壁部，且僅對於蝕刻後 之反應生成物。 訂 上述以往技術係僅對於僅附著於處理室內側壁部之反 應生成物才有效，並未考慮電極亦即在《漿處理時附著於 試料台之下部，處理室內底面部，排氣配管之反應生成物 或氣體之反應生成物。 旅 經濟部中央橾準局負工消费合作社印«. 亦即，反應生成物係也附著試料台下部，處理室內底 面部，排氣配管等，電漿處理時隨著對於這些之堆積而產 生剝離，成爲異物之原因，對於試料之良品率也有很大影 響。 〔發明之概要〕 本發明之目的係在於·提供一種溫度控制電漿處理時之 反應生成物或氣體之反應生成物（以下，簡稱爲反應生成 物）之附著場所，異物發生較少且可高良品率的電漿處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4规格（ 210X297公釐）_ 4 _ 經濟部中央揉準局貝工消费合作杜印裝 五 、發明説明 ( 2 ) 方 法 及 裝 置 • 爲 了 達 成 上 述 百 的 > 藉 在 比 試 料 之 上 部 場 所 9 反 pte 應 生 成 物 溫 度 控 制 成 未 固 體 化 之 溫 度 » 又 在 比 試 料 之 下 部 場 所 ( 試 料 台 下 部 > 處 理 室 內 底 面 部 ， 排 氣 配 管 等 ) 溫 度 控 制 成 固 體 化 之 溫 度 > 即 可 達 成 9 本 發 明 係 例 如 在 發 生 電 漿 之 處 理 室 內 側 面 ( 電 漿 發 生 部 ) 的 試料 上 部 場 所 » 設 成 — 定 溫 度 t 亦 即 設 成 反 應 生 成 物 之 溫 度 « 而 試料 台 下 部 處 理 室 內 底 面 部 » 排氣 配 管 等 係 設 成 反 應 生 成 物 固 體 化 之 溫 度 〇 由 此 9 可 避 免 由 試料對 於 上 部 場 所 之 反 ribs 應ί 生 成物 之 附 著 抑 制 試料 對 於 被 處 理 面 上 之 異 物 掉 落 〇 又 在 反 ntg 應 生 成 物 及 處 理 室 內 浮 游 的 異 物 ( 以 下 簡 稱 爲 浮 游 異 物 ) 係 吸 附 * 補 足 在 試 料 台 下 部 1 處 理 室 內 底 面 部 排 氣 配 管 等 因 保 持 真 空 之期 間 係 經 常 反 應 生 成 物 設 成 固 體 化 之 溫 度 因 此 可 抑 制 異 物 之剝 離 > 剝 離 之 異 物 之 捲 起 0 C 資 施 例 以 下 * 使 用 圖 式 說 明 本 發 明 之 — 實 施例 〇 第 1 圖 係 表 示 本 發 明 之 一 實 施 例 的 微 波 電 漿 處 理 裝 置 之 概 略 構 成 之 其 主 要 部 的 縱 剖 面 蹰 〇 第 1 圈 中 » 處 理 室 1 0 係 作 爲 其 上 部 構 成 要 素 具 備 石 英 製 之 放 電 管 1 4 〇 在 處 理 室 1 0 設 有 於 處 理 室 1 0 內 連 接 於 供 nkg 應 蝕 刻 用 氣 嫌 之 供 氣 源 ( 省 略 ! 示 ) 的 供 氣 P 1 5 9 又 設 有 連 接 於 真 空 排 氣 裝 置 ( 省 略 圖 示 ) 的 排 氣 □ 1 6 本紙張尺度遑用中國國家捸準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部中央橾準局工消費合作杜印製 207135 A7 __B7_ 五、發明説明（3 ) 。又在處理室1 0設有配置試料例如半導體元件基板（晶 圓）1 3的試料台1 1。在試料台1 1連接有高頻電源 1 2，而在試料台1 1可施加高頻電力•在放電管1 4之 外側，圍繞放電管1 4設有導波管1 7，而在其外側設有 在放電管1 4內發生磁場的螺線管線圈1 9。在此，在處 理室1 0之放電管1 4設有溫度控制裝置I 34。在導波 管17之端部設有振盪微波的磁控管18·又在處理室 1 0內之試料台下部，處理室內底面部，排氣配管等也具 備溫度控制裝置Π 3 5。 溫度控制裝置I 3 4，Π 3 5係藉安裝於處理室內側 面或壁內的溫度察覺器3 6，3 7，可將處理室內面側之 溫度管理，控制成所期望之溫度，而且設置複數溫度之控 制場所，可任意地設定加熱、冷卻領域· 在依這種構成之電漿處理裝置，係將蝕刻用處理氣體 從供氣口 1 5供應至處理室1 0內，而且將處理室1 〇內 減壓、排氣所定之壓力。藉由導波管1 7將來自磁控管 1 8之微波導入至放電管1 4內，藉螺線管線圈1 9形成 磁場，藉由微波之電場與螺線管線圈1 9之磁場的互相作 用電漿化放電管1 4內之處理氣體。又，藉由高頻電源 1 2在試料台1 1施加髙頻電力而產生偏壓，各向異性加 工向晶圚1 3側拉進電漿中之離子的晶圚1 3。此時依蝕 刻所產生之反應生成物，係在試料台側面下部，處理室內 底面部，排氣配管之路徑被排氣· 將溫度控制裝置I 3 4，Π 3 5之溫度控制領域表示

本紙張尺度遑用中國國家橾準（CNS > Μ規格（210X297公釐> _ R (請先閱讀背面之汶意事項再填寫本頁) -裝· %? 線 A7 B7 五、發明説明（4 ) 於表1 · 表 1 No. 加熱 冷卻 I I 0 0 °C以上4 0 0 °C以下 一 Π — -200°C以上10(TC未滿 一：請先閲讀背面之法意事項再填寫本頁) -裝. 在第1表中，處理室1 0對應於電漿發生部的側壁部 ，係昇溫至1 0 0°C以上4 0 0°C以下，此以外之試料台 側，試料台下部，處理室內底面部，排氣配管部等係被冷 卻成一 2 0 0°C以上，1 0 0°C未滿而被溫度控制在所期 望之溫度領域•在此，冷卻成一 2 0 0 °C以上之理由係因 至一2 0 0 °C可使用液氮即可實用地冷卻。 以下，藉第2圓說明該溫度控制•第2圖係以蝕刻氣 體與反應生成物之蒸汽壓曲線表示鋁（A )?)配線材料之 一實施例。 在第2圓中，以氣體BCJ?3與C)?2處理Aj?配線 時，反應生成物係揮發作爲Ai?cp3而被排氣。 例如，反應生成物AJ? C艾3係蝕刻壓力在1 To r r時1〇〇 eC未滿成爲固體•亦即，可知在第1圓 本^張尺度逋用中國國家橾準（CNS ) A4洗格（210X297公釐）_ 7 _~~' '

-1T 線 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印裝 A7 B7 經濟部中央橾準局貝工消费合作杜印裝 五 、發明説明 ( 5 ) 1 | 之 電 漿 處 理 裝 置 9 處 理 室 內 側 面 爲 1 0 0 °c 未 滿 時 反 rrhs 懕 生 1 1 I 成 物 會 堆積 Ο - 1 1 因 此 9 在 該 條件 下 連 縯 實 行 電 漿處 理 時 f 則 堆 積 物 被 ! I 請 1 I 剝 離 而 成 爲 處 理 室 內 之 異 物 〇 然 而 > 在 本 實 施 例 中 * 由 於 先 閲 1 I 讀 1 1 將 處 理 室 內 側 面 設 成 1 0 0 °c 以 上 t 且 將 試 料 台 下 部 » 處 背 面 1 I 之 1 理 室 內 底 面 部 排 氣 配 管 等 設 成 1 0 0 °c 未 滿 可 避龟 對 注- 意 畫 1 | 處 理 室 內 側 面 附 著 反 ate 應 生 成 物 » 而 可 將 反 rrhs 應 生 成 物 選 擇 性 f· 項 再一 —v! 填 1 地 附 著 於 試 料 台 下 部 處 理 室 內 底 面 部 » 排 氣 配 管 等 可 本 裝 I 抑 制 晶 面 對 被 触 刻 面 上 之 異 物 掉 落 1 來 白 處 理 室 底 面 之 異 頁 1 1 1 物 捲 起 0 1 1 又 對 於 其 他 之 配 線 材料 由 於 也 可 將 處 理 室 試 料 1 台 側 面 下 面 處 理 室 內 底 面 部 排 氣 配 管 等 設 定 在 逋 當 •訂 1 之 溫 度 條件 因 此 可 得 到 同 樣 之 效 果 9 1 I 在 第 3 圖 表 示 第 1 圖 所 表 示 之 電 漿 處 理 裝 置 之 控 制 順 1 I 序 9 1 | 線 第 3 圖 係 從 搬 入 晶 圆 前 溫 度 控 制 裝 置 I 3 4 係 溫 度 1 1 控 制 處 理 室 內 側 壁 部 又 在 溫 度 控 制 裝 置 Π 3 5 係 溫 度 1 1 控 制 試 料 台 側 面 9 下 部 處 理 室 內 底 面 部 排 氣 配 管 等 〇 1 1 投 入 晶 圓 後 資 施 一 般 之 蝕 刻 順 序 〇 在 電 漿 處 理 後 將 裝 置 施 1 1 大 氣 開 放 9 實 行 清 掃 時 分 別 斷 開 溫 度 控 制 裝 置 I 3 4 » 1 | Π 3 5 * 可 實 行 一 般 之 清 掃 〇 1 | 亦 即 9 開 始 溫 度 控 制 裝 置 I 3 4 之 作 動 » 處 理 室 1 0 1 1 I 係 被 加 溫 Ο 以 該 加 熱 f 處 理 室 1 0 之 溫 度係 上 昇 被 控 制 1 1 成 上 述 所 定 溫 度 Ο —- 方 面 9 開 始 溫 度 控 制 裝 置 Π 3 5 之 作 1 1 本紙張尺度適用中國國家橾率（CNS ) A4规格（21〇X297公釐）-8 B7 五、發明説明（6 ) 動’試料台1 1下部’處理室1 〇內底面部，排氣配管等 係被冷卻。以該冷卻，試料台1 1下部，處理室1 〇內底 面部，排氣配管等係下降，而被控制成上述所定溫度。 然後，藉省略圖示之晶圓搬送裝置，晶圓1 3係在此 時，被搬入一個處理室10內（g)。被搬入之晶圃13 係將被蝕刻面作爲向上向姿勢在試料台11之試料載置面 而從晶圖搬送裝置交接載置在該試料載置面上β載置於試 料載置面之晶圔1 3係以該狀態保持在試料台1 1。 上述操作後，或是其以前實施處理室1 0內之減壓排 氣。藉作動真空排氣裝置，處理室1 0內係經由設有排氣 閥，可變電阻閥（未予圖示）之排氣配管被真空排氣。被 真空排氣之處理室10內之壓力係調整可變電阻閥即可減 壓成所定壓力。 然後，所定蝕刻用氣體從供氣源經由供氣口 1 5被供 應至處理室1 0內。對處理室1 0內之蝕刻用氣體之供應 量，係例如藉氣體流置控制裝置（省略圖示）被控制成所 定流1: ( c )。 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之後，供應至處理室1 0內之蝕刻用氣镫之一部分， 係藉真空排氣裝置被排氣至處理室1 0外，由此，處理室 1 0內之壓力係被控制成所定之蝕刻處理壓力（d )。 然後，磁控管18，螺線管線圈19被開始作動。由 此，處理室1 0內之蝕刻用氣體係被電漿化*被保持在試 料台1 1之晶圓1 3之被蝕刻面係藉該電漿被蝕刻處理。 —方面，髙頻電源1 2被作動，在試料台1 1施加有高頻 本紙浪尺度遑用中國國家橾率（CNS)M规格（ 210X297公釐9 _ ~一 經濟部中央標率局工消费合作社印装 A7 B7 五、發明説明（7 ) 電力。由此，晶圚1 3施加有偏壓。在該偏應施加狀態下 ，晶圔13之被蝕刻面係被蝕刻處理。 如上述在完成晶園1 3之蝕刻處理之時點，分別停止 對處理室1 0內之蝕刻用氣體之供應，高頻電源1 2，磁 控管18，螺線管線圈19之作動，偏壓之施加等•在該 狀態下，經處理之晶圔1 3係從試料台1 1之試料載置面 交接至晶片搬送裝置，之後，藉晶片搬送裝置搬出至處理 室1 0外。然後，藉晶圓搬送裝置一個新晶圖1 3搬入至 處理室1 0內，繼嫌實施上述之操作。一方面，溫度控制 裝置I 34，H35之作動，係繼績，由此，各部位之溫 度係繼縝被控制成上述所定溫度•但是，視情形，在晶園 之處理期間一旦停止溫度控制裝置I 3 4，Π 3 5之作動 也可以*例如，晶画處理之中斷時間，若以裝置之故障等 任何理由而長時間性時，在該日作業結束時等，實施該停 止。又，在將處理室1 0內向大氣開放而欲清掃處理室 10內部之作業時，也停止溫度控制裝置I 34，Π35 之作動*尤其是，因停止溫度控制裝置Π 3 5之作動，可 防止處理室10內大氣開放時之空氣中水分等之不純物對 於冷卻部位之吸附，可排除處理室1 0內之再排氣時之不 方便（排氣時間之長時間化，壓力不到達等）· 又，溫度控制裝置I 3 4，Π 3 5的各部位之控制溫 度係由晶圔1 3之膜質，亦即配線材料，蝕刻用氣體種類 所支配· 蝕刻處理之晶圔1 3之資訊的配線材料，及隨著該材 本紙張尺度遑用中國國家揉準（CNS ) Α4规格（210X297公釐）_ 1η _ I ^ —裝 ； 訂 線 (請先閲讀背面之注•意事項异填寫本頁) 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印裝 A7 B7 五、發明説明（8 ) 料之蝕刻用氣體種類，係例如藉操作人員被輸入在上述控 制裝置（省略圖示）。藉該输入從上位控制裝置分別输出 控制信號至溫度控制裝置I 34，Π35，由此，實施在 溫度控制裝置I 34，E3 5之各部位的溫度控制。 這種溫度控制係操作人員例如以觸摸盤输入晶園1 3 之資訊即被實施•又，以任何手段讀入晶圖1 3之資訊输 入至上位控制裝置或直接·输入溫度控制裝置134， Π 3 5即被實施。 如上所述，各部位之溫度係確實地控制所定溫度，結 果，可安定，確實地提高晶圓良品率· 又，尤其是，以溫度控制裝置Π 3 5被冷卻之部位（ 冷卻部位）之維修係如下述地被實施。 亦即，藉對冷卻部位之反應性生物之選擇性附著，在 該部位堆稹有附著物，該堆稹物之例如厚度達到依排氣阻 力之增大，剝離所產生之異物發生之厚度的時黏，或在其 以前實施維修。此時，停止溫度控制裝置Π 3 5之冷卻部 位之冷卻。之後，該冷卻部係被加溫而昇溫至附著之堆稹 物之昇華溫度。在該昇溫，附著之堆稹物係被昇華而作動 真空排氣裝置即被排氣至處理室1〇外·在完成該昇華作 業之時點，停止冷卻部位之加溫，之後實施溫度控制裝置 H 3 5之冷卻俾實施溫度控制·冷卻部位之加溫係追加， 附設加溫裝置（省略圖示）來實施也可以’或是具有冷卻 與加溫溫度控制裝置Π 3 5之兩功能者而切換該功能來實 施也可以。 本紙張尺度逋用中國國家標举（CNS)A4規格（ 210X297公釐L U _ I裝 ： 訂 線 -(請先聞讀背面之法意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 _B7 五、發明説明（9 ) 該冷卻部位之維修係將處理室1〇內向大氣開放來清 掃時，則在處理室1 0內之大氣開放前實施•或未將處理 室1 0內向大氣開放而藉電漿等施以清掃時，在清掃前或 清掃處理中實施。在該清掃處理中實施維修時，且以清掃 將所附著之堆稹物從冷卻部位可除去時，則不必實施冷卻 部位之上述加溫。 在如上述之實施例，可得到以下之效果· 亦即，在加熱處理室內側壁部之技術，以蝕刻處理所 產生之反應生成物對該側壁之附著，堆稹係如上所述地可 防止。又適用該技術，加熱試料台下部，處理室內底面部 ，排氣管等時，則可防止對該部位之反應生成物之附著， 堆稹。 然而，在這種技術，由於無法除去浮游在處理室內之 異物，因此無法防止因浮游異物所產生之降低晶園良品率

。該缺點係鼸半導體元件之容量增大至6 5M，2 5 6M 之大容置而顯著。又，爲了將反應生成物之大部分真空排 氣至處理室外，藉該反應生成物有真空排氣裝置，真空排 氣閥，可變電阻閥等之真空排氣系統會受損之問題。該問 題若反應生成物爲腐蝕性物時，則成爲更深刻者。 —方面，也考量例如冷卻試料台下部，處理室內底面 部，排氣管等，而在該冷卻部位吸附反應技術之採用》 然而，在該技術，藉處理室內底面部等之冷卻而使處 理室內側壁部之溫度，降低至反應生成物之氣化溫度以下 之溫度|因此，形成在處理室內側壁部附著，堆積反應生 本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐）_ _ Γ請先W讀背面之注拿事項再·填寫本頁) -裝. 訂· 207135 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印氧 A7 B7五、發明説明（10 ) 成物，浮游異物。處理室內側壁部係與被蝕刻處理的晶圓 之被蝕刻面相比較，因位於上部之關係，因此在該側壁部 之反應生成物之附著，堆稹係從晶園良品率之觀點上成爲 極不方便者。亦即，該附著，堆稹物係從處理室內側壁部 剝離*成爲異物而導致降低晶圓良品率之主要原因· 對此，在本實施例中，由於將處理室內側壁部加溫成 未能附著反應生成物之溫度，與此同時，將試料台下部， 處理室內底面部，排氣管等冷卻成吸附，附著反應生成物 之溫度，因此，結果可防止異物之發生*又可提高晶圖之 良品率· 亦即，本實施例係具有抑制與被蝕刻處理之晶圃之被 蝕刻面相比較位於上部的處理室內側壁部之反應生成物的 附著，並將包括被抑制在處理室內側壁部之附著的反應生 成物之反應生成物，浮游異物，稹極地吸附，補足在比晶 圔之被蝕刻面位於較下部的試料台下部，處理室內底面部 ，排氣管等的概念者，對於防止異物之發生，由此極有效 地提高晶圓良品率。 又，由於在試料台下部，處理室內底面部，排氣管等 之特定部位積極地吸附，補足反應生成物，因此以清掃， 更換，烘烤等可定期地容易除去附著，堆稹物，可提高處 理裝置之維修性。 又，由於在不影響真空排氣系統之範圔內吸附，補足 反應生成物，浮游異物，因此也可解決因反應生成物，浮 游異物損及真空排氣系統之問題· (·請先W讀背面之注愈事項再•填寫本頁) 裝. 線 本紙張尺度遢用中國國家橾準（CNS ) A4规格（2丨Ο X 297公釐）_ J 3 經濟部中央樣率局負工消费合作杜印製 A7 __B7 五、發明説明（11 ) 又，可適用本發明之裝置，係除了上述一實施例以外 也同樣地可適用在表示於第4圖至第7圖的裝置構成。 第4圖係表示將本發明適用於平行平板型電漿蝕刻裝 置之其他實施例的說明圖。在第4圖之裝置中，由於將溫 度控制裝置34形成三分割（34A，34B，34C) 而將真空容器3 8之電漿發生領域昇溫至各該所期望溫度 ，又將試料台側面，下部，處理室內底面部，排氣配管等 以溫度控制裝置3 5.冷卻成所期望溫度，因此，與第1圖 之實施例同樣地具有可避免對於處理室內側面之反應生成 物之附著，並可將反應生成物選擇性地附著於試料台下部 ，處理室內底面部，排氣配管等*具有可抑制對被處理物 上之異物掉落，來自處理底面之異物捲起的效果· 第5圖係表示將本發明適用於外部能量供應放電方式 中感應結合型放電方式之裝置之其他實施例的說明圖》在 第5圖之裝置中，由於在真空容器3 8之電漿發生領域部 設置溫度控制裝置3 4而將處理室內側面昇溫至所期望溫 度，又以溫度控制裝置3 5將試料台側面，下部，處理室 內底面部，排氣配管等冷卻至所期望溫度，因此具有與第 1圈之實施例同樣之效果· 第6圈係表示將本發明適用於平行平板型電漿蝕刻裝 置之其他實施例的說明圓•在第6圖之裝置中，內部能量 供給放電用之電極以外係與第4圖之裝置相同•亦即*在 第6圖之裝置中，由於將溫度控制裝置3 4形成三分割（ 34A，34B * 34C)而將真空容器38之電漿發生 本纸張尺度遑用中國國家標準（CNS)A4规格（ 210X297公簸）_ 14 _ (-請先閲讀背面之注$項δ寫本頁) 裝· 訂 線 A7 B7 經濟部中央標準局負工消费合作杜印製 五 •發明説明 ( 12 ) 1 領 域 昇 溫 至 各 該 所期 望 之 溫 度 又 將 試 料 台 側 面 1 下 部 t • 1 1 處 理 室 內 底 面 部 t 排 氣 配 管 等 以 溫 度 控 制 裝 置 3 5 冷 卻 成 - 1 1 所 期 望 溫 度 9 因 此 具 有 與 第 1 圖 之 實 施 例 同 樣 之 效 果 0 1 I ♦ 1 1 第 7 圖 之 實 施 例 係 表 示 外 部 能 置 供 rrkg 應 放 電 方 式 之 電 漿 先 閲 1 1 讀 1 源 在 圖 頂 形 狀 之 放 電 管 ( 石 英 ) 1 4 之 周 圍 捲 繞 線 圈 背 面 1 I 3 4 » 而 在 其 線 m 3 4 施 加 R F 電 源 4 0 時 之 實 施 例 0 在 之 注 | 1 1 I 第 7 圖 之 裝 置 中 > 在 真 空 容 器 3 8 之 電 漿 發 生 領 域 部 以 線 Ψ 項 再 1 1 1 圈 3 4 生 成 電 漿 9 並 藉 其 生 成 電 漿 9 處 理 室 內 側 面 係 被 昇 寫 本 裝 溫 至 所 期 望 溫 度 » 又 因 試 料 台 側 面 下 部 t 處 理 室 內 底面 頁 1 1 部 排 氣 配 管 等 係 以 溫 度 控 制 裝 置 3 5 被 冷 卻 成 所 期 望 溫 1 1 度 * 因 此 具 有與 第 1 圖 之 實 施 例 同 樣 之效 果 〇 1 又 在 上 述 各 實 施 例 雖 未 說 明 異 物 之 電 荷 * 惟 充 分 訂 Ί 考 1: 浮 游 塵 埃 帶 有 電 荷 作 爲 其對應 策 考 置 在試料 台 側 1 I 面 t 下 部 處 理 室 內 底 面 部 排 氣 配 管 等 具 有 所 期 望 之 溫 1 I 度 控 制 功 能 且 在 負 電 位 或 正 電 位 安 裝 可 控 制 電 位 的 板 狀 1 線 零 件 之 構 成 0 1 依 照 本 發 明 由 於 在 同 一 處 理 室 內 位 於 比 載 置 被 處 理 1 1 物 之 場 所 較 上 部 ( 處 理 室 內 側 面 9 上 部 電 極 ) 之 部 位 不 會 - 1 1 附 著 反 應 生 成 物 » 而 僅 附 著 在 控 制 成 反 應 生 成 物 成 爲 固 體 1 I 化 之 溫 度 的 場 所 9 因 此 可 提 供 一 種 異 物 發 生 少 又 高 良 品 率 1 I 的 電 漿 處 理 裝 置 及 電 漿 理 方 法 Ο 1 1 1 I C 圖 式 之 簡 單 說 明 - 1 1 1 第 1 圖 係 表 示 本 發 明 的 — 實 施 例 之 微 波 電 漿處 理 裝 置 1 1 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS>A4规格（210X297公釐L 15 _ B7 五、發明説明（13 ) 的縱剖面圖。 第2圖係表示本發明的一資施例之蝕刻氣體與反應生 成物的蒸汽壓曲線圖。 第3圖係表示本發明的一實施例之電漿處理之控制順 序的說明圖。 第4圖係表示本發明的其他實施例之平行平板型電漿 蝕刻裝置的縱剖面圖· 第5圓係表示本發明的其他實施例之感應結合型放電 方式之裝置的縱剖面圓。 第6圓係表示本發明的其他實施例之平行平板型電漿 蝕刻裝置的縱剖面圖。 第7圖係表示本發明的其他實施例之微波放電方式之 裝置的縱剖面圖。 (请先閲讀背面之注^^項并填寫本頁) -裝· 訂 經濟部中央揉準局貝X消费合作社印隶 本紙張尺度適用中困困家揉準（CNSM4规格（ 210X297公釐）_ μ -

Claims (1)

1. 經濟部中央梂準局貝工消费合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1.一種電漿處理方法，係由具有供應處理試料之處 理氣體，而且保持有所定壓力的電漿發生室，及在該電漿 發生室載置被處理物的試料台，及減壓排氣上述電漿發生 室的排氣機構的電漿處理裝置，電漿處理上述試料的電漿 處理方法，其特徴爲： 個別地控制上述電漿發生室內發生電漿之場所與此以 外之場所的各該溫度*俾抑制被電漿處理之上述試料的電 漿處理特性之經常性變動者· 2種電漿處理方法，係由具有供應處理試料之處 理氣體，而且保持有所定壓力的電漿發生室，及在該m漿 發生室載置被處理物的試料台，及減壓排氣上述電漿發生 室的排氣機構的電漿處理裝置，電漿處理上述試料的電漿 處理方法，其特徴爲： 昇溫上述*漿發生室內發生室內發生電漿之場所的側 壁溫度，並冷卻此以外之場所的內壁部，俾抑制被電漿處 理之上述試料的電漿處理特性之經常性變動者。 3 .如申請專利範圍第1項所述之電漿處理方法，其 中，上述各該場所之溫度控制係在上述處理氣體之流路具 有溫度控制功能，且在負電位或正電位控制電位者。 4 種電漿處理裝置，其特徵爲：具備供應處理試 料之處理氣體，而且保持有所定壓力的電漿發生室*及在 該電漿發生室載置被處理物的試料台，及減壓排氣上述電 漿發生室內的排氣機構•及可個別地控制在上述電漿發生 室內發生電漿之場所與此以外之場所的各該溫度的溫度控 本錄ΛΑ逋用中困國家橾準（CNS)A4胁（21〇χ297公羡)_ _ I i^i nn nn —^^1 itn tn n^i m m 一aJ - *' (請先H讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉準局工消费合作社印装 A8 B8 C8 ____D8 々、申請專利範圍 制功能者。 5 .如申請專利範園第4項所述之電漿處理裝置，其 中，上述溫度控制功能係作爲可將發生電漿之場所與此以 外之場所的各該溫度連接並控制在任何一方之溫度的構成 者。 6 .如申請專利範困第4項所述之電漿處理裝置，其 中，上述溫度控制功能係昇溫電漿發生室內之側壁溫度， 並冷卻此以外之內壁部的構成考。 7 .如申請專利範園第4項所述之電漿處理裝置，其 中，上述溫度控制功能係可拆卸上述電漿發生室內之側壁 以外之場所的側壁部之構成者》 8 .如申請專利範圍第4項所述之電漿處理裝置，其 中，上述溫度控制功能係在上述處理氣髖之流路安裝可溫 度控制之節目狀零件者* 9 .如申請專利範國第4項所述之電漿處理裝置，其 中，上述溫度控制功能係在上述處理氣體之流路安裝具有 溫度控制功能，且在負電位或正電位可控制電位的板狀零 件者。 I ^^1 ϋ (n In ^^1 1.1 I —.1 n I— I ----- - Ln fc-i • . r (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) A4说格（210X297公釐） 18 -